JPH05289072A - 液晶表示板及びその製造方法 - Google Patents
液晶表示板及びその製造方法Info
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- JPH05289072A JPH05289072A JP5025244A JP2524493A JPH05289072A JP H05289072 A JPH05289072 A JP H05289072A JP 5025244 A JP5025244 A JP 5025244A JP 2524493 A JP2524493 A JP 2524493A JP H05289072 A JPH05289072 A JP H05289072A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は液晶表示板及びその製造方法に関
し、カラーフィルタ層に位置する反対側のガラス基板に
それぞれの画素内にて光が強くなりかつ到達する時間が
均一となるようにする凹レンズ部を形成することによっ
て、高画質・高解像力の液晶表示板を提供する。 【構成】 ガラス基板３０と、前記ガラス基板上に形成
されたブラックマトリクス３２と、前記ブラックマトリ
クスと重畳される部分を有するように、モザイクの形状
で形成された第１、第２、第３のカラーフィルタ層３
４，３６，３８と、前記ブラックマトリクスとカラーフ
ィルタ層上に連続的に形成された保護膜４０と、透明電
極膜４２とから構成される液晶表示板において、前記第
１、第２、第３のカラーフィルタ層が形成された前記ガ
ラス基板面の反対側面３０ｂに前記第１、第２、第３の
カラーフィルタ層と対応する位置に凹レンズ部４４，４
６，４８を形成してなる。
し、カラーフィルタ層に位置する反対側のガラス基板に
それぞれの画素内にて光が強くなりかつ到達する時間が
均一となるようにする凹レンズ部を形成することによっ
て、高画質・高解像力の液晶表示板を提供する。 【構成】 ガラス基板３０と、前記ガラス基板上に形成
されたブラックマトリクス３２と、前記ブラックマトリ
クスと重畳される部分を有するように、モザイクの形状
で形成された第１、第２、第３のカラーフィルタ層３
４，３６，３８と、前記ブラックマトリクスとカラーフ
ィルタ層上に連続的に形成された保護膜４０と、透明電
極膜４２とから構成される液晶表示板において、前記第
１、第２、第３のカラーフィルタ層が形成された前記ガ
ラス基板面の反対側面３０ｂに前記第１、第２、第３の
カラーフィルタ層と対応する位置に凹レンズ部４４，４
６，４８を形成してなる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は液晶表示板（Liquid cry
stal display）に関し、特に、一面にカラーフィルタ層
が形成されたガラス基板の他の面に凹レンズの役割をす
る凹部を有する液晶表示板及びその製造方法に関する。
stal display）に関し、特に、一面にカラーフィルタ層
が形成されたガラス基板の他の面に凹レンズの役割をす
る凹部を有する液晶表示板及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】最近では大きさ及び重さが少なくて携帯
が簡便であり、また人体に有害な電磁波の発生がないな
どの利点のためにラップトップパスカムを中心に陰極線
管に代って液晶表示板ＬＣＤで代替するようになった。
液晶表示板は個別スイッチング素子である薄膜トランジ
スタが形成された下部基板であるＴＦＴ基板と、レッ
ド、グリーン、ブルーの三色フィルタ層が反復的に配列
されてカラー化を実現させる上部基板とから構成されて
いる。
が簡便であり、また人体に有害な電磁波の発生がないな
どの利点のためにラップトップパスカムを中心に陰極線
管に代って液晶表示板ＬＣＤで代替するようになった。
液晶表示板は個別スイッチング素子である薄膜トランジ
スタが形成された下部基板であるＴＦＴ基板と、レッ
ド、グリーン、ブルーの三色フィルタ層が反復的に配列
されてカラー化を実現させる上部基板とから構成されて
いる。
【０００３】カラーフィルタ層が形成されている上部基
板の製造に関する従来の技術として、ニッケイマイクロ
デバイス（９１年１１月号）と韓国特許出願第９１−１
８４２６号に開示されており、これを図５に示す。
板の製造に関する従来の技術として、ニッケイマイクロ
デバイス（９１年１１月号）と韓国特許出願第９１−１
８４２６号に開示されており、これを図５に示す。
【０００４】図５に示すように、ＣＡＰ（Cutting,Anne
aling,Polishing ）処理を行ったガラス基板３０上に薄
膜トランジスタの劣化防止のための遮光用ブラックマト
リクス３２を形成する。このとき、前記ブラックマトリ
クスは１０００〜２０００Å程度の厚さでクロムＣｒを
塗布し、パターンニングして形成する。その後ブラック
マトリクス３２が形成された構造上の全表面に最適化さ
れたレッド分光特性を持つように顔料を分散した着色ア
クリル感光性樹脂を１．５〜２．０μｍの厚さで塗布
し、８０〜１１０℃の加熱板にて５分間乾燥した後にｉ
−ライン（４３６ｎｍ）の紫外線で露光する。その次に
露光された前記着色アクリル感光性樹脂を現像液で２〜
３分現像して第１のカラーフィルタ層３４を形成する。
aling,Polishing ）処理を行ったガラス基板３０上に薄
膜トランジスタの劣化防止のための遮光用ブラックマト
リクス３２を形成する。このとき、前記ブラックマトリ
クスは１０００〜２０００Å程度の厚さでクロムＣｒを
塗布し、パターンニングして形成する。その後ブラック
マトリクス３２が形成された構造上の全表面に最適化さ
れたレッド分光特性を持つように顔料を分散した着色ア
クリル感光性樹脂を１．５〜２．０μｍの厚さで塗布
し、８０〜１１０℃の加熱板にて５分間乾燥した後にｉ
−ライン（４３６ｎｍ）の紫外線で露光する。その次に
露光された前記着色アクリル感光性樹脂を現像液で２〜
３分現像して第１のカラーフィルタ層３４を形成する。
【０００５】前記第１のカラーフィルタ層３４の形成方
法と同一な方法で、ブラックマトリクス３２上に重畳し
第１のカラーフィルタ層３４と分けられるように前記ガ
ラス基板３０上に最適化されたグリーン分光の特性を持
つ着色アクリル感光性樹脂の第２のカラーフィルタ層３
６を形成する。
法と同一な方法で、ブラックマトリクス３２上に重畳し
第１のカラーフィルタ層３４と分けられるように前記ガ
ラス基板３０上に最適化されたグリーン分光の特性を持
つ着色アクリル感光性樹脂の第２のカラーフィルタ層３
６を形成する。
【０００６】次に、前記ブラックマトリクス３２上に重
畳され第２のカラーフィルタ層３６と分けられるように
ガラス基板３０上に最適化されたブルー分光の特性を持
つ着色アクリル感光性樹脂の第３のカラーフィルタ層３
８を形成する。
畳され第２のカラーフィルタ層３６と分けられるように
ガラス基板３０上に最適化されたブルー分光の特性を持
つ着色アクリル感光性樹脂の第３のカラーフィルタ層３
８を形成する。
【０００７】前記ブラックマトリクス３２とカラーフィ
ルタ層３４，３６，３８とを外部の衝撃から保護するた
めに、表面の硬度が高く光透過性に優れた透明樹脂、例
えばポリイミド、ポリアクリレート、ポリウレタンなど
を０．５〜３μｍ程の厚さで形成した後、加熱板１５０
〜２２０℃にて５分間加熱して保護膜４０を形成する。
その後に前記保護膜４０の全表面上に液晶駆動のための
電圧が印加されるＩＴＯ（Indum thin oxide）の透明電
極膜４２を５００〜１３０００Å程の厚さで形成して上
部基板を完成する。
ルタ層３４，３６，３８とを外部の衝撃から保護するた
めに、表面の硬度が高く光透過性に優れた透明樹脂、例
えばポリイミド、ポリアクリレート、ポリウレタンなど
を０．５〜３μｍ程の厚さで形成した後、加熱板１５０
〜２２０℃にて５分間加熱して保護膜４０を形成する。
その後に前記保護膜４０の全表面上に液晶駆動のための
電圧が印加されるＩＴＯ（Indum thin oxide）の透明電
極膜４２を５００〜１３０００Å程の厚さで形成して上
部基板を完成する。
【０００８】このように形成された前記上部基板は下部
基板（図示せず）、すなわち、スイッチング素子として
マトリクス形状でＴＦＴが形成されているＴＦＴ基板と
液晶層及びスペーサを間に置いて互いに対向するように
形成されて液晶表示板を構成する。
基板（図示せず）、すなわち、スイッチング素子として
マトリクス形状でＴＦＴが形成されているＴＦＴ基板と
液晶層及びスペーサを間に置いて互いに対向するように
形成されて液晶表示板を構成する。
【０００９】しかし、上述した従来の液晶表示板は大面
積化の要請に応じて液晶表示板の面積が大型に形成され
ることが不可避になった。
積化の要請に応じて液晶表示板の面積が大型に形成され
ることが不可避になった。
【００１０】大型の液晶表示板の場合、カラーフィルタ
層が形成された上部基板が曲がりやすくなる。もし上部
基板が曲がると、バックライト及び外部光は導光板及び
反射板によって前記ＴＦＴ基板の下部へ入射される光が
均一に画素内を通過できなくなり、このために鮮明でき
れいな高画質の液晶表示板を得ることができない。
層が形成された上部基板が曲がりやすくなる。もし上部
基板が曲がると、バックライト及び外部光は導光板及び
反射板によって前記ＴＦＴ基板の下部へ入射される光が
均一に画素内を通過できなくなり、このために鮮明でき
れいな高画質の液晶表示板を得ることができない。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】そこで本発明の目的は
カラーフィルタ層上のガラス基板に凹レンズを形成して
画素内を通過する光を均一にし同じ時間に到達されるよ
うにすることにより鮮明できれいな高画質の液晶表示板
を提供することにある。
カラーフィルタ層上のガラス基板に凹レンズを形成して
画素内を通過する光を均一にし同じ時間に到達されるよ
うにすることにより鮮明できれいな高画質の液晶表示板
を提供することにある。
【００１２】この発明の他の目的は前記液晶表示板を製
造する一連の工程手順を提供することにある。
造する一連の工程手順を提供することにある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明に基づく液晶表示板は、ガラス基板
と、前記ガラス基板上に形成されたブラックマトリクス
と、前記ブラックマトリクスと重畳される部分を有し、
モザイクの形状で形成された第１、第２、第３のカラー
フィルタ層と、前記ブラックマトリクスとカラーフィル
タ層上に連続的に形成された保護膜と、透明電極膜とか
らなり、前記第１、第２、第３のカラーフィルタ層が形
成された前記ガラス基板面の反対側面に前記第１、第
２、第３のカラーフィルタ層と対応する位置に凹レンズ
部を形成してなる。
るために、本発明に基づく液晶表示板は、ガラス基板
と、前記ガラス基板上に形成されたブラックマトリクス
と、前記ブラックマトリクスと重畳される部分を有し、
モザイクの形状で形成された第１、第２、第３のカラー
フィルタ層と、前記ブラックマトリクスとカラーフィル
タ層上に連続的に形成された保護膜と、透明電極膜とか
らなり、前記第１、第２、第３のカラーフィルタ層が形
成された前記ガラス基板面の反対側面に前記第１、第
２、第３のカラーフィルタ層と対応する位置に凹レンズ
部を形成してなる。
【００１４】また、本発明に基づく液晶表示板の製造方
法は、ガラス基板上にブラックマトリクスを形成しそれ
ぞれのブラックマトリクスとの間に第１、第２、第３の
カラーフィルタ層を形成する段階と、前記ブラックマト
リクス及びカラーフィルタ層が形成された構造上に保護
膜と透明電極層とを順に形成する段階と、前記第１、第
２、第３のカラーフィルタ層が形成されたガラス基板面
の反対側面に前記カラーフィルタ層と対応する位置に凹
レンズ部を形成する段階とからなる。
法は、ガラス基板上にブラックマトリクスを形成しそれ
ぞれのブラックマトリクスとの間に第１、第２、第３の
カラーフィルタ層を形成する段階と、前記ブラックマト
リクス及びカラーフィルタ層が形成された構造上に保護
膜と透明電極層とを順に形成する段階と、前記第１、第
２、第３のカラーフィルタ層が形成されたガラス基板面
の反対側面に前記カラーフィルタ層と対応する位置に凹
レンズ部を形成する段階とからなる。
【００１５】このような構成を持つ本発明において、カ
ラーフィルタ層が位置する反対側のガラス基板に凹レン
ズ部が形成されてそれぞれ画素内にて光が強くなり、ま
た到達する時間を均一にすることができる。
ラーフィルタ層が位置する反対側のガラス基板に凹レン
ズ部が形成されてそれぞれ画素内にて光が強くなり、ま
た到達する時間を均一にすることができる。
【００１６】
【実施例】以下、添付された図面を参照してこの発明の
液晶表示板及びその製造方法を詳細に説明する。
液晶表示板及びその製造方法を詳細に説明する。
【００１７】図１は本発明の一実施例による液晶表示板
において凹レンズ部を持つ上部基板の平面図であって、
図２は図１のII−II線による断面図である。
において凹レンズ部を持つ上部基板の平面図であって、
図２は図１のII−II線による断面図である。
【００１８】図１及び図２に示すように、この実施例は
ガラス基板３０の上部に形成されたブラックマトリクス
３２と、第１、第２、第３のカラーフィルタ層３４，３
６，３８と、これらの上部に順に形成された保護膜４０
及びＩＴＯの透明電極膜４２とから構成されており、そ
の構造及び製造方法は図５に示す従来の液晶表示板と類
似する。しかし、この実施例はカラーフィルタ層が形成
されている上部基板の一側面の他面に凹レンズを形成し
た点において従来技術と大きく相違する。
ガラス基板３０の上部に形成されたブラックマトリクス
３２と、第１、第２、第３のカラーフィルタ層３４，３
６，３８と、これらの上部に順に形成された保護膜４０
及びＩＴＯの透明電極膜４２とから構成されており、そ
の構造及び製造方法は図５に示す従来の液晶表示板と類
似する。しかし、この実施例はカラーフィルタ層が形成
されている上部基板の一側面の他面に凹レンズを形成し
た点において従来技術と大きく相違する。
【００１９】図２のようなこの実施例による液晶表示板
の製造方法を図３（Ａ）〜（Ｄ）を参照して詳細に説明
する。図３（Ａ）に示すごとく、ガラス基板３０上に重
金属クロムＣｒを１０００〜２０００Åの厚さで蒸着し
た後、クロムエッチング液で湿式蝕刻して５０μｍの幅
を持つブラックマトリクス３２を形成する。次に、図３
（Ｂ）のように前記ブラックマトリクス３２が形成され
たガラス基板３０上にレッド顔料が分散された例えば着
色アクリル感光性樹脂を１．５〜２．０μｍの厚さで形
成し、加熱板から８０〜１１０℃で５０分間ソフト乾燥
をした後、ｉ−ライン（３６５ｎｍ）紫外線で露光を行
う。次に、現像液でシャワー方式あるいは水平伏角方式
により２〜３分間リンスして最適化されたレッドの分光
特性を持つ第１のカラーフィルタ層３４を形成する。望
ましい着色アクリルの感光性樹脂としてＣＲ−２００
０、ＣＧ−２０００、ＣＢ−２０００（Fuji-hunt Co.L
td）がある。同時に同様な方法で前記ブラックマトリク
ス３２に重畳され前記第１のカラーフィルタ層３４と分
けられるように最適化されたグリーン分光の特性を持つ
着色アクリル感光性樹脂の第２のカラーフィルタ層３６
を形成し、更に前記ブラックマトリクス３２に重畳され
前記カラーフィルタ層３６と分けられるように最適化さ
れたブルーの分光特性を持つ着色アクリル感光性樹脂の
第３のカラーフィルタ層３８を形成する。
の製造方法を図３（Ａ）〜（Ｄ）を参照して詳細に説明
する。図３（Ａ）に示すごとく、ガラス基板３０上に重
金属クロムＣｒを１０００〜２０００Åの厚さで蒸着し
た後、クロムエッチング液で湿式蝕刻して５０μｍの幅
を持つブラックマトリクス３２を形成する。次に、図３
（Ｂ）のように前記ブラックマトリクス３２が形成され
たガラス基板３０上にレッド顔料が分散された例えば着
色アクリル感光性樹脂を１．５〜２．０μｍの厚さで形
成し、加熱板から８０〜１１０℃で５０分間ソフト乾燥
をした後、ｉ−ライン（３６５ｎｍ）紫外線で露光を行
う。次に、現像液でシャワー方式あるいは水平伏角方式
により２〜３分間リンスして最適化されたレッドの分光
特性を持つ第１のカラーフィルタ層３４を形成する。望
ましい着色アクリルの感光性樹脂としてＣＲ−２００
０、ＣＧ−２０００、ＣＢ−２０００（Fuji-hunt Co.L
td）がある。同時に同様な方法で前記ブラックマトリク
ス３２に重畳され前記第１のカラーフィルタ層３４と分
けられるように最適化されたグリーン分光の特性を持つ
着色アクリル感光性樹脂の第２のカラーフィルタ層３６
を形成し、更に前記ブラックマトリクス３２に重畳され
前記カラーフィルタ層３６と分けられるように最適化さ
れたブルーの分光特性を持つ着色アクリル感光性樹脂の
第３のカラーフィルタ層３８を形成する。
【００２０】次に、図３（Ｃ）に示すごとく前記ブラッ
クマトリクス３２及びカラーフィルタ層３４，３６，３
８を保護するためにこれらの上部に０．５〜１．２μｍ
程の厚さで光透過性に優れた例えばポリイミド、ポリア
クリレート、ポリウレタンなどの保護膜４０を塗布した
後、加熱板にて１５０〜２２０℃で５分間加熱して形成
する。
クマトリクス３２及びカラーフィルタ層３４，３６，３
８を保護するためにこれらの上部に０．５〜１．２μｍ
程の厚さで光透過性に優れた例えばポリイミド、ポリア
クリレート、ポリウレタンなどの保護膜４０を塗布した
後、加熱板にて１５０〜２２０℃で５分間加熱して形成
する。
【００２１】前記保護膜４０を形成した後にこの保護膜
４０上の全表面に液晶を駆動するためのＩＴＯの透明電
極膜４２を５０００Å程の厚さで形成する。引き続いて
本発明の核心的技術内容である凹レンズ部を形成する。
図３（Ｄ）に示すごとく前記ガラス基板３０の一方の側
面、すなわち、下部基板を取り付ける際上部基板の下部
面３０ａにはすでに説明した方法でカラーフィルタ層３
４，３６，３８、ブラックマトリクス３２、保護膜４０
及び透明電極膜４２が形成されており、前記下部面３０
ａと他方の側面、すなわち上部基板の上部面３０ｂに凹
レンズ部４４，４６，４８が形成される。これは前記ガ
ラス基板３０と充分な選択比を持つフォトレジストをガ
ラス基板３０の上部面３０ｂ上にスピン塗布し、パター
ンニングして前記カラーフィルタ層３４，３６，３８と
対応する位置上にフォトレジストパターンを形成した
後、ガラス蝕刻液で湿式蝕刻して凹レンズ部４４，４
６，４８を形成する。前記凹レンズ部４４，４６，４８
の集光効率を高めるためにくぼんでいる部分に前記ガラ
ス基板より高い屈折率を持つ物質層を形成させることが
できる。
４０上の全表面に液晶を駆動するためのＩＴＯの透明電
極膜４２を５０００Å程の厚さで形成する。引き続いて
本発明の核心的技術内容である凹レンズ部を形成する。
図３（Ｄ）に示すごとく前記ガラス基板３０の一方の側
面、すなわち、下部基板を取り付ける際上部基板の下部
面３０ａにはすでに説明した方法でカラーフィルタ層３
４，３６，３８、ブラックマトリクス３２、保護膜４０
及び透明電極膜４２が形成されており、前記下部面３０
ａと他方の側面、すなわち上部基板の上部面３０ｂに凹
レンズ部４４，４６，４８が形成される。これは前記ガ
ラス基板３０と充分な選択比を持つフォトレジストをガ
ラス基板３０の上部面３０ｂ上にスピン塗布し、パター
ンニングして前記カラーフィルタ層３４，３６，３８と
対応する位置上にフォトレジストパターンを形成した
後、ガラス蝕刻液で湿式蝕刻して凹レンズ部４４，４
６，４８を形成する。前記凹レンズ部４４，４６，４８
の集光効率を高めるためにくぼんでいる部分に前記ガラ
ス基板より高い屈折率を持つ物質層を形成させることが
できる。
【００２２】図４は本発明の他の実施例による液晶表示
板の断面図である。この実施例は前述の図３の実施例、
すなわち、ガラス基板を蝕刻して直接凹レンズ部を形成
したことと異なる方法で凹レンズ部４４を形成すること
にあって、ブラックマトリクス３２の形成位置を異にし
ており、また、このブラックマトリクス３２の段差を用
いてガラス基板３０の上部面３０ｂ上に透明樹脂を塗布
して凹レンズ部４４を形成しており、その構成は図４か
ら明確に理解されよう。そして、この実施例の製造方法
を説明するにあたって、図３の実施例と同一の構成部分
については同じ参照符号を付して、その詳細な説明は省
略する。
板の断面図である。この実施例は前述の図３の実施例、
すなわち、ガラス基板を蝕刻して直接凹レンズ部を形成
したことと異なる方法で凹レンズ部４４を形成すること
にあって、ブラックマトリクス３２の形成位置を異にし
ており、また、このブラックマトリクス３２の段差を用
いてガラス基板３０の上部面３０ｂ上に透明樹脂を塗布
して凹レンズ部４４を形成しており、その構成は図４か
ら明確に理解されよう。そして、この実施例の製造方法
を説明するにあたって、図３の実施例と同一の構成部分
については同じ参照符号を付して、その詳細な説明は省
略する。
【００２３】図４に示すごとく前記ガラス基板３０上の
一方の側面、すなわち、下部基板（図示せず）を取り付
ける際、上部基板であるガラス基板３０の下部面３０ａ
には前述の方法でカラーフィルタ層３４，３６，３８、
ブラックマトリクス３２、保護膜４０及び透明電極膜４
２が形成されており、前記下部面３０ａと他方の側面、
すなわち、ガラス基板３０の上部面３０ｂには凹レンズ
部４４が形成される。そこで、以下にこの凹レンズ部４
４の形成方法を説明する。
一方の側面、すなわち、下部基板（図示せず）を取り付
ける際、上部基板であるガラス基板３０の下部面３０ａ
には前述の方法でカラーフィルタ層３４，３６，３８、
ブラックマトリクス３２、保護膜４０及び透明電極膜４
２が形成されており、前記下部面３０ａと他方の側面、
すなわち、ガラス基板３０の上部面３０ｂには凹レンズ
部４４が形成される。そこで、以下にこの凹レンズ部４
４の形成方法を説明する。
【００２４】前記ガラス基板３０の上部面３０ｂ上に重
金属クロムを１０００〜２０００Åの厚さで蒸着した
後、これら上にフォトレジストパターンを形成し、クロ
ムエッチング液で湿式蝕刻して５０μｍの幅を持つブラ
ックマトリクス３２を形成する。このとき、形成される
ブラックマトリクス３２のそれぞれのパターンはカラー
フィルタ層３４，３６，３８が互いに連接する連接部と
両サイドの最も外角カラーフィルタ層３４，３８のエッ
ジ部と対応する位置に形成される。
金属クロムを１０００〜２０００Åの厚さで蒸着した
後、これら上にフォトレジストパターンを形成し、クロ
ムエッチング液で湿式蝕刻して５０μｍの幅を持つブラ
ックマトリクス３２を形成する。このとき、形成される
ブラックマトリクス３２のそれぞれのパターンはカラー
フィルタ層３４，３６，３８が互いに連接する連接部と
両サイドの最も外角カラーフィルタ層３４，３８のエッ
ジ部と対応する位置に形成される。
【００２５】次に、前記ブラックマトリクス３２が形成
されたガラス基板３０の上部面３０ｂの上に外部衝撃か
らブラックマトリクス３２を保護するために表面の硬度
が高く光透過性が優秀な透明樹脂、例えばポリイミド、
ポリエチレン、ポリアクリレートなどをスピン塗布し、
リフローしてカラーフィルタ層３４，３６，３８と対応
する位置に所定の曲率を持つ凹レンズ部４４を形成す
る。このとき、形成される凹レンズの曲率制御はブラッ
クマトリクス３２の段差、塗布される透明樹脂４６の膜
の厚さ、コーディング回転数及び硬化温度などにより最
適に制御することができる。
されたガラス基板３０の上部面３０ｂの上に外部衝撃か
らブラックマトリクス３２を保護するために表面の硬度
が高く光透過性が優秀な透明樹脂、例えばポリイミド、
ポリエチレン、ポリアクリレートなどをスピン塗布し、
リフローしてカラーフィルタ層３４，３６，３８と対応
する位置に所定の曲率を持つ凹レンズ部４４を形成す
る。このとき、形成される凹レンズの曲率制御はブラッ
クマトリクス３２の段差、塗布される透明樹脂４６の膜
の厚さ、コーディング回転数及び硬化温度などにより最
適に制御することができる。
【００２６】
【発明の効果】このように、本発明はカラーフィルタ層
が形成された反対側のガラス基板上にそれぞれの画素内
の光が強くなり、かつ、到達する時間を均一にできる凹
レンズ部を形成させることにより、高画質及び高解像力
を有する液晶表示板を製造することができる。
が形成された反対側のガラス基板上にそれぞれの画素内
の光が強くなり、かつ、到達する時間を均一にできる凹
レンズ部を形成させることにより、高画質及び高解像力
を有する液晶表示板を製造することができる。
【図１】本発明の一実施例による液晶表示板の凹部を有
する上部基板の平面図である。
する上部基板の平面図である。
【図２】図１のII−II線断面図である。
【図３】図３（Ａ）〜（Ｄ）は本発明の一実施例による
液晶表示板の製造工程図である。
液晶表示板の製造工程図である。
【図４】本発明の他の実施例による液晶表示板の断面図
である。
である。
【図５】従来の上部基板の断面図である。
３０ ガラス基板 ３２ ブラックマトリクス ３４，３６，３８ カラーフィルタ層 ４０ 保護膜 ４２ 透明電極膜 ４４，４６，４８ 凹レンズ
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成５年３月２２日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００２】
【従来の技術】最近では大きさ及び重さが小さくて携帯
に便利であり、また人体に有害な電磁波の発生がないな
どの利点のために、ラップトップ型パソコンのような多
くのシステムにおいては、陰極線管に代えて液晶表示板
ＬＣＤを用いるようになった。液晶表示板は個別スイッ
チング素子である薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）が形成さ
れた下部基板であるＴＦＴ基板と、レッド、グリーン、
ブルーの三色フィルタ層が反復的に配列されてカラー化
を実現させる上部基板とから構成されている。
に便利であり、また人体に有害な電磁波の発生がないな
どの利点のために、ラップトップ型パソコンのような多
くのシステムにおいては、陰極線管に代えて液晶表示板
ＬＣＤを用いるようになった。液晶表示板は個別スイッ
チング素子である薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）が形成さ
れた下部基板であるＴＦＴ基板と、レッド、グリーン、
ブルーの三色フィルタ層が反復的に配列されてカラー化
を実現させる上部基板とから構成されている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００７】前記ブラックマトリクス３２とカラーフィ
ルタ層３４，３６，３８とを外部の衝撃から保護するた
めに、表面の硬度が高く光透過性に優れた透明樹脂、例
えばポリイミド、ポリアクリレート、ポリエチレンなど
を０．５〜３μｍ程の厚さで形成した後、加熱板上で１
５０〜２２０℃にて５分間加熱して保護膜４０を形成す
る。その後に前記保護膜４０の全表面上に液晶駆動のた
めの電圧が印加されるＩＴＯ（Indum thin oxide）の透
明電極膜４２を５００〜１３００Å程の厚さで形成して
上部基板を完成する。
ルタ層３４，３６，３８とを外部の衝撃から保護するた
めに、表面の硬度が高く光透過性に優れた透明樹脂、例
えばポリイミド、ポリアクリレート、ポリエチレンなど
を０．５〜３μｍ程の厚さで形成した後、加熱板上で１
５０〜２２０℃にて５分間加熱して保護膜４０を形成す
る。その後に前記保護膜４０の全表面上に液晶駆動のた
めの電圧が印加されるＩＴＯ（Indum thin oxide）の透
明電極膜４２を５００〜１３００Å程の厚さで形成して
上部基板を完成する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正内容】
【００２１】前記保護膜４０を形成した後にこの保護膜
４０上の全表面に液晶を駆動するためのＩＴＯの透明電
極膜４２を５００Å程の厚さで形成する。引き続いて本
発明の核心的技術内容である凹レンズ部を形成する。図
３（Ｄ）に示すごとく前記ガラス基板３０の一方の側
面、すなわち、下部基板を取り付ける際上部基板の下部
面３０ａにはすでに説明した方法でカラーフィルタ層３
４，３６，３８、ブラックマトリクス３２、保護膜４０
及び透明電極膜４２が形成されており、前記下部面３０
ａと他方の側面、すなわち上部基板の上部面３０ｂに凹
レンズ部４４，４６，４８が形成される。これは前記ガ
ラス基板３０と充分な選択比を持つフォトレジストをガ
ラス基板３０の上部面３０ｂ上にスピン塗布し、パター
ンニングして前記カラーフィルタ層３４，３６，３８と
対応する位置上にフォトレジストパターンを形成した
後、ガラス蝕刻液で湿式蝕刻して凹レンズ部４４，４
６，４８を形成する。前記凹レンズ部４４，４６，４８
の集光効率を高めるためにくぼんでいる部分に前記ガラ
ス基板より高い屈折率を持つ物質層を形成させることが
できる。
４０上の全表面に液晶を駆動するためのＩＴＯの透明電
極膜４２を５００Å程の厚さで形成する。引き続いて本
発明の核心的技術内容である凹レンズ部を形成する。図
３（Ｄ）に示すごとく前記ガラス基板３０の一方の側
面、すなわち、下部基板を取り付ける際上部基板の下部
面３０ａにはすでに説明した方法でカラーフィルタ層３
４，３６，３８、ブラックマトリクス３２、保護膜４０
及び透明電極膜４２が形成されており、前記下部面３０
ａと他方の側面、すなわち上部基板の上部面３０ｂに凹
レンズ部４４，４６，４８が形成される。これは前記ガ
ラス基板３０と充分な選択比を持つフォトレジストをガ
ラス基板３０の上部面３０ｂ上にスピン塗布し、パター
ンニングして前記カラーフィルタ層３４，３６，３８と
対応する位置上にフォトレジストパターンを形成した
後、ガラス蝕刻液で湿式蝕刻して凹レンズ部４４，４
６，４８を形成する。前記凹レンズ部４４，４６，４８
の集光効率を高めるためにくぼんでいる部分に前記ガラ
ス基板より高い屈折率を持つ物質層を形成させることが
できる。
Claims (6)
- 【請求項１】 ガラス基板と、前記ガラス基板上に形成
されたブラックマトリクスと、前記ブラックマトリクス
と重畳される部分を有するようにモザイクの形状で形成
された第１、第２、第３のカラーフィルタ層と、前記ブ
ラックマトリクスとカラーフィルタ層上に連続的に形成
された保護膜と、透明電極膜とから構成される液晶表示
板において、前記第１、第２、第３のカラーフィルタ層
が形成された前記ガラス基板面の反対側面に前記第１、
第２、第３のカラーフィルタ層と対応する位置に凹レン
ズ部を形成したことを特徴とする液晶表示板。 - 【請求項２】 前記凹レンズ部のくぼんだ部分に前記ガ
ラス基板より高い屈折率を持つ物質層を更に含むことを
特徴とする請求項１に記載の液晶表示板。 - 【請求項３】 ガラス基板上にブラックマトリクスを形
成しそれぞれのブラックマトリクスとの間に第１、第
２、第３のカラーフィルタ層を形成する段階と、前記ブ
ラックマトリクス及びカラーフィルタ層が形成された構
造上に保護膜及び透明電極層を順に形成する段階と、前
記第１、第２、第３のカラーフィルタ層が形成された反
対側のガラス基板の面に前記ガラス基板と充分な選択比
を持つフォトレジストを塗布し、パターンニングしてフ
ォトレジストパターンを形成する段階と、前記フォトレ
ジストパターンをマスクとしてガラス蝕刻液で湿式蝕刻
して凹レンズ部を形成することを特徴とする液晶表示板
の製造方法。 - 【請求項４】 ガラス基板上に第１、第２、第３のカラ
ーフィルタ層を形成する段階と、前記第１、第２、第３
のカラーフィルタ層が形成された構造上に保護層及び透
明電極層を順に形成する段階と、前記第１、第２、第３
のカラーフィルタ層が形成された反対側のガラス基板の
面にカラーフィルタ層が互いに連接する連接部と両サイ
ドの最も外角カラーフィルタ層のエッジ部と対応する位
置にブラックマトリクスを形成する段階と、前記ブラッ
クマトリクスが形成された構造の全面に透明樹脂を塗布
して所定の曲率を持つ凹レンズ部を形成する段階とから
なることを特徴とする液晶表示板の製造方法。 - 【請求項５】 前記透明樹脂はポリイミド、ポリエチレ
ン、ポリアクリレート中のいずれか１つで形成されるこ
とを特徴とする請求項４に記載の液晶表示板の製造方
法。 - 【請求項６】 前記凹レンズ部の曲率制御は前記ブラッ
クマトリクスの段差、塗布される前記透明樹脂の膜厚
さ、コーディング回転数及び硬化温度を調整して制御す
ることを特徴とする請求項４に記載の液晶表示板の製造
方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019920002188A KR940009137B1 (ko) | 1992-02-14 | 1992-02-14 | 액정표시판 및 그 제조방법 |
| KR1992-2188 | 1992-02-14 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05289072A true JPH05289072A (ja) | 1993-11-05 |
| JP2564083B2 JP2564083B2 (ja) | 1996-12-18 |
Family
ID=19328982
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5025244A Expired - Lifetime JP2564083B2 (ja) | 1992-02-14 | 1993-02-15 | 液晶表示板及びその製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0556069A1 (ja) |
| JP (1) | JP2564083B2 (ja) |
| KR (1) | KR940009137B1 (ja) |
| TW (1) | TW321730B (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2012077586A1 (ja) * | 2010-12-10 | 2012-06-14 | シャープ株式会社 | 液晶表示パネル用アレイ基板 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TW446843B (en) * | 1996-01-10 | 2001-07-21 | Sumitomo Chemical Co | A microlens-array, production method thereof, and liquid crystal display device using the same |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57201288A (en) * | 1981-06-04 | 1982-12-09 | Mitsubishi Electric Corp | Color liquid crystal television receiver |
| JPS60165621A (ja) * | 1984-02-08 | 1985-08-28 | Nec Corp | 透過型表示素子 |
| JPH01191826A (ja) * | 1988-01-27 | 1989-08-01 | Toppan Printing Co Ltd | 液晶表示装置 |
| JPH0580207A (ja) * | 1991-09-24 | 1993-04-02 | Nec Corp | 広視野角液晶表示装置 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4528260A (en) * | 1983-04-27 | 1985-07-09 | Rca Corporation | Method of fabricating lenticular arrays |
| ES2077648T3 (es) * | 1989-07-19 | 1995-12-01 | Sharp Kk | Aparato de presentacion de imagen. |
-
1992
- 1992-02-14 KR KR1019920002188A patent/KR940009137B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1993
- 1993-02-15 JP JP5025244A patent/JP2564083B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1993-02-15 EP EP93301056A patent/EP0556069A1/en not_active Withdrawn
- 1993-04-03 TW TW082102533A patent/TW321730B/zh not_active IP Right Cessation
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57201288A (en) * | 1981-06-04 | 1982-12-09 | Mitsubishi Electric Corp | Color liquid crystal television receiver |
| JPS60165621A (ja) * | 1984-02-08 | 1985-08-28 | Nec Corp | 透過型表示素子 |
| JPH01191826A (ja) * | 1988-01-27 | 1989-08-01 | Toppan Printing Co Ltd | 液晶表示装置 |
| JPH0580207A (ja) * | 1991-09-24 | 1993-04-02 | Nec Corp | 広視野角液晶表示装置 |
Cited By (1)
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|---|---|---|---|---|
| WO2012077586A1 (ja) * | 2010-12-10 | 2012-06-14 | シャープ株式会社 | 液晶表示パネル用アレイ基板 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR940009137B1 (ko) | 1994-10-01 |
| KR930018304A (ko) | 1993-09-21 |
| EP0556069A1 (en) | 1993-08-18 |
| TW321730B (ja) | 1997-12-01 |
| JP2564083B2 (ja) | 1996-12-18 |
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