JPH05287402A - 極低酸素銅の製造法およびその製造法により得られた極低酸素銅 - Google Patents
極低酸素銅の製造法およびその製造法により得られた極低酸素銅Info
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- JPH05287402A JPH05287402A JP4117022A JP11702292A JPH05287402A JP H05287402 A JPH05287402 A JP H05287402A JP 4117022 A JP4117022 A JP 4117022A JP 11702292 A JP11702292 A JP 11702292A JP H05287402 A JPH05287402 A JP H05287402A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
- C22B15/00—Obtaining copper
- C22B15/0026—Pyrometallurgy
- C22B15/006—Pyrometallurgy working up of molten copper, e.g. refining
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
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- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 酸素濃度が０．５ppm 以下の極低酸素銅の製
造法を提供する。 【構成】 （１） 黒鉛存在下で原料銅の溶融状態を保
持することにより脱酸する工程、（２） 原料銅を溶解
し、還元性ガスを吹込みながら脱酸する工程、（３）
黒鉛存在下で原料銅を溶解し、得られた溶銅に黒鉛存在
下で不活性ガスまたは還元性ガスを吹込みながら脱酸す
る工程、上記（１）〜（３）のいずれかの工程途中で一
時的に酸化銅を添加することにより酸素濃度を０．５pp
m 以下に低減させる極低酸素銅の製造法。
造法を提供する。 【構成】 （１） 黒鉛存在下で原料銅の溶融状態を保
持することにより脱酸する工程、（２） 原料銅を溶解
し、還元性ガスを吹込みながら脱酸する工程、（３）
黒鉛存在下で原料銅を溶解し、得られた溶銅に黒鉛存在
下で不活性ガスまたは還元性ガスを吹込みながら脱酸す
る工程、上記（１）〜（３）のいずれかの工程途中で一
時的に酸化銅を添加することにより酸素濃度を０．５pp
m 以下に低減させる極低酸素銅の製造法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、酸素濃度が０．５pp
m 以下でＣｕ：９９．９９８重量％以上の純度を有する
極低酸素銅の製造法に関するものである。
m 以下でＣｕ：９９．９９８重量％以上の純度を有する
極低酸素銅の製造法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】一般に、無酸素銅を製造する方法とし
て、（１） 通常の電気銅を真空溶解し脱ガスする方
法、（２） 通常の電気銅を不活性ガスまたは還元性ガ
ス雰囲気中で溶解し、不活性ガスまたは還元性ガスを吹
込んで溶湯を撹拌し脱ガスする方法、などが知られてい
る。
て、（１） 通常の電気銅を真空溶解し脱ガスする方
法、（２） 通常の電気銅を不活性ガスまたは還元性ガ
ス雰囲気中で溶解し、不活性ガスまたは還元性ガスを吹
込んで溶湯を撹拌し脱ガスする方法、などが知られてい
る。
【０００３】これら従来法により製造された無酸素銅の
酸素濃度は１ppm までしか下げることができず、１ppm
よりも少なくすることは困難であった。
酸素濃度は１ppm までしか下げることができず、１ppm
よりも少なくすることは困難であった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、近年、粒子加
速器などの真空容器材料に無酸素銅が使用されるように
なってきており、従来の無酸素銅製真空容器を高真空下
で使用すると無酸素銅に残存するガス（主として水素ガ
ス）が放出され、真空容器内の真空度を下げることがあ
った。そのため、あらかじめ従来の無酸素銅に含まれる
水素ガスをベーキング等の手段により除去し、このベー
キングした無酸素銅を粒子加速器などの真空容器材とし
て使用していた。
速器などの真空容器材料に無酸素銅が使用されるように
なってきており、従来の無酸素銅製真空容器を高真空下
で使用すると無酸素銅に残存するガス（主として水素ガ
ス）が放出され、真空容器内の真空度を下げることがあ
った。そのため、あらかじめ従来の無酸素銅に含まれる
水素ガスをベーキング等の手段により除去し、このベー
キングした無酸素銅を粒子加速器などの真空容器材とし
て使用していた。
【０００５】しかし、上記ベーキング等により脱水素ガ
ス処理しても、無酸素銅中に含まれる酸素濃度が高い
と、残存する水素ガスは無酸素銅中に含まれる酸素ガス
によりトラップされて容易に除去されず、かかるベーキ
ング等により脱水素された無酸素銅製真空容器を高真空
下で使用すると使用中に水素ガスが放出され高真空度が
維持できなくなり、かかる観点から従来よりも一層酸素
含有量の少ない極低酸素銅が求められていた。
ス処理しても、無酸素銅中に含まれる酸素濃度が高い
と、残存する水素ガスは無酸素銅中に含まれる酸素ガス
によりトラップされて容易に除去されず、かかるベーキ
ング等により脱水素された無酸素銅製真空容器を高真空
下で使用すると使用中に水素ガスが放出され高真空度が
維持できなくなり、かかる観点から従来よりも一層酸素
含有量の少ない極低酸素銅が求められていた。
【０００６】
【課題を解決するための手段】そこで、本発明者等は、
従来の無酸素銅よりも一層酸素濃度の低い極低酸素銅を
得るべく研究を行った結果、原料銅を溶解し脱酸する工
程の途中において、酸化銅を一時的に溶銅に対する酸素
濃度が５０〜２００ppm となるように添加すると、最終
的に得られた溶銅中の酸素含有量が０．５ppm 以下に低
下し、極低酸素銅が得られるという知見を得たのであ
る。
従来の無酸素銅よりも一層酸素濃度の低い極低酸素銅を
得るべく研究を行った結果、原料銅を溶解し脱酸する工
程の途中において、酸化銅を一時的に溶銅に対する酸素
濃度が５０〜２００ppm となるように添加すると、最終
的に得られた溶銅中の酸素含有量が０．５ppm 以下に低
下し、極低酸素銅が得られるという知見を得たのであ
る。
【０００７】この発明は、かかる知見にもとづいてなさ
れたものであって、（１） 黒鉛存在下で原料銅の溶融
状態を保持することにより脱酸する工程、（２） 原料
銅を溶解し、還元性ガスを吹込みながら脱酸する工程、
（３） 黒鉛存在下で原料銅を溶解し、得られた溶銅に
黒鉛存在下で不活性ガスまたは還元性ガスを吹込みなが
ら脱酸する工程、上記（１）〜（３）のいずれかの工程
の途中で一時的に酸化銅を添加することにより酸素濃度
を０．５ppm 以下に低減させる極低酸素銅の製造法に特
徴を有するものである。
れたものであって、（１） 黒鉛存在下で原料銅の溶融
状態を保持することにより脱酸する工程、（２） 原料
銅を溶解し、還元性ガスを吹込みながら脱酸する工程、
（３） 黒鉛存在下で原料銅を溶解し、得られた溶銅に
黒鉛存在下で不活性ガスまたは還元性ガスを吹込みなが
ら脱酸する工程、上記（１）〜（３）のいずれかの工程
の途中で一時的に酸化銅を添加することにより酸素濃度
を０．５ppm 以下に低減させる極低酸素銅の製造法に特
徴を有するものである。
【０００８】上記酸化銅の添加量は、溶銅に対する酸素
量が５０ppm 未満では脱酸効果が十分でなく、一方、２
００ppm を越えて多量に添加すると酸素濃度が上昇しす
ぎるため溶銅中に酸素が残留してしまうので好ましくな
い。したがって、酸化銅の添加量は、溶銅に対する酸素
量が５０〜２００ppm の範囲内になるように定めた。
量が５０ppm 未満では脱酸効果が十分でなく、一方、２
００ppm を越えて多量に添加すると酸素濃度が上昇しす
ぎるため溶銅中に酸素が残留してしまうので好ましくな
い。したがって、酸化銅の添加量は、溶銅に対する酸素
量が５０〜２００ppm の範囲内になるように定めた。
【０００９】この発明で使用する酸化銅はＣｕＯまたは
Ｃｕ2 Ｏの化合物構造のものが好ましいが、その他いか
なる化合物構造の酸化銅を使用してもよい。また、この
発明で使用する不活性ガスはＡｒガスまたはＮ2 ガスが
好ましく、この発明で使用する還元ガスはＣＯガスが好
ましいが、吹込みガスは上記ガスに特に限定されるもの
ではない。
Ｃｕ2 Ｏの化合物構造のものが好ましいが、その他いか
なる化合物構造の酸化銅を使用してもよい。また、この
発明で使用する不活性ガスはＡｒガスまたはＮ2 ガスが
好ましく、この発明で使用する還元ガスはＣＯガスが好
ましいが、吹込みガスは上記ガスに特に限定されるもの
ではない。
【００１０】
【実施例】つぎに、この発明を実施例にもとづいて具体
的に説明する。
的に説明する。
【００１１】実施例１ 原料として酸素含有量：２０ppm の電気銅を用意し、こ
の電気銅を１５kgづつ黒鉛るつぼに装入し、Ａｒガス雰
囲気中にて溶解し、溶銅温度が１２００℃になった時点
で表１〜表３に示される流量の吹込みガスを黒鉛ノズル
またはアルミナノズルを通して溶銅中に吹込み、１０分
間続けて吹込んだのち上記ノズルを通して吹込みガスと
ともにＣｕＯ粉末を表１〜表３に示される添加量だけ瞬
間的に吹込み、さらに上記吹込みガスの吹込みを１０分
間続けて吹込んで脱酸し、ついでこの溶銅を金型に鋳込
んで鋳造する本発明法１〜１８および比較法１〜１２を
実施した。
の電気銅を１５kgづつ黒鉛るつぼに装入し、Ａｒガス雰
囲気中にて溶解し、溶銅温度が１２００℃になった時点
で表１〜表３に示される流量の吹込みガスを黒鉛ノズル
またはアルミナノズルを通して溶銅中に吹込み、１０分
間続けて吹込んだのち上記ノズルを通して吹込みガスと
ともにＣｕＯ粉末を表１〜表３に示される添加量だけ瞬
間的に吹込み、さらに上記吹込みガスの吹込みを１０分
間続けて吹込んで脱酸し、ついでこの溶銅を金型に鋳込
んで鋳造する本発明法１〜１８および比較法１〜１２を
実施した。
【００１２】さらに比較のために上記ＣｕＯ粉末を添加
することなく黒鉛ノズルまたはアルミナノズルを通して
表３に示される流量の吹込みガスを溶銅中に吹込んで脱
酸し、ついで溶銅を金型に鋳込んで鋳造する表３に示さ
れる従来法１〜６を実施した。
することなく黒鉛ノズルまたはアルミナノズルを通して
表３に示される流量の吹込みガスを溶銅中に吹込んで脱
酸し、ついで溶銅を金型に鋳込んで鋳造する表３に示さ
れる従来法１〜６を実施した。
【００１３】これら本発明法１〜１８、比較法１〜１２
および従来法１〜６により得られた脱酸銅鋳塊に含まれ
るＯ2 量を測定し、これらの測定結果を表１〜表３に示
した。
および従来法１〜６により得られた脱酸銅鋳塊に含まれ
るＯ2 量を測定し、これらの測定結果を表１〜表３に示
した。
【００１４】
【表１】
【００１５】
【表２】
【００１６】
【表３】
【００１７】実施例２ 原料として酸素：１５ppm 含有の電気銅を用意し、この
電気銅を１５kgづつアルミナるつぼに装入し、ＣＯガス
雰囲気中にて溶解し、溶銅温度が１２００℃になった時
点で表４〜表５に示される流量の吹込みガスを黒鉛ノズ
ルまたはアルミナノズルを通して溶銅に吹込み、２０分
間続けて吹込んだのち上記ノズルを通して吹込みガスと
ともにＣｕＯ粉末を表４〜表５に示される量だけ瞬間的
に吹込み、さらに上記吹込みガスの吹込みを１０分間続
けて吹込んで脱酸し、ついでこの溶銅を金型に鋳込んで
鋳造する本発明法１９〜２９および比較法１３〜２０を
実施した。
電気銅を１５kgづつアルミナるつぼに装入し、ＣＯガス
雰囲気中にて溶解し、溶銅温度が１２００℃になった時
点で表４〜表５に示される流量の吹込みガスを黒鉛ノズ
ルまたはアルミナノズルを通して溶銅に吹込み、２０分
間続けて吹込んだのち上記ノズルを通して吹込みガスと
ともにＣｕＯ粉末を表４〜表５に示される量だけ瞬間的
に吹込み、さらに上記吹込みガスの吹込みを１０分間続
けて吹込んで脱酸し、ついでこの溶銅を金型に鋳込んで
鋳造する本発明法１９〜２９および比較法１３〜２０を
実施した。
【００１８】さらに比較のために、上記ＣｕＯ粉末を添
加することなく黒鉛ノズルまたはアルミナノズルを通し
て表５に示される流量の吹込みガスを溶銅中に吹込んで
脱酸し、ついで溶銅を金型に鋳込んで鋳造する従来法７
〜９を実施した。
加することなく黒鉛ノズルまたはアルミナノズルを通し
て表５に示される流量の吹込みガスを溶銅中に吹込んで
脱酸し、ついで溶銅を金型に鋳込んで鋳造する従来法７
〜９を実施した。
【００１９】これら本発明法１９〜２０、比較法１３〜
２０および従来法７〜９により得られた脱酸銅鋳塊に含
まれるＯ2 量を測定し、これらの測定結果を表４〜表５
に示した。
２０および従来法７〜９により得られた脱酸銅鋳塊に含
まれるＯ2 量を測定し、これらの測定結果を表４〜表５
に示した。
【００２０】
【表４】
【００２１】
【表５】
【００２２】実施例３ 原料として酸素：１２ppm 含有の電気銅を用意し、この
電気銅を黒鉛るつぼにて１５kgづつ溶解し、得られた溶
銅をそのまま黒鉛るつぼにて１２００℃に１５分間加熱
保持したのち表６に示される量のＣｕＯ粉末を添加し、
さらに上記温度に１５分間保持したのちこの溶銅を金型
に鋳込み、本発明法３０〜３４および比較法２１〜２２
を実施した。
電気銅を黒鉛るつぼにて１５kgづつ溶解し、得られた溶
銅をそのまま黒鉛るつぼにて１２００℃に１５分間加熱
保持したのち表６に示される量のＣｕＯ粉末を添加し、
さらに上記温度に１５分間保持したのちこの溶銅を金型
に鋳込み、本発明法３０〜３４および比較法２１〜２２
を実施した。
【００２３】さらに比較のためにＣｕＯ粉末を添加する
ことなく黒鉛るつぼにて上記電気銅を同様にして溶解
し、従来法１０を行った。
ことなく黒鉛るつぼにて上記電気銅を同様にして溶解
し、従来法１０を行った。
【００２４】
【表６】
【００２５】実施例４ 原料として酸素：１０ppm 含有の電気銅を用意し、この
電気銅をアルミナるつぼにて１５kgづつ溶解し、溶銅温
度が１２００℃になった時点で黒鉛棒を上記溶銅中に浸
漬し、そのまま１５分間保持したのち、表７に示される
量のＣｕＯ粉末を添加し、さらに上記温度に１５分間保
持したのちこれら溶銅を金型に鋳込み、本発明法３５〜
３９および比較法２３〜２４を実施した。
電気銅をアルミナるつぼにて１５kgづつ溶解し、溶銅温
度が１２００℃になった時点で黒鉛棒を上記溶銅中に浸
漬し、そのまま１５分間保持したのち、表７に示される
量のＣｕＯ粉末を添加し、さらに上記温度に１５分間保
持したのちこれら溶銅を金型に鋳込み、本発明法３５〜
３９および比較法２３〜２４を実施した。
【００２６】さらに比較のためにＣｕＯ粉末を添加する
ことなく同様にして溶解し、従来法１１を実施した。
ことなく同様にして溶解し、従来法１１を実施した。
【００２７】
【表７】
【００２８】
【発明の効果】上記実施例１〜３の表１〜表７に示され
る結果から、酸化銅を添加しない従来法１〜１１ではい
ずれも無酸素銅中の酸素含有量を０．５ppm 以下に下げ
ることはできないに対し、脱酸工程の途中で一時的に酸
化銅を添加する本発明法１〜３４によるといずれも酸素
含有量：０．５ppm 以下に下げることができ、極低酸素
銅を得ることができることがわかる。
る結果から、酸化銅を添加しない従来法１〜１１ではい
ずれも無酸素銅中の酸素含有量を０．５ppm 以下に下げ
ることはできないに対し、脱酸工程の途中で一時的に酸
化銅を添加する本発明法１〜３４によるといずれも酸素
含有量：０．５ppm 以下に下げることができ、極低酸素
銅を得ることができることがわかる。
【００２９】しかし、比較法１〜２２に見られるよう
に、脱酸工程中に添加する酸化銅の量が溶銅に対する酸
素量に換算して５０ppm 未満または２００ppm を越える
と（上記表１〜表７において、添加する酸化銅の溶銅に
対する酸素量が５０〜２００ppm の範囲から外れた値に
＊印を付して示した）、溶銅中の酸素濃度を０．５ppm
以下にすることができないことがわかる。
に、脱酸工程中に添加する酸化銅の量が溶銅に対する酸
素量に換算して５０ppm 未満または２００ppm を越える
と（上記表１〜表７において、添加する酸化銅の溶銅に
対する酸素量が５０〜２００ppm の範囲から外れた値に
＊印を付して示した）、溶銅中の酸素濃度を０．５ppm
以下にすることができないことがわかる。
【００３０】上述のように、この発明の方法によると従
来の無酸素銅よりも大幅に酸素濃度の低い極低酸素銅を
製造することができ、酸素濃度が低いために材料中に存
在する水素ガスをベーキング等により容易に除去するこ
とができ、高真空下で使用する真空容器の真空度を下げ
ることがない真空容器材料を提供することができ、産業
上すぐれた効果を奏するものである。
来の無酸素銅よりも大幅に酸素濃度の低い極低酸素銅を
製造することができ、酸素濃度が低いために材料中に存
在する水素ガスをベーキング等により容易に除去するこ
とができ、高真空下で使用する真空容器の真空度を下げ
ることがない真空容器材料を提供することができ、産業
上すぐれた効果を奏するものである。
Claims (7)
- 【請求項１】 原料銅を溶解しその溶融状態を黒鉛存在
下で保持することにより脱酸する工程において、 上記脱酸する工程の途中で一時的に酸化銅を添加するこ
とを特徴とする極低酸素銅の製造法。 - 【請求項２】 黒鉛存在下で原料銅を溶解しその溶融状
態を黒鉛存在下で保持することにより脱酸する工程にお
いて、 上記脱酸する工程の途中で一時的に酸化銅を添加するこ
とを特徴とする極低酸素銅の製造法。 - 【請求項３】 原料銅を溶解して得られた溶銅に還元性
ガスを吹込みながら撹拌し脱酸する工程において、 上記脱酸する工程の途中で一時的に酸化銅を添加するこ
とを特徴とする極低酸素銅の製造法。 - 【請求項４】 黒鉛存在下で原料銅を溶解し、得られた
溶銅を黒鉛存在下で不活性ガスを吹込み、溶銅を撹拌し
て脱酸する工程において、 上記脱酸する工程の途中で一時的に酸化銅を添加するこ
とを特徴とする極低酸素銅の製造法。 - 【請求項５】 黒鉛存在下で原料銅を溶解し、得られた
溶銅に黒鉛存在下で還元性ガスを吹込み、溶銅を撹拌し
て脱酸する工程において、 上記脱酸する工程の途中で一時的に酸化銅を添加するこ
とを特徴とする極低酸素銅の製造法。 - 【請求項６】 上記酸化銅の添加量は、溶銅に対する酸
素濃度が一時的に５０〜２００ppm となるように添加す
ることを特徴とする請求項１，２，３，４または５記載
の極低酸素銅の製造法。 - 【請求項７】 請求項１，２，３，４，５または６記載
の製造法により得られた酸素含有量が０．５ppm 以下で
あることを特徴とする極低酸素銅。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4117022A JPH05287402A (ja) | 1992-04-09 | 1992-04-09 | 極低酸素銅の製造法およびその製造法により得られた極低酸素銅 |
| FR9304066A FR2690462B1 (fr) | 1992-04-09 | 1993-04-06 | Procédé de fabrication de cuivre à très basse teneur en oxygène. |
| DE4311681A DE4311681C2 (de) | 1992-04-09 | 1993-04-08 | Verfahren zur Herstellung von besonders wenig Sauerstoff aufweisendem Kupfer |
| US08/046,250 US5308379A (en) | 1992-04-09 | 1993-04-08 | Extra-low-oxygen copper and a method of processing same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4117022A JPH05287402A (ja) | 1992-04-09 | 1992-04-09 | 極低酸素銅の製造法およびその製造法により得られた極低酸素銅 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05287402A true JPH05287402A (ja) | 1993-11-02 |
Family
ID=14701510
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4117022A Withdrawn JPH05287402A (ja) | 1992-04-09 | 1992-04-09 | 極低酸素銅の製造法およびその製造法により得られた極低酸素銅 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5308379A (ja) |
| JP (1) | JPH05287402A (ja) |
| DE (1) | DE4311681C2 (ja) |
| FR (1) | FR2690462B1 (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6042632A (en) * | 1996-01-17 | 2000-03-28 | Kennecott Holdings Company | Method of moderating temperature peaks in and/or increasing throughput of a continuous, top-blown copper converting furnace |
| US6572792B1 (en) * | 1999-10-13 | 2003-06-03 | Atomic Ordered Materials, L.L.C. | Composition of matter tailoring: system 1 |
| US6921497B2 (en) * | 1999-10-13 | 2005-07-26 | Electromagnetics Corporation | Composition of matter tailoring: system I |
| US7655160B2 (en) * | 2005-02-23 | 2010-02-02 | Electromagnetics Corporation | Compositions of matter: system II |
| EP2643487A4 (en) | 2010-11-22 | 2018-05-30 | Electromagnetics Corporation | Devices for tailoring materials |
| CA3059649C (en) * | 2017-05-10 | 2024-01-02 | Haldor Topsoe A/S | A process for reducing the content of oxygen in metallic copper |
| CN109609769B (zh) * | 2018-12-28 | 2020-05-29 | 江西新金叶实业有限公司 | 采用富氧熔炼炉直接生产阳极板的工艺 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR1337013A (fr) * | 1961-10-12 | 1963-09-06 | Siemens Ag | Procédé de fusion du cuivre et de ses alliages dans un four à induction et produits conformes à ceux obtenus par le présent procédé ou procédé similaire |
| GB1052907A (ja) * | 1964-12-01 | 1966-12-30 | ||
| BE791287A (fr) * | 1971-11-15 | 1973-05-14 | Int Nickel Canada | Procede de pyro-affinage de cuivre |
| US3844772A (en) * | 1973-02-28 | 1974-10-29 | Du Pont | Deoxidation of copper |
| US3987224A (en) * | 1975-06-02 | 1976-10-19 | General Electric Company | Oxygen control in continuous metal casting system |
| JP2689540B2 (ja) * | 1988-11-21 | 1997-12-10 | 三菱マテリアル株式会社 | 低酸素含有銅の製造方法及び製造装置 |
| JPH0499239A (ja) * | 1990-08-08 | 1992-03-31 | Mitsubishi Materials Corp | 極低酸素銅製高エネルギー加速器の構造部材 |
-
1992
- 1992-04-09 JP JP4117022A patent/JPH05287402A/ja not_active Withdrawn
-
1993
- 1993-04-06 FR FR9304066A patent/FR2690462B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 1993-04-08 US US08/046,250 patent/US5308379A/en not_active Expired - Fee Related
- 1993-04-08 DE DE4311681A patent/DE4311681C2/de not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| FR2690462B1 (fr) | 1995-03-10 |
| DE4311681C2 (de) | 2002-07-18 |
| FR2690462A1 (fr) | 1993-10-29 |
| US5308379A (en) | 1994-05-03 |
| DE4311681A1 (de) | 1993-10-14 |
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