JPH05285854A - 研磨用不織布 - Google Patents
研磨用不織布Info
- Publication number
- JPH05285854A JPH05285854A JP4095570A JP9557092A JPH05285854A JP H05285854 A JPH05285854 A JP H05285854A JP 4095570 A JP4095570 A JP 4095570A JP 9557092 A JP9557092 A JP 9557092A JP H05285854 A JPH05285854 A JP H05285854A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polishing
- fibers
- cloth
- grinding grains
- woven cloth
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
- Nonwoven Fabrics (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 クリーニング効果を具備した研磨用不織布を
提供する。 【構成】 主として合成繊維からなる不織布の表面の1
0〜80%の面積に、粒径が0.5〜10μmの砥粒が
固着されている研磨用不織布。
提供する。 【構成】 主として合成繊維からなる不織布の表面の1
0〜80%の面積に、粒径が0.5〜10μmの砥粒が
固着されている研磨用不織布。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、研磨用不織布とその製
造方法に関するものであり、詳しくは磁気テープなどの
磁性体面、シリコーンなどの半導体面、あるいは精密ガ
ラスレンズなどのバリ取り、凹凸の研磨、表面仕上げ等
に使用する研磨用不織布に関するものである。
造方法に関するものであり、詳しくは磁気テープなどの
磁性体面、シリコーンなどの半導体面、あるいは精密ガ
ラスレンズなどのバリ取り、凹凸の研磨、表面仕上げ等
に使用する研磨用不織布に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、磁気テープ等の表面仕上げ用研磨
材としては、柔軟性や研磨性等からポリエステルフィル
ムに炭化珪素やアルミナなどの砥粒を付着させたものが
用いられている。
材としては、柔軟性や研磨性等からポリエステルフィル
ムに炭化珪素やアルミナなどの砥粒を付着させたものが
用いられている。
【0003】
【本発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来
方法により提供された上記研磨材では、研磨時に生ずる
砥粒の脱落や研磨屑などの被研磨体への再付着や面精度
に悪影響を及ぼすため、別にクリーニング工程を設ける
必要があった。このような背景から研磨性と共にクリー
ニング性をも満足する研磨材の開発要望が強かった。本
発明の目的は、上記要望に応えるべく研磨効果を奏する
と同時に研磨屑を除去するクリーニング効果をも具備す
る研磨布を提供することにある。
方法により提供された上記研磨材では、研磨時に生ずる
砥粒の脱落や研磨屑などの被研磨体への再付着や面精度
に悪影響を及ぼすため、別にクリーニング工程を設ける
必要があった。このような背景から研磨性と共にクリー
ニング性をも満足する研磨材の開発要望が強かった。本
発明の目的は、上記要望に応えるべく研磨効果を奏する
と同時に研磨屑を除去するクリーニング効果をも具備す
る研磨布を提供することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者等は上記課題を
解決すべく種々の検討を行った結果、上記課題は、主と
して合成繊維からなる不織布の表面の10〜80%の面
積に、粒径が0.5〜10μmの砥粒が固着されている
研磨用不織布によって解決されることを見い出した。
解決すべく種々の検討を行った結果、上記課題は、主と
して合成繊維からなる不織布の表面の10〜80%の面
積に、粒径が0.5〜10μmの砥粒が固着されている
研磨用不織布によって解決されることを見い出した。
【0005】さらに、繊維同士が部分的に接着された部
分と少なくとも50%以上の自由度のある繊維部分によ
り構成された不織布を用いることにより好ましい結果を
得ることを見い出し本発明を完成するに至った。
分と少なくとも50%以上の自由度のある繊維部分によ
り構成された不織布を用いることにより好ましい結果を
得ることを見い出し本発明を完成するに至った。
【0006】本発明の基材となる不織布は、ナイロン、
ポリエステル、アクリル繊維等の合成繊維と再生レーヨ
ン、綿等の天然繊維で構成され、合成繊維の混用比率は
50%以上であることが好ましい。合成繊維を混用比率
を50%以上であるのが好ましいのは、研磨用として適
した強度及び弾性を持つ不織布を容易に得ることができ
るためである。
ポリエステル、アクリル繊維等の合成繊維と再生レーヨ
ン、綿等の天然繊維で構成され、合成繊維の混用比率は
50%以上であることが好ましい。合成繊維を混用比率
を50%以上であるのが好ましいのは、研磨用として適
した強度及び弾性を持つ不織布を容易に得ることができ
るためである。
【0007】本発明に用いる砥粒の大きさは、不織布の
弾性、等の物性及び必要研磨度により決定されるべきで
あるが、検討した結果0.5〜10μmの粒径の砥粒が
必要である。即ち、0.5μm未満の砥粒を用いると研
磨性が劣り、一方10μmを越える砥粒は不織布からの
脱落が多く、又均一な研磨性が得られない。又、上記砥
粒の種類として、炭化珪素等を挙げることができる。
弾性、等の物性及び必要研磨度により決定されるべきで
あるが、検討した結果0.5〜10μmの粒径の砥粒が
必要である。即ち、0.5μm未満の砥粒を用いると研
磨性が劣り、一方10μmを越える砥粒は不織布からの
脱落が多く、又均一な研磨性が得られない。又、上記砥
粒の種類として、炭化珪素等を挙げることができる。
【0008】不織布の表面の10〜80%の面積に、砥
粒が固着されていることが重要であり、研磨部が10%
以下では研磨性が劣り、80%以上ではクリーニング性
が劣る結果となる。砥粒が固着されている部分の形状は
特に限定されないが、均一な研磨性及びクリーニング性
を具備し、かつ安定した製造を確保するためにパターン
化するのが有効である。例えば砥粒が固着されている部
分が不織布表面にストライプ状又は矩形で均一に分布し
ているのが効果的である。
粒が固着されていることが重要であり、研磨部が10%
以下では研磨性が劣り、80%以上ではクリーニング性
が劣る結果となる。砥粒が固着されている部分の形状は
特に限定されないが、均一な研磨性及びクリーニング性
を具備し、かつ安定した製造を確保するためにパターン
化するのが有効である。例えば砥粒が固着されている部
分が不織布表面にストライプ状又は矩形で均一に分布し
ているのが効果的である。
【0009】本発明で言う、自由度のある繊維部分と
は、繊維同志が樹脂または熱により接着されていない部
分であり、また50%以上とは単位面積当たりの樹脂又
は熱接着されていない部分の比率を意味する。構成する
繊維の自由度が大きい方がクリーニング効果及び研磨時
の追従性に優れたものとなる。自由度が50%未満にな
ると追従性が劣り、クリーニング効果が不十分となり本
発明の主旨のものが得られ難い。
は、繊維同志が樹脂または熱により接着されていない部
分であり、また50%以上とは単位面積当たりの樹脂又
は熱接着されていない部分の比率を意味する。構成する
繊維の自由度が大きい方がクリーニング効果及び研磨時
の追従性に優れたものとなる。自由度が50%未満にな
ると追従性が劣り、クリーニング効果が不十分となり本
発明の主旨のものが得られ難い。
【0010】
【実施例】以下、実施例に基づいて本発明を具体的に説
明する。 [実施例1]砥粒を付着させる不織布として2d×51
m/m のナイロン6繊維を60%、1.5d×51m/m の
レーヨンCD繊維を40%を各重量%で混用し、熱エン
ボス加工は押え部が0.5mm×1.0mmの矩形で均一に
熱接着部が分布し、全熱接着部が25%であるエンボス
ロールで行い目付70g /m 、布厚0.35mmの不織布
を用いた。砥粒として炭化珪素で、粒径5〜6μmを用
い、砥粒、砥粒−繊維間の結合剤、水を各々の重量比が
4/2/5とした。前記不織布の表面にグラビアロール
を用いて0.5mm巾の研磨部と0.5m/m 巾の非研磨部
をが交互に存在しかつ、角度45°のストライプ状にコ
ートし、熱固着後、研磨不織布を得た。砥粒−繊維間の
結合剤には水分散性ポリエステル系ウレタン樹脂を用い
た。付着量は樹脂と砥粒で3.9%であった。
明する。 [実施例1]砥粒を付着させる不織布として2d×51
m/m のナイロン6繊維を60%、1.5d×51m/m の
レーヨンCD繊維を40%を各重量%で混用し、熱エン
ボス加工は押え部が0.5mm×1.0mmの矩形で均一に
熱接着部が分布し、全熱接着部が25%であるエンボス
ロールで行い目付70g /m 、布厚0.35mmの不織布
を用いた。砥粒として炭化珪素で、粒径5〜6μmを用
い、砥粒、砥粒−繊維間の結合剤、水を各々の重量比が
4/2/5とした。前記不織布の表面にグラビアロール
を用いて0.5mm巾の研磨部と0.5m/m 巾の非研磨部
をが交互に存在しかつ、角度45°のストライプ状にコ
ートし、熱固着後、研磨不織布を得た。砥粒−繊維間の
結合剤には水分散性ポリエステル系ウレタン樹脂を用い
た。付着量は樹脂と砥粒で3.9%であった。
【0011】
【発明の効果】得られた研磨用不織布は従来品の欠点で
あった研磨中に砥粒及び研磨屑が被研磨面上に再付着す
るために別にクリーニング工程が必要であったが研磨と
同時にクリーニングを行えるために、一工程で優れた研
磨性が得られるものである。又、研磨部とクリーニング
部分離しているために研磨使用時間が大幅に延長でき
る。
あった研磨中に砥粒及び研磨屑が被研磨面上に再付着す
るために別にクリーニング工程が必要であったが研磨と
同時にクリーニングを行えるために、一工程で優れた研
磨性が得られるものである。又、研磨部とクリーニング
部分離しているために研磨使用時間が大幅に延長でき
る。
Claims (2)
- 【請求項1】 主として合成繊維からなる不織布の表面
の10〜80%の面積に、粒径が0.5〜10μmの砥
粒が固着されていることを特徴とする研磨用不織布。 - 【請求項2】 繊維同士が部分的に接着された部分と少
なくとも50%以上の自由度のある繊維部分により構成
された不織布を用いる請求項1記載の研磨用不織布。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4095570A JPH05285854A (ja) | 1992-04-15 | 1992-04-15 | 研磨用不織布 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4095570A JPH05285854A (ja) | 1992-04-15 | 1992-04-15 | 研磨用不織布 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05285854A true JPH05285854A (ja) | 1993-11-02 |
Family
ID=14141257
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4095570A Pending JPH05285854A (ja) | 1992-04-15 | 1992-04-15 | 研磨用不織布 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05285854A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0757378A1 (en) * | 1995-08-01 | 1997-02-05 | Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. | Process of polishing silicon wafers |
JP2004011045A (ja) * | 2002-06-05 | 2004-01-15 | Daiwabo Co Ltd | ワイパー |
WO2005106855A1 (en) * | 2004-05-04 | 2005-11-10 | Illinois Tool Works Inc. | Additive-free fiber for metal texture of hard disk drives |
-
1992
- 1992-04-15 JP JP4095570A patent/JPH05285854A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0757378A1 (en) * | 1995-08-01 | 1997-02-05 | Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. | Process of polishing silicon wafers |
JP2004011045A (ja) * | 2002-06-05 | 2004-01-15 | Daiwabo Co Ltd | ワイパー |
WO2005106855A1 (en) * | 2004-05-04 | 2005-11-10 | Illinois Tool Works Inc. | Additive-free fiber for metal texture of hard disk drives |
US7961431B2 (en) | 2004-05-04 | 2011-06-14 | Illinois Tool Works Inc. | Additive-free fiber for metal texture of hard disk drives |
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