JPH05285762A - Vacuum chuck and its manufacture - Google Patents

Vacuum chuck and its manufacture

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JPH05285762A
JPH05285762A JP9066692A JP9066692A JPH05285762A JP H05285762 A JPH05285762 A JP H05285762A JP 9066692 A JP9066692 A JP 9066692A JP 9066692 A JP9066692 A JP 9066692A JP H05285762 A JPH05285762 A JP H05285762A
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JP
Japan
Prior art keywords
chuck
spheres
holding frame
vacuum chuck
chuck base
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP9066692A
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Japanese (ja)
Inventor
Nobuo Yasunaga
暢男 安永
Kozo Abe
耕三 阿部
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Nippon Steel Corp
Original Assignee
Nippon Steel Corp
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To provide a vacuum chuck which can prevent a deformation of a work owing to a suction, and can maintain a clean chuck surface, and furthermore, can form a chuck surface of a high accuracy of flatness. CONSTITUTION:A plane 17 is arranged in one layer connecting to the chuck base surface 12 of a vacuum chuck, and a chuck surface is formed of numerous cut spheres 16 contacting each other. The chuck surface is formed of numerous cut spheres 16, and gaps between neighboring cut spheres 16 are made into suction holes 20.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、真空チャックおよび
その製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a vacuum chuck and its manufacturing method.

【0002】[0002]

【従来の技術】コンプライアンスの大きなワークは、チ
ャックで保持すると、保持力により変形する。このよう
なワークのチャックとして、真空チャックまたは電磁チ
ャックが広く用いられている。シリコンウエハのような
非磁性材料を加工する場合には、真空チャックが用いら
れる。真空チャックは吸引孔を多数設けることにより、
高い精度でワークを支持することができる。
2. Description of the Related Art A work having high compliance is deformed by a holding force when held by a chuck. A vacuum chuck or an electromagnetic chuck is widely used as a chuck for such a work. A vacuum chuck is used when processing a non-magnetic material such as a silicon wafer. The vacuum chuck has many suction holes,
The work can be supported with high accuracy.

【0003】上記吸引孔に細孔タイプと多孔質タイプと
がある。細孔タイプは、チャック面板に多数の細孔を設
けたものである。また、多孔質タイプは、セラミックス
粒子などを空隙を有して焼結した板をチャックベース表
面に貼り付けたものである。
The suction holes are classified into a pore type and a porous type. The pore type is a chuck face plate provided with a large number of pores. In the porous type, a plate obtained by sintering ceramic particles or the like with voids is attached to the surface of the chuck base.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】チャック面が上記細孔
タイプの真空チャックでは、次のような問題がある。
A vacuum chuck having a chuck surface of the fine pore type has the following problems.

【0005】吸気孔の最小の孔径およびピッチは加工上
あるいは経済的な点から制限され、実用的な最小孔径は
0.5 mm 程度であり、最小孔ピッチは10 mm 程度で
ある。一方、吸気孔の部分は他の部分よりも吸引力が強
く、シリコンウエハのように厚みが薄いワークでは大き
く凹む。したがって、最小孔径および最小孔ピッチが制
限される細孔タイプでは、加工精度上無視できないほど
吸気孔の部分の変形量が大きくなる場合がある。このよ
うな場合、吸気孔の部分は凹むために加工量が他の部分
に比べて少なく、平坦な加工ができない。
The minimum hole diameter and pitch of the intake holes are limited in view of processing or economical reasons, and the practical minimum hole diameter is about 0.5 mm and the minimum hole pitch is about 10 mm. On the other hand, the suction hole portion has a stronger suction force than other portions, and is largely recessed in a thin work such as a silicon wafer. Therefore, in the pore type in which the minimum hole diameter and the minimum hole pitch are limited, the deformation amount of the intake hole portion may be too large in terms of processing accuracy. In such a case, since the portion of the intake hole is recessed, the amount of processing is smaller than that of the other portions, and flat processing cannot be performed.

【0006】また、チャック面が上記多孔質タイプの真
空チャックでは、極めて多くの微小な吸気孔が小さなピ
ッチでチャック面全体に密に分布している。したがっ
て、上記細孔タイプのように吸気孔の部分で局部的に大
きく変形することはない。しかし、次のような問題があ
る。
Further, in the vacuum type chuck whose chuck surface is the above-mentioned porous type, an extremely large number of minute suction holes are densely distributed at a small pitch over the entire chuck surface. Therefore, unlike the above-mentioned pore type, there is no large local deformation at the intake holes. However, there are the following problems.

【0007】ワーク面とチャック面との間にパーティク
ルあるいはダストが挟まった状態でワークを加工する
と、パーティクルが挟まった部分でワークが盛り上がる
ので、その部分は他の部分よりも多く加工される。した
がって、パーティクルがあると、平坦な加工ができな
い。このために、ワークをチャック面に固定する際に、
チャック面は清浄であることが必要である。しかし、吸
気孔のチャック面側の開口部エッジは鋭い不規則な形状
のエッジとなっており、ここにパーティクルが付着して
ひっかかった状態になると、パーティクルの除去は極め
て困難である。したがって、加工精度に影響を与えない
程度にチャック面を清浄にすることはできなかった。
When a work is processed in a state where particles or dust are sandwiched between the work surface and the chuck surface, the work rises at the portion where the particles are sandwiched, so that portion is processed more than other portions. Therefore, if there are particles, flat processing cannot be performed. For this reason, when fixing the work to the chuck surface,
The chuck surface needs to be clean. However, the edge of the opening of the suction hole on the chuck surface side is a sharp and irregularly shaped edge, and if particles adhere to the edges and become stuck, it is extremely difficult to remove the particles. Therefore, the chuck surface could not be cleaned to the extent that it does not affect the processing accuracy.

【0008】この発明は、吸引によるワークの変形を防
ぎ、清浄なチャック面を維持することでき、更に高精度
の平坦度をもったチャック面を形成することができる真
空チャックおよびその製造方法を提供しようとするもの
である。
The present invention provides a vacuum chuck capable of preventing deformation of a work due to suction, maintaining a clean chuck surface, and capable of forming a chuck surface having a highly accurate flatness, and a manufacturing method thereof. Is what you are trying to do.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】この発明の真空チャック
は、平面部が真空チャックのチャックベース表面に接す
るようにして1層で配列され、接合された多数の割球体
によりチャック面が形成されている。
In the vacuum chuck of the present invention, a flat surface portion is arranged in one layer so as to contact the surface of the chuck base of the vacuum chuck, and the chuck surface is formed by a large number of joined spheres. There is.

【0010】この発明の第1の真空チャックの製造方法
は、次の各工程からなっている。
The first method of manufacturing a vacuum chuck of the present invention comprises the following steps.

【0011】(イ)底面が基準面となった保持枠内に多
数の球体を1層に配列すること (ロ)ボンド剤で球体を保持枠内に固定すること (ハ)球体頂部を底面に平行に平面加工して割球体とす
ること (ニ)ボンド剤を加熱溶融または溶剤により溶解して割
球体を保持枠から取り出すこと (ホ)多数の割球体の平面部が真空チャックのチャック
ベース表面に接するようにしてチャックベース表面上に
1層で配列すること (ヘ)割球体をチャックベース表面に接合すること また、この発明の第2の真空チャックの製造方法は、次
の各工程からなっている。
(A) Arranging a large number of spheres in a single layer in a holding frame whose bottom surface serves as a reference surface. (B) Fixing the spheres in the holding frame with a bonding agent. (C) Sphere tops on the bottom surface. Flat surface processing in parallel to make blast balls (d) Heat bonding or melting with a solvent to take out the blast balls from the holding frame (e) The flat surface of many spheres is the chuck base surface of the vacuum chuck. Arranged in a single layer on the surface of the chuck base so as to be in contact with the surface of the chuck base. (F) Bonding the spheroids to the surface of the chuck base. ing.

【0012】(イ)底面が基準面となった保持枠内に多
数の球体を1層に配列すること (ロ)第1のボンド剤で球体を保持枠内に固定すること (ハ)球体頂部を底面に平行に平面加工して割球体とす
ること (ニ)割球体を保持した保持枠を裏返して真空チャック
のチャックベースに載せ、割球体を第2のボンド剤によ
りチャックベース表面に接合すること (ホ)第1のボンド剤のみを加熱溶融または溶剤により
溶解して、チャックベース表面に接合した割球体から保
持枠を取り外すこと 球体の材質としてアルミナ,ジルコニア,サイアロン,
炭化ケイ素などのセラミックス、SUS,硬質合金など
の金属、テフロン,塩化ビニールなどの硬質樹脂が用い
られる。球体の直径は数十μm〜数 mm 程度である。保
持枠は鋼などの金属製で、底面は平面研削により平坦度
が1μm以下となるように高精度に加工されている。球
体を保持枠に固定するボンド剤として、比較的低温で溶
融可能なイエローワックス(軟化温度は約80℃)など
が用いられる。球体頂部は、保持枠の底面を基準面とし
て平面研削または研摩により加工する。チャックベース
の上面に割球体を配列する場合、最密充填状態で配列す
ることが望ましい。チャックベースの表面は、保持枠の
底面と同様に高精度に加工されている。割球体をチャッ
クベース表面に接合するには、たとえば活性金属法など
が用いられる。
(A) Arranging a large number of spheres in one layer in a holding frame whose bottom surface serves as a reference surface (b) fixing the spheres in the holding frame with a first bonding agent (c) sphere top (2) Turn the holding frame holding the blast balls upside down and place it on the chuck base of the vacuum chuck, and bond the blast balls to the surface of the chuck base with the second bonding agent. (E) Remove the holding frame from the split spheres bonded to the surface of the chuck base by melting only the first bonding agent by heating or melting with a solvent. The material of the spheres is alumina, zirconia, sialon,
Ceramics such as silicon carbide, metals such as SUS and hard alloys, and hard resins such as Teflon and vinyl chloride are used. The diameter of the sphere is several tens of μm to several mm. The holding frame is made of metal such as steel, and the bottom surface is processed by surface grinding with high precision so that the flatness is 1 μm or less. As a bonding agent for fixing the spheres to the holding frame, yellow wax (softening temperature is about 80 ° C.) that can be melted at a relatively low temperature is used. The top of the sphere is processed by surface grinding or polishing with the bottom surface of the holding frame as a reference surface. When arranging the spheres on the upper surface of the chuck base, it is desirable to arrange the spheres in a closest packed state. The surface of the chuck base is processed with high accuracy like the bottom surface of the holding frame. An active metal method or the like is used to join the spheroid to the surface of the chuck base.

【0013】第2の真空チャックの製造方法において、
第2のボンド剤は第1のボンド剤よりも接合強度が高
く、第1のボンド剤の溶融温度よりも高いかまたは第1
のボンド剤の溶剤で溶解しないものでなければならな
い。第2のボンド剤として、たとえば約200℃で焼結
する熱硬化性エポキシ樹脂や、800℃以上の高温で接
合する活性金属法などが用いられる。なお、割球体を保
持した保持枠を裏返してチャックベース面に載せると、
割球体の平面部が真空チャックのチャックベース表面に
接する。
In the second method of manufacturing a vacuum chuck,
The second bonding agent has higher bonding strength than the first bonding agent and is higher than the melting temperature of the first bonding agent or the first bonding agent.
Must be one that does not dissolve in the solvent of the bonding agent. As the second bonding agent, for example, a thermosetting epoxy resin that is sintered at about 200 ° C., or an active metal method that is bonded at a high temperature of 800 ° C. or higher is used. In addition, if the holding frame holding the spheroid is turned over and placed on the chuck base surface,
The flat part of the sphere is in contact with the surface of the chuck base of the vacuum chuck.

【0014】[0014]

【作用】隣り合う割球体の間隙が、吸気孔を形成する。
したがって、吸気孔ピッチは従来の細孔タイプのものよ
りも著しく小さくすることができる。
[Function] The gap between the adjacent spheres forms the intake hole.
Therefore, the intake hole pitch can be made significantly smaller than that of the conventional pore type.

【0015】吸気孔の開口部エッジは球面となっている
ので滑らかであり、従来の多孔質タイプのように鋭い不
規則な形状とはなっていない。したがって、開口部エッ
ジにパーティクルが付着しても、吸気孔からの吸引によ
り容易に除去される。
Since the opening edge of the intake hole is spherical, it is smooth and does not have a sharp irregular shape unlike the conventional porous type. Therefore, even if particles adhere to the edge of the opening, they are easily removed by suction from the intake holes.

【0016】さらに、球体を平面加工して割球体の高さ
が揃えられているので、チャック面は高精度の平坦面と
なっている。また、割球体の平面部でチャックベースに
接合しているので、割球体とチャックベースとの接触面
積は広く、割球体は安定して配列されるとともに、高い
接合強度が得られる。
Further, since the spheres are flattened and the heights of the split spheres are made uniform, the chuck surface is a highly accurate flat surface. Further, since the flat portion of the sphere is bonded to the chuck base, the contact area between the sphere and the chuck base is wide, the spheres are stably arranged, and high bonding strength is obtained.

【0017】[0017]

【実施例】図1は、多数のボール6が保持枠1の内側に
密に配列された状態を模式的に示している。ボール6は
アルミナセラミックス製であって、直径は1 mm であ
る。保持枠1の底面2は平面研削され、平坦度が1μm
以下に仕上げられている。保持枠1のボール収容部3は
上方から見ると正方形をしている。ボール収容部3の深
さはボール6の直径よりも浅くなっているので、ボール
6は保持枠1の頂面4から突出している。
EXAMPLE FIG. 1 schematically shows a state in which a large number of balls 6 are densely arranged inside a holding frame 1. The balls 6 are made of alumina ceramics and have a diameter of 1 mm. The bottom surface 2 of the holding frame 1 is surface-ground to have a flatness of 1 μm.
It is finished below. The ball housing portion 3 of the holding frame 1 has a square shape when viewed from above. Since the depth of the ball housing portion 3 is shallower than the diameter of the ball 6, the ball 6 projects from the top surface 4 of the holding frame 1.

【0018】上記のようにボール収容部3内にボール6
を配列した状態で、ボール収容部3に溶融したイエロー
ワックス8を注入する。図2に示すように、イエローワ
ックス8はボール6の間隙に充満し、凝固する。凝固し
たイエローワックス8は、研削加工力に耐え得る力でボ
ール6を保持する。
As described above, the balls 6 are placed in the ball housing portion 3.
The molten yellow wax 8 is injected into the ball housing portion 3 in the state of arranging. As shown in FIG. 2, the yellow wax 8 fills the gaps between the balls 6 and solidifies. The solidified yellow wax 8 holds the ball 6 with a force capable of withstanding the grinding processing force.

【0019】ついで、ボール頂部を保持枠1の底面2に
平行に平面研削加工し、ボール6を割球体とする。加工
精度は、保持枠1の底面2の平坦度と同程度である。
Next, the ball top is ground parallel to the bottom surface 2 of the holding frame 1 to make the ball 6 a sphere. The processing accuracy is about the same as the flatness of the bottom surface 2 of the holding frame 1.

【0020】ボール6の加工が終わると、割球体を収容
した保持枠1を約100℃に加熱し、イエローワックス
8を溶融する。そして、イエローワックス8を溶融した
状態で割球体を保持枠1から取り出す。取り出した割球
体はアセトンなどの有機溶剤を用い超音波洗浄などによ
り洗浄し、付着しているイエローワックス8を洗い落と
す。
When the processing of the balls 6 is completed, the holding frame 1 containing the spheroids is heated to about 100 ° C. to melt the yellow wax 8. Then, the spheroid is taken out from the holding frame 1 in a state where the yellow wax 8 is melted. The taken out spheres are washed by ultrasonic cleaning using an organic solvent such as acetone, and the attached yellow wax 8 is washed off.

【0021】つぎに、図4に示すように多数の割球体1
6の平面部17が真空チャックのチャックベース表面1
2に接するようにしてチャックベース表面12上に最密
充填状態で1層で配列する。そして、活性金属法により
割球体16をチャックベース表面12に接合する。
Next, as shown in FIG.
The flat surface portion 17 of 6 is the chuck base surface 1 of the vacuum chuck.
One layer is arranged in the closest packing state on the chuck base surface 12 so as to be in contact with 2. Then, the spheroid 16 is bonded to the chuck base surface 12 by the active metal method.

【0022】図3および図4は、上記のようにして得ら
れた真空チャックの一部を示している。チャックベース
11はガイドリング13内に固着されている。チャック
ベース11の上面12は高精度で研削されており、高い
精度の平坦度となっている。チャックベース11の外周
面とガイドリング13の内周面との間に吸気路15が形
成されている。吸気路15の間隙は0.3 mm である。
吸気路15には、配管を介して真空ポンプ(いずれも図
示しない)が接続されている。割球体16はチャックベ
ース表面12に接合層18を介して接合されている。割
球体16の頂部は、ガイドリング13の上面14と同じ
高さとなるように製造されており、チャック面を形成し
ている。互いに接し合う割球体16と割球体16との間
隙が吸気孔20となっており、吸気孔20に上記吸気路
15が通じている。
3 and 4 show a part of the vacuum chuck obtained as described above. The chuck base 11 is fixed inside the guide ring 13. The upper surface 12 of the chuck base 11 is ground with high precision, and has high precision flatness. An intake passage 15 is formed between the outer peripheral surface of the chuck base 11 and the inner peripheral surface of the guide ring 13. The gap of the intake passage 15 is 0.3 mm.
A vacuum pump (neither is shown) is connected to the intake passage 15 via a pipe. The spheroid 16 is bonded to the chuck base surface 12 via a bonding layer 18. The top of the spheroid 16 is manufactured to have the same height as the upper surface 14 of the guide ring 13 and forms a chuck surface. A gap between the sphere-shaped spheres 16 and the sphere-shaped spheres 16 that are in contact with each other forms an intake hole 20, and the intake passage 15 communicates with the intake hole 20.

【0023】上記のように構成された真空チャックを用
いて直径150 mm 、厚み0.6 mm のシリコンウエハ
を研削した結果、パーティクルによる挟み込みに起因す
る局部的な変形はなく、平坦度は0.8μmであった。
As a result of grinding a silicon wafer having a diameter of 150 mm and a thickness of 0.6 mm by using the vacuum chuck having the above-mentioned structure, there is no local deformation due to pinching by particles and the flatness is 0. It was 8 μm.

【0024】[0024]

【発明の効果】この発明の真空チャックでは、隣り合う
割球体の間隙が吸気孔を形成するので、吸気孔径および
孔ピッチを著しく小さくすることができる。また、吸気
孔の開口部エッジは鋭い不規則な形状とはならないの
で、開口部エッジにパーティクルが付着しても、吸気孔
からの吸引により容易に除去される。さらに、球体を平
面加工して割球体の高さが揃えられているので、チャッ
ク面は高精度の平坦面となっている。したがって、ワー
クに変形を与えることなく、また清浄なチャック面にワ
ークを固定することができるので、高精度でワークを加
工することができる。また、割球体の平面部でチャック
ベースに接合しているので、割球体とチャックベースと
の接触面積は広く、割球体は安定して配列されるととも
に、高い接合強度が得られる。
In the vacuum chuck of the present invention, since the gap between the adjacent spheres forms the intake hole, the intake hole diameter and the hole pitch can be significantly reduced. Further, since the opening edge of the intake hole does not have a sharp irregular shape, even if particles adhere to the opening edge, they are easily removed by suction from the intake hole. Further, since the spheres are flattened and the heights of the split spheres are made uniform, the chuck surface is a highly accurate flat surface. Therefore, since the work can be fixed to the clean chuck surface without deformation of the work, the work can be processed with high accuracy. Further, since the flat portion of the sphere is bonded to the chuck base, the contact area between the sphere and the chuck base is wide, the spheres are stably arranged, and high bonding strength is obtained.

【0025】この発明の真空チャックの製造方法では、
チャック面を形成するすべての割球体をひとまとめにし
て加工するので、精度の高い真空チャックを能率よく製
造することができる。特に、第2の製造方法では、保持
枠に保持した状態で割球体をチャックベース表面に接合
するので、さらに精度の高い真空チャックを製造するこ
とができる。
In the vacuum chuck manufacturing method of the present invention,
Since all the spheroids that form the chuck surface are collectively processed, a highly accurate vacuum chuck can be efficiently manufactured. In particular, in the second manufacturing method, since the spheroidal body is bonded to the surface of the chuck base while being held by the holding frame, it is possible to manufacture a more accurate vacuum chuck.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明の方法において、多数のボールが保持
枠内に密に配列された状態を模式的に示す縦断面図であ
る。
FIG. 1 is a vertical cross-sectional view schematically showing a state in which a large number of balls are densely arranged in a holding frame in the method of the present invention.

【図2】多数のボールが保持枠内に固定された状態を拡
大して模式的に示す縦断面図である。
FIG. 2 is an enlarged vertical sectional view schematically showing a state in which a large number of balls are fixed in a holding frame.

【図3】この発明の真空チャックの一部を示す縦断面図
である。
FIG. 3 is a vertical cross-sectional view showing a part of the vacuum chuck of the present invention.

【図4】図3に示す真空チャックの局部を拡大して模式
的に示す縦断面図である。
FIG. 4 is a vertical cross-sectional view schematically showing an enlarged part of the vacuum chuck shown in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 保持枠 2 保持枠底面 3 ボール収容部 4 保持枠頂面 6 ボール 8 イエローワックス 11 チャックベース 12 チャックベース上面 13 ガイドリング 14 ガイドリング上面 15 通気路 16 割球体 17 割球体の平面部 18 接合層 20 吸気孔 1 Holding Frame 2 Bottom of Holding Frame 3 Ball Housing 4 Top of Holding Frame 6 Ball 8 Yellow Wax 11 Chuck Base 12 Top of Chuck Base 13 Guide Ring 14 Top of Guide Ring 15 Ventilation Path 16 Split Sphere 17 Plane of Split Sphere 18 Bonding Layer 20 air intake

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 平面部が真空チャックのチャックベース
表面に接するようにして1層で配列され、接合された多
数の割球体によりチャック面が形成されていいることを
特徴とする真空チャック。
1. A vacuum chuck, wherein a flat portion is arranged in one layer so as to contact a surface of a chuck base of the vacuum chuck, and a chuck surface is formed by a large number of joined spheres.
【請求項2】 次の各工程からなる真空チャックの製造
方法。 (イ)底面が基準面となった保持枠内に多数の球体を1
層に配列すること (ロ)ボンド剤で球体を保持枠内に固定すること (ハ)球体頂部を底面に平行に平面加工して割球体とす
ること (ニ)ボンド剤を加熱溶融または溶剤により溶解して割
球体を保持枠から取り出すこと (ホ)多数の割球体の平面部が真空チャックのチャック
ベース表面に接するようにしてチャックベース表面上に
1層で配列すること (ヘ)割球体をチャックベース表面に接合すること
2. A method of manufacturing a vacuum chuck comprising the following steps. (A) Place a large number of spheres in the holding frame whose bottom surface is the reference surface.
Arrange in layers (b) Fix the spheres inside the holding frame with a bonding agent (c) Plane the top of the sphere parallel to the bottom surface to make spheres (d) Melt the bonding agent by heating or use a solvent Dissolve and take out the spheres from the holding frame. (E) Arrange the spheres in a single layer on the surface of the chuck base so that the flat surfaces of the many spheres are in contact with the chuck base surface. Bonding to the chuck base surface
【請求項3】 次の各工程からなる真空チャックの製造
方法。 (イ)底面が基準面となった保持枠内に多数の球体を1
層に配列すること (ロ)第1のボンド剤で球体を保持枠内に固定すること (ハ)球体頂部を底面に平行に平面加工して割球体とす
ること (ニ)割球体を保持した保持枠を裏返して真空チャック
のチャックベースに載せ、割球体を第2のボンド剤によ
りチャックベース表面に接合すること (ホ)第1のボンド剤のみを加熱溶融または溶剤により
溶解して、チャックベース表面に接合した割球体から保
持枠を取り外すこと
3. A method of manufacturing a vacuum chuck comprising the following steps. (A) Place a large number of spheres in the holding frame whose bottom surface is the reference surface.
Arrange in layers (b) Fix the spheres in the holding frame with the first bonding agent (c) Plane the top of the spheres parallel to the bottom to make spheroids (d) Hold the spheroids The holding frame is turned over and placed on the chuck base of the vacuum chuck, and the split spheres are bonded to the surface of the chuck base with the second bonding agent. (E) Only the first bonding agent is melted by heating or melted with a solvent to make the chuck base. Removing the holding frame from the sphere ball bonded to the surface
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