JPH05282862A - 半導体記憶装置 - Google Patents

半導体記憶装置

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JPH05282862A
JPH05282862A JP4105504A JP10550492A JPH05282862A JP H05282862 A JPH05282862 A JP H05282862A JP 4105504 A JP4105504 A JP 4105504A JP 10550492 A JP10550492 A JP 10550492A JP H05282862 A JPH05282862 A JP H05282862A
Authority
JP
Japan
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data
turned
memory
power
transistor
Prior art date
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Pending
Application number
JP4105504A
Other languages
English (en)
Inventor
Mutsumi Yamanaka
睦 山中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP4105504A priority Critical patent/JPH05282862A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 電源投入時などに、特定ブロック又は全メモ
リ素子のデータを同時に書き込むことのできる半導体記
憶装置を提供する。 【構成】 メモリ素子のトランスファーゲート4とキャ
パシタ3の間にMOS型トランジスタ6を設け、電源投
入時のリセット信号8によりMOS型トランジスタ6を
ONさせて、このトランジスタ6により電源電圧71又は
GND電位72のデータが書き込めるようにする。また、
画像メモリのデータレジスタ内またはスタティックRA
Mの単位記憶素子に対し、並列的にMOSトランジスタ
を設置し、電源投入時のリセット信号によりデータを書
き込めるようにした。 【効果】 メモリ素子のリセットが高速に行えるように
なる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、特定又は全メモリセ
ル内の単位記憶素子に対して、高速に書き込み動作が可
能なダイナミックRAM及びその他の半導体記憶装置に
関する。
【0002】
【従来の技術】図10は従来のダイナミックRAM(Ran
dam Access Memory)のメモリ素子構成を示した回路図で
ある。図において、1はワード線、2はビット線、3は
データを記憶するキャパシタ、4はビット線2のデータ
をキャパシタ3に伝えるためのトランスファーゲート、
5はセルプレート電圧である。
【0003】次に、動作について説明すると、ワード線
1が“H”になることにより、トランスファーゲート4
がONして、キャパシタ3とビット線2が接続され、ビ
ット線2のデータがキャパシタ3に書き込まれる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】従来のダイナミックR
AMは以上のように構成されているので、電源電圧を投
入した直後では、メモリ素子のデータは未定のままであ
った。このため、例えば動作チェック(簡単な試験レベ
ル)の際、電源電圧を投入した直後にメモリ素子にデー
タを書き込む動作が必要とされていた。また、ワード線
を選択しなければメモリ素子のデータを書くことができ
ないので、全メモリ素子を同時に書き込むことができな
かった。
【0005】この発明は、上記のような問題点を解消す
るためになされたもので、電源投入時などに、特定又は
全メモリ素子のデータを同時に書き込むことのできる半
導体記憶装置を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】この発明に係る半導体記
憶装置は、メモリ素子のキャパシタ(単位記憶素子)と並
列に、電源投入時のリセット信号がゲートに入力されて
いるMOS型トランジスタが設けられていて、電源電圧
が投入されると、データがMOS型トランジスタを介し
て全メモリ素子に書き込めるようにしたものである。
【0007】また、アドレスキーモードを利用して、特
定ブロックのメモリ素子にデータを書き込めるようにし
た。
【0008】また、画像メモリのデータレジスタ内の単
位記憶素子に対し、並列的にMOSトランジスタを設置
し、電源投入時のリセット信号によりデータを書き込め
るようにした。
【0009】
【作用】この発明における半導体記憶装置は、電源投入
時のリセット信号又はアドレスキーのアドレス信号の組
合せ等所定信号に応答して、全メモリセル又は特定ブロ
ックのメモリ素子に対し、同時にデータが書き込みでき
るようになる。
【0010】
【実施例】
実施例1.図1はこの発明の一実施例に係る半導体記憶
装置(ダイナミックRAM)を示す回路構成図である。図
において、1はワード線、2はビット線、3はデータを
記憶するキャパシタ、4はビット線2のデータをキャパ
シタ3に伝えるためのトランスファーゲート、5はセル
プレート電圧であり、これらの構成は図10に示した従
来例と同様である。本実施例において、6はMOS型ト
ランジスタ(薄膜トランジスタ)であり、ソースには電源
電圧(“H”レベル)71、又はGND電位(“L”レベ
ル)72が印加されている。また、MOS型トランジス
タ6のドレインはトランスファーゲート4とキャパシタ
3の間に接続されており、更にそのゲートには電源投入
時のリセット信号8が入力されるよう構成されている。
【0011】図3は上記実施例1の素子構造の一例を示
す断面図であり、トランスファーゲート側のポリシリコ
ン電極(ワード線1)の上に薄膜のMOS型トランジスタ
6を形成している。この薄膜トランジスタ6のゲート2
4には、電源投入時のリセット信号8が入力され、また
ソース25には電源電圧71又はGND電位72が印加
される。そしてドレイン側はキャパシタ電極23とつな
がっている。上記薄膜素子構造によれば、メモリ素子全
体を集積して作成できる効果がある。
【0012】次に、上記実施例1の動作を図2により説
明する。電源電圧が投入されて電圧が上がると、電源投
入時のリセット信号8が“H”になり、MOSトランジ
スタ6のゲートに加わり、トランジスタ6はONしてド
レイン側7の電圧レベル(電源電圧又はGND電位)がキ
ャパシタ9に伝わり、メモリ素子に書き込まれる。その
後、電源電圧が安定すると電源投入時のリセット信号8
は“L”になり、MOSトランジスタ6はOFFする。
このように、全メモリセルに上記MOSトランジスタ6
が接続されているので、電源投入時にメモリ素子にデー
タが書き込める。
【0013】実施例2.上記実施例では、MOSトラン
ジスタ6を介して“L”か“H”かどちらかのデータし
かメモリ素子内に書き込めないが、図4に示すように、
“L”書き込み用トランジスタ11と、“H”書き込み
用トランジスタ12の2組のトランジスタを用いて、
“L”か“H”の選択をアドレスのレベルでできるよう
にしても良い。図5はこの実施例2のタイミング図を示
したもので、電源投入時に、あるアドレスピンが“L”
ならばそのアドレスピンに関する信号9のみが“H”に
なり(実線)、トランジスタ11がONして、キャパシタ
3にGND電位72の“L”レベルのデータが書き込ま
れる。なお、この時のアドレスの信号10は“L”レベ
ルの状態を保っている。また、アドレスピンが“H”な
らば信号10のみが“H”になり(波線)、トランジスタ
12がONして、キャパシタ3に電源電位71の“H”
レベルのデータが書き込まれる。このようにして、アド
レスピンの状態によって、“L”か“H”かのデータを
書き込むことができる。
【0014】実施例3.上記実施例では電源投入時のみ
書き込めるようにしているが、アドレスキーを利用して
実施例2(図4)の書き込み用のトランジスタ11,12
をONできるように構成してデータを書き込んでも良
い。ここに、アドレスキーとは4MDRAM等に内蔵し
たオプション機能を指し、図6に示すように、/RAS
(行アドレスストローブ信号)に先立って、/CAS(列
アドレスストローブ信号)及び/WE(書き込み指定信
号)を立ち下げる時に、例えばA10ピン(4MDRAMの
場合)を電源電圧(Vcc+α)にして、その他のアドレス
ピンA0〜A9の組み合せによりモード(ページモード、
ニブルモード、スタティックカラムモード)を切換える
機能をいう。
【0015】実施例4.また、上記実施例3において、
アドレスキーのアドレスの組み合わせにより、特定ブロ
ックのメモリ素子だけを書き込めるよう構成しても良
い。
【0016】実施例5.また、上記実施例ではキャパシ
タとトランジスタで構成されたメモリ素子について説明
したが、画像メモリのデータレジスタに同様の回路を用
いても同様の効果を奏する。図7はグラフィック用のデ
ュアルポートRAMの全体構成を示すブロック図であ
り、通常のDRAMに内蔵されている回路の他に、1行
分のデータレジスタ31とそのデータレジスタ31の中
の1ビットを指定し選択するためのアドレスポインタ3
3とシリアルデータセレクタ32を含んでいる(現在は
4ビット単位でアクセスする素子が中心)。そして、ラ
ンダムポート(A-Port)からは通常のDRAMと同様、ア
ドレス,/RAS,/CAS,/OE(/DT//OE)
によってアクセスの制御を行い、シリアルポート(B-Por
t)からのリードは、まずアドレス,/RAS,/CA
S,/DT//OEの制御により1行分のデータをデー
タレジスタ31に転送する。この時CASによってスト
ローブされた列アドレスがアドレスポインタ33にロー
ドされ、それによって指定されるビット(4ビット)がシ
リアルポートに出力される最初のビットになる。その
後、SC(シリアルコントロール)信号をトグルする
(“H”,“L”を繰り返す)と、SC信号が“H”にな
る度にアドレスポインタ33がインクリメントされデー
タレジスタ31の内容が順にシリアルポートに現れる構
成となっている。図8は上記デュアルポートRAMのデ
ータレジスタに本発明を適用した回路図であり、データ
レジスタの単位記憶素子であるフリップフロップに対
し、トランジスタ41を設け、電源投入時のリセット信
号8により電源電圧又はGND電位レベルのデータを書
き込むように構成した。
【0017】実施例6.更に、図9に示すようにスタテ
ィックRAMの単位記憶素子(フリップフロップ)に適用
しても同様の効果が得られる。
【0018】
【発明の効果】以上のように、この発明によればメモリ
内のそれぞれの単位記憶素子に対してリセット信号等の
特定信号に応答してデータを同時に書き込める手段を設
けたので、メモリデータのリセットが高速に行なわれる
効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の実施例1に係るメモリセル構造を示
す回路図である。
【図2】上記実施例の電源投入時のリセット信号のタイ
ミング図である。
【図3】上記実施例のメモリ素子構造を示す断面図であ
る。
【図4】実施例2に係るメモリセル構造を示す回路図で
ある。
【図5】実施例2のメモリセルの書き込みタイミング図
である。
【図6】実施例3のアドレスキーを説明するためのタイ
ミング図である。
【図7】デュアルポートRAMの全体構成を示す図であ
る。
【図8】実施例5のデータレジスタ部を示す図である。
【図9】実施例6のメモリセル構造を示す回路図であ
る。
【図10】従来のメモリセル構造を示す回路図である。
【符号の説明】
1 ワード線 2 ビット線 3 キャパシタ 4 トランスファーゲート 5 セルプレート電圧 6 MOS型トランジスタ 8,9,10 電源投入時のリセット信号 11,12 MOS型トランジスタ 24 ゲート 25 ソース 26 P+活性化領域 30 DRAMメモリアレイ 31 データレジスタ 32 シリアルデータセレクタ 33 アドレスポインタ 50 MOSトランジスタ 71 電源電圧 72 GND電位

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 メモリ内の単位記憶素子に対して、電源
    投入時のリセット信号又は所定信号に応答して、データ
    を書き込むことのできる手段を設けたことを特徴とする
    半導体記憶装置。
  2. 【請求項2】 メモリ素子のキャパシタと並列的にMO
    S型トランジスタを設置し、電源投入時のリセット信号
    又は所定信号に応答して、前記MOS型トランジスタを
    介しメモリ素子内にデータを書き込むことができる半導
    体記憶装置。
JP4105504A 1992-03-30 1992-03-30 半導体記憶装置 Pending JPH05282862A (ja)

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JP4105504A JPH05282862A (ja) 1992-03-30 1992-03-30 半導体記憶装置

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JP4105504A JPH05282862A (ja) 1992-03-30 1992-03-30 半導体記憶装置

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JP4105504A Pending JPH05282862A (ja) 1992-03-30 1992-03-30 半導体記憶装置

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013012730A (ja) * 2011-06-01 2013-01-17 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 半導体装置
JP2014197444A (ja) * 2013-03-08 2014-10-16 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置

Cited By (3)

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JP2013012730A (ja) * 2011-06-01 2013-01-17 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 半導体装置
US10504920B2 (en) 2011-06-01 2019-12-10 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device
JP2014197444A (ja) * 2013-03-08 2014-10-16 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置

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