JPH0527938B2 - - Google Patents
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- JPH0527938B2 JPH0527938B2 JP60059853A JP5985385A JPH0527938B2 JP H0527938 B2 JPH0527938 B2 JP H0527938B2 JP 60059853 A JP60059853 A JP 60059853A JP 5985385 A JP5985385 A JP 5985385A JP H0527938 B2 JPH0527938 B2 JP H0527938B2
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Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明はイオンマイクロアナライザー(以下
IMAと称する)に係り、特に分析点の選択指定
が容易で、限られた試料面での高効率多点分析に
好適なIMAに関するものである。[Detailed Description of the Invention] [Field of Application of the Invention] The present invention relates to an ion microanalyzer (hereinafter referred to as
In particular, it relates to IMA, which allows easy selection and designation of analysis points and is suitable for highly efficient multi-point analysis on a limited sample surface.
従来装置では、質量分析Vol.23,No.4
1975p271〜279の加藤らによる「IMAデータ処理
システムの開発」と題する文献に示してあるよう
に、一次イオンビームのラスター走査や試料微動
の制御は行つているが、分析位置の指定法につい
ては配慮されていない。
With conventional equipment, mass spectrometry Vol.23, No.4
As shown in the document titled "Development of an IMA data processing system" by Kato et al., p. 271-279 of 1975, raster scanning of the primary ion beam and control of sample micromovement are performed, but consideration must be given to the method of specifying the analysis position. It has not been.
また、日本学術振興会マイクロビームアナリシ
ス第141委員会の第9回Local Meeting資料p37〜
41の田村らによる「SIMSの生体分析への応用
(2)」と題する文献では、分析精度の向上のため、
複数点の分析を行つているが、複数点の指定法に
ついては、分析者の選択に依存するのみで、装置
的には何らの配慮もなされていない。 In addition, the 9th Local Meeting materials of the 141st Committee on Microbeam Analysis of the Japan Society for the Promotion of Science p37~
“Application of SIMS to bioanalysis” by Tamura et al.
(2),” in order to improve analytical accuracy,
Multiple points are analyzed, but the method of specifying multiple points depends only on the analyst's selection, and no consideration is given to the equipment.
しかし、IMAは、加速された一次イオンビー
ムを固体試料に照射し、試料表面から放出される
二次イオンを質量分析計により質量/電荷(M/
e)に分けて検出し、試料の元素分析を行う装置
であり、この装置は、固体試料の表面分析ばかり
でなく、スパツタリングを利用して深さ方向の分
析もでき、かつ、感度も極めて優れているなどの
種々の特長を有しているが、その反面、ミクロ的
見地からは破壊分析であり、同一場所での測定の
やり直しができず、分析位置の指定は、測定の確
実性、高信頼性のためには重要である。 However, in IMA, a solid sample is irradiated with an accelerated primary ion beam, and the secondary ions emitted from the sample surface are collected using a mass spectrometer (mass/charge (M/
e) and performs elemental analysis of the sample.This device is capable of not only surface analysis of solid samples, but also depth analysis using sputtering, and has extremely high sensitivity. However, on the other hand, it is a destructive analysis from a microscopic point of view, and measurements cannot be repeated at the same location. Important for reliability.
本発明は上記に鑑みてなされたもので、その目
的とするところは、分析点の選択指定が容易で、
限られた試料面で高効率多点分析が可能なイオン
マイクロアナライザーを提供することにある。
The present invention has been made in view of the above, and its purpose is to facilitate the selection and designation of analysis points.
The object of the present invention is to provide an ion microanalyzer that can perform highly efficient multi-point analysis on a limited sample surface.
本発明は上記目的を達成するために、試料に一
次イオンビームを照射し、前記試料表面から放出
される二次イオンを質量分析するイオンマイクロ
アナライザーにおいて、
前記一次イオンビームを偏向走査する偏向手段
と、前記試料を試料台と共にXY平面上で微動さ
せる試料移動手段と、前記試料台にセツトされた
試料の像をX軸、Y軸の目盛付き画面に座標を伴
つて表示する表示手段と、この画面の試料像を通
して試料の分析点(分析すべき一次イオンビーム
走査領域を分析点と称する)を指定する入力手段
と、この指定された分析点(以下、分析指定点と
する)の座標を記憶する記憶手段と、前記分析指
定点にて質量分析がなされるよう前記試料移動手
段及び前記偏向手段を制御する制御手段と、前記
分析指定点と既分析点とを視覚的に異なる表示態
様にて前記表示手段の試料像の中に区別表示する
画像処理手段と、前記分析指定点が既分析点と重
なると警報を出力する警報手段とを備えて成る。
In order to achieve the above object, the present invention provides an ion microanalyzer that irradiates a sample with a primary ion beam and performs mass analysis of secondary ions emitted from the surface of the sample, comprising: a deflection means for deflecting and scanning the primary ion beam; , a sample moving means for slightly moving the sample on the XY plane together with the sample stage; a display means for displaying an image of the sample set on the sample stage together with coordinates on a screen with scales for the X and Y axes; An input means for specifying the analysis point of the sample (the primary ion beam scanning area to be analyzed is called the analysis point) through the sample image on the screen, and the coordinates of this specified analysis point (hereinafter referred to as the analysis specified point) are stored. a storage means for controlling the sample moving means and the deflection means so that mass spectrometry is performed at the specified analysis point; The apparatus includes an image processing means for displaying the sample image on the display means to distinguish the sample image, and an alarm means for outputting an alarm when the specified analysis point overlaps with an already analyzed point.
このような構成よりなれば、表示手段の画面に
表示された試料像がXY平面の座標を伴うので、
入力手段(例えば、カーソル、ライトペン等)を
用いて表示手段の試料像に分析点を任意に指定す
れば、実際の試料の分析点が指定されることにな
る。また、多点分析を行う場合には、画面に示さ
れたX軸、Y軸の目盛をを見ながら各分析点の間
隔を操作者の意図通りにして、各分析点を正確且
つ容易に位置決めして指定できる。 With such a configuration, the sample image displayed on the screen of the display means is accompanied by coordinates on the XY plane.
By arbitrarily specifying an analysis point on the sample image on the display means using an input means (for example, a cursor, a light pen, etc.), the actual analysis point of the sample is specified. In addition, when performing multi-point analysis, it is possible to accurately and easily position each analysis point by adjusting the interval between each analysis point as intended by the operator while watching the X- and Y-axis scales shown on the screen. can be specified.
この分析指定点の座標は記憶され、この記憶デ
ータを基に制御手段が試料移動手段を制御して、
試料の分析指定点が一次イオンビーム照射位置に
くるよう試料を移動させ、偏向手段を制御するこ
とで一次イオンビームが偏向走査されつつ試料に
照射され、質量分析が行われる。 The coordinates of this specified analysis point are stored, and the control means controls the sample moving means based on this stored data.
The sample is moved so that the designated analysis point of the sample is at the primary ion beam irradiation position, and the deflection means is controlled to irradiate the sample with the primary ion beam while being deflected and scanned, and mass spectrometry is performed.
また、上記分析指定点は、試料像の中に示され
るが、質量分析がなされた後は既分析点として表
示される。分析指定点は、既分析点に対して表示
態様が異なるよう画像処理されて区別表示され
る。その結果、新たに分析点を画面をみながら指
定する場合に、既分析点との重複を避けつつ、し
かも、前記の画面上の目盛を見ながら分析点指定
により、既分析点との距離を適度に保つて高多点
分析点の指定を容易に行い得ると共に、既分析状
況も画面を通して容易に把握できる。また、この
分析点の指定を行う場合、分析指定点が既分析点
と重複すると警報が発せられるので、分析点の指
定ミスを確実に防止する。 Further, the designated analysis point is shown in the sample image, but after mass spectrometry is performed, it is displayed as an already analyzed point. The specified analysis points are displayed in a different manner through image processing so as to be displayed differently from the already analyzed points. As a result, when specifying a new analysis point while looking at the screen, you can avoid overlapping with an existing analysis point, and also specify the analysis point while looking at the scale on the screen. Not only can you easily specify a high number of analysis points by keeping it at a reasonable level, but you can also easily understand the status of the analysis that has already been done on the screen. Furthermore, when specifying this analysis point, if the specified analysis point overlaps with an already analyzed point, a warning will be issued, thereby reliably preventing mistakes in specifying the analysis point.
本発明の実施例を図面により説明する。 Embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
第1図は本発明のイオンマイクロアナライザー
の一実施例を示す構成図である。 FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of the ion microanalyzer of the present invention.
第1図において、イオン源1で発生した一次イ
オンビーム2は、加速され、また、偏向電極(偏
向手段)3にて偏向走査されて試料4に照射され
る。試料ホルダ上の試料4より放出された二次イ
オン5は、質量分析計6で質量/電荷比に分けら
れる。偏向電極3には、偏向電源7が接続してあ
り、偏向電源7は、制御部(制御手段)10にて
制御され、偏向量や偏向方向を制御するようにな
つている。 In FIG. 1, a primary ion beam 2 generated by an ion source 1 is accelerated, deflected and scanned by a deflection electrode (deflection means) 3, and irradiated onto a sample 4. Secondary ions 5 emitted from the sample 4 on the sample holder are separated into mass/charge ratios by a mass spectrometer 6. A deflection power source 7 is connected to the deflection electrode 3, and the deflection power source 7 is controlled by a control section (control means) 10 to control the amount of deflection and the direction of deflection.
一方、試料4は、XY平面の微動台(試料移動
手段)8上の試料ホルダに搭載してあり、微動台
8は、制御部10によつて制御される微動台電源
9によつて微動量や微動方向が制御される。 On the other hand, the sample 4 is mounted on a sample holder on a fine movement table (specimen moving means) 8 in the XY plane, and the fine movement table 8 is controlled by a fine movement table power source 9 controlled by a control unit 10. and the direction of micro-movement is controlled.
制御部10からの制御信号7A,9Aは、入力
回路(入力手段)11より入力された値である。
また、制御部10には、記憶装置12と表示装置
13と警報回路14とが接続してある。 The control signals 7A and 9A from the control section 10 are values input from the input circuit (input means) 11.
Further, a storage device 12 , a display device 13 , and an alarm circuit 14 are connected to the control unit 10 .
記憶装置12には、試料ホルダ及び試料の形
状、寸法、微動位置データ、試料の分析点に関す
るデータ(分析位置及びその位置の一次イオンビ
ームの走査領域)等が記憶され、この記憶内容
は、入力回路11より入力される。入力回路11
は、キーボードのテンキーと表示装置(例えば
CRT、液晶画像器等の表示手段)13のカーソ
ル、ライトペン(本実施例ではカーソル)とで構
成される。 The storage device 12 stores data on the shape and dimensions of the sample holder and the sample, micro-movement position data, data on the analysis point of the sample (analysis position and scanning area of the primary ion beam at that position), etc. It is input from the circuit 11. Input circuit 11
is a keyboard numeric keypad and display device (e.g.
It consists of a cursor 13 (display means such as CRT, liquid crystal imager, etc.) and a light pen (cursor in this embodiment).
表示装置13は、記憶装置12の記憶内容に基
づき試料ホルダー(試料台)にセツトされた試料
をホルダーと共にXY平面座標を伴つて表示す
る。また、表示装置13或いは制御部15には、
入力回路11のカーソル操作を通して指定された
分析点(分析指定点)を表示装置13中の試料像
中に既分析点と異なる表示態様にて区別して表示
する画像処理手段を備えている。警報回路14
は、表示装置13中の示した分析指定点と既分析
点と重複する場合に警報表示する機能を有する。
15は制御部10内に演算回路である。 The display device 13 displays the sample set on the sample holder (sample table) based on the stored contents of the storage device 12 together with the holder along with the XY plane coordinates. In addition, the display device 13 or the control unit 15 includes
It is equipped with an image processing means for displaying an analysis point (analysis designated point) designated through a cursor operation of the input circuit 11 in a display manner different from that of already analyzed points in the sample image on the display device 13. Alarm circuit 14
has a function of displaying an alarm when the specified analysis point shown on the display device 13 overlaps with an already analyzed point.
15 is an arithmetic circuit within the control section 10.
ここで、質量分析の制御の説明に先立ち、第2
図により表示装置13の具体的表示例を、第3図
により試料ホルダーと試料の配列例を、第4図に
より分析点の指定に際しての本発明の利点と従来
の問題点を、第5図及び第6図により、本実施例
の分析点の指定の仕方を説明する。 Here, before explaining the control of mass spectrometry, the second
The figure shows a specific display example of the display device 13, FIG. 3 shows an example of the arrangement of the sample holder and sample, FIG. 4 shows the advantages of the present invention and conventional problems when specifying an analysis point, and FIGS. How to specify the analysis points in this embodiment will be explained with reference to FIG.
表示装置13の画面には、第2図aに示すよう
に、試料ホルダー、試料の像がXY平面座標を伴
い表示され、且つ、寸法表示となるX軸、Y軸目
盛が付される。第2図aのX軸0〜3×104、Y
軸0〜5×104の長方形がμm単位で表した試料ホ
ルダに相当する。その中の8個の円形は、試料を
表している。そして、円形試料中の複数の小さな
四角形は、一次イオンビームをラスタ走査して分
析したクレータを表している。第2図bは、第2
図aの部分拡大表示例で、入力回路11により指
定された分析点のうち既に分析された分析点(既
分析点)を実線にて示し、未分析或は入力回路1
1より新たに指定する分析点(分析指定点)を破
線或いは点滅等により区別表示するようにしてあ
る。この区別表示は色分け表示でもよい。 On the screen of the display device 13, as shown in FIG. 2a, images of the sample holder and the sample are displayed with XY plane coordinates, and X-axis and Y-axis scales are attached to indicate dimensions. X axis 0 to 3×10 4 in Figure 2 a, Y
A rectangle with an axis of 0 to 5×10 4 corresponds to a sample holder expressed in μm. Eight circles therein represent samples. A plurality of small squares within the circular sample represent craters analyzed by raster scanning the primary ion beam. Figure 2b shows the second
In the partially enlarged display example of Figure a, the analysis points that have already been analyzed (already analyzed points) among the analysis points specified by the input circuit 11 are shown by solid lines, and the unanalyzed or input circuit 1
Analysis points newly specified from 1 onwards (analysis specified points) are distinguished and displayed using broken lines, blinking, or the like. This distinguishing display may be a color-coded display.
第3図は試料ホルダーの一実施例を示す平面図
で、試料ホルダ16上には、円形で示した8個の
試料4が搭載してある。XY座標で表示すると、
X1Y1,X1Y2,X1Y3,…X2Y4を中心にして配列
してあり、X1Y1部を拡大したものが第4図であ
る。 FIG. 3 is a plan view showing one embodiment of the sample holder, in which eight samples 4 shown in circles are mounted on the sample holder 16. When displayed in XY coordinates,
They are arranged with X 1 Y 1 , X 1 Y 2 , X 1 Y 3 , ...X 2 Y 4 as the center, and FIG. 4 shows an enlarged view of the X 1 Y 1 section.
第4図aにおいては、既分析点がX11,X12,
Y11,Y12を頂点とする四角形とすると、次に分
析する点は、ΔY離れたX11,X12,Y13,Y14を頂
点とする四角形の領域に指定する。本実施例で
は、このΔYを表示装置13の画面に表れる目盛
を見ながら適宜間隔に設定することで、このY軸
上で最多のN回分析することができる。 In Figure 4a, the analyzed points are X 11 , X 12 ,
Assuming that Y 11 , Y 12 is a rectangle with vertices, the next points to be analyzed are specified in the quadrilateral region with vertices X 11 , X 12 , Y 13 , Y 14 separated by ΔY. In this embodiment, by setting this ΔY to an appropriate interval while looking at the scale displayed on the screen of the display device 13, analysis can be performed a maximum of N times on this Y axis.
ところで、従来法では、ΔYの指定が光学顕微
鏡による肉眼の観察で行われていたため、既分析
領域のスパツタエツチングクレータ(穴)が不明
瞭な場合及び操作領域の見積りを誤つた場合に
は、第4図bに示すように、既分析点と重複する
ことがある。バルク分析の場合は、データが極め
て不正確となり、分析が無駄となる。数μmの深
さの分析では数時間の分析となり、この時間消費
は極めて不経済である。この重複を避けるため、
第4図cに示すように、ΔYを少し多めに取るよ
うにすれば重複はしないが、Y軸上の分析点が少
なくなり、本発明に係る第4図aの場合のN回の
1/2〜1/3になつてしまう。 By the way, in the conventional method, ΔY was specified by visual observation using an optical microscope, so if the sputter etching crater (hole) in the analyzed area is unclear or if the operation area is estimated incorrectly, As shown in FIG. 4b, the points may overlap with already analyzed points. In the case of bulk analysis, the data will be highly inaccurate and the analysis will be useless. Analysis at a depth of several μm requires several hours, and this time consumption is extremely uneconomical. To avoid this duplication,
As shown in FIG. 4c, if ΔY is set a little larger, there will be no overlap, but the number of analysis points on the Y axis will be reduced, and 1/1 of the N times in the case of FIG. 4a according to the present invention. It becomes 2-1/3.
次に第5図、第6図により分析点の指定例を説
明する。 Next, an example of specifying an analysis point will be explained with reference to FIGS. 5 and 6.
第5図は分析点の指定例を示す図で、第5図の
ように、8個の試料4を測定できる試料ホルダ1
6を表示装置13に表示し、入力回路11の操作
によりカーソルを用いて画面を見ながら試料4の
分析順序を指定する。なお、Xを水平方向、Yを
垂直方向、Zを上下方向、Tを傾斜角度としたと
き、原点0はX0,Y0,Z0,T0とする。次に第6
図に示す分析点の表示例のように、設定した分析
順序にしたがい、各チヤンネル(第5図のCH1
〜CH8)の拡大図が順次表示される。ここで、
入力回路11から分析装置、走査領域等、各種分
析条件を各チヤンネル毎に入力すると、第2図b
に示すような各分析位置の走査領域(分析点)が
指定される。この場合、原点0をX0,Y0,Z0,
T0として、原点0からの各チヤンネルの分析位
置をX1,Y1,Z1,T1,…,X8,Y8,Z8,T8と
表わす。 FIG. 5 is a diagram showing an example of specifying analysis points. As shown in FIG.
6 is displayed on the display device 13, and the analysis order of the sample 4 is designated by operating the input circuit 11 using a cursor while viewing the screen. Note that when X is the horizontal direction, Y is the vertical direction, Z is the vertical direction, and T is the tilt angle, the origin 0 is assumed to be X 0 , Y 0 , Z 0 , and T 0 . Next, the sixth
As shown in the analysis point display example shown in the figure, each channel (CH1 in Figure 5) is
~CH8) enlarged views are displayed one after another. here,
When various analysis conditions such as the analyzer and scanning area are input for each channel from the input circuit 11, the result shown in FIG.
The scanning area (analysis point) of each analysis position as shown in is specified. In this case, the origin 0 is set to X 0 , Y 0 , Z 0 ,
As T 0 , the analysis positions of each channel from the origin 0 are expressed as X 1 , Y 1 , Z 1 , T 1 , ..., X 8 , Y 8 , Z 8 , T 8 .
以上のようにして分析点が指定されると、分析
点が記憶装置12に記憶され、この記憶データを
基に制御部10が微動台8を制御して、試料の分
析指定点が一次イオンビーム照射位置にくるよう
試料を移動させ、次いで、偏向電極7を制御する
ことで一次イオンビームが偏向走査されつつ試料
4に照射され、質量分析が行われる。例えば、第
1番目にチヤンネル1を、2番目にチヤンネル8
を分析するとすれば、まず、原点0からX1,Y1,
Z1,T1へ移動し、分析条件にしたがつて分析を
終えると、比較演算回路15にて(X8−X1,Y8
−Y1,Z8−Z1,T8−T1)を計算し、試料ホルダ
16を微動台8の移動によつて移動して次の分析
を行う。また、第2図に示すように各チヤンネル
毎に複数個の分析点を指定する場合も同様であ
る。 When the analysis point is specified as described above, the analysis point is stored in the storage device 12, and based on this storage data, the control section 10 controls the fine movement stage 8, so that the specified analysis point of the sample is set to the primary ion beam. The sample is moved to the irradiation position, and then the deflection electrode 7 is controlled to irradiate the sample 4 with the primary ion beam while being deflected and scanned, and mass spectrometry is performed. For example, channel 1 is the first channel, channel 8 is the second channel, etc.
To analyze, first, from the origin 0, X 1 , Y 1 ,
After moving to Z 1 and T 1 and completing the analysis according to the analysis conditions, the comparison calculation circuit 15 calculates (X 8 −X 1 , Y 8
−Y 1 , Z 8 −Z 1 , T 8 −T 1 ), and the sample holder 16 is moved by the movement of the fine movement stage 8 to perform the next analysis. The same applies to the case where a plurality of analysis points are designated for each channel as shown in FIG.
指定の分析点の分析がなされると、表示画面中
に示された該当の分析点は破線表示から実線表示
に変わる。 When the specified analysis point is analyzed, the corresponding analysis point shown on the display screen changes from a broken line to a solid line.
上記した本実施例によれば、
(1) 分析点の選択指定が容易で、重複分析を避け
ることができる。 According to the present embodiment described above, (1) It is easy to select and specify analysis points, and duplicate analysis can be avoided.
(2) 分析点を効率よく選ぶことができ、限られた
試料面で高効率多点分析が可能である。(2) Analysis points can be selected efficiently, and highly efficient multi-point analysis is possible on a limited sample surface.
(3) 試料位置、分析位置を表示できるので、操作
性が著しく向上する。(3) Since the sample position and analysis position can be displayed, operability is significantly improved.
(4) 多点質量分析の作業状況を画面を通して認識
できる。(4) The work status of multipoint mass spectrometry can be recognized through the screen.
等の利点がある。There are advantages such as
〔発明の効果〕
以上のように本発明によれば、表示装置の画面
を通して分析点指定ひいては質量分析を実行で
き、しかも、分析点指定を、画面に表れるX軸、
Y軸目盛と、分析指定点の既分析点に対する区別
表示と、分析指定点と既分析点の重なり警報を利
用することで、分析点の選択指定が容易で、限ら
れた試料面での高効率多点分析を可能にし、ま
た、操作性を向上させると共に、多点質量分析の
作業の進行状況を知り得る効果がある。[Effects of the Invention] As described above, according to the present invention, it is possible to specify an analysis point and to perform mass spectrometry through the screen of the display device.
By using the Y-axis scale, the display of the designated analysis point to distinguish it from the already analyzed points, and the overlap warning between the designated analysis point and the already analyzed point, it is easy to select and specify the analysis point, and it is possible to easily select and specify the analysis point. This has the effect of enabling efficient multi-point analysis, improving operability, and being able to know the progress of multi-point mass spectrometry work.
第1図は本発明のイオンマイクロアナライザー
の一実施例を示す構成図、第2図は第1図の表示
装置による試料表示例を示す図、第3図は試料ホ
ルダの一実施例を示す平面図、第4図は分析点の
指定例の拡大図、第5図は本発明における分析点
の指定例を示す図、第6図は分析点の表示例を示
す図である。
1……イオン源、2……一次イオンビーム、3
……偏向電極、4……試料、5……二次イオン、
6……質量分析計、7……偏向電源、8……微動
台、9……微動台電源、10……制御部、11…
…入力回路、12……記憶装置、13……表示装
置、14……警報回路、15……比較演算回路、
16……試料ホルダ。
Fig. 1 is a configuration diagram showing an embodiment of the ion microanalyzer of the present invention, Fig. 2 is a diagram showing an example of sample display by the display device of Fig. 1, and Fig. 3 is a plan view showing an embodiment of the sample holder. 4 is an enlarged view of an example of specifying an analysis point, FIG. 5 is a view showing an example of specifying an analysis point in the present invention, and FIG. 6 is a view showing an example of displaying an analysis point. 1...Ion source, 2...Primary ion beam, 3
... Deflection electrode, 4 ... Sample, 5 ... Secondary ion,
6...Mass spectrometer, 7...Deflection power supply, 8...Fine movement table, 9...Fine movement table power supply, 10...Control unit, 11...
... input circuit, 12 ... storage device, 13 ... display device, 14 ... alarm circuit, 15 ... comparison calculation circuit,
16...Sample holder.
Claims (1)
表面から放出される二次イオンを質量分析するイ
オンマイクロアナライザーにおいて、 前記一次イオンビームを偏向走査する偏向手段
と、前記試料を試料台と共にXY平面上で微動さ
せる試料移動手段と、前記試料台にセツトされた
試料の像をX軸、Y軸の目盛付き画面に座標を伴
つて表示する表示手段と、この画面の試料像を通
して試料の分析点(分析すべき一次イオンビーム
走査領域を分析点と称する)を指定する入力手段
と、この指定された分析点(以下、分析指定点と
する)の座標を記憶する記憶手段と、前記分析指
定点にて質量分析がなされるよう前記試料移動手
段及び前記偏向手段を制御する制御手段と、前記
分析指定点と既分析点とを視覚的に異なる表示態
様にて前記表示手段の試料像の中に区別表示する
画像処理手段と、前記分析指定点が既分析点と重
なると警報を出力する警報手段とを備えて成るこ
とを特徴とするイオンマイクロアナライザー。[Scope of Claims] 1. An ion microanalyzer that irradiates a sample with a primary ion beam and performs mass analysis of secondary ions emitted from the surface of the sample, comprising: a deflection means that deflects and scans the primary ion beam; A sample moving means for slightly moving the sample on the XY plane together with the sample stage; a display means for displaying the image of the sample set on the sample stage along with the coordinates on a screen with scales on the X and Y axes; and a display means for displaying the image of the sample on the screen. an input means for specifying an analysis point of the sample (the primary ion beam scanning area to be analyzed is referred to as an analysis point) through the input means; a storage means for storing the coordinates of the specified analysis point (hereinafter referred to as an analysis specified point); , a control means for controlling the sample moving means and the deflecting means so that mass spectrometry is performed at the designated analysis point; and a display means for visually displaying the designated analysis point and the analyzed point in different ways. An ion microanalyzer comprising: an image processing means for distinguishing and displaying in a sample image; and an alarm means for outputting an alarm when the designated analysis point overlaps an already analyzed point.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60059853A JPS61218057A (en) | 1985-03-25 | 1985-03-25 | Ion microanalyzer |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60059853A JPS61218057A (en) | 1985-03-25 | 1985-03-25 | Ion microanalyzer |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61218057A JPS61218057A (en) | 1986-09-27 |
JPH0527938B2 true JPH0527938B2 (en) | 1993-04-22 |
Family
ID=13125164
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60059853A Granted JPS61218057A (en) | 1985-03-25 | 1985-03-25 | Ion microanalyzer |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61218057A (en) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5292786A (en) * | 1976-01-30 | 1977-08-04 | Hitachi Ltd | Ion microanalyzer |
JPS5328488A (en) * | 1976-08-30 | 1978-03-16 | Hitachi Ltd | Specimen analyzer |
JPS5875749A (en) * | 1981-10-30 | 1983-05-07 | Shimadzu Corp | Sample positional display unit for charged particle ray analyzer |
-
1985
- 1985-03-25 JP JP60059853A patent/JPS61218057A/en active Granted
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5292786A (en) * | 1976-01-30 | 1977-08-04 | Hitachi Ltd | Ion microanalyzer |
JPS5328488A (en) * | 1976-08-30 | 1978-03-16 | Hitachi Ltd | Specimen analyzer |
JPS5875749A (en) * | 1981-10-30 | 1983-05-07 | Shimadzu Corp | Sample positional display unit for charged particle ray analyzer |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS61218057A (en) | 1986-09-27 |
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