JP3624721B2 - Probe device - Google Patents

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JP3624721B2 JP32632898A JP32632898A JP3624721B2 JP 3624721 B2 JP3624721 B2 JP 3624721B2 JP 32632898 A JP32632898 A JP 32632898A JP 32632898 A JP32632898 A JP 32632898A JP 3624721 B2 JP3624721 B2 JP 3624721B2
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Description

【0001】 [0001]
【発明の属する技術分野】 BACKGROUND OF THE INVENTION
本発明は、プローブを装備した装置に関するものである。 The present invention relates to an apparatus equipped with a probe.
【0002】 [0002]
【従来の技術】 BACKGROUND OF THE INVENTION
プローブを用いたウエハチップ上の動作試験や不良解析において、プローブを所望の位置へ簡単に移動できるような機能を持つことは、スループットの向上、およびユーザの操作負担を軽減する上で、きわめて重要となる。 In operation test and failure analysis of the wafer chip using a probe, on to have a function as a probe can be easily moved to the desired position, improved throughput, and to reduce the user's operation burden, critical to become. 特に大型の試料では解析面積も増加するので、ますます重要となる。 In particular, since also increases analyzed area is large samples, becomes increasingly important.
【0003】 [0003]
従来、プローブを所望の位置へ移動させるには、解析装置の試料ステージへ試料をセットしたのち、解析領域を画像化して表示するディスプレイを観察しながら、まず試料とプローブ先端を解析領域へ移動して焦点を合わせた後、領域内でおおよその所望位置へ手動でプローブを移動させ、その後、画像の倍率を上げて、さらに所望位置へ近づくようにプローブを移動させる。 Conventionally, move the probe to a desired position, after the sample was set to the sample stage of the analysis apparatus, while observing the display to display the image the analysis regions, by first moving the sample and the probe tip to the analysis region after focusing Te, manually moving the probe to the approximate desired location in the area, then, by increasing the magnification of the image, the probe is moved so as to further approach the desired position. この画像の倍率を上げる操作と所望位置へ近づく操作を繰り返して、最終的に目標位置へ到達させる。 The operation to increase the magnification of the image and repeat steps closer to the desired position, and finally to reach the target position. ウエハチップ上の動作試験や不良解析では、μm単位の精度が必要で、この精度を満たすアクチュエータとして、ピエゾ素子などが用いられ、その中でも動作範囲が比較的大きくとれるバイモルフ素子を使用する場合がある。 The operation test and failure analysis of the wafer chips, the accuracy of μm unit is required, as an actuator that satisfies this accuracy, such as a piezoelectric element is used, may use a bimorph element operation range among them can take a relatively large .
【0004】 [0004]
ところで、近年ではウエハが大径化しているため、プローブを用いたウエハチップの動作試験装置や不良解析装置も大径化に対応したものが必要となっているが、従来の装置ではこの大径化に十分対応していない。 However, since in recent years a wafer is increased in diameter, also operate the test apparatus and the failure analysis apparatus of the wafer chip using probes has become necessary that corresponding to the larger diameter, this larger diameter in the conventional apparatus It does not fully correspond to the reduction. そこで、大径ウエハの解析では、装置に導入できる大きさにウエハを割断してから解析を行っている。 Therefore, in the analysis of the large-diameter wafer, the analysis is conducted after cleaving the wafer to a size that can be introduced into the apparatus. しかし、わずかな不良部分の解析のためにウエハを割断するのは、非常に不経済である。 However, cleaving the wafer for a small analysis of the defective portion is very uneconomical.
【0005】 [0005]
そこで考案されたのが、特願平9−196213の「試料作製方法および装置」である。 So was devised is a "sample manufacturing method and apparatus" of Japanese Patent Application No. 9-196213. この装置のプローブを駆動するアクチュエータにも、バイモルフ素子が採用されている。 Also the actuator for driving the probe of this device, the bimorph element is employed. その他、プローブ装置の具体例としては、半導体集積回路の電気特性を計測する四探針計測装置があり、また別のプローブ装置の従来例として特開平9−326425号公報「不良検査方法および装置」が開示されている。 Other specific examples of the probe device, there is a four probe measuring device for measuring the electrical characteristics of a semiconductor integrated circuit, another conventional example JP-A 9-326425 discloses "bad inspection method and apparatus" as a probe device There has been disclosed. これらのプローブ装置においては、プローブを所望の位置に移動させ、試料の所望に位置に接触させる等の動作は、光学顕微鏡で試料とプローブを観察しながらプローブに連結した機械的機構を駆動するためのツマミなどを人手で調整したり、プローブにつながったプローブ駆動制御回路の出力調整用のツマミを調整していた。 In these probe apparatus, the probe is moved to a desired position, the operation of such contacting a desired the position of the sample in order to drive the mechanical mechanism connected to the probe while observing the sample and probe with an optical microscope or the like is adjusted manually knob had to adjust the knob for the adjustment of the output of the probe driving control circuit connected to the probe.
【0006】 [0006]
【発明が解決しようとする課題】 [Problems that the Invention is to Solve
プローブの移動手段がピエゾ素子等の非線形アクチュエータの場合、移動量によって移動速度が異なり、また、それに加えてバイモルフ素子は一片を固定した状態で、固定した一片を中心に、反対側の一片が円弧を描くように動作するので、手動で所望の位置に移動させる操作は時間と熟練を要するという問題がある。 When the moving means of the probe is non-linear actuator such as a piezoelectric element, different moving speed by the moving amount, In addition in the state bimorph element with a fixed piece with it, around the fixed piece, a piece of opposite arc since it operates to draw the operation to manually moved to a desired position there is a problem that it takes time and skill.
【0007】 [0007]
前述の四探針計測装置や上記特開平9−326425号公報における方法では、プローブ操作は機械的機構や電気回路を介して操作者の人手によって行なわれるため、作業の効率や正確性は操作者の器用さに大きく影響を受ける。 In the method of the four-probe measuring device and the JP-A-9-326425 discloses described above, since the probe operation performed manually by the operator via a mechanical mechanism and electric circuit, the efficiency and accuracy of the work the operator greatly affected by the dexterity. また、操作者が多くの試料の同じ場所を計測したり、多くの同じ微粉末を移動させるなど、集中力と時間を要する作業を繰り返し行なうことは、操作者に精神的、体力的苦痛を与え、ひいては作業結果の信頼性が損なわれるなどの問題を伴う。 Furthermore, the operator or by measuring the same location of many samples, such as moving a lot of the same fine powder is repeating the operations that require concentration and time, given mentally operator, the physical distress involves problems such as the reliability of the thus work result is impaired.
【0008】 [0008]
さらに、ユーザはあらかじめ装置の操作手順を十分に習得し、かつ前述の熟練作業に慣れていないと、容易にはプローブ装置を操作することができないという問題がある。 In addition, the user fully learn the operating procedures previously apparatus, and if not familiar with the foregoing skilled operator, easily there is a problem that it is impossible to operate the probe device.
【0009】 [0009]
本発明の目的は、上記問題点に鑑み、プローブ先端を目的に応じて所望の位置に移動させたり接触させるなどの神経を要する作業を、人手の器用さや熟練度に影響されずに容易に行なえる手段を提供することにある。 SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above problems, perform the work requiring nerve, such as contacting or move to a desired position in response to the probe tip end, easily without being affected by the dexterity and skill of the human to provide a means that. 特に本発明は、透過型電子顕微鏡、走査型透過電子顕微鏡、走査型電子顕微鏡など、電子顕微鏡内でプローブを所望の位置に移動させたり、所望の動作をさせたりするのに好適なプローブ装置を提供することにある。 In particular, the present invention is a transmission electron microscope, scanning transmission electron microscopy, such as scanning electron microscope, or the probe is moved to a desired position in the electron microscope, a suitable probe apparatus for or to the desired operation It is to provide.
【0010】 [0010]
また、本発明は、本プローブ装置を操作するユーザが、あらかじめ装置の操作手順や知識を習得することなしに、プローブ操作を行える機能を付することを目的とするものである。 Further, the present invention is a user to operate this probe device, without learning operating procedures and knowledge of the advance device, it is an object of subjecting a function that allows the probe operation.
【0011】 [0011]
【課題を解決するための手段】 In order to solve the problems]
上記本発明の目的を達成するために、本発明においては以下のような装置構成とする。 In order to achieve the object of the present invention, in the present invention the following a device configuration.
【0012】 [0012]
(1)荷電粒子ビームの照射光学系と、前記荷電粒子ビームの照射によって試料から発生する二次粒子を検出する二次粒子検出器と、前記試料を載置する試料ステージと、前記試料に必要に応じて接触できるプローブと、前記プローブを移動させるプローブ制御部とを少なくとも有し、必要に応じてプローブに所望の動きをさせるための情報を示すプローブ情報画面を表示する表示部を有するプローブ装置を基本とし、プローブ情報画面は、前記試料および前記プローブを表示し、また、前記表示部に前記プローブを移動させるためのプローブ操作画面領域を表示し、さらに前記プローブ操作画面領域の操作信号により、前記プローブ制御部を介して前記プローブを移動させる機能を設ける構成とし、前記プローブの前記プローブ情報画面内 (1) an irradiation optical system of the charged particle beam, and the secondary particle detector for detecting secondary particles generated from the sample by the irradiation of the charged particle beam, a sample stage for placing the sample, necessary for the sample probe device including a probe which can be contacted depending comprises at least a probe controller for moving the probe, a display unit for displaying the probe information screen showing information for the desired movement to the probe as needed was basic, the probe information screen displays the sample and the probe, also displays a probe operation screen area for moving the probe on the display unit, the further manipulation signal of the probe operation screen area, and it is provided with a function of moving the probe through the probe control unit, the probe information screen of the probe 表示された前記プローブ先端部の現在位置と、前記プローブ先端部の移動目標位置を前記プローブ情報画面内でそれぞれ指定する操作を行なうことにより、前記プローブ先端部の現在位置から前記移動目標位置までの移動量を計算し、前記移動量だけ前記プローブ制御部を動作させて、前記プローブを前記移動目標位置に移動させる機能を設ける。 The current position of the probe tip is displayed, by the movement target position of the probe tip performs an operation for designating respectively the probe information screen, from the current position of the probe tip until the movement target position the movement amount is calculated, said movement amount by operating the probe control unit, provided with a function of moving the probe to the moving target position.
【0013】 [0013]
(2)上記(1)の装置において、前記プローブ情報画面内に表示された前記プローブ先端部の現在位置と、前記プローブ先端部の移動目標位置を前記プローブ情報画面内でそれぞれ指定する操作を行なうことにより、各々異なるシンボルで表示するプローブ装置とする。 (2) In the apparatus of the above (1), carried out the current position of the probe tip displayed on the probe information screen, the operation of designating respectively the movement target position of the probe tip in the probe information screen it allows a probe apparatus for displaying in each different symbol.
【0014】 [0014]
(3)上記(1)または(2)の手段を持つプローブ装置において、前記プローブ先端部の現在位置もしくは前記移動目標位置のうちの少なくともいずれかを前記プローブ情報画面内で指定する操作を、マウス、トラックボール、タッチペン等のポインティングデバイスにより前記プローブ情報画面内で実行することを有するプローブ装置とする。 (3) In the probe device having means (1) or (2), the operation for specifying at least one of the current position or the movement target position of the probe tip in the probe information screen, mouse , a probe device having an executing trackball, by the pointing device of a touch pen or the like in the probe information screen.
【0015】 [0015]
(4)上記(1)ないし(3)の手段を持つプローブ装置において、上記プローブ情報画面は、少なくとも上記二次粒子検出器からの信号を二次粒子像として表示する二次粒子像画面領域を表示するようにする。 In the probe device having (4) the above (1) to the means (3), the probe information screen, a secondary particle image screen area for displaying a signal from at least the secondary particle detector as a secondary particle image We want them to appear.
【0016】 [0016]
(5)上記(1)ないし(4)において、のプローブ情報画面は、少なくとも二次粒子検出器からの信号から表示した二次粒子像の拡大縮小、シフト、回転などを行なう二次粒子像操作領域を有する構成とし、上記プローブ操作画面領域が、少なくとも上記プローブの移動速度を指示する速度指示部、上記プローブの移動速度を変える変速指示部を有するか、またはプローブの現状の移動速度を指示する速度指示部または上記プローブの移動速度を変える変速指示部のうちの少なくともいずれかを有するか、または上記二次粒子像画面領域における二次粒子像の像倍率または上記二次粒子像に対応する上記試料の縦横の実寸法情報を示す寸法表示部のうちの少なくともいずれかを有するか、または上記二次粒子像画面領域における二次粒子像 (5) the above (1) to (4), the probe information screen, scaling of the secondary particle image displaying from signals from at least the secondary particle detector, shift, perform like rotating secondary particle image manipulation a structure having a region, the probe operation screen area, instructs at least speed instructing unit for instructing a moving speed of the probe, or with a gear shift instruction unit for changing a moving speed of the probe, or the moving speed of the current probe speed instruction unit or the corresponding at least one has any, or the image magnification or the secondary particle image of the secondary particle image of the secondary particle image screen area of ​​the shift instructing unit for changing a moving speed of the probe has at least one of the dimensions display showing the actual dimensions information of horizontal and vertical samples, or secondary particle image of the secondary particle image screen area 像倍率を切り換えるための倍率切り換え部を有するか、または上記プローブ操作画面領域は、上記プローブと上記試料との接触を示す接触表示部を有している。 Or with a magnification switching unit for switching the image magnification, or the probe operation screen area has a contact display unit showing the contact between the probe and the sample.
【0017】 [0017]
(6)上記(1)ないし(5)において、荷電粒子ビームが特に集束電子ビームであって、上記二次粒子像が二次電子像であるプローブ装置、または上記プローブは上記試料の少なくとも一部に電位を与える電位供給源であるプローブ装置、または上記荷電粒子ビームが集束イオンビーム(FIB)であって、さらに上記荷電粒子ビームの照射領域にデポジション膜を形成するデポジション用ガス供給源を有し、上記プローブは上記試料を上記プローブに付着させて移動させる操作もしくは上記試料の一部を分離した摘出試料を別の部材に移動させる操作の少なくともいずれかの操作を行なう移送手段の一部であるプローブ装置、特に、上記別の部材が上記試料ステージと透過型電子顕微鏡、走査型透過電子顕微鏡、走査型電子顕微鏡に搭載 (6) the above (1) to (5), the charged particle beam is an especially focused electron beam, a probe device or the probe, the secondary particle image is a secondary electron image of at least a portion of the sample the probe device is a potential source for applying a potential, or the charged particle beam is a focused ion beam (FIB), the more the charged-particle beam deposition gas source to form a deposition film on the irradiated region of the a part of the transport means the probe to perform at least one of the operation of moving the excised sample obtained by splitting a part of the operation or the sample is moved by adhering the sample to the probe to another member probe device, particularly, transmission electron microscopy said another member and said sample stage, a scanning transmission electron microscope, equipped with a scanning electron microscope is 能な形状の試料ホルダであるプローブ装置とする。 A probe device which is a sample holder Noh shape.
【0018】 [0018]
(7)上記(1)ないし(6)のプローブ装置において、上記プローブは複数本有し、かつ、上記プローブ情報画面は上記プローブの各々を独立に操作するための各プローブに対応する上記プローブ情報画面を有するプローブ装置、特に、上記プローブ情報画面は、二次粒子像画面領域と、二次粒子像操作領域と、上記複数本のプローブの各々に対応するプローブ操作画面領域を有するか、または、上記プローブ情報画面は、二次粒子像画面領域と、二次粒子像操作領域と、上記複数本のプローブの各々に対応するプローブ操作画面領域を有し、上記二次粒子像画面領域で、制御すべきプローブを指示することで上記プローブに対応するプローブ操作画面領域が活性化する画面であるか、または、上記二次粒子像画面領域は、二次粒子像画面 (7) In the probe device of (1) to (6), the probe has a plurality of, and the probe information screen the probe information corresponding to each probe for operating independently of each of the probe probe device having a screen, in particular, the probe information screen, or has a secondary particle image screen area, and the secondary particle image manipulation region, the probe operation screen area corresponding to each of said plurality of probes, or, the probe information screen includes a secondary particle image screen area, and the secondary particle image manipulation region has a probe operation screen area corresponding to each of said plurality of probes, in the secondary particle image screen area, control or the probe operation screen area corresponding to the probe by instructing should do probe is a screen to activate, or the secondary particle image screen area, secondary particle image screen 域内の複数本のプローブに対してそれぞれ区別する識別子が記された画面であるプローブ装置とする。 A probe device which is a screen that distinguishes identifier marked respectively a plurality of probes in the region.
【0019】 [0019]
(8)上記(1)ないし(7)のプローブ装置において、上記表示部に順次操作手順を示し、前記プローブ装置を操作するユーザが前記操作手順に従って操作を行える機能を有するプローブ装置とする。 (8) In the probe device of (1) to (7), it shows the sequential operation steps on the display unit, a probe apparatus having the function of a user operating the probe apparatus can perform an operation according to the operation procedure.
【0020】 [0020]
【発明の実施の形態】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
本発明によるプローブ装置の実施の形態は、荷電粒子ビームの照射光学系と、上記荷電粒子ビームの照射によって試料から発生する二次粒子を検出する二次粒子検出器と、上記試料を載置する試料ステージと、上記試料の一部の所望の位置に移動可能なプローブと、上記プローブを移動させるプローブ制御部とを少なくとも有するプローブ装置であって、上記プローブを制御するために必要な画像もしくは操作部を有する画面を表示する表示部を有する構成とする。 Embodiment of a probe device according to the invention is placed an irradiation optical system, a secondary particle detector for detecting secondary particles generated from the sample by the irradiation of the charged particle beam, the sample of the charged particle beam a sample stage, and the probe can be moved to a desired position of the portion of the sample, comprising at least a probe apparatus and a probe control section for moving the probe, the image or operations required to control the probe configured to have a display unit for displaying a screen having a section.
【0021】 [0021]
(実施例1) (Example 1)
図1は本発明によるプローブ装置を応用した試料作製装置の一例を示す概略構成図である。 Figure 1 is a schematic block diagram showing an example of a sample preparation device that applies a probe device according to the present invention. この試料作製装置は、半導体チップや薄片試料、断面試料などの試料から所望の領域からμmレベルの微小試料を摘出したり、基板上に点在する微小試料を選択して取り上げて、TEMや各種分析装置の試料ホルダに移設して、TEM観察や分析など解析に適する試料形状に加工する装置である。 The sample preparation device, a semiconductor chip and a slice sample, or excised micro sample from a desired region from a sample of μm level, such as cross sample is taken in selecting the micro sample to be scattered on a substrate, TEM and various and transferred to a sample holder of the analyzer is a device for processing a sample shape suitable for analysis, such as TEM observation and analysis.
【0022】 [0022]
試料作製装置は、半導体チップや薄片試料や断面試料などの試料2の加工や観察をするFIB照射光学系3、このFIB照射によって照射部から放出する二次電子や二次イオンを検出する二次粒子検出器4、FIB照射領域にデポジション膜を形成するための材料ガスを供給するデポジションガス源5、試料2を載置する試料ステージ6、試料2の一部を摘出して形成した微小試料や基板上に点在する微小試料を固定する試料ホルダ7、試料ステージ6上にあって試料ホルダ7を保持する固定具8、微小試料を試料ホルダ7に移し変えるアクチュエータ9などを少なくとも有した構成である。 Sample preparation apparatus, FIB irradiation optical system 3 to the processing and observation sample 2 such as a semiconductor chip or a thin sample or section sample, a secondary for detecting secondary electrons or secondary ions emitted from the irradiation unit by the FIB irradiation particle detector 4, supplies a material gas for forming a deposition film on the FIB irradiation region deposition gas source 5, the sample stage 6 mounts the sample 2, the micro formed by extracting the part of the sample 2 sample holder 7 for fixing a micro-sample that dot the sample and substrate, the fixture 8 for holding the sample holder 7 be on the sample stage 6, and at least has a like actuator 9 transferring micro sample to sample holder 7 it is a configuration. さらに、試料ステージ6の位置を制御するためのステージ制御部10、アクチュエータ9を試料ステージ6と独立に駆動するためのプローブ制御部11、二次粒子検出器制御部12、デポジションガス源制御部13、FIB照射光学系2のFIB制御部14なども含む。 Further, the probe controller 11 for driving the stage control unit 10 for controlling the position of the sample stage 6, the actuator 9 independently of the sample stage 6, a secondary particle detector controller 12, the deposition gas source controller 13, also includes such FIB controller 14 of the FIB irradiation optical system 2. この他、ステージ制御部10、プローブ制御部11、FIB制御部14、などを制御する計算処理部15は、さらにはSIM画像情報やTEMからの画像情報の記憶や処理もできる。 In addition, the stage control unit 10, the probe control unit 11, FIB controller 14 calculation processing unit 15 that controls the, further may also store and process the image information from the SIM image information or TEM. また、試料ホルダ7や試料2やアクチュエータ9などを表示するディスプレイ16も有している。 Further, display 16 for displaying the sample holder 7 or the sample 2 and the actuator 9 also has.
【0023】 [0023]
FIB照射光学系3は、液体金属イオン源や電界電離ガスイオン源から放出したイオンをビーム制限アパチャ、集束レンズ、対物レンズなどから構成され、直径10数nmから数μmのFIB17を形成する。 FIB irradiation optical system 3, the ion beam limiting aperture which is emitted from a liquid metal ion source and field ionization gas ion source, focusing lenses, consists like the objective lens, to form a FIB17 several μm to 10 carbon nm in diameter. FIB17を偏向器により試料2上で走査させ、走査形状に対応したμmからサブμmレベルの加工ができる。 FIB17 is scanned on the sample 2 by the deflector and can be processed sub μm level from μm corresponding to the scanning geometry. ここでの加工とは、スパッタリングによる凹部や、FIBアシストデポジションによる凸部、もしくは、それらを組み合わせて試料形状を変形させる操作を指す。 Here processing at the refer and recesses by sputtering, the convex portion by the FIB assisted deposition, or, an operation to combine them to deform the sample shape.
【0024】 [0024]
デポジションガス源5は、ガスを先端のノズル19から有機金属ガスなどを試料に噴射しつつFIB走査することで走査領域にガス成分のデポジション膜を形成することができる。 Deposition gas source 5 may form a deposition film of gas components in the scanning area by FIB scanning while ejecting the organic metal gas in the sample gas from the nozzle 19 of the tip. このデポジション膜は試料の表面保護や、移送手段9の先端にあるプローブ18と試料2を接続したり、微小試料を試料ホルダ7に固定するための接着剤の役割を果たす。 The deposition film surface protection and of the sample, or to connect the probe 18 and the sample 2 at the tip of the transfer means 9 serves adhesive for fixing the micro-sample on the sample holder 7.
【0025】 [0025]
微小試料のアクチュエータ9はXYZ3軸に動く粗動機構と微動機構から構成され、長ストロークで必要に応じて高分解能で移動でき、これらはプローブ制御部11によって動作する。 The actuator 9 of the micro-sample is composed of fine movement mechanism and the coarse feed mechanism which moves XYZ3 axis, if necessary with a long stroke to move at high resolution, which operate by the probe control section 11. 先端には微小試料と直接接触するプローブ18が設置されていて、試料2の所望の箇所にサブμmレベルの正確さで接触して、微小試料を摘出したり点在する微小試料を接着して移動させることができる。 The tip is installed probe 18 in direct contact with the micro sample is in contact with the accuracy of the sub μm level at a desired position of the sample 2, by bonding a micro sample scattered or excised micro sample it can be moved. 同様に、接着した微小試料を試料ホルダ7に正確に固定できる。 Similarly, it can be accurately fix the adhered micro-sample on the sample holder 7. なお、微小試料の摘出の仕方についての詳細な説明は、特願平9−263185号「試料作製装置および方法」に記載されている。 A detailed description of how the removal of micro-sample is described in Japanese Patent Application No. 9-263185 "sample manufacturing apparatus and method".
【0026】 [0026]
ディスプレイ16はSIM像の表示や、SIM像の拡大や縮小、移動、回転などをさせるためのSIM像操作や、アクチュエータ9の先端にあるプローブ18の移動速度の変更、所望場所への接触、FIB走査範囲外への退避などの操作をするための画面を表示でき、ディスプレイ16上に表示されたプローブに対して移動先の位置やプローブ移動速度の変更、試料ホルダの選択などを指定することができる。 Display 16 displays or SIM image, enlargement or reduction of the SIM image, mobile, SIM image manipulation and for causing the like rotation, changing the moving speed of the probe 18 at the tip of the actuator 9, the contact to a desired location, FIB can display a screen for operations such as saving out of the scan range, the destination position and changes of the probe movement speed relative to the probe displayed on the display 16, to be specified and selection of the sample holder it can. 各操作の指示に当たっては、計算処理機に付属したマウスやジョイスティックなどのポインティングデバイス(図示せず)によって行なえる。 When the instruction of the operation, performed by a pointing device such as a mouse or joystick included in the calculation processor (not shown).
【0027】 [0027]
このように本発明によれば、プローブをディスプレイ上で操作できるため、FIB照射光学系や試料ステージの操作とともにディスプレイ画面上のマルチウインドウを選択することで実行できる。 According to the present invention, it is possible to operate the probe on the display, it can be performed by selecting a multi-window on the display screen together with the operation of the FIB irradiation optical system and the sample stage. このことは、試料作製装置を遠隔操作できることを意味し、試料作製装置をクリーンルーム内に設置し、操作者はクリーンルーム外の居室でディスプレイを見ながら試料作製することができる。 This sample preparation apparatus means that it can be remotely operated, a sample preparation apparatus installed in the clean room, the operator can sample preparation while watching the display at a room outside the clean room.
【0028】 [0028]
このような試料作製装置1によって、ウェーハなど元の試料を割断することなく一部分を摘出したり、点在する微小試料から注目する微小試料のみを選択して各種解析に適した試料片に加工することができるため、半導体デバイスの不良部の解析などに非常に有効である。 Such sample preparing apparatus 1, processing or excised portion, the sample pieces suitable for the various analyzes by selecting only small samples of interest from micro-sample interspersed without cleaving the original sample such as a wafer it is possible, analysis of defects of semiconductor devices is extremely effective for.
【0029】 [0029]
なお、この試料作製装置に関連する装置として、ウェーハなど元の試料を割断することなく上記試料の一部分を分離する方法について、特開平5−52721号公報「試料の分離方法及びこの分離方法で得た分離試料の分析方法」が開示されている。 Incidentally, as a device associated with the sample preparation device, a method for separating a portion of the sample without splitting the original sample such as a wafer, JP-A-5-52721 Publication "sample separation method and the separation method analysis method for separating sample "is disclosed a.
【0030】 [0030]
次に、図1に示した装置で、プローブ18を所望の位置へ移動させるための装置の構成例を図2に示す。 Next, in the apparatus shown in FIG. 1 shows a configuration example of a device for moving the probe 18 to a desired position in FIG. この装置の動作は、(A)試料ステージ6に試料2を載置して位置決め、(B)試料2の微小部分の周辺を、照射光学系3から出力されるイオンビームで一部を残して切断、(C)プローブ18を微小部分へ接触、(D)デポジション用ガス供給源5より供給されるデポジション用ガスでプローブ18と微小部分を接着、(E)上記(B)で残した部分をイオンビームで完全に切断、(F)微小部分が接着されたプローブ18を試料ホルダ7へ移動および接触、(G)プローブ18と微小部分が接着されたところをイオンビームで切り離して、試料ホルダ7上に微小部分を載置、(H)試料ホルダ7を本装置から取り出して、微小部分を解析する装置へ導入、となる。 The operation of the device, leaving a portion in (A) positioned by placing the sample 2 on the sample stage 6, (B) a peripheral of the minute portion of the sample 2, the ion beam output from the irradiation optical system 3 cut, leaving the contact (C) a probe 18 to the minute portion, bonding the probe 18 and the minute portion in a deposition gas supplied from the (D) a deposition gas source 5, (E) above (B) completely cut portions with an ion beam, (F) moving and contacting the probe 18 minute portion is adhered to the sample holder 7, disconnect the ion beam where (G) a probe 18 and the minute portion is adhered, the sample placing a minute portion on the holder 7, it is removed from the device (H) sample holder 7, introduced into the apparatus for analyzing a minute portion, and becomes.
【0031】 [0031]
上記動作のうち、プローブ18の移動を行うために、プローブ制御部11、オペボックス21、パーソナルコンピュータ27、ディスプレイ16を設ける。 Among the above operations, in order to perform the movement of the probe 18, the probe control unit 11, operating box 21, a personal computer 27, provided the display 16. なお、パーソナルコンピュータ27は、図1の計算処理部15の役割の一部であるプローブ制御部11の制御を司る。 Incidentally, the personal computer 27, controls the probe control section 11 is a part of the role of calculation processing unit 15 of FIG. 1. また、プローブ18と試料2の微小部分の接触検出、および微小部分が接着されたプローブ18の試料ホルダ7への接触検出を行うための接触検出部20を設ける。 Also, provision of the contact detection unit 20 for performing contact detection to the sample holder 7 of the probe 18 and the contact detection of the minute portion of the sample 2, and probe 18 minute portion is bonded. なお、本例では、オペボックス21とプローブ制御部11の組み合わせでは、オペボックス21の操作による完全手動とし、パーソナルコンピュータ27、ディスプレイ16とプローブ制御部11の組み合わせでは、専用ソフトウエアによる複合動作とした。 In this example, the combination of operating box 21 and the probe control section 11, a completely manual operation of the operating box 21, a personal computer 27, the combination of display 16 and the probe control section 11, the combined operation with dedicated software did.
【0032】 [0032]
パーソナルコンピュータ27には、あらかじめこの装置の上記動作を行わせるソフトウエアをインストールしておく。 The personal computer 27, be installed software to perform the operation of pre this device. このソフトウエアを起動させると、ディスプレイ16にこの装置を動作させるための表示が現れる。 When activating the software, the display for operating the device on the display 16 appears. ディスプレイ16の詳細表示内容は後述するが、ここでは概要を説明する。 Detailed display contents of the display 16 will be described later, here it will be described. まず、上記動作をモニタするために、二次粒子を二次粒子検出器4にて検出し、検出された信号を二次電子検出器制御部12で画像信号に変換し、この信号を画像入力ボード22を介して二次粒子像として表示する。 First, in order to monitor the operation to detect the secondary particles in the secondary particle detector 4, and converted into an image signal a signal detected by the secondary electron detector control unit 12, an image input to the signal through the board 22 to display a secondary particle image. また、二次粒子像と別にプローブ操作画面領域、および操作手順指示部を表示し、これをマウス25やキーボード26で操作することで、操作信号をデジタル出力ボード23とプローブ制御部11を介して、アクチュエータ9を動作させ、アクチュエータ9に取り付けられたプローブ18を移動させる機能も持つ。 Separately probe operation screen area and secondary particle image, and displays an operation procedure instruction unit, which by operating the mouse 25 or keyboard 26, an operation signal via the digital output board 23 and the probe control section 11 the actuator 9 is operated, also have functions for moving the probe 18 attached to the actuator 9. なお、デジタル入力ボード24は、プローブ18の移動状態をプローブ制御部11を介して読み取るもので、読み取った内容により前述のプローブ操作画面領域と操作手順指示部の表示を変更する。 The digital input board 24, the moving state of the probe 18 and reads through the probe control unit 11, the contents read to change the display of the operation procedure instruction unit as the previous probe operation screen area.
【0033】 [0033]
図3はディスプレイ16の表示内容を示す。 Figure 3 shows the display contents of the display 16. 30は二次粒子検出器4の信号を画像化した二次粒子像である。 30 is a secondary particle image obtained by imaging signal of the secondary particle detector 4. ここに、プローブ18と試料2の状態が表示される。 Here, the state of the probe 18 and the sample 2 is displayed. 二次粒子像の表示領域は画像領域距離入力欄31で設定する。 Display area of ​​the secondary particle image is set in the image region distance entry field 31. この実施例では、二次粒子像30の縦、および横の距離である。 In this embodiment, the vertical secondary particle image 30, and a lateral distance. 32はプローブ18を試料2の所望の位置へ移動させるためのプローブ操作画面領域である。 32 is a probe operation screen area for moving the probe 18 to a desired position of the sample 2. この例では、プローブ18をX、Y、Zそれぞれの+/−方向へ移動させるためのジョグボタン321を設けた。 In this example, providing the jog button 321 for moving the probe 18 X, Y, Z to each +/- direction. ジョグボタン321を図2のマウス25でクリックすることにより、プローブ18が移動する。 By clicking the jog button 321 with the mouse 25 in FIG. 2, the probe 18 moves. 33は前記(A)〜(H)に示した動作手順に沿って、操作手順内容を示す操作手順指示部である。 33 along with the operation procedure shown in the (A) ~ (H), an operation procedure instruction section showing the operating procedure details. プローブ操作画面領域32の操作でも前記(A)〜(H)の動作手順は実現できるが、そのためには、あらかじめこの装置を操作するユーザが(A)〜(H)の動作手順を知っておく必要がある。 Although the operation procedure of the in the operation of the probe operation screen area 32 (A) ~ (H) can be implemented, for this, to know the user to operate the advance this device the operation procedure of (A) ~ (H) There is a need. 操作手順指示部33では、ユーザが表示された指示に従って操作手順指示部内に表示されたボタンをマウス25でクリックしていけば、前記(A)〜(H)の動作手順が可能となる。 In the operation procedure instruction unit 33, if we the button displayed on the operation procedure instruction portion according to an instruction by the user is displayed by clicking with the mouse 25, operation procedures becomes possible of the (A) ~ (H). このように、ユーザが操作手順指示部に表示された指示に従って操作していくことで、装置の操作を行えるところに特徴がある。 In this way, by going to instructions by the user is displayed on the operation procedure instruction unit, is characterized in that allows the operation of the apparatus.
【0034】 [0034]
図4は、前記(A)〜(H)に述べた動作手順の一部の表示内容を示したものであり、X−Y軸上でプローブ18を試料2の所望の位置へ移動させる手順を示した。 4, the (A) and shows a part of the display content of ~ (H) to the mentioned operation procedure, the procedure for moving the probe 18 to a desired position of the sample 2 on the X-Y axis Indicated.
【0035】 [0035]
まず、同図(a)の指示でユーザがプローブ18の移動目標位置をマウス25でダブルクリックして、操作手順指示部内のOKボタンをクリックすると、同図(b)の表示に移り、ダブルクリックした位置に移動目標点40を表示する。 First, the movement target position of the user probe 18 at the direction of drawing (a) by double-clicking with the mouse 25 and clicks the OK button in the operation procedure indicating section, moved to the display of FIG. (B), double-click Show moving target point 40 in the position. 次に、上記(b)の指示でユーザがプローブ18の位置をマウス25でダブルクリックして、操作手順指示部内のOKボタンをクリックすると、同図(c)の表示に移り、ダブルクリックした位置にプローブ点41を表示する。 Then, the position of the user probe 18 at the direction of the (b) Double-click with the mouse 25 and clicks the OK button in the operation procedure indicating section, moved to the display of FIG. (C), and double-click position to display the probe point 41. ここで、移動目標点40およびプローブ点41をマウス等のポインティングデバイスで指定したところに特徴がある。 Here, a feature movement target point 40 and probe points 41 at specified by a pointing device such as a mouse. さらに、プローブ点41は、移動目標点40の表示と区別できるような表示を行うところに特徴がある。 Further, the probe point 41, is characterized in that performing the display as can be distinguished from the display of the moving target point 40. 同じ表示であると、特にプローブ点と移動目標点の位置が接近していた時にわかりにくいからである。 If it is the same display, because particularly difficult to understand when the position of the probe point and the moving target point is not approach. 区別できる例としては、移動目標点40が緑色の丸印の表示ならば、プローブ点41は赤色の丸印で表示する等である。 Examples which can be distinguished from the movement target point 40 if displayed in green circles, the probe point 41 is equal to display a red circle.
【0036】 [0036]
次に、上記(c)の指示でユーザが操作手順指示部内のOKボタンをクリックすると、同図(d)の表示に移る。 Next, when the user instruction (c) above clicks the OK button in the operation procedure instruction unit proceeds to the display of FIG. (D). ここで、ソフトウエアでは移動目標点40の座標とプローブ点41の座標から、プローブ18の移動量を計算し、この移動量だけプローブ18を移動させるところに特徴がある。 Here, the software from the coordinates of the probe point 41 of the moving target point 40, and calculates the displacement of the probe 18, is characterized in that moving the moving amount by the probe 18. 移動量の計算は、二次粒子像30の解像度をpドット×pドット、画像領域距離入力欄31で設定した二次粒子像の表示領域をqμm、アクチュエータ9やその他駆動系の定数をK、移動目標点40の座標を(x1,y1)、プローブ点41の座標を(x2,y2)とすると、X軸方向はK×q×(x1−x2)/p、Y軸方向はK×q×(y1−y2)/pとなる。 Calculation of the amount of movement resolution p dots × p dots of the secondary particle image 30, the display area of ​​the secondary particle image set in the image area distance entry field 31 Qmyuemu, the constants of the actuator 9 and other drive system K, the coordinates of the moving target point 40 (x1, y1), when the coordinates of the probe points 41 and (x2, y2), X-axis direction is K × q × (x1-x2) / p, Y-axis direction is K × q × a (y1-y2) / p. この式で求めた移動量だけ、デジタル出力ボード23を介してプローブ制御部11に移動信号を出力する。 Movement amount determined by the formula, and outputs a movement signal to the probe controller 11 via a digital output board 23.
【0037】 [0037]
プローブ制御部11では、移動信号を元にアクチュエータ9の動力信号を生成してアクチュエータ9を動作させ、アクチュエータ9に取り付けられたプローブ18が移動する。 The probe controller 11, generates a power signal of the actuator 9 based on the movement signal to operate the actuator 9, a probe 18 attached to the actuator 9 moves. また、プローブ制御部11はプローブ18の移動終了を検出し、検出信号をデジタル入力ボード24へ出力する。 The probe control section 11 detects the movement end of the probe 18, and outputs a detection signal to a digital input board 24. ソフトウエアはこの検出信号を受けて、プローブ18の停止信号をデジタル出力ボード23を介してプローブ制御部11に出力、プローブ18を停止させて同図(e)の表示に移る。 Software receives this detection signal, the process proceeds to the display of a stop signal of the probe 18 in the probe control unit 11 via the digital output board 23, the figure of the probe 18 is stopped (e). 上記(e)では、ユーザにプローブ18停止の通知と、再度確認する意味で移動終了後のプローブ点をダブルクリックしてもらうよう、要請している。 In the above (e), the notification and the probe 18 is stopped to the user, so get by double-clicking the probe point after movement end in the sense of confirming again, is requesting. ユーザがここでプローブ点をダブルクリックすると、ソフトウエアでは移動目標点40の座標とプローブ点の座標から、プローブ18の移動目標点40からのずれを計算し、あらかじめ設定しておく移動誤差範囲42の中に入っていれば、プローブ18のX−Y軸上での移動は完了となる。 When the user double-clicks the probe point where the coordinates of the probe points of the moving target point 40 in the software, to calculate the deviation from the moving target point 40 of the probe 18, the movement error range preset 42 if contained within the movement on X-Y axis of the probe 18 is completed.
【0038】 [0038]
(実施例2) (Example 2)
本実施例は本発明によるプローブ装置に関わる回路検査装置である。 This embodiment is a circuit inspection apparatus according to a probe apparatus according to the present invention. 回路検査装置は複数本の尖鋭化したプローブを独立に駆動させ、半導体デバイスなどの配線に接触させ、プローブ間の電気的特性を計測してデバイス電気回路の良不良を計測する装置である。 Circuit testing apparatus drives the sharpened probe a plurality of independently, is brought into contact with the wiring of a semiconductor device, a device for measuring the good or bad of the device electrical circuit by measuring the electrical characteristics between the probe. 試料やプローブは電子ビーム照射による二次電子像によって観察する。 Sample and probes are observed by the secondary electron image by electron beam irradiation. この装置のプローブを動作させる手段として前記実施例1に示したプローブ装置を用いた。 Using a probe apparatus shown in Example 1 as a means for operating the probe of the device.
【0039】 [0039]
図5は本発明による回路検査装置の概略構成図である。 Figure 5 is a schematic diagram of a circuit test apparatus according to the present invention. 本回路検査装置は、集束電子ビーム照射光学系101、集束電子ビーム102の照射によって試料103から発生する二次電子を検出する二次電子検出器104と、試料103を載置する試料ステージ105と、試料103に必要に応じて接触できるプローブ106と、プローブ106をXYZ方向に移動させるプローブ駆動部107と、プローブ106を制御するために必要な画像もしくは操作部を表示するプローブ情報画面を表示するディスプレイ108等から構成され、さらには、集束電子ビーム照射光学系102や二次電子検出器104やプローブ駆動部107A、107Bを制御するための計算処理部109を有する。 The circuit testing apparatus, a focused electron beam irradiation optical system 101, a secondary electron detector 104 for detecting secondary electrons generated from the sample 103 by the irradiation of the focused electron beam 102, a sample stage 105 for placing a sample 103 displays a probe 106 which can be contacted as needed to the sample 103, the probe driving unit 107 for moving the probe 106 in the XYZ directions, the probe information screen for displaying an image or operating unit required for controlling the probe 106 is composed from the display 108 or the like, further comprises a calculation processing unit 109 for controlling focused electron beam irradiation optical system 102 and the secondary electron detector 104 and the probe driver 107A, the 107B. また、本実施例の場合、プローブ106およびプローブ駆動部107は独立して2組が設置され(ここではプローブ106A、プローブ106Bとする)、それぞれ独立に駆動して、試料103の所望の位置に接触させることができる。 Further, in this embodiment, the probe 106 and probe driving unit 107 2 sets independently is installed (probe 106A in this case, the probe 106B), each independently driven, to the desired position of the sample 103 it can be contacted.
【0040】 [0040]
ディスプレイ108にはプローブ106に所望の動作をさせるためのプローブ情報画面が表示でき、このプローブ情報画面は二次電子検出器104からの試料103やプローブ106の表面形態の二次電子像を表示する二次電子像画面領域と、二次電子像の少なくとも拡大縮小やシフト、回転を行なう二次電子像操作画面領域と、プローブ106の3次元方向の移動を指示するプローブ操作画面領域とから構成されている。 The display 108 can display the probe information screen for causing the desired operation to the probe 106, the probe information screen displays the secondary electron image of the surface morphology of the sample 103 and the probe 106 from the secondary electron detector 104 a secondary electron image display area, at least scaling and shifting of the secondary electron image, is composed of a secondary electron image operation screen region for rotating a probe operation screen area for instructing movement of the three-dimensional direction of the probe 106 ing. 特に本実施例の場合、プローブは2本あるため、それぞれのプローブに対応したプローブ情報画面がマルチウィンドウ形式で表示され、注目するプローブに対応するプローブ操作画面をプローブ操作画面領域で選択するか、二次電子像画面領域で注目するプローブを指定することで、対応するプローブ操作画面領域が活性化して、各種の指示を与えることができる。 Especially in the case of this embodiment, since the probe is 2, or a probe information screen corresponding to each probe is displayed in multi-window format, selecting a probe operation screen corresponding to the probe of interest in probe operation screen area, by specifying the probe of interest in the secondary electron image display area, it is possible to cope with the probe operation screen area is activated, giving various instructions.
【0041】 [0041]
この時、二次電子像画面上のプローブ像には各々を区別するための識別子113が付されている。 At this time, an identifier 113 for distinguishing each are assigned to the probe image on the secondary electron image screen. 識別子113の例としては数字やアルファベットで、対応するプローブ操作画面に対応する記号もしくは符号が表示され、プローブ18が移動しても、それに伴って識別子113も移動して離れないため、注目するプローブを動作させる時には間違いなくプローブの制御を切り換えることができる。 Examples of the identifier 113 is a number or the alphabet are displayed symbol or code corresponding to the corresponding probe operation screen, since the probe 18 is also moved, the identifier 113 may not leave move with it, the probe of interest it can be switched control probe definitely when operating the.
【0042】 [0042]
プローブ106A、プローブ106Bは共にXY軸方向(回路面内方向)とZ方向(回路面に垂直な方向)に圧電素子を用いて微動できる。 Probe 106A, probe 106B can fine movement using a piezoelectric element, both in the XY-axis direction (circuit plane direction) and Z direction (perpendicular to the circuit surface). プローブ106は試料ステージ105を含む真空容器である試料室110内にあり、測定すべき半導体デバイスなどは試料室110内に設置できる。 Probe 106 is in the sample chamber 110 is a vacuum vessel comprising a sample stage 105, such as to be measured semiconductor devices can be installed in the sample chamber 110.
【0043】 [0043]
ここでの測定例を簡単に説明する。 Briefly measurement example here. 図6はプローブ106A、プローブ106Bによって回路を検査する様子を説明するための図である。 6 is a diagram for describing a manner of inspecting the circuit by the probe 106A, probe 106B. 回路面上のパッド112A、112Bはある回路の途中に設けられたもので、1μm平方の大きさで、両パッドの間隔は2μmである。 Those provided pad 112A on the circuit surface, in the middle of 112B are circuits, the size of 1μm square, the distance between both pads is 2 [mu] m. 回路が正常ならば両パッド間は導通状態になり予め定めた抵抗値となる。 If normal circuit between the pads becomes resistance value determined in advance becomes conductive. そこで、パッド112A、112Bにそれぞれプローブ106A、プローブ106Bを接触させて導通状態を測定する。 Accordingly, pads 112A, probe 106A respectively 112B, measures the conduction state by contacting a probe 106B.
【0044】 [0044]
回路検査に際しては、回路面111を二次電子像画面で拡大して観察しながら、同一視野内にプローブ106A、106Bが入るようにプローブ操作画面で制御する。 In circuit inspection while observing an enlarged circuit surface 111 by the secondary electron image screen, the probe 106A in the same visual field, controlled by the probe operation screen as 106B enters. 二次電子像画面が高倍率であると、両プローブ106A、106Bを画面内に移動させるのに時間がかかるので、二次電子像操作画面で低倍率に設定して両プローブ106A、106Bが画面内に入るように移動させ、順次倍率を高めるとともに、プローブ106A、106Bも移動させることで、容易にプローブ106A、106Bをパッド112A、112Bの直上に移動させることができる。 When the secondary electron image screen is a high magnification, both probes 106A, since it takes time to move the 106B on the screen, both probes 106A is set to a low magnification secondary electron image operation screen, 106B screen move to fall within, to increase the turn ratio, the probe 106A, 106B also by moving, it can easily be moved probes 106A, and 106B pad 112A, directly above the 112B.
【0045】 [0045]
それぞれのパッドとプローブ先端部が重なった状態で一方のプローブ106Aをパッド112Aに近づけて接触させる。 One of the probe 106A is contacted closely to the pad 112A in a state of overlapping each pad and the probe tip. ここで、プローブ駆動系はプローブと試料の接触検知手段を有していて、接触を感知すればプローブ移動を停止すると共にプローブ操作画面のプローブ接触表示を明示する。 Here, the probe drive system have a contact detection means of the probe and the sample, demonstrating the probe contact display of the probe operation screen to stop the probe movement when sensing a touch. 他方のプローブ106Bをパッド112Bに接触させる。 The other probe 106B is contacted to the pad 112B.
【0046】 [0046]
この状態で注目する回路の導通を計測できる。 Conduction circuit of interest in this state can be measured. 導通の計測に当たっては、プローブ操作画面領域にある測定ボタンを押すことで、両プローブ間の電流電圧特性を計測でき、計測された電流電圧特性が表示される。 In the measurement of the conduction and pressing the measurement button on the probe operation screen area, the current-voltage characteristics between the two probes can be measured, the measured current-voltage characteristic is displayed.
【0047】 [0047]
このような構成によって、ディスプレイ108の画面上で、二次電子像を表示すること、二次電子像を操作する(つまり、集束電子ビーム照射系を制御する)こと、プローブの移動操作して所望の位置に正確に接触させること、プローブ間の電気特性を計測することなどを実行できる。 With this configuration, on the screen of the display 108, displaying the secondary electron image, operating the secondary electron image (i.e., focusing controls the electron beam irradiation system) that, in operation of moving the probe desired of possible to accurately contact the position, it can perform like measuring the electrical characteristics between the probes.
【0048】 [0048]
この基本構成に従ってプローブの数をさらに増やして、例えばプローブが4本の場合も同様で、各々のプローブを独立に制御する駆動部を設け、ディスプレイ上でのプローブ操作画面で所望のプローブを選択し、所望の方向に移動するように指示をすればよく、本発明によるプローブ装置の本質には全く問題を生じない。 Increase the following basic configuration further the number of probes, for example, a probe is the same when four, provided a driving unit for controlling each probe independently select the desired probe in the probe operation screen on the display It may be instructed to move in the desired direction, not cause any problem in the nature of a probe apparatus according to the present invention.
【0049】 [0049]
また、本実施例では荷電粒子ビームとして集束電子ビームを用いたが、集束電子ビーム照射光学系102の替わりに集束イオンビーム照射光学系を用いることで、回路面の不用な配線を断線させたり、断線した配線を結合させたりしながら、回路の電気特性を計測することもできる。 Further, in this embodiment using a focused electron beam as a charged particle beam, by using a focused ion beam irradiating optical system instead of the focused electron beam irradiation optical system 102, or to break a waste wire circuit surface, while or to bind the disconnected wiring, it is also possible to measure the electrical characteristics of the circuit.
【0050】 [0050]
【発明の効果】 【Effect of the invention】
本発明によれば、プローブの移動状態をモニタする画像とプローブの移動操作を行うためのプローブ操作画面領域を持った表示部、およびプローブ操作画面領域の信号によりプローブを移動させるためのプローブ制御部を設け、さらに、プローブが表示された画像において、ユーザがプローブの移動目標点と現在のプローブ点を指定することで、プローブの移動目標点と現プローブ点の各々の座標から移動量を計算して、プローブを移動目標点へ移動させる機能を持ったことで、ユーザがプローブを所望の位置へ簡単に移動させることができる。 According to the present invention, the display unit having a probe operation screen area for operation of moving images and probes for monitoring the moving state of the probe, and the probe control section for moving the probe by the signal of the probe operation screen area the provided, further, in the image probe is displayed, the user by specifying the movement target point and the current probe point probe, to calculate the movement amount from each of the coordinates of the moving target point and the current probe point probe Te, by having a function of moving the probe to the moving target point, the user can be easily move the probe to the desired location.
【0051】 [0051]
本発明によるプローブ装置を用いることで、神経を要したり人手の器用さや熟練度にあまり影響されることなく、走査型電子顕微鏡や集束イオンビーム顕微鏡などの装置内の尖鋭化したプローブを、任意の位置に移動させたり試料に接触させるなどのプローブ操作を容易に行うことができる。 By using the probe device according to the present invention, dexterity and skill of manual or requires nerves too are possible without being affected, a sharpened probe in the apparatus, such as a scanning electron microscope or a focused ion beam microscope, any the probe operation such as contacting the sample or is moved to the position can be easily performed.
【0052】 [0052]
また、上記表示部内に、装置の操作手順を順次表示する操作手順指示部を設けたことで、ユーザが表示された指示に従って順次操作することで、ユーザがあらかじめ装置の操作手順や知識を習得することなしにプローブ操作を行うことができる。 Further, on the display portion, the provision of the operation procedure instruction unit for sequentially displaying an operation procedure of the apparatus, by sequentially instructions by the user is displayed, to learn operating procedures and knowledge of the user in advance device it is possible to carry out the probe operation without.
【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS
【図1】本発明の一実施例の試料作成装置の構成を示す斜視図。 Perspective view showing the configuration of a sample preparation apparatus according to an embodiment of the present invention; FIG.
【図2】プローブを所望の位置へ移動させる手段の構成例を示すブロック図。 2 is a block diagram showing a configuration example of a means for moving the probe to a desired position.
【図3】ディスプレイ表示の内容の一例を示す図。 FIG. 3 is a diagram showing an example of the contents of the display display.
【図4】ディスプレイ表示の中でプローブを所望の位置に移動させる手順の説明図。 Figure 4 is an explanatory diagram of a procedure for moving the probe to a desired position within the display representation.
【図5】本発明の実施例による回路検査装置の概略構成を示す斜視図。 Figure 5 is a perspective view showing a schematic configuration of a circuit test apparatus according to the embodiment of the present invention.
【図6】本発明の実施例による回路検査の状況を説明するための模式図。 Schematic diagram for explaining the status of the circuit inspection according to the embodiment of the present invention; FIG.
【符号の説明】 DESCRIPTION OF SYMBOLS
2…試料、3…FIB照射光学系、4…二次粒子検出器、5…デポジションガス源、6…試料ステージ、7…試料ホルダ、8…固定具、9…アクチュエータ、10…ステージ制御部、11…プローブ制御部、12…二次粒子検出器制御部、13…デポジションガス源制御部、14…FIB制御部、15…計算処理部、16…ディスプレイ、17…FIB、18…プローブ、19…ノズル、20…接触検出部、21…オペボックス、22…画像入力ボード、23…デジタル出力ボード、24…デジタル入力ボード、25…マウス、26…キーボード、27…パーソナルコンピュータ、30…二次粒子像、31…画像領域距離入力欄、32…プローブ操作画面領域、33…操作手順指示部、40…移動目標点、41…プローブ点、42…移動誤差 2 ... specimen, 3 ... FIB irradiation optical system, 4 ... secondary particle detector, 5 ... deposition gas source, 6 ... specimen stage, 7 ... specimen holder, 8 ... fixing member, 9 ... actuator, 10 ... stage controller , 11 ... probe controller, 12 ... secondary particle detector control unit, 13 ... deposition gas source control unit, 14 ... FIB controller, 15 ... computing unit, 16 ... display, 17 ... FIB, 18 ... probe, 19 ... nozzle, 20 ... contact detecting unit, 21 ... operating box 22 ... image input board, 23 ... digital output boards, 24 ... digital input board, 25 ... mouse, 26 ... keyboard 27 ... personal computer, 30 ... secondary particle image, 31 ... image area distance entry field, 32 ... probe operation screen area, 33 ... operation procedure instructing section, 40 ... movement target point, 41 ... probe point, 42 ... movement errors 囲、102…集束電子ビーム照射光学系、103…試料、104…二次電子検出器、105…試料ステージ、106…プローブ、106A…プローブA、106B…プローブB、107…プローブ駆動部、108…ディスプレイ、109…計算処理部、110…試料室、111…回路面、112…パッド、112A…パッドA、112B…パッドB。 Circumference, 102 ... focused electron beam irradiation optical system, 103 ... sample, 104 ... secondary electron detector, 105 ... sample stage 106 ... probe, 106A ... probe A, 106B ... probe B, 107 ... probe driver, 108 ... display, 109 ... calculating part, 110 ... sample chamber, 111 ... circuit surface, 112 ... pad, 112A ... pads A, 112B ... pad B.

Claims (8)

  1. 荷電粒子ビームの照射光学系と、 An irradiation optical system of the charged particle beam,
    前記荷電粒子ビームの照射によって発生する二次粒子を検出する二次粒子検出器と、 A secondary particle detector for detecting secondary particles generated by the irradiation of the charged particle beam,
    前記試料を載置する試料ステージと、 A sample stage for placing the sample,
    前記試料に必要に応じて接触させるプローブと、 A probe make contact as needed to the sample,
    該プローブを前記試料の任意の位置に移動させるためのプローブ制御部と A probe control section for moving the probe at any location of the sample,
    前記試料ステージおよび前記プローブを格納する真空試料室と A vacuum sample chamber to store the sample stage and the probe,
    前記プローブ及び前記試料の二次粒子画像を表示するディスプレイと、 A display for displaying secondary particle images of the probe and the sample,
    前記プローブ制御部を制御する計算処理部と、 A calculation processing unit that controls the probe control section,
    該計算処理部に情報を入力するための入力手段とを有し、 And an input means for inputting information into the computing unit,
    前記計算処理部は、 The calculation processing unit,
    前記ディスプレイに表示されたプローブ像に対して前記入力手段を介して指定されるプローブ点の座標と、略二次粒子像に対して前記入力手段を介して指定される移動目標点の座標とから、プローブの移動量を計算し、 And probe points coordinates specified via the input means to the probe image displayed on the display, and a coordinate of the moving target point designated through said input means with respect to substantially the secondary particle image calculates the displacement of the probe,
    移動量に応じて前記プローブ制御部を動作させて、前記プローブを前記移動目標位置に移動させることを特徴とするプローブ装置。 By operating the probe controller in accordance with the movement amount, a probe and wherein the moving the probe to the moving target position.
  2. 請求項1に記載のプローブ装置において、 A probe device as claimed in claim 1,
    前記ディスプレイは、必要に応じて前記プローブに所望の動作をさせる指示をおこなうための画面もしくは操作部を有するプローブ情報画面領域を表示することを特徴とするプローブ装置 The display, a probe and wherein the displaying the probe information screen region having a screen or the operation portion for performing an instruction to the desired operation to the probe if necessary.
  3. 請求項1に記載のプローブ装置において、 A probe device as claimed in claim 1,
    前記プローブ情報表示領域は、少なくとも前記試料もしくは前記プローブの二次粒子画像を表示する二次粒子画像画面領域を有することを特徴とするプローブ装置。 The probe information display region, the probe is characterized in that at least the sample or secondary particle image screen area for displaying a secondary particle image of the probe device.
  4. 請求項1に記載のプローブ装置において、 A probe device as claimed in claim 1,
    前記プローブ情報画面領域は、少なくとも必要に応じて前記プローブに所望の動作をさせるための指示をするプローブ操作画面領域を有することを特徴とするプローブ装置。 The probe information screen area, a probe apparatus characterized by having a probe operation screen area for the instruction to the desired operation to the probe according to at least required.
  5. 請求項1に記載のプローブ装置において、 A probe device as claimed in claim 1,
    前記計算処理部は、前記プローブ点と前記移動目標点の距離が予め設定した移動誤差範囲に入れば、前記プローブ制御部に対してプローブ移動の停止信号を出力することを特徴とするプローブ装置。 The calculation processing unit, if placed in the movement error range distance of the moving target point and the probe point is set in advance, a probe device and outputs a stop signal of the probe moves relative to the probe controller.
  6. 請求項1から3のいずれか1項に記載のプローブ装置において、 A probe device as claimed in any one of claims 1 to 3,
    前記二次粒子像画面領域に表示された前記プローブ点と、前記プローブの移動目標点とが、異なる印で画面上に表示されることを特徴とするプローブ装置。 Probe device for said probe points displayed on the secondary particle image screen area, and the moving target point of the probe, characterized in that it is displayed on the screen in different sign.
  7. 請求項1に記載のプローブ装置において、 A probe device as claimed in claim 1,
    上記プローブ操作画面領域は、特に、上記プローブの移動目標位置、プローブ移動速度指示部、プローブと他の部材との接触表示部、移動方向指示部のうちの少なくともいずれかを有することを特徴とするプローブ装置。 The probe operation screen region, in particular, characterized in that it has movement target position of the probe, the probe moving speed instruction unit, the contact display portion of the probe and another member, at least one of the moving direction instructing section probe apparatus.
  8. 請求項1から4のいずれかに1項に記載のプローブ装置において、 A probe device as claimed in one of claims 1 to any one of 4,
    前記ディスプレイには、装置の操作手順を示す操作手順指示部が表示されることを特徴とするプローブ装置。 Wherein the display, the probe apparatus characterized by operation procedure instructing section showing the operating procedure of the device is displayed.
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