JPH052757B2 - - Google Patents

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JPH052757B2
JPH052757B2 JP1230288A JP1230288A JPH052757B2 JP H052757 B2 JPH052757 B2 JP H052757B2 JP 1230288 A JP1230288 A JP 1230288A JP 1230288 A JP1230288 A JP 1230288A JP H052757 B2 JPH052757 B2 JP H052757B2
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JP
Japan
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plating
cathode
anode
plating solution
particles
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JP1230288A
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JPH01188698A (ja
Inventor
Tsutomu Watanabe
Masaru Sagyama
Masaki Kawabe
Toshuki Tsujihara
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JFE Engineering Corp
Original Assignee
Nippon Kokan Ltd
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  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は鉄系合金電気鍍金方法に関するもので
ある。
[従来技術] Fe−Zn等の鉄系合金電気鍍金鋼番は耐食性が
優れているため、自動車用鋼板等の用途に用いら
れて来ている。これらの鉄系合金電気鍍金鋼板は
可溶性陽極が電極交換等の繁雑性を有することか
ら、一般には不溶性陽極が使用されている。しか
し不溶性陽極を使用した場合、鍍金液中のFe2+
がその陽極上で電解酸化、および溶存酸素により
酸化され、不可避的にFe3+が生成する。この
Fe3+が鍍金液中に存在するとカソード電流効率
を低下させ、鍍金析出を招くほか、鍍金被膜中に
Fe(OH)3として巻き込まれて鍍金層の加工性を
劣化させる。さらにFe3+は腐食性の高い金属イ
オンであるので、鍍金設備の腐食損傷を増大す
る。そのためこれらの弊害を除くために種々の試
みが為されてきている。特開昭58−171593号公報
では鋼板に鉄系電気鍍金を行うにあたつて、陽極
として不溶性陽極を用い、鍍金液中で生成される
Fe3+イオンを、鍍金すべき金属を鍍金液中に溶
解することにより還元することが記載されてい
る。
また特開昭58−199888号公報では鍍金ラインの
鍍金液の一部を取り出し、陰イオン交換膜を陰、
陽電極で挟持した隔壁で陰極室と陽極室を構成
し、陰極室にはFe3+イオンを含む鍍金液を導き、
陽極室には電解液を浸し、電解還元する鉄系電気
鍍金液の管理方法が記載されている。
ここでは第4図に示すように陰イオン交換膜1
を陰電極2、陽電極3で挟持した隔壁4で、陰極
室5と陽極室6を構成し、陰極室5へ鍍金ライン
から取り出した一部の鍍金液7を導き、陽極室5
には硫酸系電解液8を浸し、鍍金液を電解還元す
るものである。陰極2において鍍金液中のFe3+
イオンがFe2+イオンに還元され、酸素発生は陽
極のみとなり、膜1により陰極室(鍍金液7)中
には流入せず、Fe3+イオンは陽極室5において
は生成しない。
[発明が解決しようとする課題] しかしながら特開昭58−171593号公報に示され
るような方法では非常に簡便な設備でFe3+を還
元出来る反面、鍍金金属イオンであるFe2+の供
給装置をも兼ねるのが普通であり、この場合次の
問題がある。
2Fe3++Fe→3Fe2+ ………(1) Fe+2H+→Fe2++2H2↑ ………(2) の化学反応が同時に起こるが、この種の連続鍍金
を行うにはFe3+濃度を増加させずに、鍍金で消
費したFe2+を補給することが必要である。この
場合Fe3+濃度を一定に保つ条件で上記(1)の反応
を進行させると、(1)と(2)の反応で生じたFe2+
生成量が鍍金で消費されるFe2+量よりも多くな
る。その結果鍍金液中でFe2+濃度が経時的に増
加し、一定組成の合金鍍金被膜の形成が困難とな
る。
また特開昭58−199888号公報に示されるような
方法ではFe2+イオンの供給装置を兼用しないの
で、鍍金液の成分バランスを保持しながらFe3+
の還元を可能にする長所を有する反面、次の問題
がある。即ち陰極ではFe3+のFe2+への還元反応
が水素発生及び鍍金析出反応と競争反応であり、
鍍金析出を防止するためには低電流密度域で電解
する必要がある。電流密度を高めると陰極上にデ
ントライト状の結晶が成長し、イオン交換膜を破
つたり、或は一度鍍金が付着すると水素過電圧が
上昇し鍍金析出が多くなり、Fe3+の還元効率が
低下する。そのため所定量のFe3+を還元するた
めには低電流密度電解を行なわざるを得ず、大規
模な装置を必要とする。
本発明はコンパクトな装置を使用して、Fe3+
イオンをFe2+イオンに安定して還元し、循環供
給して電気鍍金する方法を提供することを目的と
する。
[課題を解決するための手段及び作用] 上記目的を達成するために、本発明の方法では
鍍金液を循環供給しながら鉄系合金電気鍍金する
方法において、前記鍍金で発生するFe3+を含ん
だ鍍金液を、循環工程に設けた、陰イオン交換膜
を備え、導電性の粒子を充填した陰極室を有する
隔膜電解槽の陽極室に通液し、そこでこれらの粒
子と流動接触させて電解し、液中のFe3+をFe2+
に還元し、循環供給して電気鍍金するものであ
る。
陰イオン交換膜を備えて、陰極室に通液した
Fe3+、Fe2+等の金属イオンを陽極室に通過させ
ることなく、陰極室でFe3+をFe2+に還元する。
この場合陰極室に導電性の粒子を充填し、通液し
た鍍金液でその粒子を流動接触させて電解するの
で、導電性の粒子は陰極として機能し、実質的な
陰極表面積が増大し、結果として大きな電流を流
しても、陰極電流密度は相対的に小さく保持出来
る。上記流動接触は粒子同志、粒子と陰極板との
衝突を起こし液中の濃度による境界層を破壊し、
物質移動の進行を促進する。
粒子が流動しない場合は充填層を形成し、陽極
に一番近い粒子表面に電流が集中し鍍金析出によ
り隔膜の損傷を招く。
導電性の粒子としては不溶解の粒子を使用する
ことが必要である。これによつて鍍金液中への不
純物の混入を防止し、且つ陰極室に通液する鍍金
液の鉄濃度とそこで還元されて出てくる供給液の
鉄濃度のバランスを的確に把握でき、鍍金液の鉄
濃度を調整することを容易にする。導電性の粒子
としてはグラフアイト粒子、TiC、SiC等の無機
物の粒子、導電性高分子粒子(ポリアセチレン、
ポリフエニリン、ポリピロール、ポリチオフイ
ン、ポリアニリン、ポリチアゾール等)が挙げら
れる。
なお、導電性の粒子径としては、陰極室内で流
動出来るものであればよいが、一般には5mmφ以
下のものが実用的に使用される。
[発明の実施例] 以下に本発明の実施例を図によつて説明する。
第1図は本発明の方法を使用する装置の模式図で
ある。図において、鍍金液を循環供給しながら鉄
系合金電気鍍金するにあたり、前記鍍金で発生す
るFe3+を含んだ鍍金液21を、循環工程に設け
た、陰イオン交換膜22を備え、導電性の粒子2
3を充填した陰極室24を有する隔膜電解槽25
の陰極室24にポンプ31で圧送して陰極液とし
て通液し、そこでそれらの粒子と流動接触させて
電解し、液中のFe3+をFe2+に還元し、循環して
供給液26として鍍金槽27に供給し、鋼板を連
続的に電気鍍金するものである。28は鍍金液の
濃度調節装置であり、29は流量計である。隔膜
電解槽25では陰イオン交換膜22を備えている
ので、陰極室24に通液した陰極液のFe3+
Fe2+等の金属イオンは陽極室30を通過するこ
となく、陰極室24でFe3+をFe2+に還元する。
この場合陰極室に導電性の粒子23を充填し、通
液した鍍金液でその粒子を流動接触させて電解す
るので、導電性の粒子23は陰極20として機能
し、実質的に陰極表面積を増大し、結果として大
きな電流を流しても、陰極電流密度は相対的に小
さく保持出来る。この場合陽極室30では、
H2SO4溶液34が陽極タンク32を介してポン
プ31で圧送して陽極室30に陽極液として通液
される。そして陽極33上では電解によつてO2
ガスが発生する。
上記において隔膜電解槽を第2図に示すような
構造にすることが出来る。図において陽極33の
回りを同心円状にイオン交換膜22で囲んで陽極
室30を形成し、さらに、その回りを陽極20で
囲んで陽極室24を形成し、その中に導電性の粒
子23を充填したものであり、鍍金で発生する
Fe3+を含んだ鍍金液21を、陰極室24にポン
プ29で圧送して陰極液として通液し、そこでそ
れらの粒子と流動接触させて電解し、液中の
Fe3+をFe3+に還元し、前記実施例と同様に循環
して供給液26として鍍金槽27に供給し、鋼板
を連続的に電気鍍金するものである。この場合陽
極室30では、前記実施例と同様に、循環して
H2SO4溶液34が陽タンク32を介してポンプ
29で圧送されて循環して陽極室30に陽極液と
して通液される。そして陽極33上では電解によ
りO2ガスが発生する。この装置では大きな電流
で電解が出来るので、Fe3+の還元速度を一層向
上出来る。
次に上記第1図に示す装置を使用して本発明方
法を行つた実験例を詳述する。
実験として隔膜電解槽で陰極液のFe3+の濃度
を0〜10g/lに変化して電解し、Fe3+を還元
するとともに、陰極板上に鍍金金属が析出する限
界電流密度を求めた。
(実験例) 陰極液はZn−Fe合金電気鍍金で発生するFe3+
を含んだ鍍金液と同様の組成に調製したもので次
の様である。
硫酸第一鉄:350g/l、 硫酸亜鉛:150g/l、PH:1.5。
隔膜電解槽の条件は次のようである。
導電性の粒子としては平均粒径2mmφのグラフ
アイト(20g/l)を、陰極板としてはSUS316
を用いた。また陽極板としては酸化イリジウム板
を、陽極液には10g/lのH2SO4溶液を用いた。
陰極液のFe3+濃度は一定に保ちながら、その陰
極液をポンプ29で圧送して通液し、そこで導電
性の粒子と流動接触させて電解し、液中のFe3+
をFe2+に還元した。
(比較例) 陰極液、陽極液は実施例と同じ液を用い、隔膜
電解槽の条件は導電性の粒子を充填しない陰極室
とし、それ以外は実験例と同じくした。
実験例、比較例による結果を第3図に示す。図
では横軸にFe3+濃度(g/l)、縦軸に電流密度
(A/dm2)をとり、Fe3+濃度を変化して電解し
た場合の陰極への鍍金析出限界電流密度を求めた
ものである。
その結果、実験例ではFe3+:10g/lの場合、
最大50A/dm2(極板面積当たり)の電流密度ま
で通電しても鍍金析出を生じずにFe3+を100%の
効率で還元出来た。
比較例ではFe3+:10g/lの場合、比較例で
は最大25A/dm2(極板面積当たり)の電流密度
までであつた。
これらのことから本発明方法はFe3+の還元速
度の著しい向上を達成出来る。
[発明の効果] 本発明方法によれば、循環工程に陰イオン交換
膜を備え、導電性の粒子を充填した陰極室を有す
る隔膜電解槽を設けた簡単な構造によつて、鍍金
で発生したFe3+を含んだ鍍金液を陰極室に通液
し、そこでそれらの粒子と流動接触させて電解
し、液中のFe3+をFe2+に安定して還元し、循環
供給して電気鍍金することが出来、実操業におい
て非常に効果の大きい発明である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の方法に使用する装置の一実施
例を示す模式図、第2図は本発明の方法に使用す
る装置の他の実施例の隔膜電解槽の一部切り欠き
斜視図、第3図はFe3+の電解還元によるFe3+
度(g/l)と陰極への鍍金析出限界電流密度の
関係を示す図、第4図は従来のFe3+の電解還元
方法の説明図である。 20……陰極、21……鍍金液、22……陰イ
オン交換膜、23……導電性の粒子、24……陰
極室、25……隔膜電解層、26……供給液、2
7……鍍金槽、28……濃度調節装置、29……
流量計、30……陽極室、31……ポンプ、32
……陽極タンク、33……陽極、34……
H2SO4

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 鍍金液を循環供給しながら鉄系合金電気鍍金
    する方法において、前記鍍金で発生するFe3+
    含んだ鍍金液を、循環工程に設けた、陰イオ交換
    膜を備え、導電性の粒子を充填した陰極室を有す
    る隔膜電解槽の陰極室に通液し、そこでそれらの
    粒子と流動接触させて電解し、液中のFe3+
    Fe2+に還元し、循環供給して電気鍍金すること
    を特徴とする鉄系合金電気鍍金方法。
JP1230288A 1988-01-22 1988-01-22 鉄系合金電気鍍金方法 Granted JPH01188698A (ja)

Priority Applications (1)

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JP1230288A JPH01188698A (ja) 1988-01-22 1988-01-22 鉄系合金電気鍍金方法

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JP1230288A JPH01188698A (ja) 1988-01-22 1988-01-22 鉄系合金電気鍍金方法

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JPH01188698A JPH01188698A (ja) 1989-07-27
JPH052757B2 true JPH052757B2 (ja) 1993-01-13

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