JPH0527569B2 - - Google Patents

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JPH0527569B2
JPH0527569B2 JP63051646A JP5164688A JPH0527569B2 JP H0527569 B2 JPH0527569 B2 JP H0527569B2 JP 63051646 A JP63051646 A JP 63051646A JP 5164688 A JP5164688 A JP 5164688A JP H0527569 B2 JPH0527569 B2 JP H0527569B2
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JP
Japan
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silica
amino group
silicic acid
amount
amino groups
Prior art date
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JP63051646A
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JPH01226713A (ja
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Masatoshi Yamada
Hiroko Yamamoto
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JGC Corp
Original Assignee
JGC Corp
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Publication date
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  • Silicates, Zeolites, And Molecular Sieves (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
イ 発明の目的 産業上の利用分野 本発明はシリカ等のケイ酸化合物の表面改質法
に関する。 吸着剤または触媒担体として有機アミノ基で改
質したケイ酸化合物を用いる場合、その目的に最
適の物性のケイ酸化合物を選択しなければならな
い。 例えば、吸着物質の分子サイズが大きく、吸着
剤の拡散抵抗が問題となるようなケースでは細孔
径が大きい方が有利である。しかしながら細孔径
の大きいケイ酸化合物は一般的に表面積が小さい
ため、従来の改質法では充分な改質量を得ること
ができず、吸着剤として充分な性能が得られなか
つた。 従来の技術 アミノ基を有するアルコキシシランによるシリ
カの改質は、従来はこれを溶媒に希釈したものを
シリカと接触させることによりシリカ表面のシラ
ノール基とシロキサン結合を形成させ、アミノ基
をシリカ表面に固定させることにより行われてい
る。(篠田、斉藤:「表面」21、722、1983) この従来法によると、シリカに導入できるアミ
ノ基量、即ち改質量は、ある一定量までは添加し
たアミノ基を有する有機シランが全てシリカに固
定されるが、その一定量を超えると添加量を増や
しても改質量は増えず、飽和量があることが判つ
た。この飽和改質量はシリカの表面積で整理する
と各種のシリカでいずれも約2ケ/nm2であるこ
とが判つた。 この原因をNMR等で検討したところ、アミノ
基を有するアルコキシシランはシリカ表面のシラ
ノール基と反応してシリカ表面に固定されるが、
アミノ基を有するアルコキシシラン同志の反応に
よるシロキサンポリマーは生成しないため改質量
を増やすことができないということが判つた。 以上のように、従来の改質法では表面積の小さ
なシリカ、又はさらに表面積の小さい溶融ガラス
や珪藻土のようなケイ酸化合物には吸着剤として
充分な性能を発揮するために必要なアミノ基を導
入することはできなかつた。 発明が解決しようとする問題点 本発明は、表面積が小さく細孔径の大きいケイ
酸化合物に飽和吸着量以上の有機アミノ基を導入
するケイ酸化合物の表面改質法を提供するもので
ある。 ロ 発明の構成 問題点を解決するための手段 本発明に係るケイ酸化合物の表面改質法は、ケ
イ酸化合物にアミノ基を有するアルコキシシラン
とテトラアルコキシシランとの混合液を含浸し、
アミノ基を含むシロキサンポリマーを生成させて
表面に固定するか、あるいはケイ酸化合物に、先
ずアミノ基を有するアルコキシシランを含浸し、
次いでテトラアルコキシシランを含浸して、アミ
ノ基を含むシロキサンポリマーを生成させて表面
に固定することを特徴とする。 なおここで言うケイ酸化合物としては、合成品
ではシリカ、多孔質ガラス、溶融ガラス、ケイ酸
アルミニウム、ケイ酸カルシウムなど、また天然
物としては珪藻土、カオリン、活性白土、クリス
トバライト、セピオライト、ベントナイトなどが
挙げられる。 以下シリカを例として本発明を具体的に説明す
る。 既に説明したように、3−アミノプロピルトリ
アルコキシシランやN−(2−アミノエチル)−3
−アミノプロピルトリアルコキシシラン等の官能
基にアミノ基を有するアルコキシシランはシリカ
表面のシラノール基と反応してシリカ表面に固定
されるが、その量は各種のシリカでいずれも約2
ケ/nm2で飽和してしまう。 本発明においてはアミノ基を有するアルコキシ
シランとテトラアルコキシシランから下記(1)式に
示すようなアミノ基を含むシロキサンポリマーを
シリカの外表面及び細孔内に生成させ、このポリ
マーをシリカ表面のシラノール基に固定する。 上記のようなアミノ基を含むシロキサンポリマ
ーをシリカの外表面及び細孔内に生成させる方法
は次の2通りがある。 方法1:アミノ基を有するアルコキシシランと
テトラアルコキシシランを混合した溶液、あるい
はこれらを極性有機溶媒に溶解した溶液をシリカ
に共含浸したのち乾燥することによりアミノ基を
含んだシロキサンポリマーを生成させる。 このシロキサンポリマー中の一部のシラノール
基はシリカ表面のシラノール基と反応し、シロキ
サン結合によりシリカの外表面及び細孔内に固定
される。 方法2:アミノ基を有するアルコキシシランを
シリカに含浸、乾燥することによりアミノ有機シ
ランをシリカに固定させたのちテトラアルコキシ
シランを含浸、乾燥させることによりシリカに固
定されていない過剰のアミノ基を有するアルコキ
シシランとテトラアルコキシシランを反応させシ
リカ外表面及び細孔内にシロキサンポリマーを作
る。 これに対して、シリカに先ずテトラアルコキシ
シランを含浸、乾燥し、次いでアミノ基を有する
アルコキシシランを含浸したのち乾燥したのでは
所望の効果が得られない。 これは先に含浸されたテトラアルコキシシラン
のみでシロキサンポリマーが生成するため、後で
含浸するアミノ基を有するアルコキシシランとの
反応が生ぜず、アミノ基を含んだシロキサンポリ
マーができないためである。 以上の説明は、溶融ガラスや珪藻土のようなケ
イ酸化合物にも適用される。 本発明において使用できるアミノ基を有するア
ルコキシシランとしては、3−アミノプロピルト
リアルコキシシラン、N−(2−アミノエチル)−
3−アミノプロピルトリアルコキシシラン、N−
(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルメチル
ジアルコキシシラン、4−アミノブチルジメチル
アルコキシシラン、(アミノエチルアミノメチル)
フエネチルトリアルコキシシラン、p−アミノフ
エニルトリアルコキシシランなどが挙げられ、こ
れらの中の1種又は2種以上を用いる。 またテトラアルコキシシランとしては、テトラ
メトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ
プロポキシシラン、テトラブトキシシランなどが
挙げられ、これらの中の1種又は2種以上を用い
る。 前記(1)式のようなアミノ基を含むシロキサンポ
リマーを生成するためには、テトラアルコキシシ
ランをアミノ基を有するアルコキシシランに対し
てモル比で0.5以上、好ましくは1〜3倍使用す
ることが好ましい。 アルコキシシランの溶媒としてはアルコール、
テトラヒドロフラン(THF)等の極性有機溶媒
が好ましい。溶媒に水を用いると含浸する前にポ
リマーが生じてゲル化するため流動性が無くなり
含浸できない。またn−ヘキサン、トルエン等の
非極性溶媒でも一部沈殿が生じるため不適当であ
る。 ケイ酸化合物に導入できるアミノ基量は、ケイ
酸化合物の細孔容積及び含浸液中のアミノを有す
るアルコキシシランの濃度によつて決まるが、最
も導入量を多くしたい場合には溶媒を用いず、ア
ルコキシシランの混合溶液のみを含浸する。また
それでも不足する場合には、乾燥後に含浸を繰り
返して行うこともできる。 ケイ酸化合物にアルコキシシランを含浸したの
ち150℃以下で乾燥することにより、ケイ酸化合
物に含まれていた水及び空気中の水分により、ケ
イ酸化合物の加水分解が生じ、アミノ基を含むシ
ロキサンポリマーが生成し、ケイ酸化合物に固定
できる。 また含浸後にスチームなどと接触させる処理を
行うことにより、加水分解が更に効果的に促進さ
れ、固定化アミノ基量を増加させることが可能で
ある。 以下実施例及び比較例により本発明の構成及び
効果を示す。 比較例 1 3−アミノプロピルトリエトキシシラン
0.041molを純水300mlに溶解した液に、シリカ
(フジダビソン社製、表面積80m2/g、細孔容積
1.10ml/g)30gを加え、室温にて3時間撹拌し
たのち濾過、純水洗浄してから110℃で乾燥した。 得られた改質シリカのアミノ基含有量を窒素含
有量から求めたところ、0.24mmol/gであつ
た。 比較例 2 比較例1で用いたシリカ10gに3−アミノプロ
ピルトリエトキシシラン水溶液(アミノ基濃度
0.90mol/)をPore filling法により含浸したの
ち110℃で乾燥した。 乾燥品中に含まれているアミノ基量は0.98m
mol/gで添加量にほぼ等しかつたが、これに純
水を加え2時間洗浄したものにはアミノ基が0.24
mmol/gしか含まれておらず、比較例1と同様
にシリカ表面のシラノール基と結合したアミノ基
だけしか固定されていなかつた。 実施例 1 3−アミノプロピルトリエトキシシラン
(APS)に対してモル比で0.5倍、1.0倍、2.0倍ま
たは3.0倍のテトラエトキシシラン(TEOS)と、
3−アミノプロピルトリエトキシシランとをエタ
ノールに溶解した溶液(アミノ基濃度0.90mol/
)を用い、比較例1で用いたシリカに比較例2
と同様の方法で含浸、乾燥し改質シリカA,B,
C,Dを得た。また上記改質シリカBの乾燥前の
一部をとり、30分間スチーム処理した後110℃で
乾燥して改質シリカEを得た。これらの改質シリ
カのアミノ基含有量及び純水洗浄したのちシリカ
上に残留したアミノ基、即ちシリカに固定された
アミノ基量を第1表に示した。 これらの改質シリカには、いずれも比較例1又
は比較例2で得られた量以上のアミノ基が固定さ
れており、シロキサンポリマーの生成にテトラエ
トキシシランが有効であることがわかる。又、そ
の添加量を増やすことが固定化アミノ基量を多く
する方法であることがわかる。
【表】 実施例 2 アミノ基濃度0.90mol/の3−アミノプロピ
ルトリエトキシシラン水溶液を、比較例1で用い
たシリカに含浸し110℃にて乾燥した後
0.90mol/のテトラエトキシシランを含むエタ
ノール溶液を含浸し110℃で乾燥して改質シリカ
Fを得た。 この改質シリカのアミノ基含有量及び固定化ア
ミノ基量を第1表に示した。この方法により改質
した場合にも実施例1の共含浸した場合と同様、
固定化アミノ基量を多くできた。 比較例 3 0.90mol/のテトラエトキシシランを含むエ
タノール溶液を比較例1で用いたシリカに含浸し
110℃にて乾燥したのち、アミノ基濃度
0.90mol/の3−アミノプロピルトリエトキシ
シラン・エタノール溶液を含浸し、110℃にて乾
燥することにより改質シリカGを得た。この改質
シリカのアミノ基量及び固定化アミノ基量を第1
表に示した。この方法により改質した場合にはア
ミノ基を含むシロキサンポリマーが生成せず固定
化アミノ基量は多くできなかつた。 実施例 3 比較例1で用いたシリカの代りに、触媒化成(株)
製セライト(珪藻土を原料とする製品)成型品
(表面積10m2/g、細孔容積0.66ml/g)、及び
Manvile社製セライト成型品(表面積4m2/g、
細孔容積0.90ml/g)を用い実施例1の改質シリ
カBを得たのと同様の方法にて改質セライトH、
Jを得た。これらの改質セライトのアミノ基含有
量及び固定化アミノ基量を第2表に示した。 これらのセライトはシリカ以上に表面積が小さ
く従来法では改質量が上げられないが、本法によ
るとシリカと同等まで改質量を多くすることがで
きた。 比較例 4 実施例3の触媒化成(株)製セライトを用い、比較
例1と同様に処理して改質セライトKを得た。 固定化アミノ基量を第2表に示した。
【表】 セライトの場合もシリカと同様に、本発明方法
により固定化アミノ基量を増加することが示され
ている。 ハ 発明の効果 本発明方法による表面改質はケイ酸化合物の
物性、特にシラン化剤の結合に関与する表面シ
ラノール基量に規制されることがないため、必
要量の有機アミノ基を導入することが可能であ
る。 特にシリカや、溶融ガラス、セライト等の表
面積の極端に小さいものの改質に適している 有機アミノ基はシロキサンポリマー中にある
ため、シリカ表面への結合強度が増し、より安
定化される。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 ケイ酸化合物にアミノ基を有するアルコキシ
    シランとテトラアルコキシシランとの混合液を含
    浸し、アミノ基を含むシロキサンポリマーを生成
    させて表面に固定することを特徴とするケイ酸化
    合物の表面改質法。 2 ケイ酸化合物に先ずアミノ基を有するアルコ
    キシシランを含浸し、次いでテトラアルコキシシ
    ランを含浸して、アミノ基を含むシロキサンポリ
    マーを生成させて表面に固定することを特徴とす
    るケイ酸化合物の表面改質法。 3 アミノ基を有するアルコキシシランとして3
    −アミノプロピルトリアルコキシシラン、N−
    (2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリア
    ルコキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−
    アミノプロピルメチルジアルコキシシラン、4−
    アミノブチルジメチルアルコキシシラン、(アミ
    ノエチルアミノメチル)フエネチルトリアルコキ
    シシラン及びp−アミノフエニルトリアルコキシ
    シランの中の1種又は2種以上を用いることを特
    徴とする特許請求の範囲第1項又は第2項記載の
    方法。 4 テトラアルコキシシランとしてテトラメトキ
    シシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポ
    キシシラン及びテトラブトキシシランの中の1種
    又は2種以上を用いる特許請求の範囲第1項又は
    第2項記載の方法。
JP5164688A 1988-03-07 1988-03-07 ケイ酸化合物の表面改質法 Granted JPH01226713A (ja)

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