JPH05275247A - Thin inductor/transformer - Google Patents

Thin inductor/transformer

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JPH05275247A
JPH05275247A JP3676992A JP3676992A JPH05275247A JP H05275247 A JPH05275247 A JP H05275247A JP 3676992 A JP3676992 A JP 3676992A JP 3676992 A JP3676992 A JP 3676992A JP H05275247 A JPH05275247 A JP H05275247A
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JP
Japan
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coil
magnetic
thickness
insulating substrate
inductance
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Withdrawn
Application number
JP3676992A
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Japanese (ja)
Inventor
Kenichi Tanigawa
健一 谷川
Shingo Katayama
真吾 片山
Nobuyoshi Tanaka
信嘉 田中
Takao Yamada
孝夫 山田
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Nippon Steel Corp
Original Assignee
Nippon Steel Corp
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01FMAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F17/00Fixed inductances of the signal type 
    • H01F17/0006Printed inductances
    • H01F2017/0053Printed inductances with means to reduce eddy currents

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  • Coils Of Transformers For General Uses (AREA)
  • Insulating Of Coils (AREA)

Abstract

PURPOSE:To raise an inductance and to reduce a temperature rise in a thin inductor/transformer which is formed by piling up a spiral plane coil, an insulating film and a magnetic film on an insulating substrate. CONSTITUTION:An oxide soft magnetic material of large permeability and saturation density is applied to an insulating substrate 1 and/or insulating films 4a, 4b. An oxide soft magnetic material of high electric resistance and small power loss is used for magnetic films 5a, 5b. Since magnetic resistance thereby lowers and magnetic flux density rises in an area near a central part and an area near an outermost side part of spiral plane coils 2a, 2b, an inductance rises. Furthermore, heat generation due to eddy current loss at high frequency is reduced and a temperature rise is reduced by using the oxide soft magnetic material for the magnetic films 5a, 5b instead of a metallic soft magnetic material.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、電源や信号処理用回路
の部品として使用される薄形インダクタ/トランスに関
するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a thin inductor / transformer used as a component of a power supply or a signal processing circuit.

【0002】[0002]

【従来の技術】電子機器の小形、薄形化要求に伴い、電
源や信号処理に用いるインダクタ、トランス等の磁性部
品の小形、薄形化も進められている。
2. Description of the Related Art In response to the demand for smaller and thinner electronic equipment, smaller and thinner magnetic parts such as inductors and transformers used for power supply and signal processing are being advanced.

【0003】焼結フェライトコアに巻線を施した巻線方
式のインダクタ/トランスは、小形化に限界があり、巻
線の代わりに平面コイルを用いる方式の研究が進められ
ており、平面コイルと絶縁膜及び磁性膜を組み合わせて
なる種々の薄形のインダクタやトランスが提案されてい
る。これらの薄形インダクタやトランスは磁性膜と平面
コイルの組合わせにより、平面コイルを磁性膜で取り囲
む形の内部コイル形と、磁性膜を平面コイルで取り囲む
形の外部コイル形に大別される。平面コイルを複数設け
ることにより、トランスが得られる。
A winding type inductor / transformer in which a winding is applied to a sintered ferrite core has a limit in miniaturization, and research into a method of using a plane coil instead of the winding is underway. Various thin inductors and transformers that combine an insulating film and a magnetic film have been proposed. These thin inductors and transformers are roughly classified into an internal coil type in which the planar coil is surrounded by the magnetic film and an external coil type in which the magnetic film is surrounded by the planar coil, depending on the combination of the magnetic film and the planar coil. A transformer can be obtained by providing a plurality of plane coils.

【0004】平面コイルの形状は内部コイル形用として
は典型的な形としてスパイラル状、つづら折れ状等があ
る。また、外部コイル形用としてクロス形や巻線形等が
ある。これらの薄型インダクタ/トランスは絶縁基板上
に形成される。薄形インダクタ(内部コイル形)の1例
として、従来、図1に示す構造のものが知られている。
同図(a)は平面インダクタの平面図であり、同図
(b)はA−A線断面図である。スパイラル状の平面コ
イル2a,2bが絶縁基板1の両面に設けられ、スルー
ホール3を介して電気的に接続されている。平面コイル
2a,2bをそれぞれ絶縁膜4a,4bを介して、磁性
膜5a,5bで挟むことにより、端子6a,6b間にイ
ンダクタが構成されている。平面図中の平面コイル2a
(実線),2b(破線)は、コイル断面の中心線の軌跡
である。
The shape of the plane coil is a spiral shape or a zigzag shape as a typical shape for the inner coil shape. Also, for the external coil type, there are a cross type, a wound type and the like. These thin inductors / transformers are formed on an insulating substrate. As an example of a thin inductor (internal coil type), the one having the structure shown in FIG. 1 is conventionally known.
FIG. 3A is a plan view of the planar inductor, and FIG. 3B is a sectional view taken along the line AA. Spiral plane coils 2a and 2b are provided on both sides of the insulating substrate 1 and are electrically connected through the through holes 3. An inductor is formed between the terminals 6a and 6b by sandwiching the planar coils 2a and 2b with the magnetic films 5a and 5b via the insulating films 4a and 4b, respectively. Planar coil 2a in plan view
(Solid line) and 2b (broken line) are loci of the center line of the coil cross section.

【0005】絶縁基板1には、ポリイミド等の樹脂材料
が用いられており、アルミナ、ジルコニア、窒化アルミ
等のセラミック材料も適用できる。セラミック材料は熱
伝導率が樹脂材料に比べ、100〜1000倍程度大き
いため、平面コイルや磁性膜で損失により発生する熱を
放散し易く、温度上昇を防止するのに適している。放熱
を高めることにより、より大きい電流を平面コイル2
a,2bに流すことが可能となり、より大きいエネルギ
ーを蓄積、変換できる。すなわち、小形化できる(エネ
ルギーは電流の自乗に比例する)。またセラミック材料
は曲げ強度が樹脂材料に比べ、10倍程度大きいため、
同じ厚さで高い耐曲げ性が得られるため、平面コイルま
たは磁性膜が破損したり、磁性膜が曲げ応力を受け、逆
磁歪効果によりインダクタンスが低下するのを防止する
のに適している。
A resin material such as polyimide is used for the insulating substrate 1, and a ceramic material such as alumina, zirconia, or aluminum nitride can also be applied. Since the thermal conductivity of the ceramic material is 100 to 1000 times higher than that of the resin material, it is easy to dissipate the heat generated by the loss in the plane coil and the magnetic film, and is suitable for preventing the temperature rise. By increasing the heat dissipation, the flat coil 2 can generate a larger current.
It becomes possible to flow to a and 2b, and it is possible to store and convert larger energy. That is, it can be miniaturized (energy is proportional to the square of the current). In addition, the bending strength of ceramic materials is about 10 times greater than that of resin materials,
Since high bending resistance can be obtained with the same thickness, it is suitable for preventing the flat coil or the magnetic film from being damaged or the magnetic film being subjected to bending stress to reduce the inductance due to the inverse magnetostriction effect.

【0006】絶縁膜4a,4bは平面コイルに電流を流
した時、磁性膜と導通し、ショートするのを防ぐため設
け、ポリイミド等の高分子フィルムまたはSiO2 、ガ
ラス等の無機膜が適用されている。以上、絶縁基板及び
絶縁膜には、従来、非磁性材料が適用されている。
The insulating films 4a and 4b are provided in order to prevent a short circuit because they are electrically connected to the magnetic film when a current is applied to the plane coil, and a polymer film such as polyimide or an inorganic film such as SiO 2 or glass is applied. ing. As described above, a nonmagnetic material has been conventionally applied to the insulating substrate and the insulating film.

【0007】インダクタ/トランスはエネルギーを蓄
積、変換するためインダクタンスが高いことが要求され
る(エネルギーはインダクタンスに比例する)。しか
し、絶縁基板及び絶縁膜に非磁性材料を用いると、高イ
ンダクタンスを得るのが困難であった。図1に示した構
造の薄形インダクタのスパイラル状平面コイル2a,2
bに電流を流すと、磁束は、主にスパイラル状平面コイ
ル2a,2bの中心部近傍及び最外側部近傍で非磁性の
絶縁基板1及び絶縁膜4a,4bを横切るため、磁気抵
抗が増し、磁束密度が低くなるためインダクタンスが低
下すると推定される。
The inductor / transformer is required to have a high inductance in order to store and convert energy (energy is proportional to the inductance). However, when a non-magnetic material is used for the insulating substrate and the insulating film, it is difficult to obtain high inductance. Spiral planar coils 2a, 2 of the thin inductor having the structure shown in FIG.
When a current is passed through b, the magnetic flux mainly crosses the non-magnetic insulating substrate 1 and the insulating films 4a and 4b near the center and the outermost portions of the spiral planar coils 2a and 2b, so that the magnetic resistance increases. It is presumed that the inductance decreases because the magnetic flux density decreases.

【0008】また、磁性膜5a,5bには、従来、コバ
ルト系、鉄系等各種アモルファス合金、パーマロイ等の
金属軟質磁性材料の膜、箔が適用されている。ところ
が、金属軟質磁性材料は電気抵抗が低いため、薄型イン
ダクタ/トランスを高周波で動作させた場合、渦電流損
失による発熱が大きくなり、温度上昇する問題があっ
た。
As the magnetic films 5a and 5b, films and foils of various soft alloys such as cobalt-based and iron-based amorphous alloys and metal soft magnetic materials such as permalloy have been conventionally used. However, since the soft metal magnetic material has a low electric resistance, when the thin inductor / transformer is operated at a high frequency, there is a problem that the heat generation due to the eddy current loss becomes large and the temperature rises.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、絶縁
基板上に、スパイラル状平面コイル、絶縁膜、磁性膜を
積層することからなる薄形インダクタ/トランスにおい
て、絶縁基板及び/または絶縁膜に透磁率、飽和磁束密
度が大きく、電力損失、残留磁束密度の小さい磁性材料
を用いることにより、スパイラル状平面コイルの中心部
近傍及び最外側部近傍での磁気抵抗を下げ、磁束密度を
高めることにより、インダクタンスが高い薄型インダク
タ/トランスを提供しようとするものである。また、磁
性膜に電気抵抗が高く、電力損失の小さい磁性材料を用
いることにより、高周波での渦電流損失による発熱を小
さくし、温度上昇の小さい薄型インダクタ/トランスを
提供しようとするものである。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide an insulating substrate and / or an insulating film in a thin inductor / transformer comprising a spiral planar coil, an insulating film, and a magnetic film laminated on the insulating substrate. By using a magnetic material with high permeability, high saturation magnetic flux density, low power loss and low residual magnetic flux density, the magnetic resistance near the center and the outermost part of the spiral planar coil can be reduced and the magnetic flux density can be increased. Accordingly, it is intended to provide a thin inductor / transformer having high inductance. Another object of the present invention is to provide a thin inductor / transformer with a small temperature rise by reducing heat generation due to eddy current loss at high frequencies by using a magnetic material having high electric resistance and low power loss for the magnetic film.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の薄型インダクタ/トランスでは、絶縁基板
及び/または絶縁膜としての透磁率、飽和磁束密度が大
きく、電力損失、残留磁束密度の小さい酸化物軟質磁性
材料(ソフトフェライト)を適用する。酸化物軟質磁性
材料としては、Mn−Zn系、Ni−Zn系、Ni−C
u系、Ni−Cu−Zn系等のスピネル系フェライト、
Al置換ガーネット、Gd置換ガーネット等のガーネッ
ト系フェライトがあるが、絶縁性のより高い(比抵抗の
より大きい)Ni−Zn系、Ni−Cu−Zn系を用い
るのが好ましい。
In order to achieve the above object, in the thin inductor / transformer of the present invention, the magnetic permeability and the saturation magnetic flux density of the insulating substrate and / or the insulating film are large, and the power loss and the residual magnetic flux density are large. A small oxide soft magnetic material (soft ferrite) is applied. As the soft oxide magnetic material, Mn-Zn based, Ni-Zn based, Ni-C
u-based, Ni-Cu-Zn-based spinel ferrites,
Although there are garnet-based ferrites such as Al-substituted garnet and Gd-substituted garnet, Ni-Zn-based and Ni-Cu-Zn-based having higher insulation (higher specific resistance) are preferably used.

【0011】また、磁性膜に金属軟質磁性材料の代わり
に、比抵抗の大きい酸化物軟質磁性材料(ソフトフェラ
イト)を適用する。酸化物軟質磁性材料としては、上述
のものがあるが、動作周波数で透磁率、飽和磁束密度が
大きく、電力損失、残留磁束密度の小さい材料を選択す
れば良い。これらの採用により、スパイラル状平面コイ
ルの中心部近傍及び最外側部近傍での磁気抵抗を低く、
磁束密度を高めること及び高周波での渦電流損失による
発熱を低下させることが可能となり、本発明を完成する
に到った。
Instead of the metal soft magnetic material, an oxide soft magnetic material (soft ferrite) having a large specific resistance is applied to the magnetic film. As the soft oxide magnetic material, there are the above-mentioned ones, and a material having a large magnetic permeability and a saturated magnetic flux density at the operating frequency, and a small power loss and a residual magnetic flux density may be selected. By adopting these, the magnetic resistance in the vicinity of the central portion and the outermost portion of the spiral planar coil is low,
The magnetic flux density can be increased and the heat generation due to the eddy current loss at high frequency can be reduced, and the present invention has been completed.

【0012】本発明の薄形インダクタの基本構造は、図
1に示したものである。スパイラル状平面コイルは、イ
ンダクタンス、直流重畳特性、サイズ等に応じて、電気
的に直列に、縦及び/または横に、絶縁膜を介して、立
体的に配置することが可能である。スパイラル状平面コ
イルを並列的に複数設けることにより、トランスが得ら
れる。平面コイル2a,2bは導電層を予め成膜した絶
縁基板1をフォト・エッチングする方法で各種形状に加
工する方法、絶縁基板1上に、導電ペーストを各種形状
にスクリーン印刷後、焼成する方法等で作製できる。導
電層の成膜方法としては、導電箔をプレス加工等により
圧着する方法、電気メッキ、無電解メッキ等により湿式
メッキする方法、溶融メッキ、金属溶射、気相メッキ、
及び真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティ
ング法等の真空メッキ等により乾式メッキする方法等が
ある。本発明で平面コイル2a,2bに適用できる材料
には銅、銀、金、白金、パラジウム、アルミニウム等各
種金属及びそれらの合金系が挙げられる。平面コイル2
a,2bの形状はスパイラル状の他、つづら折れ状及び
それらを組み合わせた形等が可能である。高いインダク
タンスを得るにはスパイラル状コイルを用いるのが有利
である。
The basic structure of the thin inductor of the present invention is that shown in FIG. The spiral planar coil can be three-dimensionally arranged electrically in series, vertically and / or horizontally via an insulating film, depending on the inductance, the DC superposition characteristic, the size, and the like. A transformer is obtained by providing a plurality of spiral planar coils in parallel. The planar coils 2a and 2b are processed into various shapes by a method of photo-etching the insulating substrate 1 on which a conductive layer is formed in advance, a method of screen-printing a conductive paste on the insulating substrate 1 into various shapes, and then firing. Can be made with. As the method for forming the conductive layer, a method of pressing the conductive foil by pressing or the like, a method of wet plating by electroplating, electroless plating, etc., hot dipping, metal spraying, vapor plating,
Also, there is a method of dry plating such as vacuum deposition such as vacuum deposition, sputtering, and ion plating. Materials applicable to the planar coils 2a and 2b in the present invention include various metals such as copper, silver, gold, platinum, palladium, aluminum and alloys thereof. Plane coil 2
The shapes of a and 2b can be a spiral shape, a zigzag shape, or a combination thereof. To obtain a high inductance, it is advantageous to use a spiral coil.

【0013】本発明で絶縁膜4a,4bに適用できる材
料には酸化物軟質磁性材料の他、ポリイミド等の高分子
フィルムまたはSiO2 、ガラス、硬質炭素膜等の無機
膜が可能である。無機物は熱伝導率が高分子に比べ、大
きいため、平面コイルや磁性膜で損失により発生する熱
を放射し易く、温度上昇を防止するのに適している。無
機膜は(フェライトを)ペースト化し、印刷後、焼成す
る方法、電気メッキ、無電解メッキ等により湿式メッキ
する方法、溶融メッキ、溶射、気相メッキ、及び真空蒸
着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の
真空メッキ等により乾式メッキする方法により成膜され
る。
The material applicable to the insulating films 4a and 4b in the present invention may be an oxide soft magnetic material, a polymer film such as polyimide, or an inorganic film such as SiO 2 , glass or hard carbon film. Since the inorganic material has a higher thermal conductivity than the polymer, it is easy to radiate the heat generated by the loss in the plane coil or the magnetic film, and is suitable for preventing the temperature rise. Inorganic film is made into (ferrite) paste, printed and baked, electroplating, wet plating by electroless plating, hot-dip plating, thermal spraying, vapor-phase plating, vacuum deposition method, sputtering method, ion plating The film is formed by a dry plating method such as vacuum plating.

【0014】本発明で磁性膜5a,5bに適用できる
膜、箔(帯、板)には酸化物軟質磁性材料の他、コバル
ト系、鉄系等各種アモルファス合金、アモルファス合金
を結晶化させた超微細組織をもつ軟磁性体、珪素を主に
含む珪素鋼、パーマロイ、パーメンジュール、センダス
ト等の金属軟質性磁性材料等が挙げられる。膜は(フェ
ライトを)ペースト化し、印刷後、焼成する方法、電気
メッキ、無電解メッキ等により湿式メッキする方法、溶
融メッキ、溶射、気相メッキ、及び真空蒸着法、スパッ
タリング法、イオンプレーティング法等の真空メッキ等
により乾式メッキする方法により成膜される。箔(帯、
板)は急冷法及び、金型成形法、圧延加工法、グリーン
シート法等により成形する方法、更に焼成、焼鈍する方
法等により作成される。
The films and foils (strips, plates) applicable to the magnetic films 5a and 5b in the present invention include oxide soft magnetic materials, various amorphous alloys such as cobalt-based and iron-based materials, and super-crystals obtained by crystallizing amorphous alloys. Examples include soft magnetic materials having a fine structure, silicon steel mainly containing silicon, metal soft magnetic materials such as permalloy, permendur, and sendust. The film is made into a paste (ferrite) and printed, then baked, electroplating, electroless plating, wet plating, hot dipping, thermal spraying, vapor phase plating, vacuum deposition, sputtering, ion plating. A film is formed by a method of dry plating such as vacuum plating. Foil (obi,
The plate) is prepared by a quenching method, a molding method, a rolling method, a green sheet method, or the like, and a firing or annealing method.

【0015】[0015]

【実施例1】絶縁基板1に100μm厚さ、組成Ni
0.30Zn0.70Fe2 4 のNi−Zn系フェライト板を
使用し、両面に予め成膜した厚さ10μmのCu層をフ
ォト・エッチングする方法により、スパイラル状の平面
コイル2a,2bを形成した。スパイラル状の平面コイ
ルの絶縁基板各面のスパイラル数38、コイル辺長12
mm、コイル幅、間隔75μm、コイル厚さ10μmであ
る。磁性膜5a,5bとして、単ロール急冷法により作
成した30μm厚さの3種類の組成Fe80.5Si6.5
121 ,Fe78Si1210及びCo70Fe5 Si1510
(atm%)のアモルファス合金薄帯を14mm×14mmの箔
に切断後、焼鈍し、絶縁膜4a,4bとして厚さ20μ
mのポリイミドフィルムを介して、平面コイル1上に積
層した。
Example 1 An insulating substrate 1 having a thickness of 100 μm and a composition of Ni
Spiral planar coils 2a and 2b were formed by using a Ni—Zn ferrite plate of 0.30 Zn 0.70 Fe 2 O 4 and photo-etching a 10 μm-thick Cu layer previously formed on both surfaces. Number of spirals on each side of insulating substrate of spiral flat coil 38, coil side length 12
mm, coil width, spacing 75 μm, coil thickness 10 μm. As the magnetic films 5a and 5b, three compositions with a thickness of 30 μm, Fe 80.5 Si 6.5 B, were prepared by a single roll quenching method.
12 C 1 , Fe 78 Si 12 B 10 and Co 70 Fe 5 Si 15 B 10
(atm%) Amorphous alloy ribbon is cut into 14 mm x 14 mm foil, then annealed to form insulating films 4a and 4b with a thickness of 20μ.
It was laminated on the planar coil 1 through a polyimide film of m.

【0016】得られたインダクタに周波数500kHz 、
振幅1mAの正弦波交流を加え、インダクタンスを測定し
た。 インダクタンス測定値:450〜500μH また、定電流電源を用いて、正弦波交流に100mAの直
流を重畳し、飽和温度を測定した。 測定温度:70℃
The obtained inductor has a frequency of 500 kHz,
A sinusoidal alternating current with an amplitude of 1 mA was applied and the inductance was measured. Inductance measurement value: 450 to 500 μH Further, using a constant current power supply, a direct current of 100 mA was superimposed on the sine wave alternating current, and the saturation temperature was measured. Measurement temperature: 70 ℃

【0017】[0017]

【比較例1】絶縁基板1に100μm厚さのポリイミド
フィルムを使用し、両面に予め成膜した厚さ10μmの
Cu層をフォト・エッチングする方法により、スパイラ
ル状の平面コイル2a,2bを形成した。スパイラル状
の平面コイルの絶縁基板各面のスパイラル数38、コイ
ル辺長12mm、コイル幅、間隔75μm、コイル厚さ1
0μmである。磁性膜5a,5bとして、単ロール急冷
法により作成した30μm厚さの3種類の組成Fe80.5
Si6.5 121 ,Fe78Si1210及びCo70Fe5
Si1510(atm%)のアモルファス合金薄帯を14mm×
14mmの箔に切断後、焼鈍し、絶縁膜4a,4bとして
厚さ20μmのポリイミドフィルムを介して、平面コイ
ル1上に積層した。
[Comparative Example 1] A spiral planar coil 2a, 2b was formed by a method of using a polyimide film having a thickness of 100 µm for an insulating substrate 1 and photo-etching a Cu layer having a thickness of 10 µm previously formed on both surfaces. .. Number of spirals on each side of insulating substrate of spiral planar coil, coil side length 12 mm, coil width, spacing 75 μm, coil thickness 1
It is 0 μm. As the magnetic films 5a and 5b, three kinds of compositions Fe 80.5 having a thickness of 30 μm formed by the single roll quenching method were used.
Si 6.5 B 12 C 1 , Fe 78 Si 12 B 10 and Co 70 Fe 5
Amorphous alloy ribbon of Si 15 B 10 (atm%) 14mm ×
After being cut into 14 mm foil, it was annealed and laminated on the planar coil 1 as the insulating films 4a and 4b via a polyimide film having a thickness of 20 μm.

【0018】得られたインダクタに周波数500kHz 、
振幅1mAの正弦波交流を加え、インダクタンスを測定し
た。 インダクタンス測定値:300〜350μH また、定電流電源を用いて、正弦波交流に100mAの直
流を重畳し、飽和温度を測定した。 測定温度:80℃
The obtained inductor has a frequency of 500 kHz,
A sinusoidal alternating current with an amplitude of 1 mA was applied and the inductance was measured. Inductance measurement value: 300 to 350 μH Further, using a constant current power supply, a direct current of 100 mA was superimposed on the sine wave alternating current, and the saturation temperature was measured. Measurement temperature: 80 ℃

【0019】[0019]

【実施例2】絶縁基板1に100μm厚さ、組成Ni
0.30Zn0.70Fe2 4 のNi−Zn系フェライト板を
使用し、両面に予め成膜した厚さ10μmのCu層をフ
ォト・エッチングする方法により、スパイラル状の平面
コイル2a,2bを形成した。スパイラル状の平面コイ
ルの絶縁基板各面のスパイラル数38、コイル辺長12
mm、コイル幅、間隔75μm、コイル厚さ10μmであ
る。磁性膜5a,5bとして、予め14mm×14mm、1
00μm厚さに成形した、組成(MnO)35(ZnO)
12(Fe2 3 53のMn−Zn系フェライト板を、絶
縁膜4a,4bとして厚さ20μmのポリイミドフィル
ムを介して、平面コイル1上に積層した。
Example 2 An insulating substrate 1 having a thickness of 100 μm and a composition of Ni
Spiral planar coils 2a and 2b were formed by using a Ni—Zn ferrite plate of 0.30 Zn 0.70 Fe 2 O 4 and photo-etching a 10 μm-thick Cu layer previously formed on both surfaces. Number of spirals on each side of insulating substrate of spiral flat coil 38, coil side length 12
mm, coil width, spacing 75 μm, coil thickness 10 μm. As the magnetic films 5a and 5b, 14 mm × 14 mm and 1
Composition (MnO) 35 (ZnO) molded to a thickness of 00 μm
An Mn—Zn-based ferrite plate of 12 (Fe 2 O 3 ) 53 was laminated on the planar coil 1 as the insulating films 4a and 4b via a polyimide film having a thickness of 20 μm.

【0020】得られたインダクタに周波数500kHz 、
振幅1mAの正弦波交流を加え、インダクタンスを測定し
た。 インダクタンス測定値:550μH また、定電流電源を用いて、正弦波交流に100mAの直
流を重畳し、飽和温度を測定した。 測定温度:67℃
The obtained inductor has a frequency of 500 kHz,
A sinusoidal alternating current with an amplitude of 1 mA was applied and the inductance was measured. Inductance measurement value: 550 μH Further, using a constant current power supply, a direct current of 100 mA was superimposed on the sine wave alternating current, and the saturation temperature was measured. Measurement temperature: 67 ° C

【0021】[0021]

【実施例3】絶縁基板1に100μm厚さ、組成Ni
0.30Zn0.70Fe2 4 のNi−Zn系フェライト板を
使用し、両面に予め成膜した厚さ10μmのCu層をフ
ォト・エッチングする方法により、スパイラル状の平面
コイル2a,2bを形成した。スパイラル状の平面コイ
ルの絶縁基板各面のスパイラル数38、コイル辺長12
mm、コイル幅、間隔75μm、コイル厚さ10μmであ
る。磁性膜5a,5bとして、予め14mm×14mm、1
00μm厚さに成形したNi−Zn系(組成Ni0.30
0.70Fe2 4 )、Ni−Cu−Zn系(組成Ni
0.1 Cu0.25Zn0.65Fe2 4 )のフェライト板を平
面コイル1上に積層した。Ni−Zn系、Ni−Cu−
Zn系フェライトは比抵抗が107 Ω・cm程度であるの
で、絶縁膜を設ける必要はない。Mn−Zn系フェライ
トは比抵抗が10〜103 Ω・cm程度であるので、絶縁
膜を設ける必要がある。
Example 3 An insulating substrate 1 having a thickness of 100 μm and a composition of Ni
Spiral planar coils 2a and 2b were formed by using a Ni—Zn ferrite plate of 0.30 Zn 0.70 Fe 2 O 4 and photo-etching a 10 μm-thick Cu layer previously formed on both surfaces. Number of spirals on each side of insulating substrate of spiral flat coil 38, coil side length 12
mm, coil width, spacing 75 μm, coil thickness 10 μm. As the magnetic films 5a and 5b, 14 mm × 14 mm and 1
Ni-Zn system (composition Ni 0.30 Z
n 0.70 Fe 2 O 4 ), Ni-Cu-Zn system (composition Ni
A ferrite plate of 0.1 Cu 0.25 Zn 0.65 Fe 2 O 4 ) was laminated on the plane coil 1. Ni-Zn system, Ni-Cu-
Since Zn-based ferrite has a specific resistance of about 10 7 Ω · cm, it is not necessary to provide an insulating film. Since the specific resistance of Mn-Zn ferrite is about 10 to 10 3 Ω · cm, it is necessary to provide an insulating film.

【0022】得られたインダクタに周波数500kHz 、
振幅1mAの正弦波交流を加え、インダクタンスを測定し
た。 インダクタンス測定値:350〜500μH また、定電流電源を用いて、正弦波交流に100mAの直
流を重畳し、飽和温度を測定した。 測定温度:62℃
The obtained inductor has a frequency of 500 kHz,
A sinusoidal alternating current with an amplitude of 1 mA was applied and the inductance was measured. Inductance measurement value: 350 to 500 μH Further, using a constant current power supply, a direct current of 100 mA was superimposed on a sine wave alternating current, and a saturation temperature was measured. Measurement temperature: 62 ℃

【0023】[0023]

【実施例4】絶縁基板1に100μm厚さ、組成Ni
0.30Zn0.70Fe2 4 のNi−Zn系フェライト板を
使用し、スパイラル状の平面コイル2a,2bをAgペ
ーストをスクリーン印刷後、焼成することにより形成し
た。スパイラル状の平面コイルの絶縁基板各面のスパイ
ラル数38、コイル辺長12mm、コイル幅、間隔75μ
m、コイル厚さ10μmである。絶縁膜4a,4bとし
て、平面コイル2a,2b上に、ガラスペーストをスク
リーン印刷後、焼成することにより、20μm厚さに積
層した。磁性膜5a,5bとして、単ロール急冷法によ
り作成した30μm厚さの3種類の組成Fe80.5Si
6.5 121 ,Fe78Si1210及びCo70Fe5 Si
1510(atm%)のアモルファス合金薄帯を14mm×14
mmの箔に切断後、焼鈍し、絶縁膜の上に積層した。
[Embodiment 4] The insulating substrate 1 has a thickness of 100 μm and a composition of Ni.
Using a 0.30 Zn 0.70 Fe 2 O 4 Ni-Zn ferrite plate, the spiral flat coils 2a and 2b were formed by screen-printing Ag paste and then firing. Number of spirals on each side of insulating substrate of spiral planar coil 38, coil side length 12mm, coil width, spacing 75μ
m, and the coil thickness is 10 μm. As the insulating films 4a and 4b, glass paste was screen-printed on the planar coils 2a and 2b and then baked to be laminated to a thickness of 20 μm. As the magnetic films 5a and 5b, three compositions having a thickness of 30 μm, Fe 80.5 Si, prepared by a single roll quenching method were used.
6.5 B 12 C 1 , Fe 78 Si 12 B 10 and Co 70 Fe 5 Si
15 B 10 (atm%) amorphous alloy ribbon 14 mm x 14
After cutting into a foil of mm, it was annealed and laminated on the insulating film.

【0024】得られたインダクタに周波数500kHz 、
振幅1mAの正弦波交流を加え、インダクタンスを測定し
た。 インダクタンス測定値:450〜500μH また、定電流電源を用いて、正弦波交流に100mAの直
流を重畳し、飽和温度を測定した。 測定温度:65℃
The obtained inductor has a frequency of 500 kHz,
A sinusoidal alternating current with an amplitude of 1 mA was applied and the inductance was measured. Inductance measurement value: 450 to 500 μH Further, using a constant current power supply, a direct current of 100 mA was superimposed on the sine wave alternating current, and the saturation temperature was measured. Measurement temperature: 65 ° C

【0025】[0025]

【比較例2】絶縁基板1に100μm厚さのアルミナ板
を使用し、スパイラル状の平面コイル2a,2bをAg
ペーストをスクリーン印刷後、焼成することにより形成
した。スパイラル状の平面コイルの絶縁基板各面のスパ
イラル数38、コイル辺長12mm、コイル幅、間隔75
μm、コイル厚さ10μmである。絶縁膜4a,4bと
して、平面コイル2a,2b上に、ガラスペーストをス
クリーン印刷後、焼成することにより、20μm厚さに
積層した。磁性膜5a,5bとして、単ロール急冷法に
より作成した30μm厚さの3種類の組成Fe80.5Si
6.5 121 ,Fe78Si1210及びCo70Fe5 Si
1510(atm%)のアモルファス合金薄帯を14mm×14
mmの箔に切断後、焼鈍し、絶縁膜の上に積層した。
COMPARATIVE EXAMPLE 2 A 100 μm thick alumina plate is used as the insulating substrate 1, and the spiral planar coils 2a and 2b are made of Ag.
The paste was screen-printed and then fired to form. Number of spirals on each side of insulating substrate of spiral planar coil, coil side length 12 mm, coil width, interval 75
μm, coil thickness 10 μm. As the insulating films 4a and 4b, glass paste was screen-printed on the planar coils 2a and 2b and then baked to be laminated to a thickness of 20 μm. As the magnetic films 5a and 5b, three compositions having a thickness of 30 μm, Fe 80.5 Si, prepared by a single roll quenching method were used.
6.5 B 12 C 1 , Fe 78 Si 12 B 10 and Co 70 Fe 5 Si
15 B 10 (atm%) amorphous alloy ribbon 14 mm x 14
After cutting into a foil of mm, it was annealed and laminated on the insulating film.

【0026】得られたインダクタに周波数500kHz 、
振幅1mAの正弦波交流を加え、インダクタンスを測定し
た。 インダクタンス測定値:3000〜350μH また、定電流電源を用いて、正弦波交流に100mAの直
流を重畳し、飽和温度を測定した。 測定温度:65℃
The obtained inductor has a frequency of 500 kHz,
A sinusoidal alternating current with an amplitude of 1 mA was applied and the inductance was measured. Inductance measurement value: 3000 to 350 μH Further, using a constant current power supply, a direct current of 100 mA was superimposed on the sine wave alternating current, and the saturation temperature was measured. Measurement temperature: 65 ° C

【0027】[0027]

【実施例5】絶縁基板1に100μm厚さ、組成Ni
0.30Zn0.70Fe2 4 のNi−Zn系フェライト板を
使用し、スパイラル状の平面コイル2a,2bをAgペ
ーストをスクリーン印刷後、焼成することにより形成し
た。スパイラル状の平面コイルの絶縁基板各面のスパイ
ラル数38、コイル辺長12mm、コイル幅、間隔75μ
m、コイル厚さ10μmである。絶縁膜4a,4bとし
て、平面コイル2a,2b上に、Ni−Zn系(組成N
0.30Zn0.70Fe2 4 )、Ni−Cu−Zn系(組
成Ni0.1 Cu0.25Zn0.65Fe2 4 )のフェライト
微粒子(粒径0.1μm)をペースト化したものをスク
リーン印刷後、焼成することにより、20μm厚さに積
層した。磁性膜5a,5bとして、単ロール急冷法によ
り作成した60μm厚さの3種類の組成Fe80.5Si
6.5 121 ,Fe78Si1210及びCo70Fe5 Si
1510(atm%)のアモルファス合金薄帯を14mm×14
mmの箔に切断後、焼鈍し、絶縁膜の上に積層した。
[Embodiment 5] The insulating substrate 1 has a thickness of 100 μm and a composition of Ni.
Using a 0.30 Zn 0.70 Fe 2 O 4 Ni-Zn ferrite plate, the spiral flat coils 2a and 2b were formed by screen-printing Ag paste and then firing. Number of spirals on each side of insulating substrate of spiral planar coil 38, coil side length 12mm, coil width, spacing 75μ
m, and the coil thickness is 10 μm. As the insulating films 4a and 4b, Ni-Zn-based (composition N
i 0.30 Zn 0.70 Fe 2 O 4 ), Ni-Cu-Zn-based (composition Ni 0.1 Cu 0.25 Zn 0.65 Fe 2 O 4 ) ferrite fine particles (particle diameter 0.1 μm) are pasted into a paste, and then baked. By doing so, it was laminated to a thickness of 20 μm. As the magnetic films 5a and 5b, three compositions of Fe 80.5 Si having a thickness of 60 μm prepared by the single roll quenching method were used.
6.5 B 12 C 1 , Fe 78 Si 12 B 10 and Co 70 Fe 5 Si
15 B 10 (atm%) amorphous alloy ribbon 14 mm x 14
After cutting into a foil of mm, it was annealed and laminated on the insulating film.

【0028】得られたインダクタに周波数500kHz 、
振幅1mAの正弦波交流を加え、インダクタンスを測定し
た。 インダクタンス測定値:500〜550μH また、定電流電源を用いて、正弦波交流に100mAの直
流を重畳し、飽和温度を測定した。 測定温度:65℃
The obtained inductor has a frequency of 500 kHz,
A sinusoidal alternating current with an amplitude of 1 mA was applied and the inductance was measured. Inductance measurement value: 500 to 550 μH Further, using a constant current power source, a direct current of 100 mA was superimposed on the sine wave alternating current, and the saturation temperature was measured. Measurement temperature: 65 ° C

【0029】[0029]

【実施例6】絶縁基板1に100μm厚さ、組成Ni
0.30Zn0.70Fe2 4 のNi−Zn系フェライト板を
使用し、スパイラル状の平面コイル2a,2bをAgペ
ーストをスクリーン印刷後、焼成することにより形成し
た。スパイラル状の平面コイルの絶縁基板各面のスパイ
ラル数38、コイル辺長12mm、コイル幅、間隔75μ
m、コイル厚さ10μmである。絶縁膜4a,4bとし
て、平面コイル2a,2b上に、ガラスペーストをスク
リーン印刷後、焼成することにより、20μm厚さに積
層した。磁性膜5a,5bとして、予め14mm×14m
m、100μm厚さに成形した、組成(MnO)35(Z
nO)12(Fe2 3 53のMn−Zn系フェライト板
を、絶縁膜の上に積層した。
[Embodiment 6] The insulating substrate 1 has a thickness of 100 μm and a composition of Ni.
Using a 0.30 Zn 0.70 Fe 2 O 4 Ni-Zn ferrite plate, the spiral flat coils 2a and 2b were formed by screen-printing Ag paste and then firing. Number of spirals on each side of insulating substrate of spiral planar coil 38, coil side length 12mm, coil width, spacing 75μ
m, and the coil thickness is 10 μm. As the insulating films 4a and 4b, glass paste was screen-printed on the planar coils 2a and 2b and then baked to be laminated to a thickness of 20 μm. The magnetic films 5a and 5b are preliminarily 14 mm × 14 m
m (MnO) 35 (Z
A Mn—Zn-based ferrite plate of nO) 12 (Fe 2 O 3 ) 53 was laminated on the insulating film.

【0030】得られたインダクタに周波数500kHz 、
振幅1mAの正弦波交流を加え、インダクタンスを測定し
た。 インダクタンス測定値:550μH また、定電流電源を用いて、正弦波交流に100mAの直
流を重畳し、飽和温度を測定した。
The obtained inductor has a frequency of 500 kHz,
A sinusoidal alternating current with an amplitude of 1 mA was applied and the inductance was measured. Inductance measurement value: 550 μH Further, using a constant current power supply, a direct current of 100 mA was superimposed on the sine wave alternating current, and the saturation temperature was measured.

【0031】測定温度:62℃Measurement temperature: 62 ° C.

【0032】[0032]

【実施例7】絶縁基板1に100μm厚さ、組成Ni
0.30Zn0.70Fe2 4 のNi−Zn系フェライト板を
使用し、スパイラル状の平面コイル2a,2bをAgペ
ーストをスクリーン印刷後、焼成することにより形成し
た。スパイラル状の平面コイルの絶縁基板各面のスパイ
ラル数38、コイル辺長12mm、コイル幅、間隔75μ
m、コイル厚さ10μmである。絶縁膜4a,4bとし
て、平面コイル2a,2b上に、ガラスペーストをスク
リーン印刷後、焼成することにより、20μm厚さに積
層した。磁性膜5a,5bとして、絶縁膜4a,4b上
に、組成(MnO)35(ZnO)12(Fe2 3 53
Mn−Zn系フェライト微粒子(粒径0.1μm)をペ
ースト化したものをスクリーン印刷後、焼成することを
繰り返すことにより、100μm厚さに積層した。
[Embodiment 7] The insulating substrate 1 has a thickness of 100 μm and a composition of Ni.
Using a 0.30 Zn 0.70 Fe 2 O 4 Ni-Zn ferrite plate, the spiral flat coils 2a and 2b were formed by screen-printing Ag paste and then firing. Number of spirals on each side of insulating substrate of spiral planar coil 38, coil side length 12mm, coil width, spacing 75μ
m, and the coil thickness is 10 μm. As the insulating films 4a and 4b, glass paste was screen-printed on the planar coils 2a and 2b and then baked to be laminated to a thickness of 20 μm. As the magnetic films 5a and 5b, Mn—Zn based ferrite fine particles (particle size 0.1 μm) having the composition (MnO) 35 (ZnO) 12 (Fe 2 O 3 ) 53 are pasted on the insulating films 4a and 4b. Was repeatedly screen-printed and then fired to form a laminate having a thickness of 100 μm.

【0033】得られたインダクタに周波数500kHz 、
振幅1mAの正弦波交流を加え、インダクタンスを測定し
た。 インダクタンス測定値:550μH また、定電流電源を用いて、正弦波交流に100mAの直
流を重畳し、飽和温度を測定した。 測定温度:62℃
The obtained inductor has a frequency of 500 kHz,
A sinusoidal alternating current with an amplitude of 1 mA was applied and the inductance was measured. Inductance measurement value: 550 μH Further, using a constant current power supply, a direct current of 100 mA was superimposed on the sine wave alternating current, and the saturation temperature was measured. Measurement temperature: 62 ℃

【0034】[0034]

【実施例8】絶縁基板1に100μm厚さ、組成Ni
0.30Zn0.70Fe2 4 のNi−Zn系フェライト板を
使用し、スパイラル状の平面コイル2a,2bをAgペ
ーストをスクリーン印刷後、焼成することにより形成し
た。スパイラル状の平面コイルの絶縁基板各面のスパイ
ラル数38、コイル辺長12mm、コイル幅、間隔75μ
m、コイル厚さ10μmである。絶縁膜4a,4bとし
て、平面コイル2a,2b上に、ガラスペーストをスク
リーン印刷後、焼成することにより、20μm厚さに積
層した。更に、同様の方法で積層を繰り返し、絶縁基板
1の両面に平面コイルと絶縁膜をそれぞれ3層ずつ積層
した。
[Embodiment 8] The insulating substrate 1 has a thickness of 100 μm and a composition of Ni.
Using a 0.30 Zn 0.70 Fe 2 O 4 Ni-Zn ferrite plate, the spiral flat coils 2a and 2b were formed by screen-printing Ag paste and then firing. Number of spirals on each side of insulating substrate of spiral planar coil 38, coil side length 12mm, coil width, spacing 75μ
m, and the coil thickness is 10 μm. As the insulating films 4a and 4b, glass paste was screen-printed on the planar coils 2a and 2b and then baked to be laminated to a thickness of 20 μm. Further, stacking was repeated in the same manner, and three layers each of the flat coil and the insulating film were stacked on both surfaces of the insulating substrate 1.

【0035】磁性膜5a,5bとして、絶縁膜4a,4
b上に、組成(MnO)35(ZnO)12(Fe2 3
53のMn−Zn系フェライト微粒子(粒径0.1μm)
をペースト化したものをスクリーン印刷後、焼成するこ
とを繰り返すことにより、200μm厚さに積層した。
Insulating films 4a, 4 are used as the magnetic films 5a, 5b.
on b, the composition (MnO) 35 (ZnO) 12 (Fe 2 O 3 )
53 Mn-Zn ferrite fine particles (particle size 0.1 μm)
The paste-formed product was screen-printed and then fired repeatedly to form a laminate having a thickness of 200 μm.

【0036】得られたインダクタに周波数500kHz 、
振幅1mAの正弦波交流を加え、インダクタンスを測定し
た。 インダクタンス測定値:1600μH また、定電流電源を用いて、正弦波交流に100mAの直
流を重畳し、飽和温度を測定した。 測定温度:72℃
The obtained inductor has a frequency of 500 kHz,
A sinusoidal alternating current with an amplitude of 1 mA was applied and the inductance was measured. Inductance measurement value: 1600 μH Further, using a constant current power supply, a direct current of 100 mA was superimposed on a sine wave alternating current, and the saturation temperature was measured. Measurement temperature: 72 ° C

【0037】[0037]

【実施例9】絶縁基板1に100μm厚さ、組成Ni
0.30Zn0.70Fe2 4 のNi−Zn系フェライト板を
使用し、スパイラル状の平面コイル2a,2bをAgペ
ーストをスクリーン印刷後、焼成することにより形成し
た。スパイラル状の平面コイルの絶縁基板各面のスパイ
ラル数38、コイル辺長12mm、コイル幅、間隔75μ
m、コイル厚さ10μmである。絶縁膜4a,4bとし
て、平面コイル2a,2b上に、Ni−Zn系(組成N
0.30Zn0.70Fe2 4 )、Ni−Cu−Zn系(組
成Ni0.1 Cu0.25Zn0.65Fe2 4 )フェライト微
粒子(粒径0.1μm)をペースト化したものをスクリ
ーン印刷後、焼成することにより、20μm厚さに積層
した。磁性膜5a,5bとして、予め14mm×14mm、
100μm厚さに成形した組成(MnO)35(ZnO)
12(Fe2 3 53のMn−Zn系フェライト板を、絶
縁膜の上に積層した。
[Embodiment 9] An insulating substrate 1 having a thickness of 100 μm and a composition of Ni
Using a 0.30 Zn 0.70 Fe 2 O 4 Ni-Zn ferrite plate, the spiral flat coils 2a and 2b were formed by screen-printing Ag paste and then firing. Number of spirals on each side of insulating substrate of spiral planar coil 38, coil side length 12mm, coil width, spacing 75μ
m, and the coil thickness is 10 μm. As the insulating films 4a and 4b, Ni-Zn-based (composition N
i 0.30 Zn 0.70 Fe 2 O 4 ), Ni-Cu-Zn-based (composition Ni 0.1 Cu 0.25 Zn 0.65 Fe 2 O 4 ) ferrite fine particles (particle size 0.1 μm) are pasted and baked after screen printing. By doing so, it was laminated to a thickness of 20 μm. As the magnetic films 5a and 5b, 14 mm × 14 mm,
Composition (MnO) 35 (ZnO) molded to a thickness of 100 μm
A 12 (Fe 2 O 3 ) 53 Mn—Zn ferrite plate was laminated on the insulating film.

【0038】得られたインダクタに周波数500kHz 、
振幅1mAの正弦波交流を加え、インダクタンスを測定し
た。 インダクタンス測定値:600μH また、定電流電源を用いて、正弦波交流に100mAの直
流を重畳し、飽和温度を測定した。
The obtained inductor has a frequency of 500 kHz,
A sinusoidal alternating current with an amplitude of 1 mA was applied and the inductance was measured. Inductance measurement value: 600 μH Further, using a constant current power supply, a direct current of 100 mA was superimposed on the sine wave alternating current, and the saturation temperature was measured.

【0039】測定温度:62℃Measurement temperature: 62 ° C.

【0040】[0040]

【実施例10】絶縁基板1に100μm厚さ、組成Ni
0.30Zn0.70Fe2 4 のNi−Zn系フェライト板を
使用し、スパイラル状の平面コイル2a,2bをAgペ
ーストをスクリーン印刷後、焼成することにより形成し
た。スパイラル状の平面コイルの絶縁基板各面のスパイ
ラル数38、コイル辺長12mm、コイル幅、間隔75μ
m、コイル厚さ10μmである。磁性膜5a,5bとし
て、予め14mm×14mm、100μm厚さに成形したN
i−Zn系(組成Ni0.30Zn0.70Fe2 4 )、Ni
−Cu−Zn系(組成Ni0.1 Cu0.25Zn0.65Fe2
4 )のフェライト板を平面コイル1上に積層した。N
i−Zn系、Ni−Cu−Zn系フェライトは比抵抗が
107 Ω・cm程度であるので、絶縁膜を設ける必要はな
い。Mn−Zn系フェライトは比抵抗が10〜103 Ω
・cm程度であるので、絶縁膜を設ける必要がある。
Example 10 An insulating substrate 1 having a thickness of 100 μm and a composition of Ni
Using a 0.30 Zn 0.70 Fe 2 O 4 Ni-Zn ferrite plate, the spiral flat coils 2a and 2b were formed by screen-printing Ag paste and then firing. Number of spirals on each side of insulating substrate of spiral planar coil 38, coil side length 12mm, coil width, spacing 75μ
m, and the coil thickness is 10 μm. As the magnetic films 5a and 5b, N formed in advance to a thickness of 14 mm × 14 mm and 100 μm is used.
i-Zn system (composition Ni 0.30 Zn 0.70 Fe 2 O 4 ), Ni
-Cu-Zn system (composition Ni 0.1 Cu 0.25 Zn 0.65 Fe 2
A ferrite plate of O 4 ) was laminated on the plane coil 1. N
Since the i-Zn-based and Ni-Cu-Zn-based ferrites have a specific resistance of about 10 7 Ω · cm, it is not necessary to provide an insulating film. Mn-Zn ferrite has a specific resistance of 10 to 10 3 Ω.
・ Since it is about cm, it is necessary to provide an insulating film.

【0041】得られたインダクタに周波数500kHz 、
振幅1mAの正弦波交流を加え、インダクタンスを測定し
た。 インダクタンス測定値:350〜500μH また、定電流電源を用いて、正弦波交流に100mAの直
流を重畳し、飽和温度を測定した。 測定温度:62℃
The obtained inductor has a frequency of 500 kHz,
A sinusoidal alternating current with an amplitude of 1 mA was applied and the inductance was measured. Inductance measurement value: 350 to 500 μH Further, using a constant current power supply, a direct current of 100 mA was superimposed on a sine wave alternating current, and a saturation temperature was measured. Measurement temperature: 62 ℃

【0042】[0042]

【実施例11】絶縁基板1に100μm厚さ、組成Ni
0.30Zn0.70Fe2 4 のNi−Zn系フェライト板を
使用し、スパイラル状の平面コイル2a,2bをAgペ
ーストをスクリーン印刷後、焼成することにより形成し
た。スパイラル状の平面コイルの絶縁基板各面のスパイ
ラル数38、コイル辺長12mm、コイル幅、間隔75μ
m、コイル厚さ10μmである。磁性膜5a,5bとし
て、平面コイル2a,2b上に、Ni−Zn系(組成N
0.30Zn0.70Fe2 4 )、Ni−Cu−Zn系(組
成Ni0.1 Cu0.25Zn0.65Fe2 4 )のフェライト
微粒子(粒径0.1μm)をペースト化したものをスク
リーン印刷後、焼成することを繰り返すことにより、1
00μm厚さに積層した。Ni−Zn系、Ni−Cu−
Zn系フェライトは比抵抗が107 Ω・cm程度であるの
で、絶縁膜を設ける必要はない。Mn−Zn系フェライ
トは比抵抗が10〜103 Ω・cm程度であるので、絶縁
膜を設ける必要がある。
[Embodiment 11] The insulating substrate 1 has a thickness of 100 μm and a composition of Ni.
Using a 0.30 Zn 0.70 Fe 2 O 4 Ni-Zn ferrite plate, the spiral flat coils 2a and 2b were formed by screen-printing Ag paste and then firing. Number of spirals on each side of insulating substrate of spiral planar coil 38, coil side length 12mm, coil width, spacing 75μ
m, and the coil thickness is 10 μm. As the magnetic films 5a and 5b, Ni-Zn based (composition N
i 0.30 Zn 0.70 Fe 2 O 4 ), Ni-Cu-Zn-based (composition Ni 0.1 Cu 0.25 Zn 0.65 Fe 2 O 4 ) ferrite fine particles (particle diameter 0.1 μm) are pasted into a paste, and then baked. By repeating
It was laminated to a thickness of 00 μm. Ni-Zn system, Ni-Cu-
Since Zn-based ferrite has a specific resistance of about 10 7 Ω · cm, it is not necessary to provide an insulating film. Since the specific resistance of Mn-Zn ferrite is about 10 to 10 3 Ω · cm, it is necessary to provide an insulating film.

【0043】得られたインダクタに周波数500kHz 、
振幅1mAの正弦波交流を加え、インダクタンスを測定し
た。 インダクタンス測定値:350〜500μH また、定電流電源を用いて、正弦波交流に100mAの直
流を重畳し、飽和温度を測定した。 測定温度:62℃
The obtained inductor has a frequency of 500 kHz,
A sinusoidal alternating current with an amplitude of 1 mA was applied and the inductance was measured. Inductance measurement value: 350 to 500 μH Further, using a constant current power supply, a direct current of 100 mA was superimposed on a sine wave alternating current, and a saturation temperature was measured. Measurement temperature: 62 ℃

【0044】[0044]

【実施例12】絶縁基板1にNi−Zn系(組成Ni
0.30Zn0.70Fe2 4 )、Ni−Cu−Zn系(組成
Ni0.1 Cu0.25Zn0.65Fe2 4 )のフェライトの
グリーンシートを使用し、その上にスパイラル状平面コ
イル2a,2bをAgペーストをスクリーン印刷するこ
とにより形成した。
Twelfth Embodiment A Ni-Zn-based (composition Ni
0.30 Zn 0.70 Fe 2 O 4 ) and Ni—Cu—Zn-based (composition Ni 0.1 Cu 0.25 Zn 0.65 Fe 2 O 4 ) ferrite green sheets are used, and spiral planar coils 2a and 2b are Ag paste. Was formed by screen printing.

【0045】磁性膜5a,5bとして、平面コイル2
a,2b上に、Ni−Zn系(組成Ni0.30Zn0.70
2 4 )、Ni−Cu−Zn系(組成Ni0.1 Cu
0.25Zn0.65Fe2 4 )のフェライトのグリーンシー
トを積層した。積層体を乾燥し、熱プレスにより圧着
後、乾燥、焼成することによりインダクタを得た。イン
ダクタ中の1対のスパイラル状平面コイルのスパイラル
数38、コイル辺長12mm、コイル幅、間隔75μm、
コイル厚さ10μmである。絶縁基板1、磁性膜5a,
5bに相当するフェライト部分の厚さはそれぞれ同じく
100μmである。Ni−Zn系、Ni−Cu−Zn系
フェライトは比抵抗が107 Ω・cm程度であるので、絶
縁膜を設ける必要はない。
The planar coil 2 is used as the magnetic films 5a and 5b.
Ni-Zn system (composition Ni 0.30 Zn 0.70 F
e 2 O 4 ), Ni-Cu-Zn system (composition Ni 0.1 Cu
Green sheets of ferrite of 0.25 Zn 0.65 Fe 2 O 4 ) were laminated. The laminated body was dried, pressure-bonded with a hot press, dried and fired to obtain an inductor. Number of spirals of a pair of spiral planar coils in the inductor 38, coil side length 12 mm, coil width, spacing 75 μm,
The coil thickness is 10 μm. Insulating substrate 1, magnetic film 5a,
The thickness of the ferrite portion corresponding to 5b is also 100 μm. Since the specific resistance of Ni-Zn based and Ni-Cu-Zn based ferrites is about 10 7 Ω · cm, it is not necessary to provide an insulating film.

【0046】得られたインダクタに周波数500kHz 、
振幅1mAの正弦波交流を加え、インダクタンスを測定し
た。 インダクタンス測定値:350〜500μH また、定電流電源を用いて、正弦波交流に100mAの直
流を重畳し、飽和温度を測定した。 測定温度:62℃
The obtained inductor has a frequency of 500 kHz,
A sinusoidal alternating current with an amplitude of 1 mA was applied and the inductance was measured. Inductance measurement value: 350 to 500 μH Further, using a constant current power supply, a direct current of 100 mA was superimposed on a sine wave alternating current, and a saturation temperature was measured. Measurement temperature: 62 ℃

【0047】[0047]

【発明の効果】本発明は、絶縁基板上に、スパイラル状
平面コイル、絶縁膜、磁性膜を積層することからなる薄
形インダクタ/トランスにおいて、絶縁基板および/ま
たは絶縁膜に透磁率、飽和磁束密度が大きく、電力損
失、残留磁束密度の小さい酸化物軟質磁性材料(ソフト
フェライト)を用いることにより、スパイラル状平面コ
イルの中心部近傍及び最外側部近傍での磁気抵抗下げ、
磁束密度を高めることにより、インダクタンスが高い薄
形インダクタ/トランスが得られる。また、磁性膜に電
気抵抗が高く、電力損失の小さい酸化物軟質磁性材料
(ソフトフェライト)を用いることにより、高周波での
渦電流損失による発熱を小さくし、温度上昇の小さい薄
形インダクタ/トランスが得られる。
According to the present invention, in a thin inductor / transformer comprising a spiral planar coil, an insulating film and a magnetic film laminated on an insulating substrate, the insulating substrate and / or the insulating film have a magnetic permeability and a saturation magnetic flux. By using an oxide soft magnetic material (soft ferrite) with high density, low power loss, and low residual magnetic flux density, the magnetic resistance is reduced near the center and the outermost part of the spiral planar coil.
By increasing the magnetic flux density, a thin inductor / transformer with high inductance can be obtained. In addition, by using an oxide soft magnetic material (soft ferrite) with high electrical resistance and low power loss for the magnetic film, heat generation due to eddy current loss at high frequencies is reduced, and a thin inductor / transformer with low temperature rise is provided. can get.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の薄形インダクタ/トランスの構造例で
あり、(a)は平面図、(b)は断面図である。
FIG. 1 is a structural example of a thin inductor / transformer of the present invention, in which (a) is a plan view and (b) is a sectional view.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 :絶縁基板 2a,2b:スパイラル状平面コイル 3 :スルーホール 4a,4b:絶縁膜 5a,5b:磁性膜 6a,6b:端子 1: Insulating substrate 2a, 2b: Spiral planar coil 3: Through hole 4a, 4b: Insulating film 5a, 5b: Magnetic film 6a, 6b: Terminal

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山田 孝夫 神奈川県川崎市中原区苅宿228番地 株式 会社ユタカ電機製作所内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Takao Yamada 228 Kayajuku, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa Yutaka Electric Manufacturing Co., Ltd.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 酸化物軟質磁性材料(ソフトフェライ
ト)の基板上に、スパイラル状平面コイル、絶縁膜、磁
性膜を積層することからなる薄形インダクタ/トラン
ス。
1. A thin inductor / transformer comprising a spiral planar coil, an insulating film, and a magnetic film laminated on a substrate of an oxide soft magnetic material (soft ferrite).
【請求項2】 請求項1において、絶縁膜が酸化物軟質
磁性材料(ソフトフェライト)である薄形インダクタ/
トランス。
2. The thin inductor according to claim 1, wherein the insulating film is an oxide soft magnetic material (soft ferrite).
Trance.
【請求項3】 請求項1において、磁性膜が酸化物軟質
磁性材料(ソフトフェライト)である薄形インダクタ/
トランス。
3. The thin inductor according to claim 1, wherein the magnetic film is an oxide soft magnetic material (soft ferrite).
Trance.
【請求項4】 請求項1において、絶縁膜および磁性膜
が酸化物軟質磁性材料(ソフトフェライト)である薄形
インダクタ/トランス。
4. The thin inductor / transformer according to claim 1, wherein the insulating film and the magnetic film are oxide soft magnetic materials (soft ferrite).
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