JPH05272967A - レーザー測量機 - Google Patents

レーザー測量機

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JPH05272967A
JPH05272967A JP6855592A JP6855592A JPH05272967A JP H05272967 A JPH05272967 A JP H05272967A JP 6855592 A JP6855592 A JP 6855592A JP 6855592 A JP6855592 A JP 6855592A JP H05272967 A JPH05272967 A JP H05272967A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical system
light source
beam splitter
surveying instrument
semiconductor laser
Prior art date
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Pending
Application number
JP6855592A
Other languages
English (en)
Inventor
Yohei Ogawa
洋平 小川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Topcon Corp
Original Assignee
Topcon Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Topcon Corp filed Critical Topcon Corp
Priority to JP6855592A priority Critical patent/JPH05272967A/ja
Publication of JPH05272967A publication Critical patent/JPH05272967A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 楕円形状を出射する半導体レーザー光源であ
りながら照準を容易に行うことができるレーザー測量機
を提供することを目的とするものである。 【構成】 照準用の半導体レーザー光源11から出射さ
れた楕円ビームを投影する投影光学系4を備え、楕円ビ
ームは投影光学系4の光軸O1を中心にその長径方向が
交差して投影されるように投影光学系4内に分岐光学系
13が設けられている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、レーザービームによ
る平面出し作業ができるセオドライト(トランシット)
等のレーザー測量機に関するものである。
【0002】
【従来の技術】一般に、土木工事等においては、土地を
水平或は設計角度に造成したり、構造物等を水平或は設
計角度に設置したりする際に、角度出し及び平面出し作
業が行なわれることが多い。
【0003】この種の作業に用いる器具としては、例え
ば、装置本体内に照準用の光源を設け、この光源から出
射された光束を測点に設けられた対象物に当てて照準す
るようにしたものが知られている。
【0004】また、このような照準用の光源には、その
照準点を明確にするため真円形状に投影することが望ま
しいため、ヘリウムネオン(He−Ne)等が使用され
ていたが、このヘリウムネオンにあっては、大型でしか
も消費電流が大きいため製品の小型化やパワーの小さい
電池による駆動が不可能であるという問題があり、この
問題を解決するために半導体レーザー光源を照準用の光
源として使用したものがある。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところで、この様な照
準用の光源に半導体レーザー光源を用いたものにあって
は、その特性により楕円形状のビームが出射されるた
め、その中心点の判断が非常に困難で照準点が合わせに
くいという新たな問題が生じていた。
【0006】そこで、この発明は、楕円形状を出射する
半導体レーザー光源でありながら照準を容易に行うこと
ができるレーザー測量機を提供することを目的とするも
のである。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、この目的を達
成するため、楕円ビームを出射する照準用の半導体レー
ザー光源と、前記楕円ビームを投影する投影光学系とを
有するレーザー測量機において、前記楕円ビームは前記
投影光学系の光軸を中心にその長径方向が交差して投影
されるように前記投影光学系内に分岐光学系が設けられ
ていることを要旨とするものである。
【0008】
【作用】このような構成においては、半導体レーザー光
源から照準用の楕円ビームが投影光学系の光軸に沿って
出射される。
【0009】このとき、この楕円ビームは分岐光学系へ
と導かれる楕円ビームと分岐光学系へと導かれない楕円
ビームとがその長径方向が交差した状態で合成されたも
のが投影光学系から出射される。
【0010】
【実施例】以下、本発明を角度測定装置に適用した実施
例を図面に基づいて説明する。
【0011】図1において、角度測定装置1は、図示し
ないベースに水平回動可能且つ垂直回動可能に装着され
た中空の装置本体2と、この装置本体2内に配設された
観測光学系3と、観測光学系3の光路にレーザービーム
を導くための投影光学系4とを有する。
【0012】観測光学系3は、対物レンズ5、ビームス
プリッタ6、内焦レンズ7、ダハプリズム8、焦点鏡
9、接眼レンズ10から大略構成されている。尚、図
中、O1は観測光学系3の光軸である。また、装置本体
1の水平回動角及び垂直回動角は図示を略す角度読取手
段により読み取り可能となっている。この角度読取手段
には周知のものが用いられている。
【0013】投影光学系4は装置本体2内の観測光学系
3から分岐された位置に設けられた半導体レーザー光源
11、コンデンサーレンズ12、半導体レーザー光源か
ら出射された楕円ビームを分岐光学系13に導く光路分
岐手段としてのビームスプリッタ14、全反射ミラー1
5、分岐光学系13に導かれた楕円ビームを投影光学系
4に合成させるための光路合成手段としてのビームスプ
リッタ16、ビームスプリッタ6から大略構成されてい
る。尚、図中、O2は投影光学系4の光軸である。
【0014】この投影光学系4では、半導体レーザー光
源11から出射されてコンデンサーレンズ12により平
行光束とされた楕円ビームは、ビームスプリッタ14を
透過し、全反射ミラー15を介してビームスプリッタ1
6に屈折された後、ビームスプリッタ6により観測光学
系3の光軸O1に沿うように屈折され、対物レンズ5を
経て対象物へと投影される。
【0015】分岐光学系13は、イメージローテータ1
7、全反射ミラー18、ビームスプリッタ16、ビーム
スプリッタ6を備えている。図中、O3は分岐光学系1
3の光軸である。尚、この分岐光学系13の光軸O3と
投影光学系4の光軸O2とはビームスプリッタ16によ
り同軸となるように設定されている。
【0016】イメージローテータ17は、図2及び図3
に示すように、投影光学系4から投影される楕円ビーム
の照準光H1の長径軸に対して分岐光学系13から投影
される楕円ビームの照準光H2の長径軸が直交するよう
に、イメージローテータ17のビーム入射面17aの光
軸O3を通る縦軸Q1が入射楕円ビームBの長径軸Q2
に対して±45゜の何れか一方側に傾斜した(図3では
一方側に傾斜した状態で図示)状態で設けられている。
【0017】分岐光学系13では、半導体レーザー光源
11から出射されてコンデンサーレンズ12により平行
光束とされた後、ビームスプリッタ14に屈折されて分
岐光学系13に導かれた楕円ビームは、イメージローテ
ータ17により光軸O3を中心にその長径軸が90゜回
転させられた後、全反射ミラー18に屈折されてビーム
スプリッタ16に導かれ、このビームスプリッタ16を
透過してビームスプリッタ6により観測光学系3の光軸
O1に沿うように屈折され、対物レンズ5を経て対象物
へと投影される。
【0018】このように、半導体レーザー光源11から
出射された楕円ビームは、コンデンサーレンズ12によ
り平行光束とされた後、ビームスプリッタ14により分
岐され、ビームスプリッタ14を透過した楕円ビーム光
束は全反射ミラー15に反射された後、ビームスプリッ
タ16へと導かれ、ビームスプリッタ14に反射された
楕円ビーム光束はイメージローテータ17により90゜
回転させられた後、全反射ミラー18に反射されてビー
ムスプリッタ16へと導かれる。
【0019】そして、ビームスプリッタ16では、レー
ザ光学系4からの照準光H1と分岐光学系13からの照
準光H2とが各光学系4,13の光軸O2と光軸O3と
が同軸となるように合成され、この合成状態でビームス
プリッタ6、対物レンズ5を経て目標点へと投影され
る。
【0020】また、目標点から反射された反射光束は対
物レンズ5からビームスプリッタ6へと導かれ、ビーム
スプリッタ6を透過して内焦レンズ7、ダハプリズム
8、焦点鏡9、接眼レンズ10へと導かれる。
【0021】この時、装置本体2側の観測者、或は目標
点における観測者には、図2に示した交差状態の照準光
H1,H2が観測される。また、交差した照準光H1,
H2は、その重なり合った状態の中心部分が外周部分よ
りも明るくなるので、その中心点、即ち、照準点Pの確
認が容易となり、この照準光の中心を正確に位置出しす
ることができる。
【0022】
【効果】この発明は、以上説明したように構成したの
で、楕円形状を出射する半導体レーザー光源も照準を容
易に行うことができる。また、レーザー測量機を安価に
製作することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の装置の光学系の実施例を示す概略説明
図である。
【図2】同じく要部の概略説明図である。
【図3】同じくイメージローテータの側面図である。
【符号の説明】
1…角度測定装置(レーザー測量機) 4…投影光学系 11…半導体レーザー光源 13…分岐光学系 O1…光軸 H…楕円ビーム

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 楕円ビームを出射する照準用の半導体レ
    ーザー光源と、前記楕円ビームを投影する投影光学系と
    を有するレーザー測量機において、 前記楕円ビームは前記投影光学系の光軸を中心にその長
    径方向が交差して投影されるように前記投影光学系内に
    分岐光学系が設けられていることを特徴とするレーザー
    測量機。
JP6855592A 1992-03-26 1992-03-26 レーザー測量機 Pending JPH05272967A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6855592A JPH05272967A (ja) 1992-03-26 1992-03-26 レーザー測量機

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6855592A JPH05272967A (ja) 1992-03-26 1992-03-26 レーザー測量機

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH05272967A true JPH05272967A (ja) 1993-10-22

Family

ID=13377127

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6855592A Pending JPH05272967A (ja) 1992-03-26 1992-03-26 レーザー測量機

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JP (1) JPH05272967A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5825555A (en) * 1994-09-19 1998-10-20 Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha Beam projecting apparatus
EP1081460A2 (de) * 1999-08-28 2001-03-07 HILTI Aktiengesellschaft Laseranordnung für ein mehrstrahliges Laserrichtgerät
US6747733B2 (en) 2001-10-30 2004-06-08 Pentax Corporation Electronic distance meter

Cited By (4)

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EP1081460A2 (de) * 1999-08-28 2001-03-07 HILTI Aktiengesellschaft Laseranordnung für ein mehrstrahliges Laserrichtgerät
EP1081460A3 (de) * 1999-08-28 2002-07-24 HILTI Aktiengesellschaft Laseranordnung für ein mehrstrahliges Laserrichtgerät
US6747733B2 (en) 2001-10-30 2004-06-08 Pentax Corporation Electronic distance meter

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