JPH05266791A - Method for forming partition of gas discharge display panel - Google Patents

Method for forming partition of gas discharge display panel

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JPH05266791A
JPH05266791A JP23975692A JP23975692A JPH05266791A JP H05266791 A JPH05266791 A JP H05266791A JP 23975692 A JP23975692 A JP 23975692A JP 23975692 A JP23975692 A JP 23975692A JP H05266791 A JPH05266791 A JP H05266791A
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wall material
layer
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electrode pattern
surface layer
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Yoshitaka Terao
芳孝 寺尾
Ryoichi Masuda
良一 増田
Nobumasa Higemoto
信雅 髭本
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Oki Electric Industry Co Ltd
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Oki Electric Industry Co Ltd
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Abstract

PURPOSE:To form a partition of a gas discharge display panel more finely. CONSTITUTION:A wall material 28 for forming a partition is laminated on an electrode pattern 26, of which surface layer 26b is left as it is dried, so as to contact to the electrode pattern 26. The electrode pattern 26 and the wall material 28 are made of thick film paste. Next, the wall material 28 is heated to decompose the resin included in the wall material 28 over the whole of the wall material 28. Hardness of the surface layer 26b is thereby made higher than the hardness of the wall material 28 and a difference between the hardness of them can be enlarged. Next, patterning is performed to the wall material 28 by the sand blasting method using sand blasting grains having the hardness lower than that of the surface layer 26b and higher than that of the wall material 28 to form a partition. At the time of patterning, the generation of damage of the electrode pattern 26 by the blasting grains is restricted, and while the fine patterning is performed to the wall material 28. Since the partition and the electrode 26 can be burned under the condition that they are made to contact to each other, the peeling of the partition from the electrode pattern 26 can be prevented.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明はガス放電表示パネルの
隔壁を形成する方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for forming barrier ribs of a gas discharge display panel.

【0002】[0002]

【従来の技術】ガス放電表示パネルは、視野角を広くで
きる、コントラスト比を高くできる、薄型のものを作製
できるといった利点を有し、これら利点を生かして、O
A機器等の表示装置に利用されているほか高品位テレビ
への応用が検討されている。
2. Description of the Related Art A gas discharge display panel has the advantages that it can have a wide viewing angle, a high contrast ratio, and can be manufactured to be thin.
In addition to being used as a display device for equipment A, its application to high-definition television is under consideration.

【0003】ガス放電表示パネルの作製では、一般に、
量産性を考慮して厚膜印刷法が用いられている。
In the manufacture of gas discharge display panels, generally,
The thick film printing method is used in consideration of mass productivity.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら厚膜印刷
法では1mm当たり5本の隔壁を形成するのが限界であ
り、従ってその限界以上に画素密度を高精細化すること
はできない。特にフルカラー表示のガス放電表示パネル
では、赤、青及び緑の3種の発光色を各画素毎に得るた
め各色発光用の3つの表示セルが1画素毎に必要とな
り、従ってモノカラー表示のガス放電表示パネルに比し
より微細な隔壁の形成が望まれる。例えば、フルカラー
表示のガス放電表示パネルにおいて、画素個数640×
480ドットの12インチ型パネルを作製する場合に
は、隔壁を1mm当たり8本で形成する必要がある。し
かもこの場合に表示セルの開口率を50%以上とするた
めには、隔壁幅を62.5μm程度としなければならな
い。しかし厚膜印刷法によりこのように微細な隔壁を形
成することはできない。
However, in the thick film printing method, the limit is to form five barrier ribs per 1 mm, and therefore the pixel density cannot be made higher than the limit. Particularly, in a gas discharge display panel for full color display, three display cells for emitting light of each color are required for each pixel in order to obtain three kinds of emission colors of red, blue and green for each pixel. It is desired to form finer partition walls as compared with the discharge display panel. For example, in a gas discharge display panel for full color display, the number of pixels is 640 ×
When manufacturing a 12-inch panel having 480 dots, it is necessary to form eight barrier ribs per mm. Moreover, in this case, in order to set the aperture ratio of the display cell to 50% or more, the partition wall width must be about 62.5 μm. However, such a fine partition wall cannot be formed by the thick film printing method.

【0005】そこでこの出願の出願人はより微細に隔壁
を形成するための方法を検討し、微細な隔壁形成に適し
た方法を特願平2−166038号で提案している。こ
の方法はサンドブラスト法により隔壁を形成する方法で
あって、この方法によれば50μm幅の隔壁を形成する
ことが可能である。以下、図を参照しこの方法につき一
例を挙げて説明する。
Therefore, the applicant of this application examined a method for forming finer partition walls, and proposed a method suitable for forming fine partition walls in Japanese Patent Application No. Hei 2-166038. This method is a method of forming partition walls by a sandblast method, and according to this method, it is possible to form partition walls having a width of 50 μm. An example of this method will be described below with reference to the drawings.

【0006】図3〜図4はこの出願人に係る隔壁形成方
法の工程を概略的に示す要部断面図である。まず図3
(A)にも示すように、電極パターン例えば陰極パター
ン10を厚膜印刷法により基板12上に形成する。次い
で陰極パターン10を乾燥させたのち焼成する。
3 to 4 are cross-sectional views of relevant parts schematically showing steps of the partition wall forming method according to the applicant. First, Fig. 3
As shown in (A), an electrode pattern such as a cathode pattern 10 is formed on the substrate 12 by a thick film printing method. Next, the cathode pattern 10 is dried and then baked.

【0007】次に図3(B)にも示すように、耐サンド
ブラスト性を有するバッファ層14及びバッファ層14
を壁材が含む溶剤から保護するための保護層16を、順
次に、陰極パターン10上に形成する。
Next, as shown in FIG. 3B, the buffer layer 14 and the buffer layer 14 having sandblast resistance.
A protective layer 16 for protecting the film from the solvent contained in the wall material is sequentially formed on the cathode pattern 10.

【0008】次に図3(C)にも示すように、壁材18
を厚膜印刷法により積層する。この際、壁材18の印刷
及び乾燥を繰り返し行うことによって、壁材18を所定
の高さまで積層する。
Next, as shown in FIG. 3C, the wall material 18
Are laminated by a thick film printing method. At this time, by repeatedly printing and drying the wall material 18, the wall material 18 is laminated to a predetermined height.

【0009】次に図3(D)にも示すように、耐サンド
ブラスト性を有するレジスト20及びタック防止層22
を、順次に、壁材18上に形成する。レジスト20をパ
ターニングする際マスクをレジスト20に密着させて露
光すると、レジスト20がマスクに付着して剥れるおそ
れがあるので、これを防止するためにタック防止層22
を用いる。
Next, as shown in FIG. 3D, a resist 20 having a sandblast resistance and a tack preventing layer 22 are provided.
Are sequentially formed on the wall member 18. When the resist 20 is patterned, if the mask is brought into close contact with the resist 20 and exposed, the resist 20 may be attached to the mask and peeled off.
To use.

【0010】次に図4(A)にも示すように、レジスト
20及びタック防止層22をマスクを用いて露光するこ
とによりパターニングし、所定形状にパターニングされ
たレジスト20のパターン20a及びタック防止層22
のパターン22aを得る。
Next, as shown in FIG. 4A, the resist 20 and the tack preventive layer 22 are patterned by exposing using a mask, and the pattern 20a of the resist 20 and the tack preventive layer which are patterned into a predetermined shape. 22
Pattern 22a is obtained.

【0011】次に図4(B)にも示すように、パターン
20a及び22aをマスクとして壁材18にサンドブラ
スト用のAl2 3 粒子を供給し、マスクで覆われてい
ない壁材18部分をタック防止層16に至る深さまで除
去し、壁材18の残存部分から成る隔壁18aを得る。
Next, as shown in FIG. 4B, Al 2 O 3 particles for sandblast are supplied to the wall material 18 using the patterns 20a and 22a as masks to remove the wall material 18 portion not covered with the mask. It is removed to a depth reaching the tack prevention layer 16 to obtain the partition wall 18a made of the remaining portion of the wall material 18.

【0012】次に図4(C)にも示すように、隔壁18
aを焼成する。この焼成により、それぞれ有機材料から
成るパターン20a,22a、バッファ層14及び保護
層16を燃焼させ除去する。
Next, as shown in FIG. 4C, the partition wall 18
b. By this firing, the patterns 20a and 22a, the buffer layer 14 and the protective layer 16 each made of an organic material are burned and removed.

【0013】しかしながら隔壁18aを焼成した際に、
バッファ層14を必ずしも充分に除去することができず
そのため陰極パターン10及び隔壁18aとの間の密着
力が弱くなり隔壁18aが陰極パターン10から剥れ落
ちてしまうこともあった。また隔壁18aを焼成した際
に、レジスト20のパターン22aを必ずしも充分に除
去できず残存するパターン22aがガス放電表示パネル
の表示品質を劣化させることもあった。
However, when the partition wall 18a is fired,
Since the buffer layer 14 could not always be removed sufficiently, the adhesion between the cathode pattern 10 and the partition wall 18a was weakened, and the partition wall 18a sometimes peeled off from the cathode pattern 10. Further, when the partition wall 18a is baked, the pattern 22a of the resist 20 cannot always be sufficiently removed, and the remaining pattern 22a may deteriorate the display quality of the gas discharge display panel.

【0014】この発明は上述した点に鑑み成されたもの
であり、この発明の目的はバッファ層を設けないで隔壁
をサンドブラスト法で形成しても電極パターンの損傷を
防止できるガス放電表示パネルの隔壁形成方法を提供す
ることにある。
The present invention has been made in view of the above points, and an object of the present invention is to provide a gas discharge display panel capable of preventing damage to an electrode pattern even if a partition wall is formed by a sandblast method without providing a buffer layer. It is to provide a method for forming a partition wall.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】この目的の達成を図るた
め、この発明のガス放電表示パネルの隔壁形成方法は、
基板上に、電極パターン形成用厚膜ペーストを印刷し、
少なくとも表層を乾燥させたままにした電極パターンを
形成する工程と、表層を乾燥させたままの電極パターン
上に、当該電極パターンと接触させて隔壁形成用厚膜ペ
ーストを印刷して、壁材積層体を形成する工程と、壁材
積層体上に耐サンドブラスト性を有するレジストパター
ンを形成する工程と、レジストパターンを形成した壁材
積層体を焼成温度よりも低い温度で加熱し壁材積層体の
ほぼ全体にわたり壁材積層体が含む樹脂を分解する工程
と、電極パターンの表層よりも硬度が低く全体にわたり
樹脂を分解した壁材積層体よりも硬度が高いブラスト粒
子を用いたサンドブラスト法により壁材積層体をパター
ニングして、隔壁を形成する工程と、レジストパターン
を隔壁から除去する工程と、電極パターンの少なくとも
表層及び隔壁を焼成する工程とを含むことを特徴とす
る。
In order to achieve this object, a method for forming barrier ribs of a gas discharge display panel according to the present invention comprises:
Print the thick film paste for electrode pattern formation on the substrate,
At least a step of forming an electrode pattern in which the surface layer is kept dry, and a partition wall forming thick film paste is printed on the electrode pattern in which the surface layer is kept dry, in contact with the electrode pattern to laminate the wall material. A step of forming a body, a step of forming a resist pattern having a sandblasting resistance on the wall material laminate, and heating the wall material laminate having the resist pattern formed thereon at a temperature lower than the firing temperature. A process of decomposing the resin contained in the wall material laminate almost all over, and a wall material by the sand blast method using blast particles having a hardness lower than the surface layer of the electrode pattern and higher than the wall material laminate decomposing the resin throughout A step of patterning the laminated body to form a partition, a step of removing the resist pattern from the partition, and a step of baking at least the surface layer of the electrode pattern and the partition. Characterized in that it comprises a step of.

【0016】[0016]

【作用】このような隔壁形成方法によれば、少なくとも
表層を乾燥させたままの電極パターン上に、当該電極パ
ターンと接触させて壁材積層体を形成する。次いでこの
壁材積層体の全体にわたり壁材積層体が含む樹脂を分解
する。これら厚膜ペーストを用いて形成された電極パタ
ーン及び壁材積層体においては、このように表層を乾燥
させたままの電極パターン上に壁材積層体を形成してか
ら壁材積層体が含む樹脂を分解することにより、電極パ
ターン表層の硬度を壁材積層体の硬度よりも高くしかつ
これらの硬度差を大きくすることができる。これは壁材
積層体の加熱温度及び又は加熱時間を任意好適に調整す
ることによって、達成できる。従ってサンドブラスト法
で壁材積層体のパターニングに用いるブラスト粒子の硬
度を、電極パターン表層の硬度よりも低くかつ壁材積層
体の硬度よりも高くすることにより、電極パターンがブ
ラスト粒子で損傷するのを抑止しつつ壁材をパターニン
グすることができる。
According to such a partition forming method, the wall material laminate is formed on the electrode pattern in which at least the surface layer has been dried, in contact with the electrode pattern. Next, the resin contained in the wall material laminate is decomposed over the entire wall material laminate. In the electrode pattern and the wall material laminate formed using these thick film pastes, the resin contained in the wall material laminate after the wall material laminate is formed on the electrode pattern with the surface layer thus dried. By decomposing, the hardness of the electrode pattern surface layer can be made higher than the hardness of the wall material laminate and the difference in hardness between them can be increased. This can be achieved by appropriately adjusting the heating temperature and / or the heating time of the wall material laminate. Therefore, by making the hardness of the blast particles used for patterning the wall material laminate by the sand blast method lower than the hardness of the electrode pattern surface layer and higher than the hardness of the wall material laminate, the electrode pattern is prevented from being damaged by the blast particles. The wall material can be patterned while suppressing.

【0017】電極パターン表層の硬度を壁材積層体全体
の硬度よりも高くしかつこれらの硬度差を大きくするこ
とができる理由は必ずしも定かではないが、その主たる
理由としては、電極パターンの乾燥させたままの表層に
は壁材積層体の樹脂を分解したのちも厚膜ペーストの樹
脂が分解せずに残存していること、一方、壁材積層体は
これが含む厚膜ペーストの樹脂を分解することにより非
常に脆くなることの二点が考えられる。
The reason why the hardness of the surface layer of the electrode pattern can be made higher than the hardness of the entire wall material laminate and the difference between these hardnesses can be increased is not always clear, but the main reason therefor is to dry the electrode pattern. The resin of the thick film paste remains undecomposed even after the resin of the wall material laminate is decomposed on the surface layer as it is, while the wall material laminate decomposes the resin of the thick film paste contained in it. There are two points that it becomes very brittle.

【0018】また壁材積層体を電極パターンと接触させ
て形成し、その後壁材積層体をパターニングして隔壁を
形成する。従って隔壁及び電極パターンの表層を接触さ
せたままこれらを焼成できるので、隔壁が電極パターン
から剥れ落ちるのを防止するに足りる充分な密着力を、
隔壁及び電極パターンの間で得られる。
Further, the wall material laminate is formed in contact with the electrode pattern, and then the wall material laminate is patterned to form partition walls. Therefore, since these can be fired while the partition wall and the surface layer of the electrode pattern are in contact with each other, a sufficient adhesive force sufficient to prevent the partition wall from peeling off from the electrode pattern,
Obtained between the partition and the electrode pattern.

【0019】[0019]

【実施例】以下、図面を参照し、この発明の実施例につ
き説明する。尚、図面はこの発明が理解できる程度に概
略的に示してあるにすぎず、従ってこの発明を図示例に
限定するものではない。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. It should be noted that the drawings are merely schematic representations so that the present invention can be understood, and therefore the present invention is not limited to the illustrated examples.

【0020】図1〜図2はこの発明の実施例の説明に供
する工程図であり、これら図においては主要工程を断面
図で段階的に示す。
1 to 2 are process drawings for explaining the embodiments of the present invention. In these drawings, main processes are shown stepwise in cross-sectional views.

【0021】まず図1(A)にも示すように、基板24
上に、電極パターン形成用厚膜ペーストを印刷し、少な
くとも表層を乾燥させたままにした電極パターン26を
形成する。
First, as shown in FIG. 1A, the substrate 24
A thick film paste for forming an electrode pattern is printed thereon to form an electrode pattern 26 in which at least the surface layer is left dry.

【0022】この実施例では、電極パターン26を第一
層26a及び第二層26bから成る2層構造とする。こ
のため例えば、基板24上に第一層形成用のNi厚膜ペ
ースト(Dupon社製 #9535)を印刷し、この
ペーストを乾燥温度150℃で1時間の間加熱して乾燥
させ次いで焼成温度530℃で10分の間加熱して焼成
し、所定のパターン形状を有する焼成済の第一層26a
を得る。次に第一層26a上に第二層形成用のCaLa
CrO3 厚膜ペースト(東洋インキ社製)を印刷し、こ
のペーストを乾燥温度135℃で10分の間加熱して乾
燥させ、所定のパターン形状を有する乾燥させたままの
第二層26bを得る。電極パターン形成用の厚膜ペース
トの成分は主として導電性粒子(Ni粒子或はCaLa
CrO3粒子)、鉛ガラス、樹脂及び溶剤であり、従っ
て、印刷した第一層26a及び第二層26bの成分は主
として導電性粒子(Ni粒子或はCaLaCrO3
子)、鉛ガラス、樹脂及び溶剤である。乾燥させた第一
層26a及び第二層26bの成分は主として導電性粒
子、鉛ガラス及び樹脂となる。また焼成した第一層26
aの成分は主として導電性粒子及び鉛ガラスであり、焼
成した第一層26a中では複数の導電性粒子が鉛ガラス
によって結合された状態となっている。
In this embodiment, the electrode pattern 26 has a two-layer structure composed of a first layer 26a and a second layer 26b. Therefore, for example, a Ni thick film paste (# 9535 manufactured by Dupont) for forming the first layer is printed on the substrate 24, and the paste is heated at a drying temperature of 150 ° C. for 1 hour to be dried, and then a baking temperature of 530. The first layer 26a which has been baked by heating at 10 ° C. for 10 minutes and having a predetermined pattern shape
To get Next, CaLa for forming the second layer is formed on the first layer 26a.
A CrO 3 thick film paste (manufactured by Toyo Ink Co., Ltd.) is printed, and the paste is heated at a drying temperature of 135 ° C. for 10 minutes to be dried to obtain an as-dried second layer 26b having a predetermined pattern shape. .. The components of the thick film paste for forming the electrode pattern are mainly conductive particles (Ni particles or CaLa).
CrO 3 particles), lead glass, resin and solvent, and thus the components of the printed first layer 26a and second layer 26b are mainly conductive particles (Ni particles or CaLaCrO 3 particles), lead glass, resin and solvent. Is. The components of the dried first layer 26a and second layer 26b are mainly conductive particles, lead glass and resin. Also fired first layer 26
The component a is mainly conductive particles and lead glass, and a plurality of conductive particles are bonded by the lead glass in the fired first layer 26a.

【0023】CaLaCrO3 は仕事関数が低いためガ
ス放電表示パネルの放電電圧を低減するのに役立つ。し
かしCaLaCrO3 は抵抗が高いので電極パターン2
6全体をCaLaCrO3 厚膜ペーストから形成したの
では電極パターン26の配線抵抗が高まる。そこで配線
抵抗を下げるため、第一層26aをNi厚膜ペーストを
用いて形成する。
Since CaLaCrO 3 has a low work function, it is useful for reducing the discharge voltage of the gas discharge display panel. However, CaLaCrO 3 has high resistance, so electrode pattern 2
If the whole 6 is formed from the CaLaCrO 3 thick film paste, the wiring resistance of the electrode pattern 26 increases. Therefore, in order to reduce the wiring resistance, the first layer 26a is formed using a Ni thick film paste.

【0024】この例では、電熱パータン26の上面の表
層部分を乾燥させたままの第二層26bとし電極パター
ン26の残りの部分を焼成済の第二層26bとし、第一
層26a及び第二層26bの形成材料を異ならせたが、
少なくとも表層を乾燥させた電極パターン26を形成す
るのであればこの例のものに限定されず、このほか例え
ば第一及び第二層26a及び26bの形成材料を同じ種
類とし焼成済の第一層26a及び乾燥させたままの第二
層26bを形成し、或は電極パターン26全体を乾燥さ
せたままの一層で構成するようにしてもよい。
In this example, the surface layer portion on the upper surface of the electrothermal pattern 26 is the second layer 26b which is still dried, and the remaining portion of the electrode pattern 26 is the second layer 26b which has been fired, and the first layer 26a and the second layer 26b. Although the forming material of the layer 26b is different,
The present invention is not limited to this example as long as at least the surface layer is dried to form the electrode pattern 26. In addition, for example, the first and second layers 26a and 26b are formed of the same material and the first layer 26a is baked. Alternatively, the second layer 26b that has been dried may be formed, or the entire electrode pattern 26 may be composed of one layer that has been dried.

【0025】次に図1(B)にも示すように、少なくと
も表層を乾燥させたままの電極パターン26上に、当該
電極パターン26と接触させて隔壁形成用厚膜ペースト
を印刷して、壁材積層体28を形成する。
Next, as shown in FIG. 1B, the partition wall forming thick film paste is printed on the electrode pattern 26, at least the surface layer of which has been dried, in contact with the electrode pattern 26 to form a wall. The material laminated body 28 is formed.

【0026】この実施例では、壁材積層体2を白色層2
8a及び黒色層28bから成る2層構造とする。このた
め例えば、電極パターン26の第一層26a上に白色層
形成用のガラス厚膜ペースト(日本電気ガラス社製)を
ベタ印刷し、このペーストを乾燥温度135℃で10分
の間加熱して乾燥させる。そして印刷及び乾燥を繰り返
し行い、180μmの高さを有する乾燥させたままの白
色層28aを得る。次に白色層28a上に黒色層形成用
のガラス厚膜ペースト(住友金属社製)をベタ印刷し、
このペーストを乾燥温度135℃で10分間加熱して乾
燥させ、20μmの高さを有する乾燥させたままの黒色
層28bを得る。この時の白色層28a及び黒色層28
bから成る壁材積層体の高さは200μmとなる。壁材
積層体形成用の厚膜ペーストの成分は主として鉛ガラ
ス、樹脂及び溶剤であり、従って、印刷した白色層28
a及び黒色層28bの成分は主として鉛ガラス、樹脂及
び溶剤であり、乾燥させた白色層28a及び黒色層28
bの成分は主として鉛ガラス及び樹脂である。
In this embodiment, the wall material laminate 2 is replaced with the white layer 2.
A two-layer structure composed of 8a and a black layer 28b is adopted. Therefore, for example, a glass thick film paste (made by Nippon Electric Glass Co., Ltd.) for forming a white layer is solid-printed on the first layer 26a of the electrode pattern 26, and the paste is heated at a drying temperature of 135 ° C. for 10 minutes. dry. Then, printing and drying are repeated to obtain an as-dried white layer 28a having a height of 180 μm. Next, a glass thick film paste (made by Sumitomo Metal Co., Ltd.) for forming a black layer is solid-printed on the white layer 28a,
This paste is dried by heating at a drying temperature of 135 ° C. for 10 minutes to obtain an as-dried black layer 28b having a height of 20 μm. White layer 28a and black layer 28 at this time
The height of the wall material laminate made of b is 200 μm. The components of the thick film paste for forming the wall laminate are mainly lead glass, resin and solvent, and thus the printed white layer 28
The components of a and black layer 28b are mainly lead glass, resin and solvent, and dried white layer 28a and black layer 28
The components of b are mainly lead glass and resin.

【0027】積層し終えた壁材積層体28の最上層は黒
色層28a及び残りの部分は白色層28aであるので、
壁材積層体28上にレジストパターンを形成する工程に
おいては黒色層28a上にレジストパターンを形成する
こととなる。従ってレジストの露光時に壁材積層体28
によるハレーションを防止でき、この結果、微細なレシ
ストパターンを形成することができる。さらにこれら白
色層28a及び黒色層28bを電極パターン上に順次に
形成するので、これら層28a及び28bを用いて形成
した隔壁を備えるカラー或はモノクロ表示用ガス放電表
示パネルにおいては、放電発光させた際に隔壁の白色層
部分で紫外線を反射し発光効率を高めることができる。
またガス放電表示パネルの表示面を見た場合に隔壁の黒
色層部分がブラックストライプとなるので表示のコント
ラストを高めることができる。
Since the uppermost layer of the laminated wall material laminate 28 is the black layer 28a and the remaining portion is the white layer 28a,
In the step of forming the resist pattern on the wall material laminate 28, the resist pattern is formed on the black layer 28a. Therefore, when the resist is exposed, the wall material laminate 28
It is possible to prevent halation due to, and as a result, it is possible to form a fine resist pattern. Further, since the white layer 28a and the black layer 28b are sequentially formed on the electrode pattern, the gas discharge display panel for color or monochrome display provided with the partition wall formed by using the layers 28a and 28b is caused to emit discharge. At this time, ultraviolet rays can be reflected by the white layer portion of the partition wall to improve the luminous efficiency.
Further, when the display surface of the gas discharge display panel is viewed, the black layer portion of the partition wall becomes a black stripe, so that the display contrast can be enhanced.

【0028】この例では、壁材積層体28を白色層28
aと黒色層28bからなる二層構造としたが、壁材積層
体28をこれに限定するものではなく、このほか例え
ば、壁材積層体28を黒色層28bのみ或は白色層28
aのみとしてもよい。また、上記例では基板24を放電
表示パネルの背面板として用いた例であるが、基板24
を前面板として用いた場合は電極パターン上に形成する
壁材積層体28を、最下層として黒色層、中間層として
白色層、最上層として黒色層を順次積層した構造として
もよい。この場合、壁材積層体の、最下層がブラックス
トライプ層となり、最上層はハレーション防止層とな
る。
In this example, the wall material laminate 28 is replaced with the white layer 28.
Although the two-layer structure composed of a and the black layer 28b is adopted, the wall material laminate 28 is not limited to this, and, for example, the wall material laminate 28 may be the black layer 28b only or the white layer 28.
Only a may be used. In the above example, the substrate 24 is used as the back plate of the discharge display panel.
When is used as the front plate, the wall material laminate 28 formed on the electrode pattern may have a structure in which a black layer as the lowermost layer, a white layer as the intermediate layer, and a black layer as the uppermost layer are sequentially laminated. In this case, the lowermost layer of the wall material laminate is the black stripe layer and the uppermost layer is the antihalation layer.

【0029】次に図1(C)にも示すように、壁材積層
体28上に耐サンドブラスト性を有するレジストパター
ン30を形成する。
Next, as shown in FIG. 1C, a resist pattern 30 having sandblast resistance is formed on the wall material laminate 28.

【0030】この実施例では、レジストパターン30と
壁材積層体28との密着力を強めるため、壁材積層体2
8の表層(この例では黒色層28a)に粗面を形成す
る。このため壁材積層体28を焼成温度よりも低い温度
で加熱して壁材積層体28の表層を除く部分の樹脂を分
解しないように壁材積層体28の表層の樹脂を分解す
る。壁材積層体28の加熱温度及び又は加熱時間を任意
好適に調整することにより、壁材積層体28の表層を除
く部分及び電極パターン26の第二層26bの樹脂を分
解せずに壁材積層体28の表層の樹脂を分解することが
できる。例えば壁材積層体28を加熱温度145℃で2
0分の間加熱(プリベーク)すればよい。樹脂は例えば
エチルセルロース樹脂である。エチルセルロース樹脂
は、通常、100万程度の分子鎖を有し、150℃以上
の温度で加熱することによりその分子鎖は1万〜100
0程度に変化し従ってエチルセルロース樹脂の分解が起
こる。この樹脂の分解により壁材積層体28の表層は脆
くなり表層に粗面が形成される。壁材積層体28の全体
にわたり樹脂を分解すると、壁材積層体28が脆く崩れ
易くなるので壁材積層体28上にレジストパターン30
を形成することが困難になる。従って壁材積層体28の
表層以外の樹脂を分解しないようにするのがよい。次い
で表層に粗面を形成した壁材積層体28上にレジスト
(東京応化社製 ORDYL BF−200 ドライフ
ィルムタイプ)を厚さ50μmに塗布し、このレジスト
をフォトリソ工程で現像、露光しパターニングしてレジ
ストパターン30を得る。レジストパターン30は幅5
0μmのストライブ状パターンである。複数のレジスト
パターン30を並列配置し、壁材積層体28の隔壁を形
成すべき部分をレジストパターン30で覆い壁材積層体
28のそれ以外の他の部分を露出させる。
In this embodiment, in order to strengthen the adhesion between the resist pattern 30 and the wall material laminate 28, the wall material laminate 2
A rough surface is formed on the surface layer of No. 8 (black layer 28a in this example). Therefore, the wall material laminate 28 is heated at a temperature lower than the firing temperature to decompose the resin in the surface layer of the wall material laminate 28 so as not to decompose the resin in the portion other than the surface layer of the wall material laminate 28. By appropriately adjusting the heating temperature and / or the heating time of the wall material laminate 28, the wall material laminate without decomposing the resin of the portion other than the surface layer of the wall material laminate 28 and the second layer 26b of the electrode pattern 26. The resin on the surface layer of the body 28 can be decomposed. For example, the wall material laminate 28 is heated at 145 ° C. for 2
It may be heated (pre-baked) for 0 minutes. The resin is, for example, ethyl cellulose resin. The ethyl cellulose resin usually has a molecular chain of about 1 million, and when heated at a temperature of 150 ° C. or higher, the molecular chain has a molecular weight of 10,000 to 100.
It changes to about 0 and therefore the decomposition of the ethylcellulose resin occurs. By the decomposition of the resin, the surface layer of the wall material laminate 28 becomes brittle and a rough surface is formed on the surface layer. When the resin is decomposed over the entire wall material laminate 28, the wall material laminate 28 becomes brittle and easily collapses. Therefore, the resist pattern 30 is formed on the wall material laminate 28.
Is difficult to form. Therefore, it is preferable not to decompose the resin other than the surface layer of the wall material laminate 28. Next, a resist (ORDYL BF-200 dry film type manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) having a thickness of 50 μm is applied onto the wall material laminate 28 having a rough surface, and the resist is developed, exposed and patterned by a photolithography process. A resist pattern 30 is obtained. The resist pattern 30 has a width of 5
It is a stripe pattern of 0 μm. A plurality of resist patterns 30 are arranged in parallel, and the portion of the wall material laminate 28 where the partition walls are to be formed is covered with the resist pattern 30 to expose the other portions of the wall material laminate 28.

【0031】この例では、壁材積層体28の表層に粗面
を形成しこの粗面上にレジストパターンを形成するよう
にしたが、これに限定されるものではなく、このほか例
えば壁材積層体28の表層に粗面を形成せずレジストパ
ターン30を形成するようにしてもよい。
In this example, a rough surface is formed on the surface layer of the wall material laminate 28, and the resist pattern is formed on this rough surface. However, the invention is not limited to this and, for example, a wall material laminate. The resist pattern 30 may be formed without forming a rough surface on the surface layer of the body 28.

【0032】次に、レジストパターン30を形成した壁
材積層体28を焼成温度よりも低い温度で加熱し壁材積
層体28のほぼ全体にわたり壁材積層体28が含む樹脂
を分解する。
Next, the wall material laminate 28 on which the resist pattern 30 is formed is heated at a temperature lower than the firing temperature to decompose the resin contained in the wall material laminate 28 over substantially the entire wall material laminate 28.

【0033】この実施例では、例えば加熱温度150℃
で30分の間壁材積層体28を加熱(ポストベーク)す
ることにより壁材積層体28全体にわたり壁材積層体2
8の樹脂を分解する。壁材積層体28の加熱温度及び又
は加熱時間を任意好適に調整することによって、電極パ
ターン26の第二層26bの樹脂を分解させないまま残
存させつつ壁材積層体28全体の樹脂を分解することが
できる。上述したように樹脂の分解により壁材積層体2
8は非常に脆くなりまた電極パターン26の第二層26
bの樹脂を残存させたままにすることにより、電極パタ
ーン26の第二層26bの硬度を壁材積層体28全体の
硬度よりも高くしかつこれらの硬度差を大きくすること
ができる、と考えられる。
In this embodiment, for example, the heating temperature is 150 ° C.
By heating (post-baking) the wall material laminate 28 for 30 minutes, the entire wall material laminate 28 is covered with the wall material laminate 2
8. Decompose the resin of 8. By appropriately and appropriately adjusting the heating temperature and / or the heating time of the wall material laminate 28, the resin of the entire wall material laminate 28 is decomposed while allowing the resin of the second layer 26b of the electrode pattern 26 to remain without being decomposed. You can As described above, the wall material laminate 2 is obtained by the decomposition of the resin.
8 becomes very brittle and the second layer 26 of the electrode pattern 26
It is considered that the hardness of the second layer 26b of the electrode pattern 26 can be made higher than the hardness of the entire wall material laminate 28 and the difference in hardness between them can be increased by leaving the resin of b left. Be done.

【0034】次に図2(A)にも示すように、電極パタ
ーン26の表層この例では第二層26bよりも硬度が低
く全体にわたり樹脂を分解した壁材積層体28よりも硬
度が高いブラスト粒子を用いたサンドブラスト法により
壁材積層体28をパターニングして、隔壁32を形成す
る。
Next, as shown in FIG. 2 (A), the surface layer of the electrode pattern 26, in this example, has a hardness lower than that of the second layer 26b and a blast having a hardness higher than that of the wall material laminate 28 obtained by decomposing the resin throughout. The wall material laminated body 28 is patterned by the sandblast method using particles to form the partition walls 32.

【0035】この実施例では、ブラスト粒子として、A
2 3 粒子(モース硬度12)よりも硬度が低い低硬
度ブラスト粒子例えば不二製作所製 フジランダムS−
2(モース硬度2)を用いる。そしてこの低硬度ブラス
ト粒子を、サンドブラストマシーン(不二製作所製)に
より、レジストパターン30を形成した壁材積層体28
に供給し、壁材積層体28をパターニングし、ストライ
プ状に並列配置された複数の隔壁32を得る。隔壁32
はパターニングされた白色層28a及び黒色層28bよ
り成る。
In this embodiment, as the blast particles, A
Low hardness blast particles having a hardness lower than that of l 2 O 3 particles (Mohs hardness 12), for example, Fuji Random S-
2 (Mohs hardness 2) is used. Then, the low-hardness blast particles are subjected to sandblasting machine (manufactured by Fuji Manufacturing Co., Ltd.) to form a resist pattern 30 on the wall material laminate 28.
And the wall material laminated body 28 is patterned to obtain a plurality of partition walls 32 arranged in parallel in stripes. Partition wall 32
Comprises a patterned white layer 28a and a patterned black layer 28b.

【0036】図5はこの発明におけるキーポイントであ
る選択的サンドブラスト性の概念を示した図である。図
5を用いて以下に選択的サンドブラスト性について説明
する。この実施例では隔壁の高さ(白色層28a及び黒
色層28bからなる壁材積層体28の厚さ)を200μ
m、CaLaCrO3 厚膜ペースト層(電極パターン2
6の第二層26bに相当する)の厚さを20μmとして
いる。図5に示すように壁材積層体28(白色層28a
を構成する厚膜ペースト層Aと黒色層28bを構成する
厚膜ペースト層Bとの積層体)とCaLaCrO3 厚膜
ペースト層26bの層の厚さの比は10倍であるので、
CaLaCrO3 厚膜ペースト層26bを残し、かつ壁
材積層体28を完全に取り除くためには、各々切削速度
の比は10倍以上は必要である。これは、サンドブラス
トマシンのノズル34からでる研磨材36が広範囲に吹
き付けられるため、ブラストされる領域にCaLaCr
3 厚膜ペースト層26bが既に露出してしまった部分
(切削終了部分)と壁材積層体28がまだ完全に残って
いる部分(未切削部分)とが混在する可能性があるため
である。上記条件を満たすためには壁材積層体28は切
削され易く、CaLaCrO3 厚膜ペースト層26bは
切削されにくくする必要がある。そこで、切削速度を1
0倍以上にするため(選択的サンドブラスト性)に切削
速度に影響を与える壁材積層体28とCaLaCrO3
厚膜ペースト層26bの熱処理温度と研磨材の硬度につ
いて実験した。この出願の発明者らの実験によれば、1
35℃で30分間乾燥させた後CaLaCrO3 厚膜ペ
ースト層26bと壁材積層体28をアルミナ粉末で1k
g/cm2 のブラスト圧力で切削した場合、CaLaC
rO3 厚膜ペースト26bの切削速度は壁材積層体28
よりも速かった。しかしながら、135℃の乾燥後さら
に150℃ 30分間の加熱処理を行い、同様なブラス
ト条件で切削した結果、CaLaCrO3 厚膜ペースト
層26bと壁材積層体28の切削速度が逆転し、壁材積
層体28の切削速度の方が速くなった。しかしながら、
熱処理だけでは切削速度比を10倍以上にすることはで
きなかった。
FIG. 5 is a diagram showing the concept of selective sandblasting which is a key point in the present invention. The selective sandblasting property will be described below with reference to FIG. In this embodiment, the height of the partition wall (the thickness of the wall material laminate 28 including the white layer 28a and the black layer 28b) is set to 200 μm.
m, CaLaCrO 3 thick film paste layer (electrode pattern 2
(Corresponding to the second layer 26b of 6) is 20 μm. As shown in FIG. 5, the wall material laminate 28 (white layer 28a
The layer thickness ratio of the CaLaCrO 3 thick film paste layer 26b and the laminated body of the thick film paste layer A that constitutes the black layer 28b and the thick film paste layer B that constitutes the black layer 28b is 10 times,
In order to leave the CaLaCrO 3 thick film paste layer 26b and completely remove the wall material laminate 28, a cutting speed ratio of 10 times or more is required. This is because the abrasive 36 discharged from the nozzle 34 of the sandblasting machine is sprayed over a wide range, so that the area to be blasted is CaLaCr.
This is because there is a possibility that a part where the O 3 thick film paste layer 26b has already been exposed (cutting end part) and a part where the wall material laminate 28 is still completely left (uncut part) are mixed. .. In order to satisfy the above conditions, it is necessary to make the wall material laminate 28 easy to cut and make the CaLaCrO 3 thick film paste layer 26b hard to cut. Therefore, the cutting speed is 1
The wall material laminate 28 and CaLaCrO 3 that affect the cutting speed in order to achieve 0 times or more (selective sandblasting)
An experiment was conducted on the heat treatment temperature of the thick film paste layer 26b and the hardness of the abrasive. According to the experiments by the inventors of this application, 1
After drying at 35 ° C. for 30 minutes, the CaLaCrO 3 thick film paste layer 26b and the wall material laminated body 28 are made of alumina powder for 1 k.
When cut with a blast pressure of g / cm 2 , CaLaC
The cutting speed of the rO 3 thick film paste 26b is the wall material laminate 28.
Was faster than. However, as a result of performing heat treatment at 150 ° C. for 30 minutes after drying at 135 ° C. and cutting under the same blast conditions, the cutting speeds of the CaLaCrO 3 thick film paste layer 26b and the wall material laminated body 28 are reversed, and the wall material laminated body is laminated. The cutting speed of the body 28 is faster. However,
The cutting speed ratio could not be increased 10 times or more only by heat treatment.

【0037】そこで、研磨材の硬度に注目しブラスト粒
子としてアルミナ(Al2 3 )粒子、又は低硬度ブラ
スト粒子(フジランダムS−2:不二製作所製)を用い
て、加熱温度を150℃としたときのCaLaCrO3
厚膜ペースト層26bと壁材積層体28の切削速度とそ
の比を測定した。モース硬度はAl2 3 が12でフジ
ランダムS−2は2である。ブラスト圧力は1kg/c
2 である。結果を表1に示す。
Therefore, paying attention to the hardness of the abrasive, alumina (Al 2 O 3 ) particles or low hardness blast particles (Fujirandom S-2: manufactured by Fuji Seisakusho Co., Ltd.) are used as the blast particles, and the heating temperature is 150 ° C. And CaLaCrO 3
The cutting speed and the ratio of the thick film paste layer 26b and the wall material laminate 28 were measured. The Mohs hardness is 12 for Al 2 O 3 and 2 for Fujirandom S-2. Blast pressure is 1kg / c
m 2 . The results are shown in Table 1.

【0038】[0038]

【表1】 [Table 1]

【0039】その結果、Al2 3 を用いた場合にはC
aLaCrO3 厚膜ペースト層26bと壁材積層体28
の切削速度はそれぞれ7.8μm/sec、41.5μ
m/secで切削速度比は5.3であった。一方フジラ
ンダムS−2を用いた場合にはそれぞれ0.5μm/s
ec、16.2μm/secでその切削速度比を32.
4にする事ができ選択的サンドブラスト性を実現するこ
とが出来た。
As a result, when Al 2 O 3 is used, C
aLaCrO 3 thick film paste layer 26b and wall material laminated body 28
Cutting speed of 7.8μm / sec and 41.5μ, respectively
The cutting speed ratio was 5.3 at m / sec. On the other hand, when Fujirandom S-2 was used, each was 0.5 μm / s.
ec, 16.2 μm / sec and the cutting speed ratio is 32.
It was possible to set to 4, and it was possible to realize selective sandblasting.

【0040】従って上述したようなこの実施例での条件
で壁材積層体28のプリベーク及びポストベーク等の熱
処理を行った場合に例えばモース硬度2の低硬度ブラス
ト粒子を用いることにより、壁材積層体28の切削レー
トを電極パターン26の第二層26bの30倍以上とす
ることができ、その結果、第二層26bを殆ど損傷させ
ることなく壁材積層体28をパターニングすることがで
きる。
Therefore, when the wall material laminate 28 is subjected to heat treatment such as pre-baking and post-baking under the conditions of this embodiment as described above, by using low hardness blast particles having a Mohs hardness of 2, for example, wall material lamination is performed. The cutting rate of the body 28 can be 30 times or more that of the second layer 26b of the electrode pattern 26, and as a result, the wall material laminate 28 can be patterned with almost no damage to the second layer 26b.

【0041】次に図2(B)にも示すように、レジスト
パターン30を隔壁32から除去する。この実施例で
は、レジストパターン30を有機アルカリ系のレジスト
剥離剤を用いて除去する。レジストパターン30は通常
は有機材料から成り、有機アルカリ系のレジスト剥離剤
を用いることにより、ガス放電表示パネルの表示特性を
劣化させないように充分にレジストパターン30を除去
できる。しかも有機アルカリ系のレジスト剥離剤は電極
パターン26及び隔壁28を損傷することが殆どない。
Next, as shown in FIG. 2B, the resist pattern 30 is removed from the partition wall 32. In this embodiment, the resist pattern 30 is removed using an organic alkaline resist remover. The resist pattern 30 is usually made of an organic material, and by using an organic alkaline resist stripping agent, the resist pattern 30 can be sufficiently removed so as not to deteriorate the display characteristics of the gas discharge display panel. Moreover, the organic alkaline resist remover hardly damages the electrode pattern 26 and the partition 28.

【0042】次に、電極パターン26の少なくとも表層
及び隔壁32を焼成する。この実施例では、焼成を終え
ていない電極パターン26部分(この例では第二層26
b)及び隔壁32を、焼成温度530℃で10分の間焼
成する。電極パターン26及び隔壁32を接触させた状
態で焼成するので、隔壁32が電極パターン26から剥
がれ落ちないような強固な密着力を電極パターン26及
び隔壁32の間で得られる。尚、焼成した隔壁32の成
分は主として鉛ガラスである。
Next, at least the surface layer of the electrode pattern 26 and the partition wall 32 are fired. In this embodiment, the portion of the electrode pattern 26 that has not been fired (in this example, the second layer 26
b) and the partition wall 32 are fired at a firing temperature of 530 ° C. for 10 minutes. Since the firing is performed in a state where the electrode pattern 26 and the partition wall 32 are in contact with each other, a strong adhesion force between the electrode pattern 26 and the partition wall 32 that prevents the partition wall 32 from peeling off from the electrode pattern 26 is obtained. The component of the fired partition wall 32 is mainly lead glass.

【0043】この例では、レジストパターン30を有機
アルカリ系のレジスト剥離剤を用いて除去したのち電極
パターン26及び隔壁32を焼成したが、これに限定さ
れるものではなく、このほか例えば、レジストパターン
30を除去せずに電極パターン26及び隔壁32を焼成
し、この焼成によりレジストパターン30を燃焼させ除
去するようにしてもよい。
In this example, the resist pattern 30 is removed by using an organic alkaline resist remover, and then the electrode pattern 26 and the partition wall 32 are fired. However, the present invention is not limited to this. The electrode pattern 26 and the partition wall 32 may be baked without removing the resist pattern 30, and the resist pattern 30 may be burned and removed by this baking.

【0044】この発明は上述した実施例のみに限定され
るものではなく、従って各構成成分の形成材料、形状、
配設位置、数値的条件(例えば寸法や温度や時間)及び
そのほかを任意好適に変更できる。
The present invention is not limited to the above-mentioned embodiments, and therefore, the forming materials, shapes, and
Arrangement position, numerical conditions (for example, size, temperature, time) and others can be arbitrarily changed.

【0045】[0045]

【発明の効果】上述した説明からも明らかなように、こ
の発明のガス放電表示パネルの隔壁形成方法によれば、
少なくとも表層を乾燥させたままの電極パターン上に、
当該電極パターンと接触させて壁材積層体を形成する。
次いでこの壁材積層体の全体にわたり壁材積層体が含む
樹脂を分解する。このように表層を乾燥させたままの電
極パターン上に壁材積層体を形成してから壁材積層体が
含む樹脂を分解することにより、電極パターン表層の硬
度を壁材積層体の硬度よりも高くしかつこれらの硬度差
を大きくすることができる。従ってサンドブラスト法で
壁材積層体のパターニングに用いるブラスト粒子の硬度
を、電極パターン表層の硬度よりも低くかつ壁材積層体
の硬度よりも高くすることにより、電極パターンがブラ
スト粒子で損傷するのを抑止しつつ壁材をパターニング
することができる。
As is clear from the above description, according to the barrier rib forming method of the gas discharge display panel of the present invention,
At least on the electrode pattern with the surface layer dried,
The wall material laminated body is formed in contact with the electrode pattern.
Next, the resin contained in the wall material laminate is decomposed over the entire wall material laminate. In this way, by forming the wall material laminate on the electrode pattern with the surface layer being dried and then decomposing the resin contained in the wall material laminate, the hardness of the electrode pattern surface layer is made higher than the hardness of the wall material laminate. The hardness can be increased and the difference between these hardnesses can be increased. Therefore, by making the hardness of the blast particles used for patterning the wall material laminate by the sand blast method lower than the hardness of the electrode pattern surface layer and higher than the hardness of the wall material laminate, the electrode pattern is prevented from being damaged by the blast particles. The wall material can be patterned while suppressing.

【0046】また壁材積層体を電極パターンと接触させ
て形成し、その後壁材積層体をパターニングして隔壁を
形成する。従って隔壁及び電極パターンの表層を接触さ
せたままこれらを焼成できるので、隔壁が電極パターン
から剥れ落ちるのを防止するに足りる充分な密着力を、
隔壁及び電極パターンの間で得られる。
Further, the wall material laminate is formed in contact with the electrode pattern, and then the wall material laminate is patterned to form partition walls. Therefore, since these can be fired while the partition wall and the surface layer of the electrode pattern are in contact with each other, a sufficient adhesive force sufficient to prevent the partition wall from peeling off from the electrode pattern,
Obtained between the partition and the electrode pattern.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】(A)〜(C)はこの発明の実施例の説明に供
する断面図である。
1 (A) to 1 (C) are sectional views for explaining an embodiment of the present invention.

【図2】(A)〜(B)はこの発明の実施例の説明に供
する断面図である。
2 (A) and 2 (B) are cross-sectional views for explaining an embodiment of the present invention.

【図3】(A)〜(D)はこの出願人に係るガス放電表
示パネルの隔壁形成方法の説明に供する断面図である。
3A to 3D are cross-sectional views for explaining a method of forming barrier ribs of a gas discharge display panel according to the applicant.

【図4】(A)〜(C)はこの出願人に係るガス放電表
示パネルの隔壁形成方法の説明に供する断面図である。
4A to 4C are cross-sectional views provided for explaining a method of forming barrier ribs of a gas discharge display panel according to the applicant.

【図5】この発明の実施例の選択的サンドブラスト性の
説明に供する概念図である。
FIG. 5 is a conceptual diagram for explaining the selective sandblasting property of the embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

24 基板 26 電極パターン 28 壁材積層体 30 レジストパターン 32 隔壁 24 substrate 26 electrode pattern 28 wall material laminate 30 resist pattern 32 partition wall

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ガス放電表示パネルの隔壁を形成する方
法において、 基板上に、電極パターン形成用厚膜ペーストを印刷し、
少なくとも表層を乾燥させたままにした電極パターンを
形成する工程と、 表層を乾燥させたままの電極パターン上に、当該電極パ
ターンと接触させて隔壁形成用厚膜ペーストを印刷し
て、壁材積層体を形成する工程と、 壁材積層体上に耐サンドブラスト性を有するレジストパ
ターンを形成する工程と、 レジストパターンを形成した壁材積層体を焼成温度より
も低い温度で加熱し壁材積層体のほぼ全体にわたり壁材
積層体が含む樹脂を分解する工程と、 電極パターンの表層よりも硬度が低く全体にわたり樹脂
を分解した壁材積層体よりも硬度が高いブラスト粒子を
用いたサンドブラスト法により壁材積層体をパターニン
グして、隔壁を形成する工程と、 前記レジストパターンを隔壁から除去する工程と、 電極パターンの少なくとも表層及び隔壁を焼成する工程
とを含むことを特徴とするガス放電表示パネルの隔壁形
成方法。
1. A method for forming barrier ribs of a gas discharge display panel, in which a thick film paste for forming an electrode pattern is printed on a substrate,
At least a step of forming an electrode pattern in which the surface layer is left dry, and a partition wall forming thick film paste is printed on the electrode pattern in which the surface layer is left dry to be in contact with the electrode pattern to laminate the wall material. A step of forming a body, a step of forming a resist pattern having a sandblast resistance on the wall material laminate, and a step of heating the wall material laminate having the resist pattern at a temperature lower than the firing temperature. The process of decomposing the resin contained in the wall material laminate almost all over, and the sand blasting method using blast particles, which has a hardness lower than the surface layer of the electrode pattern and a hardness higher than the wall material laminate in which the resin is decomposed entirely Patterning the laminate to form partition walls; removing the resist pattern from the partition walls; and at least the surface layer of the electrode pattern and Partition walls forming method for a gas discharge display panel, which comprises a step of firing the wall.
【請求項2】 壁材積層体を焼成温度よりも低い温度で
加熱して壁材積層体の表層を除く部分の樹脂を分解しな
いように壁材積層体の表層の樹脂を分解し、該表層上に
レジストパターンを形成することを特徴とする請求項1
に記載のガス放電表示パネルの隔壁形成方法。
2. The resin of the surface layer of the wall material laminate is decomposed by heating the wall material laminate at a temperature lower than the firing temperature so as not to decompose the resin of the portion other than the surface layer of the wall material laminate, and the surface layer. The resist pattern is formed on the upper surface of the substrate.
A method for forming barrier ribs of the gas discharge display panel according to [4].
【請求項3】 前記レジストパターンを有機アルカリ系
のレジスト剥離剤を用いて除去したのち、前記隔壁及び
電極パターンを焼成することを特徴とする請求項2に記
載のガス放電表示パネルの製造方法。
3. The method of manufacturing a gas discharge display panel according to claim 2, wherein the partition wall and the electrode pattern are baked after the resist pattern is removed by using an organic alkaline resist stripping agent.
【請求項4】 積層し終えた壁材積層体の最上層は黒色
層であり該壁材積層体の残りの層は白色層であることを
特徴とする請求項1に記載のガス放電表示パネルの製造
方法。
4. The gas discharge display panel according to claim 1, wherein the uppermost layer of the laminated wall material laminate is a black layer and the remaining layers of the wall material laminate are white layers. Manufacturing method.
【請求項5】 積層し終えた壁材積層体の最上層及び最
下層の両方が黒色層であり該壁材積層体の残りの層は白
色層であることを特徴とする請求項1に記載のガス放電
表示パネルの製造方法。
5. The method according to claim 1, wherein both the uppermost layer and the lowermost layer of the laminated wall material laminate are black layers, and the remaining layers of the wall material laminate are white layers. Of manufacturing gas discharge display panel of.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5876542A (en) * 1995-04-20 1999-03-02 Matsushita Electronics Corporation Gas discharge display panel and its fabrication method
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JP2007299934A (en) * 2006-04-28 2007-11-15 Showa Denko Kk Nitride-based semiconductor light emitting element, its fabrication process, and lamp
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