JPH0526552B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、特に光学的または電気的に特殊な性
質を有する被膜を得るため、開口を介して基体
（特に、ガラス基体）上に粉体を均一に分配する
操作に関する。

基体（例えば、ガラスリボン）上にガラス上方
の分配口を介して、ガス中に懸濁させた粉体製品
を連続的に分布させる方法は、フランス特許第
2427141号から公知である。上記開口は、ノズル
の下端であり、上記ノズルはノズルの全長にわた
つて延び、ガス中に懸濁させた粉体（粉体／ガス
サスペンシヨン）の唯一の供給導管を分割してな
る等長の複数の基本導管から供給を受ける、断面
がベンチユリ状のキヤビテイと、ノズルの全長に
わたつて延び、ベンチユリ状キヤビテイに接続
し、粉体／ガス混合物を均一化する乱流を作る高
圧空気を受容する、ほぼ平行六面体形状の大きな
均一化チヤンバとを含む。この場合、上記キヤビ
テイは、ノズルの全長にわたつて延び、はじめは
拡散し分配口側で収斂する細い通路を介して、均
一化チヤンバに連通する。

上記ノズルは、好ましい結果を与えるが、詰ま
り易く、正しい機能を保持するには定期的にクリ
ーニングする必要があり、従つて生産損失が生ず
る。一方上記ノズルの分配口の長さは、250〜650
mmに設計してあり、幅数ｍのガラスリボンを処理
するには、幅方向へ複数のノズルを配置する必要
がある。従つて、ガラスの全幅にわたつて均一な
分布を達成するには、使用する各ノズルを絶対的
に同一とするか、平衡させなければならない。数
ｍのガラスリボンの幅に等しい長さの分配口を有
する唯一のノズルを配置するのが好ましいが、ノ
ズルの長さを大幅に増加すると、分布の均一性が
乱され、特にガラス上にまだら模様が生じ、詰ま
りが速くなる。

本発明の目的は、上記欠点を排除することにあ
る。このため、本発明にもとづき数ｍの基体幅、
特に“フロート”法で製造したガラスリボンの全
幅を被うことができ、詰まりを生ずることがな
く、時間的、空間的に分布の均一性が得られる方
法および装置を提案する。

数ｍの幅にわたつて好ましい均一な分布を達成
するため、被覆すべき基体の近傍に（特に、上
方）かつ上記基体に垂直に粉体／ガスサスペンシ
ヨンのフイルム状流れを形成し、上記流れ内で上
記粉体を均一に分散させ、補助ガス流れを導入し
てガス／粉体混合物を均一化し、基体へ向かつて
生成物のフイルム状流れを加速する。

本発明の第１実施例にもとづき、連続の２つの
段で均一化および加速を行う。

本発明の第２実施例にもづき、唯一の段で均一
化および加速を行う。

本発明にもとづき、さらに本方法を実施するノ
ズルを提案する。

上記ノズルは、ノズルを貫通する開口を備えて
おり、入口端に分布すべき粉体および補助空気流
れの供給を同時に受ける上記開口の少なくとも部
分は、規則的に収斂している。

第１実施例では、規則的に収斂する上記ゾーン
には、独立の導管から分配された粉体の供給を受
け、同時に粉体の分布を均一化する乱流を形成す
る高圧ガス流れの供給を受ける均一化ゾーンが前
置してある。

第２実施例では、上記ゾーンは一様であり、直
接粉体供給手段（例えば独立の導管）から粉体の
供給を受けるが、外部雰囲気に対して開放してお
り、上記ゾーンの上部に噴射された補助ガスが、
均一化を促進するとともに、下方へ向かつて粉体
を加速する。

本発明にもとづき、粉体被覆技術を使用して、
厚さが極めて均一な被覆層を得ることができる。
この場合、厚さの変動は、粉体流量および／また
は被覆厚さに関係なく1.5〜2.0nmのオーダであ
り、従つて透過率の変動も１％のオーダにすぎな
い。

得られた被覆層は、極めて薄く、0.1〓ｍより
も小さく、40〜80nmのオーーダである。

さらに上記技術にもとづき、工業的に即ち大量
にＣ光源で照射した際に主反射波長が480nmで主
透過波長が575nmのブルーの２次干渉層を被覆し
たガラスシートを製造できる。

もちろん別の色の干渉層も得ることができる。
何故ならば、この場合厚さの変動が大きくても色
の劣化が知覚されないからである。

添付の図面を参照して、以下に本発明を説明す
る。

第１図及び第３図に、本発明に係る粉体分配ノ
ズル１，３の横断面図を示した。各ノズルは、粉
体を被覆すべき基体４の上方に基体の全幅（50cm
〜数ｍ）にわたつて延びている。基体とノズルと
は、相対的に並進運動を行う。この基体４は特に
固定のノズル１，３の下方を一定速度で流れるガ
ラスリボンである。

各ノズル１，３は、ボデー５から成り、このボ
デーにはその全高さおよび全長にわたつて粉体を
通過せしめる細い開口６が貫通している。図示の
実施例では、この開口は出口端または下端におい
て分配口７で終わつている。この開口の幅は、そ
の高さの1/50〜1/100であり、幅の変化は比較的
に小さく、連続的で規則的である。この開口６に
は、上端から分配すべき粉体および各種ガス流れ
が供給される。

側板２は各ノズル１，３の長さ方向端部を閉鎖
する。

ノズルのボデー５にはさらに詳細に言えば、ボ
デーの下部には粉体被覆のために基体４を高温に
保持したために近傍のノズル先端が過熱されるの
を防止するため、冷却機構８（例えば給水回路）
が設けてある。

ノズルボデー５はさらに変形を防止する補強材
または横梁９を有している。

第１図に示したノズル１は開口６が貫通する上
下の２つのゾーン、即ち上部のいわゆる均一化ゾ
ーン１１と、下部のいわゆる加速ゾーン１２とを
含んでいる。開口６の上部には、ノズルボデー５
の上部壁１４を貫通しノズルの長さ方向へ規則的
に（例えば５cm間隔で）分布させた複数の導管１
３を介して、一般に１次ガス（例えば空気）中に
懸濁させた粉体が供給される。上記導管１３のま
わりの密封は、有孔蓋１５で行う。上記導管１３
は下方へ延びて、開口６の上部の空気箱１６を通
過し、開口６に接続している。この空気箱１６に
は“Poral”タイプの多孔板から成る底部１８お
よび有孔パイプ１７を介して、高圧空気が供給さ
れる。この空気は、開口６にその全長にわたつて
均一に導入される。

第２図に、空気箱１６を通過して開口６に達し
た導管１３の後部の縦断面図を示した。

１次ガス（一般に空気）中に懸濁させた粉体の
噴射流は導管１３を介して規則的な間隔を置いて
高速で開口６に導入される。“Poral”タイプの
多孔板１８を通つて拡散された空気によつて、ゾ
ーン１１にはノズルの全長にわたつて粉体を均一
に分布させ、空気／粉体混合物を均一化する乱流
が作られ、開口６の上記ゾーン１１の底部を形成
する“Poral”板１８の表面に場合によつては生
ずる詰まりが除去される。

粉体は導管１３を介して開口６に導入されて均
一化空気の作用を受けて、粉体／空気サスペンシ
ヨンのフイルム状流れ、即ち薄い流れを形成す
る。この流れは、ノズルの長さに等しい長さを有
し、開口６のゾーン１１の実質的に垂直な壁１９
の間をノズルの下方へ向かつて延びる。均一化空
気の作用を受けて、供給導管から離れるにつれ
て、即ち粉体の進行に応じて空気／粉体混合物の
均一性及び開口６内の混合物の分布の一様性が向
上される。この場合、均一化ゾーン１１の表面を
なす開口６の２つの壁１９を、特に上記ゾーンの
終端において僅かに収斂させれば有利である。か
くして粉体が加速され、フイルム状流れが圧縮さ
れ、その結果、均一性および分布の一様性がさら
に向上する。２つの壁１９は、上記の収斂部分の
直後で僅かに拡散させる。この順次の収斂および
拡散の結果、粉体はまず加速され、次いで減速さ
れるので、粉体の均一性および分布の一様性がさ
らに改善される。

かくして、均一化ゾーン１１の端部では、粉
体／空気混合物は均一であり、開口６の全表面に
一様に分布される。即ち、上記ゾーン１１によつ
て、粉体を均一に分布した導管１３から供給され
る独立の噴射流に分配することができる。

粉体は、次いで加速ゾーン１２に入る。特に、
基体が高速で移動する場合に、短時間で基体４の
完全な被覆を行い、基体上に粉体を良好に付着さ
せ、粉体がノズル下端の分配口７から放射された
時点と粉体が基体に接触する時点との間の粉体の
飛散を防止するため、ノズル出口において、少な
くとも10〜15m／ｓの落下速度を与えることが肝
要である。一方、基体４上の粉体の反応には高温
が必要であるので、基体を過度に冷却しないこと
が肝要であり、従つて粉体の担体ガスの流量は制
限しなければならない。

例えばDBTO（酸化ジブチルスズ）または
DBTF（二フツ化ジブチルスズ）のタイプの有機
金属化合物の粒径20〓ｍ以下の粉体を基体上に噴
射し、熱作用により上記化合物を金属酸化物（特
に、酸化スズ）に分解して、特殊な光学的性質お
よび／または電気的性質を有する被膜を形成する
場合、ガラスに対する粉体の衝突速度を115〜
35m／ｓとするのが有利である。

第１図のノズル１の場合、フイルム状流れに含
まれる粉体／空気サスペンシヨンの加速は、加速
ゾーン１２において一方では開口６の壁１９の収
斂部分２０によつて行われ、他方ではノズルの全
長にわたつて混合物流れの側面に高速の補助空気
を噴射することによつて行われる。

詰まりを生じ、粉体／空気混合物の均一性およ
び分布の一様性を低下する恐れのある乱流を避け
るため、一定の加速度が得られるよう収斂度を規
則的とするのが有利でである。即ち、２つの壁２
０は中心面に対して角度5゜をなし、幅約４mmの、
即ち加速ゾーン入口の幅の1/3〜1/4の幅の分配口
を端部に形成する平坦な壁とする。

第１図のノズル１の場合、高圧補助空気はパイ
プ２２を介してキヤビテイ２１に導入する。各キ
ヤビテイは、ノズルの全長にわたつて延びるスリ
ツト状開口２３およびラブリンス状間隙２４を介
して、加速ゾーン１２の入口の近傍で開口６に並
置した側部チヤンバ２５に連通している。各側部
チヤンバ２５は、均一化ゾーン１１の末端の拡張
部分の端部の近傍に設けた細いスリツト２６を介
して開口６に連通しており、従つて粉体／担体ガ
スサスペンシヨンの流れの各側面に、混合物を加
速する高速の補助空気を導入できる。

上記補助空気によつて与えられる加速度は、開
口６の規則的収斂性によつて助成される。

細い開口２３およびラブリンス状間隙２４によ
つて補助空気の供給が制限されるので、開口６内
には全長にわたつて一様な空気量が噴射される。

第３図にノズル３の別の実施例を示した。この
場合均一化ゾーンと加速ゾーンとが区別されてお
らず、粉体／ガスサスペンシヨンを供給する導管
１３の入口は、密封されていない。

事実、このノズルの上部には、開口６に全長に
わたつて粉体を導入できるすべての手段で供給を
行うことができる。供給導管１３は、先行例と同
様、複数の噴射流を形成するようノズルの全長に
わたつて配置できるが、先行例とは異なり、密封
手段を介することなく開口６の入口に単に設置す
ることもできる。上記導管１３は固定できるが、
例えば僅かな振幅（例えば２つの導管１３の間の
平均間隙）だけノズルの長さ方向へ往復運動でき
るよう設置できる。

粉体は、ノズル上端から分配口７まで一様に収
斂する開口６内を落下する。分配口７のレベルに
おける開口６の幅は、ノズル入口の幅の約1/3〜
１／４である。例えば、開口６の幅はノズル上端に
おいて約15mmであり、分配口のレベルでは４mmで
あり、開口６を形成する平坦な壁は、中心面に対
して5゜の角度をなす。

開口６の両側の２つのノズルボデーの半分は、
中空であり、それぞれ高圧空気の一連のキヤビテ
イ３１を形成する。キヤビテイ列はそれぞれパイ
プ３２を介して空気源に接続してあり、各キヤビ
テイは、“Poral”タイプの多孔質材料または放
出口から成る通路３３を有する横梁９を形成する
隔壁によつて、隣接のキヤビテイに対して離隔さ
れており、従つて各列の最後のキヤビテイ３１の
出口には、全長にわたつて一定の流量が得られ
る。

キヤビテイ３１の各列の圧搾空気は、空気噴射
流を開口６の壁に対して接線方向へ向けるよう、
さらに詳細に言えば、上記壁に対して7゜以下の角
度をなすよう形成したリツプ３５，３６で口径を
形成する噴射口３４の縦方向スリツトを介して、
開口６内に噴射され、従つて噴射流は壁に沿つて
流れる。

各噴射口３４の下部リツプ３５は、開口６の側
壁３７の壁のほぼ丸い上縁から成り、一方上部リ
ツプ３６は、キヤビテイ３１の蓋を形成するプレ
ート３８の端部の丸い下縁から成る。上記縁は、
リツプ３５の形状に対して補完の形状を有し、高
圧空気噴射流を壁に対して接線方向へ向けるよう
下方へ延びている。

噴射口３４の口径形成は、開口６の壁に対して
垂直な方向へプレート３８を摺動させることによ
つて行う。空気は、導管１３または同様の供給手
段の出口における粉体の速度よりも高い速度で噴
射口３４から噴射される。混合物の加速度を増加
し、ノズルの全長にわたつて噴射された空気流の
分布の一様化を促進するため、上記速度を音速と
するのが有利である。

導管１３の端部は噴射口３４と面一である。噴
射された空気は、導管１３の間から開口６内に大
気を引込む。この噴射空気および、引込まれた空
気は、開口６の壁に粉体が堆積するのを防止し、
ノズル上端から粉体が流出するのを抑制する。開
口６は大気に通じているので、粉体の供給方法を
変更しても、ノズル自体は何等の影響も受けな
い。特に導管１３の間隔を変更でき、別の供給手
段を選択できる。例えば、第３図の如く被覆すべ
き基体４の上方にノズル３を設置した場合、開口
６の上方で回転する突起を有し、縦方向へ交互の
ブラツシング作用で、充填せる、粉体を送出する
ドラムを使用できる。

ノズルの上述の２つの実施例１，３の場合、ノ
ズルボデーの下端は、分配口７から供給される粉
体カーテンのまわりに大気を引込んで流量の一様
化に有害な乱流の形成を防止するため、細い流線
形状を有する。引込んだ大気は、基体上に均一な
堆積を得るのに役立つ。

上記ノズルボデイー端部には、さらに防熱手段
が設けてある。

上述のノズルの場合、開口６内に空気を噴射し
て粉体の均一化およびまたは加速を行つたが、所
望であれば別のガス（例えば、窒素）を噴射する
こともできる。

ノズル３は、開口６の上端が直接大気に連通し
ているノズルである。制御雰囲気下または特殊な
ガス雰囲気下で作業を行いたい場合はもちろん、
上記ノズルの上端は、所望のガスを充填した雰囲
気制御チヤンバに取付ける。

上述の説明では、ノズル１，３は被覆すべき基
体の上方に垂直に設置すると述べた。ここで使用
した用語“上、下、垂直、水平、etc”は、単な
る例として挙げたこの特殊な構成に関するもので
ある。

事実、ノズル１，３は各種の位置を取ることが
できる。即ち、ノズルは被覆すべき基体の上方ま
たは下方に、完全に垂直にまたは垂直面に対して
傾斜させて設置でき、例えば、基体が垂直である
場合は、水平にまたはほぼ水平に層状に設置でき
る。表現“上、下、垂直、水平、etc”は、ノズ
ルの位置に依存して使用する。

すべての場合、供給導管１３は、粉体／ガスサ
スペンシヨンのタンクから来る１つまたは複数の
同様の基本導管を分割して構成でき、あるいは、
粉体を充填したホツパの下に設けてあつて連続的
に粉体の供給を受け、粉体を希釈し、高圧空気を
加えて粉体に速度を与える排出器から構成でき
る。

上述の装置は、所望の基体（例えばガラス、金
属、木材、紙、etc）に各種粉末（有機金属化合
物、プラスチツク材料、塗料、ワニス、インキ、
ピグメント、etc）を分散させることができる。

特殊な光学性を有する層をガラスに被覆する場
合、各種金属（スズ、インジウム、チタン、クロ
ム、鉄、コバルト、etc）ベースの粉体（例えば、
酸化ジブチルスズ、二フツ化ジブチルスズ、金属
のアセチルアセトン酸塩、etc）を分布させるこ
とができる。

本装置は、最大10〜20m／minの高速で流れる
基体に被覆できるような性能を有する。この効率
は、溶液噴霧法またはC.V.D（化学的蒸着法）の
効率よりも大きい。もちろん、１つの基体に被覆
するのに複数のノズルを使用すれば、性能をさら
に向上できる。

さらに、この種のノズルを使用すれば、別の方
法を使用する場合よりも材料消費量を減少でき
る。即ち、基体１m²当たりの粉体消費量は、10g
よりも少なく、層厚が150〜200nmの場合、一般
に3gである。

本方法および本装置によつて、極めて薄く、厚
さの変動が5nm（場合によつては３〜4nm）より
も小さい層を得ることができ、従つて“透明な
“層の場合、透過率の変動は１％のオーダである。
この良好な一様性は、厚さが10〓ｍよりも小さい
（場合によつては40〜80nmのオーダの）層につい
ても得られる。もちろんより厚い一様な層を得る
こともできる。

本方法および装置によつて帯電防止層を作成で
き、さらに本方法によつて、場合によつて、別の
方法（特に真空蒸着法）によつて被覆した最終層
の付着性を向上するプライマー層（例えばTiO₂）
を被覆できる。このプライマー層は、できる限り
透過率を低下しないよう、極めて薄くなければな
らないが（40〜50nmのオーダ）それにも拘らず、
完全に連続できなければならない。

本方法および本装置によつて、さらに厚さの変
動に帰因する色の変化のない、選択せる色の干渉
層を工業的に製造できる。本技術によつて、C.I.
E（国際照明委員会）が定めたＣ光源で照明した
場合に主透過率波長が575nmで、主反射波長が
480nmの２次の均一なブルー層を被覆したガラス
で製造できる。このブルー層は干渉を生ずる厚さ
の差が殆どなく、色の差が殆どない層である。も
ちろん、制約の少ない別の色または中性色の層を
製造することもできる。

本発明の実施例を以下に説明する。

実施例 １ 基体：フロートガラス、厚さ４mm、進行速度
12.50m／min 粉体：粒径20〓ｍ以下のDBTF 流量：ノズル長さ1m当たり5.6Kg／hr ノズル：第３図のノズルと同一のノズル分配口７
の幅：4.5mm ノズル下端とガラスとの距離：90mm導管１３か
ら供給される、粉体を懸濁させた１次ガス：窒
素、 流量：ノズル1m当たり135Nm³／hr 開口37から噴射されるガス：窒素、 流量：ノズル1m当たり335Nm³／hr 吸引される大気：ノズル1m当たり125Nm³／hr 得られた層：フツ素をドーブしたSnO₂のモノレ
イヤー 厚さ：163.5〜165.0nm 厚さの差：1.5nm 393゜Kにおける輻射係数：0.3 透過率：83±１％ 色：反射時、グレー、 透過時、薄いコハク色 実施例 ２ 基体：厚さ６mmのガラス、 進行速度6m／min 粉体：下記組成の混合物 Feのアセチルアセトン酸塩25％ Crのアセチルアセトン酸塩25％ Co（）のアセチルアセトン酸塩50％ 流量：ノズル1m当たり1200Kg／hr ノズル：第１図のノズルと同一 ガラス／ノズル間距離：90mm １次ガス：空気 流量：ノズル1m当たり200Nm³／hr 均一化ガス：空気、 流量：ノズル1m当たり60Nm³／hr 加速ガス：空気、 流量：ノズル1m当たり250Nm³／hr 得られた層：透過率44±１％ 反射率34±１％ 実施例 ３ 基体：厚さ４mmのフロートガラス 粉体：DBTF 得られた層：フツ素をドーブしたSnO₂のモノ
レイヤー 厚さ：240〜245nm 色：反射時、黄色 透過時、微青色 輻射係数：393゜Kにおいて0.25 透過率：76±１％

【図面の簡単な説明】

第１図は、上部の均一化ゾーンと下部の加速ゾ
ーンとを含む本発明に係るノズルの横断面図、第
２図は、第１図のノズルの粉体供給導管の範囲の
部分縦断面図、第３図は均一化ゾーンと加速ゾー
ンとを区別してない本発明に係るノズルの横断面
図である。 １，３……ノズル、４……基体、６……開口、
７……分配口、１１……均一化ゾーン、１２……
加速ゾーン、１３……粉体供給導管、１９……
壁。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 基体上に粉体を規則的に分布させる方法にお
   いて、本質的に被覆すべき基体の近傍に且つ上記
   基体に垂直に、ガス中に懸濁させた粉体の、上記
   基体の幅に少なくとも等しい長さのフイルム状流
   れを形成し、上記流れを基体の全幅にわたつて基
   体の方向に流動せしめ、上記流れ内にガス流れを
   導入して乱流を作り、基体の方向への進行につれ
   てガス／粉体混合物を均一化し、上記混合物をそ
   の側面に導入した高速の補助ガス流れによつて駆
   動して基体へ向く粉体の運動を加速することから
   成ることを特徴とする方法。 ２ 粉体が基体に接触する直前に、粉体／ガスサ
   スペンシヨンの高速の自由流れによつて大気を導
   入して粉体の駆動を促進することを特徴とする特
   許請求の範囲第１項記載の方法。 ３ 基体へ接近するにつれて粉体サスペンシヨン
   流れの厚さを縮小して粉体を加速することを特徴
   とする特許請求の範囲第１項または第２項記載の
   方法。 ４ 第１段において、ガス／粉体混合物を均一化
   するため乱流を形成し、第１段とは別個の第２段
   において、粉体の運動を加速することを特徴とす
   る特許請求の範囲第１〜３項のいずれか１つに記
   載の方法。 ５ 唯一の同じ段において粉体／ガス混合物の加
   速および均一化を行い、補助ガス流れを上記流れ
   との接触時点における粉体の速度よりも大きい速
   度で導入することを特徴とする特許請求の範囲第
   １〜３項のいずれか１つに記載の方法。 ６ 高速で導入した補助流れによつて外気を吸引
   することを特徴とする特許請求の範囲第５項記載
   の方法。 ７ 補助流れが、サスペンシヨン流れの全長にわ
   たつて均一な層流であることを特徴とする特許請
   求の範囲第５項または第６項記載の方法。 ８ 粉体流れを囲むよう粉体流れの両側に補助流
   れを導入することを特徴とする特許請求の範囲第
   ５〜７項のいずれか１つに記載の方法。 ９ 補助流れが側壁に沿う流れであることを特徴
   とする特許請求の範囲第５〜８項のいずれか１つ
   に記載の方法。 １０ 加速ゾーンにおける粉体の速度が、常に
   10m／ｓよりも大きいことを特徴とする特許請求
   の範囲第１〜９項のいずれか１つに記載の方法。 １１ 粉体が酸化ジブチルスズ（DBTO）また
   は二フツ化ジブチルスズ（DBTF）または金属
   のアセチルアセトン酸塩のタイプの有機金属化合
   物であつて、その粒度が20〓ｍのオーダである特
   許請求の範囲第１〜１０項のいずれか１つに記載
   の方法。 １２ 基体４上に粉体を噴射するノズル１におい
   て、ノズルを貫通し縦方向分配口で終わる開口６
   を含んでおり、上記開口は僅かな間隙を置いて相
   互に向き合い細いスペースを形成する２つの壁２
   ０，３７から形成されていて定常的に収斂する少
   くとも１つのゾーン（いわゆる加速ゾーン１２）
   を分配口の直前に有し、入口において粉体を受容
   し、同じく上記入口の側面において上記側壁２
   ０，３７に沿つて、ノズルの他端に向く高速の加
   速ガスを受容するノズル。 １３ 加速ゾーンの収斂度は、分配口のレベルに
   おける加速ゾーンの幅が、粉体を受容し加速ガス
   の供給を受けるレベルにおける幅の約1/3〜1/4に
   なるよう選択してあることを特徴とする特許請求
   の範囲第１２項記載のノズル。 １４ 分配口の幅が、５mm以下であることを特徴
   とする特許請求の範囲第１３項記載のノズル。 １５ 加速ゾーンを形成する壁２０，３７が、中
   心面に対して5゜のオーダの角度をなすことを特徴
   とする特許請求の範囲第１２〜１４項のいずれか
   １つに記載のノズル。 １６ ノズルを貫通する開口が、更に加速ゾーン
   に先行し加速ゾーンに粉体を供給する均一化ゾー
   ンを有し、均一化ゾーンはノズルの長さ方向へ分
   布させてあつて上記ゾーンの入口に密封状態で接
   続した複数の供給導管から粉体の供給を受け、乱
   流を形成する均一化ガスの噴射手段も同じレベル
   に接続してあることを特徴とする特許請求の範囲
   第１２〜１５項のいずれか１つに記載のノズル。 １７ 均一化ガスの噴射手段が、多孔板を介して
   均一化ゾーンに連通し高圧ガスの供給を受けるキ
   ヤビテイを含むことを特徴とする特許請求の範囲
   第１６項記載のノズル。 １８ 均一化ゾーンがノズルの全長にわたつて延
   びる細いゾーンであり、相互に向き合い、実質的
   に平行で、細いスペースを形成する２つの壁１９
   で限定されていることを特徴とする特許請求の範
   囲第１７項記載のノズル。 １９ 長さ方向に分布させた粉体供給導管が、直
   接加速ゾーンの入口に開口していることを特徴と
   する特許請求の範囲第１２〜１５項のいずれか１
   つに記載のノズル。 ２０ 導管がその長さ方向へ往復運動できること
   を特徴とする特許請求の範囲第１９項記載のノズ
   ル。 ２１ 水平軸線のまわりに回転し、交互に水平運
   動するブラシで貯蔵せる粉体を引出すドラムを含
   む分配器から、加速ゾーンの入口に直接に粉体の
   供給を受けることを特徴とする特許請求の範囲第
   １２〜１５項のいずれか１つに記載のノズル。 ２２ ガスの導入角度が加速ゾーンの壁に対して
   7゜以下であるよう構成した口径のスリツトを介し
   て加速ガスを導入することを特徴とする特許請求
   の範囲第１９〜２１項のいずれか１つに記載のノ
   ズル。 ２３ 加速ガスは、直列の複数のキヤビテイを介
   して供給され、最初のキヤビテイは高圧ガスの供
   給を受け、多孔板または放出口を介して後段のキ
   ヤビテイに連通しており、最終のキヤビテイは、
   細い口径スリツトを介して加速ゾーンにガスを供
   給することを特徴とする特許請求の範囲第１２〜
   １５項および第１９〜２２項のいずれか１つに記
   載のノズル。 ２４ ガスは、音速で供給されることを特徴とす
   る特許請求の範囲第２３項記載のノズル。 ２５ 加速ゾーンの入口が、大気中にあることを
   特徴とする特許請求の範囲第１９〜２４項のいず
   れか１つに記載のノズル。 ２６ 加速ゾーンの入口が制御された雰囲気の供
   給を受ける雰囲気制御チヤンバの下に設けてある
   ことを特徴とする特許請求の範囲第１９〜２４項
   のいずれか１つに記載のノズル。 ２７ ノズル先端が細いことを特徴とする特許請
   求の範囲第１２〜１６項のいずれか１つに記載の
   ノズル。 ２８ ノズル先端には、防熱部材および冷却手段
   が設けてあることを特徴とする特許請求の範囲第
   １２〜２７項のいずれか１つに記載のノズル。