JPS6250423B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は加熱ガラス基体を被覆ステーシヨン中
一定方向に移行させる間に、それから被覆金属あ
るいは金属化合物が基体面上に作られる物質ある
いは物質群を含む液滴の少なくとも一つの流れと
基体とを接触させることにより該基体の一面に金
属あるいは金属化合物の被覆を形成せしめる方法
ならびにその方法の実施に用いられる装置に関す
るものである。

上記の種類の方法はガラスの見掛け上の色を変
えるおよび／または入射輻射線に関してのある種
の他の望ましい特性例えば赤外線反射特性を有す
る被覆を作るのに用いられる。

均一な特性をもつ被覆を作るのに種々の問題が
ある。これは一部はある区域から別の区域へと被
覆の構造ならびに厚みの均一性を得ることが困難
なためである。

英国特許第1516032号にはこの種の方法で被覆
材料を基体にむけ基体の方へ下方へ傾斜された流
れとしてその運搬方向に排出させ、かかる流れの
基体上での入射の鋭角あるいは平均角が基体に垂
直な面で運搬方向と平行に測つて60゜をこえない
ようにし均一な被覆の形成を促す方法が記載され
ている。

英国特許第1523991号には同じ種類のガラス被
覆方法であつて、被覆の均質性、均一性を良くす
るという同じ目的のため液滴流れのまわりのガス
を基体への液滴の進路に実質的に影響することな
く、前記液滴流れから流し去りダクト中へ導くべ
く吸引力が排気ダクト中に作られる方法が記載さ
れている。

たとえこれら特許に提案された条件を遵守する
としても被覆の下あるいは表面に欠点が応々にし
て現われ、こうした欠点はそれ程重大なものでな
いことがしばしばであつても今日要求せられる最
上級の品質の製品というわけにはゆかない。こう
した欠点が被覆の表面にある場合、常にとはいえ
なくても時には被覆後の表面処理で製品の質を改
善なしうるが勿論この余分な処理は製品コストを
大ならしめる。

残存欠点はしばしばそれ程顕著ではないがそれ
でも今日要求される最上級の製品とするわけには
ゆかない。被覆の品質に影響をおよぼし、それぞ
れの状況により方法ごとにことなる多くの因子を
考慮するならばある特定の品質制御方法があらゆ
る場合に完全に満足しうることを期待することは
できない。しかしながら本発明はこういつた被覆
の欠点の出現を少なくとも減少させるのに有用で
あることが見出されているある制御方法を提供す
る。

本発明に従えば、加熱ガラス基体を被覆ステー
シヨン中一定方向（以下前方向と称す）に移行さ
せる間に該基体をそれから被覆金属あるいは金属
化合物が基体面上に作られる物質あるいは物質群
を含む液滴の少なくとも一つの流れと接触させる
ことにより、ガラス基体の一面に金属あるいは金
属化合物の被覆を形成せしめる方法であつて、前
記液滴流れ（群）が基体の方へ下方前方あるいは
下方後方に傾斜されており、少なくとも一つのガ
スジエツトが基体上の環境中に排出されていて、
このジエツトが基体上を同じ方向（前方あるいは
後方）に流れ液滴流れ（群）と衝突するようにな
されることを特徴とする方法が提供される。

実験によれば本発明にかかる方法は特に被覆表
面でのあるいは被覆と基体の間の界面域での光拡
散をもたらすような被覆は出来にくいことが判
る。何れの理論によつても制限されることを望む
ものではないが従来法でみられる光拡散を生じる
ある種の被覆の欠陥は液滴の下方傾斜流れのすぐ
後ろ（流れの後ろとは液滴がより短い軌道を有す
る場所）の環境内から基体の方へ各種物質が連行
されることに基づくものと思われる。もしこれが
正しいとすれば、本発明方法を用いる際に認めら
れた改善は、このように連行されるまがい化合物
の少なくとも一部の遮断および／またはこのよう
に誘発されるガス流中のかかる化合物濃度の低下
によるものであろう。しかしながら、本発明の関
連するこの種方法で得られる被覆の質は多くの微
妙な影響を受けやすく、前記ガスジエツト（群）
の有用な効果については何か別の説明がつくのか
もわからない。

本発明の好ましい具体例において、液滴流れ
（群）は基体の方へ下方前方に傾斜されている。
このような場合、本発明にかかる品質制御法では
被覆／ガラス界面あるいは被覆と先に作られた被
覆（もしそれがある時には）の界面での欠点の出
現を回避あるいは低減することができる。このよ
うな表面下の欠点は特にやつかいなものである。
それらは後処理では決して除去されない。

液滴は基体の通路を横切つて分布された多数の
流れの形で排出されうる。こういつた流れは一緒
になつて被覆されるべき基体巾全体にわたり基体
上に衝突する。この場合、流れ群の出所群は固定
でありうるし、またガスのジエツトあるいはジエ
ツト群はそれらが液滴流れの全体の幅にわたりこ
れら流れに衝突するよう基体通路を横切つて伸び
あるいは分布されている固定オリフイスあるいは
固定オリフイス群から排出されうる。

しかしながら、好ましい具体例においては、液
滴の少なくとも一つの流れが被覆されるべき基体
面範囲内のある区域に衝突し、この流れが基体通
路を横断し反復して移動せられ、基体が液滴の流
れにより走査されるようになされる。この方法で
良的な質の被覆がより容易に作られる。ある種の
具体例において、それから液滴が排出されるスプ
レーヘツドあるいはスプレーヘツド群は被覆ステ
ーシヨンで一方向に基体路を反復して横切るよう
無端コースにそつて移動せしめられる。他の具体
例では、スプレーヘツド（群）は基体通路を横断
し前後に移動せしめられる。前者の方法はスプレ
ーヘツド移動メカニズムのなめらかな操作ができ
るがある場合には往復メカニズムの方がより好都
合に設置可能である。本発明はガスジエツト
（群）が液滴流れ（群）と同時に基体の通路を横
断してもうけられているオリフイスあるいはオリ
フイス群から排出される方法を包含する。かかる
方法は前記ガスジエツト（群）を作るのに排出さ
れるガスの容積流量に関し極めて有効なものであ
る。本発明にかかる別の方法においては、ガスジ
エツト（群）は基体の通路を横切つて伸びている
あるいは分布されている固定オリフイスあるいは
固定オリフイス群から排出される。かかる方法に
おいて液滴流れ（群）は基体通路を横断して移動
せしめることもできるがその必要はない。

簡便を期すため、以下一つの液滴流れおよび一
つのガスジエツトについて説明するがいずれの方
法においても二つあるいはそれ以上のこういつた
液滴流れおよび／または二つあるいはそれ以上の
ガスジエツトを例えば横ならびの関係で用いるこ
とができる。

好ましくはガスジエツトは外部出所から基体上
の環境中に吹きこまれるガスにより構成せられ
る。こうして得られる結果は通常、前記環境内に
もうけられたフアン等の装置により被覆ステーシ
ヨンの上流あるいは下流環境からガスを誘導して
得られる結果より優れている。ジエツトを作るた
めのガスの選択は液滴の組成および基体上に作ら
れるべき被覆の組成を考慮しガスが何らの望まし
からざる化学反応を生じないように行なわれる。

好ましくは空気がガスジエツトのため用いられ
る。空気の選択は有効性と低コスト双方の利点が
ある。

必要とされるガス容積が小さいという点から常
温のガスでジエツトが構成されるのが好適であ
る。

ジエツトを作るガスの容積流量ならびにその流
路断面の空間的広ろがり特に基体の通路を横切る
方向への広ろがりは光拡散の原因を減らす目的に
とつて重要な因子である。液滴流れを作る一定量
の物質についてガラス上に沈着される所望被覆材
料の量を意味する、この被覆法の収率についても
重要である。液滴流れに向けてのガスジエツトの
吹き付けはある程度収率を下げる傾向がありそれ
はジエツトを作るガスの容積流量につれ増大す
る。従つて前記流量は好ましくは被覆の質につい
て最良の結果を与える値より大とすべきではな
い。

ジエツトについての最も好適な容積流量は各プ
ラントでの操作条件により各特定プラントでは試
験により決定せられる。好ましくは前記容積流量
は、ジエツトが液滴流れの断面を幾分変形する程
度とされる。この幾分かの変形がみられると、そ
れはジエツトの強さが少なくとも意図せる目的に
充分なものであることを示すものである。しかし
いずれの場合においてもジエツトの強さは液滴流
れを中断したり不安定ならしめるものであつては
ならない。実際にはジエツトを作るガスの全てで
はなくとも大部分が液滴流れの両側をまわつて流
れ下流へと通過する。

ガスジエツト断面の空間的広ろがりならびにか
かるジエツトの容積流量は加熱ガラス基体上の環
境における温度条件に対するガスジエツトの効果
に影響する因子である。しかしながらすでに述べ
た如く、ジエツトを構成するガスの容積流量は小
さくなされるので、もしガスジエツトがかなりの
面積にわたり分布されるとしたならこのような熱
効果は無視しうる程度となされる。

ジエツトの幅、すなわち基体通路の横方向での
その空間的広ろがりは好ましくはジエツトが液滴
流れの幅全体に対し衝突するに充分なものであ
る。このような場合ジエツトは液滴流れの下方後
方へその出所から連行せられるであろう環境ガス
流があればそれを阻止する。

好ましくは、ガスジエツトは細長い断面のもの
でその長い方の断面寸法が基体通路を横切る方向
にある。この形のガスジエツトはジエツトを構成
するガスの比較的小さな容積流量で被覆の質の一
定の改善が得られるという意味で効率が良いから
好ましい。しかしながら他の形のジエツト例えば
円形あるいは長円形断面のジエツトでも被覆の質
の改善という点で良好な結果を得ることができ
る。ジエツトがその排出オリフイスから例えば70
゜〜110゜の傾斜角で横方向に分散することが有
利である。

ガスジエツトは好ましくはガラス基体に接近
し、液滴流れの下部に対し作用するよう指向せし
められる。この場合ジエツトはその出所近くの液
滴流れにむけられるよりも遥かに有効である。

本発明の好ましい具体例において、ガスジエツ
トはその排出オリフイスから下方へ傾斜せられ
る。この傾斜は液滴流れの安定性を妨げることな
くジエツトに所望の作用を行なわしめるのに役立
つ。

好ましくは、ガスジエツトはガラス基体から液
滴流れの下部の方へとかたよるように指向せられ
る。このかたよりは、比較的小さな幅のジエツト
からガスが液滴流れの幅を横切り分布されるのを
促進しうる。

好ましくは、液滴流れはその軸と被覆される基
体面間の傾斜角が20゜〜60゜、最も好ましくは25
゜〜35゜になるよう傾斜せしめられる。この特徴
は良好な光学的品質の被覆形成を容易にする。最
良の結果を得るためには、液滴流れのあらゆる部
分が垂直に対し実質的な傾斜度で基体に当てられ
ねばならない。従つて、本発明の最も好ましい具
体例において液滴流れは平行流であるか、あるい
はその出所から30゜をこえない角度例えば約20゜
の角度で分散する流れである。

実験によれば、被覆される基体面と液滴流れの
出所の垂直距離に関しある種の条件が満たされれ
ば均一な被覆がより容易に作られることが判る。
好ましくは、この距離は基体面に対し直角に測定
して15〜35cmである。これは特に上述の液滴流れ
についての好ましい傾斜度および分散範囲を遵守
する場合、最も好適な範囲であることが見出され
ている。

本発明は縦方向に移動せられる連続ガラスリボ
ンの被覆に用いるのに極めて適している。これは
また独立せるガラスシート群の被覆にも用いられ
る。

本発明は基体が平板ガラス製造工場例えばフロ
ートタンクから送られる平板ガラスの連続リボン
である方法を包含する。本発明のある種のかかる
適用例において、液滴流れはガラスリボンの表面
でガラス温度が650℃〜100℃の位置に衝突する。

本発明方法は金属塩を含む液状組成物を用いる
ことにより各種の酸化物被覆を作るのに適用せら
れる。ガスジエツトはスプレーされた溶液の後ろ
で連行されガラスと接触しがちな反応性蒸気を生
じる溶液を用いる際におこる被覆の欠点出現を阻
止あるいは低減する。本発明の極めて有利な方法
には、液滴がそれから基体上に金属酸化物被覆の
作られる金属塩（好適な例は金属塩化物）の溶液
の液滴である方法が包含される。ある種のかかる
方法において前記溶液は塩化錫溶液例えば塩化第
二錫とドーピング剤例えばアンチモン、ヒ素ある
いは弗素のイオンを与える物質とを含む水性ある
いは非水性媒体である。この金属塩は還元剤例え
ばフエニルヒドラジン、ホルムアルデヒド、アル
コールおよび非炭素還元剤例えばヒドロキシルア
ミン、水素と共に用いられる。他の錫塩例えばシ
ユウ酸第一錫あるいは臭化第一錫を塩化第二錫の
代りにあるいはそれと共に用いることもできる。
同様方法で作られる他の金属酸化物被覆の例はカ
ドミウム、マグネシウム、タングステンの酸化物
を含む。かかる被覆を作るには、被覆組成物が同
様に金属化合物と還元剤の水性あるいは有機溶液
を作ることにより調製せられる。硝酸塩例えば硝
酸鉄および硝酸インジウムの溶液が対応する金属
酸化物の被覆を作るのに用いられる。さらに別の
例として本発明は被覆されるべき基体面に液滴の
形で供給される有機金属化合物例えばカルボニル
および金属アセチルアセトネートの熱分解により
被覆を作るのにも用いられる。またある種の金属
アセテートおよびアルキレート例えば錫ジブチル
ジアセテートおよびチタンイソプロピレートを用
いることもできる。別種金属の酸化物の混合物を
含む金属被覆を作るため別種金属の塩を含む組成
物を適用することも本発明範囲内である。

本発明にかかるある種方法において、ガス排気
システムは液滴流れから環境ガスを基体上、ガス
ジエツトの指向せられるのと同じ方向に抜き去る
ため作動せられる。このため一つあるいはいくつ
かの排気ダクトに吸引力が生ぜしめられ、これら
ダクトのガス入口（群）は液滴流れの前面にむけ
て位置せしめられる。かかる排気システムは液滴
流れが基体の方へ下方前方に指向せられる際の被
覆上のまがいの表面沈着の危険性を低減しうる。
吸引力は勿論、それらが液滴流れを中断したりあ
るいは不安定ならしめることのないよう制御せら
れる。かかる方法は本発明と英国特許第1523991
号発明の結合にかかるもので、それはまた同日付
特許願(4)号発明をも具体化するものである。

本発明は、前述の本発明方法で加熱ガラス基体
の一面に金属あるいは金属化合物の被覆を作るの
に適した装置を包含する。本発明にかかる装置は
基体支持体、基体をこのように支持しつつ一定方
向（以下前方向と称す）に運搬するための手段お
よび液滴の少なくとも一つの流れを支持された基
体上に排出するためのスプレー手段からなり、前
記のスプレー手段が少なくとも一つの前記の液滴
流れを支持基体上に下方前方あるいは下方後方傾
斜で排出すべく構成配置されていることおよび少
なくとも一つのガスジエツトを基体上の環境中に
送りこみこのジエツトが基体上で同じ方向（前方
あるいは後方）に流れ前記の液滴流れ（群）に対
し衝突するようにするための送風手段がもうけら
れていることを特徴とする。

本発明にかかる装置には前述の一つあるいはい
くつかの任意的な方法的特徴を利用するのに要す
る任意的な付加的特徴を含有せしめうる。

好ましくは前記スプレー手段は液滴流れ（群）
を支持された基体上に下方前方へと排出すべく構
成配置せられる。

本発明のある種装置では、スプレー手段はそれ
にそつて基体の運搬される通路を横断し前後にあ
るいは一方向に液滴流れ（群）を反復移動させる
ための駆動メカニズムと組みあわされている。

有利には、被覆装置はその中をガラス基体が運
ばれるトンネル内にもうけられ、前記ガスジエツ
ト（群）を排出するための手段はガスを前記トン
ネル外から誘導する。

スプレー手段が前記液滴流れ（群）をその軸あ
るいは軸群と支持体の基体支持面の間の傾斜角が
20゜〜60゜、最も好ましくは25゜〜35゜になるよ
うな角度で排出するよう配置されている装置が好
ましい。好ましくは、スプレー手段は前記液滴流
れあるいはそのおのおのが平行流あるいはその出
所から30゜をこえない角度で分散する流れで排出
されるように構成せられる。

本発明は上述の如き装置で、平板ガラス製造プ
ラント例えばフロートタンクと組合わされ、かか
るプラントからの移送中にガラスリボンを被覆す
るようもうけられたものを包含する。好ましくは
スプレー手段は液滴流れ（群）がリボンの表面で
ガラス温度650℃〜100℃の区域に衝突するよう配
置せられる。

本発明にかかるある種装置には、液滴流れ
（群）から環境ガスを基体上で前記ガス排出手段
のガスジエツト（群）排出と同じ方向（前方ある
いは後方）に引き去るためにガス排気手段がもう
けられる。

以下添付図により本発明を説明する。

第１図をみると、この被覆装置は天井壁２およ
び床壁３を有する徐冷室１内に位置せしめられ、
この室内をガラスリボン４がプラントのリボン製
造ステーシヨンから運送せられる。室１は例えば
リビ―オーエンス型ガラスシート引上機の徐冷レ
アの一部であり、あるいはその中でフロート法で
ガラスリボンの作られるフロートタンクと組合わ
されていてもよい。

ガラスリボン４はローラー群５により支持さ
れ、室１内を矢印６の方向に運ばれる。ガラスリ
ボンの通路の上にこの室１には移動可能な耐火性
スクリーン７および８がもうけられ、これらがそ
の間に一つの部屋を規定しその中でガラスリボン
の移送中にその表面上に金属化合物被覆が作られ
る。

ガラスリボンの水平通路の上にスプレーガン９
がもうけられ、これはガンをリボン移行方向に直
角な水平通路にそつて前後に移動させるためのメ
カニズム（図示なし）に接続されている。スプレ
ーガンとガラスリボンの表面間の垂直距離は15〜
35cmである。スプレーガンは液滴が安定な円錐ス
プレーでそのリボンに対する傾斜平均角度が20゜
〜60゜であり、円錐角20゜で排出されるよう指向
されている。スプレーガンからの液滴の排出方向
は図では左から右であり、この左から右方向とい
うのは前方向あるいは下流方向のことである。

液滴流れがガラスリボン上で衝突する区域の下
流境界１０から10〜30cm下流の距離には排気ダク
ト１１があり、これはその中に吸引力を保つため
の手段（図示なし）に接続されている。このダク
トはリボン通路を横断して伸びスロツト様ガス引
き入れ通路をなすノズル１２を有している。この
ノズルの入口オリフイスはガラスリボンの１cm〜
20cm上の高さにある。

装置を使用する際ダクト１１内に生ぜしめられ
る吸引力は液滴流れのまわりのガスを連続的にこ
の液滴流れからまた衝突区域のまわりから前方へ
とさらに直接このダクト中へと流すことになる。
この排気システムの目的はリボンを横切つての逐
次被覆される区域の上の大気から有害な反応生成
物を除去することにある。ガスをダクト中に吸引
するに役立つ吸引力は、スプレーガンからガラス
リボンまでの液滴の流路がこの吸引力により実質
的に影響をうけることがないように調節され、従
つてこの方法は前述の英国特許第1523991号に従
うものである。このような吸引力を生ぜしめると
前述の如く形成せられる被覆上に、にせの表面沈
着物ができる危険性を低減する。

図示せる装置には、ダクト１１から下流へ間隔
をあけて第２排気ダクト１３がもうけられてい
る。この第２排気ダクトはダクト１１を通りこし
て下流へ流れるガスを吸引除去する。

第１図の如き装置を用いる場合、被覆の作られ
たガラスは応々にして局部的光拡散域として明示
される被覆の欠点のあることが試験で認められて
いる。このような区域は第２図に例示されている
ような認知可能パターンでガラスシートの全域に
わたり分布されている。第２図にはガラスシート
１４の一部がひな型で示されている。黒色域はシ
ートの欠陥のある透過光拡散をもたらす区域であ
る。パターン的にみると、これら区域は間隔のお
かれた横断バンド群１４からなり、それらのおの
おのの片側から一連の短いひきづり跡群１５があ
る。これら区域でのガラスの光拡散効果はシート
の他の区域より0.2〜0.5％大きい程度で低度であ
るが高度の光学的仕様を満足せねばならぬ被覆の
場合こういつた欠点の存在は許されない。

横バンド１４の間隔は液滴流れをガラスを横切
つて次から次へと階段的に進行せしめるのに対応
することが見出されている。バンド１４のきれい
な線はこれらバンドの前方側でひきづりあと１５
はこれらバンドから後方へ引きづられている。こ
れら欠点が液滴流れの後方でガラスへの進行蒸気
の作用によるものと考えられたのはこうした理由
からである。

第３図および第４図は第１図のものと同様のプ
ラントを示すが本発明の被覆装置を組み入れたも
のでそれにより第２図に示されるような被覆の欠
点は回避されあるいは生じにくくされる。第１図
のものと同じパーツには同じ数字が用いられてい
るが、第３図および第４図のプラントでは、固定
横断ガイド１６がもうけられそれにそつてキヤリ
ジ１７がはめこまれている。キヤリジは前記ガイ
ドのフランジにそつて走るローラー群を有する。
このキヤリジは垂直管１８を支持し、その中に圧
縮空気およびスプレーさるべき溶液のための導管
群がある。空気および溶液は可撓性導管群を介し
供給され、その一つが第３図に１９で示されてい
る。空気と溶液の別々の流れが管１８から枝管２
１を介しスプレーガン２０に供給される。別の空
気流が管１８の内部にそつてさらに下方へ流れス
ロツト様排出オリフイスを有する平らなノズル２
２からジエツトとして噴出せられる。

キヤリジ１７がガラスリボン４の通路を横切つ
て横断する間に、被覆溶液は安定な円錐状のスプ
レーコーン２３としてスプレーガン２０から排出
され、ガラスリボンへのその衝突区域が第４図に
破線２４で示されている。同時に空気がノズル２
２から横に細長い断面のジエツトとして連続的に
排出され、そのガラスリボン上の衝突区域が点線
２５で示されている。ガスジエツトはガラスリボ
ンによりスプレーコーン２３の方へその下部域で
前方へかたよらされ液滴流れをその後方境界で幾
分平らにする。この平らなジエツトはその出所か
ら70゜〜110゜の傾斜角度で横方向にわけられ
る。このようなジエツトのガスは全体的にあるい
は主として液滴流れをその両側で通過し前に流れ
る。ごくわずかに変形された液滴流れはガラスリ
ボンを横断する間極めて安定に保たれたままであ
る。

このガスジエツトは液滴流れの後ろで下方へと
連行される蒸気流を阻止し、こういつた蒸気がガ
ラスと接触するように流れることを阻止しあるい
はそれがガラスに達するまでにかかる蒸気を稀釈
する。被覆溶液のスプレー中にこのような後ガス
ジエツトを発生させると第２図に示したような欠
点の出現をなくしあるいは低減することが見出さ
れた。

形成せられる被覆の全体的な質は第３図に破線
で示される如く排気ダクト１３の上にバツフルあ
るいはバリヤー２６をもうけ、かかるダクトをバ
イパスする排気ガスが該ダクトの上を通り被覆区
域の方へ上流へともどり流れることを防止するこ
とにより改善されうることが間々ある。このよう
な目的の一つあるいはいくつかのバツフルあるい
はバリヤーを用いる方法ならびに装置は同日付特
許願(4)号に記載されている。

第３図および第４図に示される被覆装置はまた
ガラス基体をトンネル１中矢印６とは反対方向に
移行させる間に被覆するため本発明に従い用いる
こともできる。この場合、基体へのスプレーコー
ン２３の方向は下方後方ということになる。こう
いつた場合、ノズル２２からのガスのジエツトは
ガラスリボン上でのスプレーコーンの衝突区域か
ら始まる被覆と接触するよう下方へと連行される
蒸気流を阻止あるいは稀釈しうる。前記ガスジエ
ツトは従つて、後の表面処理で除去できるかある
いは除去できてもそれが困難な欠点が被覆表面に
できることを阻止あるいは低減なしうる。もし別
の被覆ステーシヨンを基体の移動方向のさらに下
流にもうけそこで最初の被覆の上に第２の被覆を
作るとしたならこういつた欠点はいずれにせよこ
のような表面処理のほどこし難いものとなる。

次に第５図の装置を参照されたい。この図はそ
の中を新らしく作られたガラスリボン３１がロー
ラー群３２上に支えられ、平板ガラス製造プラン
ト例えばフロートタンクから矢印３３で示される
前進あるいは下流方向に移動せしめられるトンネ
ル３０の一部を示す。ガラスリボンはこのトンネ
ル中を移動せられる間にリボン通路上の上流側な
らびに下流側境界スクリーン３４，３５を有する
室内に位置せしめられた被覆装置により被覆され
る。

この被覆装置は、上流ならびに下流被覆ステー
シヨンでトンネルを横断して伸びる二つの平行な
リーチ３６，３７を有する無端トラツク上に間隔
をあけて配置された多数のスプレーガンを有す
る。二つのスプレーガン３８と３９が図に示され
ており、スプレーガン３８は無端トラツクの上流
側リーチ上にまたスプレーガン３９は下流側リー
チ上にある。各スプレーガンは４０の如き管によ
り担持され、この管内には被覆溶液と圧縮空気を
そのスプレーガンに共通するための通路群があ
る。こういつた管の各々は４１の如きキヤリジに
より支えられ、キヤリジは無端トラツク上を走る
４２の如き輪車群を有している。仕切り４３がト
ンネルの上部を横切り、無端トラツクの向きあつ
たりリーチ群上でスプレーガンが通る平行した通
路の間にもうけられている。

被覆プロセスの間、一連のスプレーガンは連続
して一方向に回転せられる。これらのスプレーガ
ンはこの回転の間、種々の被覆要求に適合するよ
う供給材料配分を変えるための設備のある被覆溶
液ならびに圧縮空気供給マニホールド群と連絡す
る。例えばこれらスプレーガンのそれぞれはトン
ネルを横切つてのスプレーガンの各横断の間中、
被覆溶液および圧縮空気供給源と引き続き通じて
いることができる。こういつた場合、ガラスリボ
ン上に積層された二つの被覆が作られる。第１の
被覆は無端トラツクの上流側リーチ上のスプレー
ガン群からそれらがトンネルを横断するときスプ
レーされる被覆溶液から作られる。その横断中、
これらスプレーガンはガン３８のように下方後方
を向いている。表面被覆はトラツクの下流側リー
チ上のスプレーガン群から、トンネル横断のさい
にスプレーされる被覆溶液から作られ、これらの
ガンはガン３９と同様下方前方に向けられてい
る。

この被覆溶液供給システムは、スプレーガンの
あるものだけにトラツクの上流側リーチ上でそれ
らの横断中被覆溶液が供給され、他のガンのみに
トラツクの下流側リーチ上でのそれらの横断中に
被覆溶液が供給されるように配置せられる。積層
される被覆がそれぞれ組成のことなるものである
よう別々の被覆溶液を各セツトのガン群に供給す
ることができる。

図示せる配置では被覆溶液はスプレーガン３９
から液滴流れ４４で示される如く下流側被覆ステ
ーシヨンでスプレーされるだけである。被覆溶液
は下流側被覆ステーシヨンでトンネルの横断中こ
のシリーズの全てのガンに供給されることがで
き、あるいは被覆溶液は被覆材料沈着の所望速度
に応じ全シリーズのガンのあるものにのみ供給さ
れうる。

下流側被覆ステーシヨンで液滴流れの横断路の
うしろには、ガス送出し導管４５があり、これは
ガラスリボン通路上でトンネルを横断して伸びリ
ボン通路の巾全体にわたり伸びているスロツト様
排出オリフイスを規定する送り出し口４６を有し
ている。この導管４５は空気を連続的にその導管
に供給し、予熱された空気の平らなジエツトがこ
のスロツト様排出オリフイスから前方へ放出され
るようにするためガス供給システム（図示なし）
に接続されている。この空気ジエツトはそれらが
下流側被覆ステーシヨンでトンネルを横切つて移
動するとき液滴のスプレーされた流れの下部に衝
突する。このジエツトは蒸気流中スプレーコーン
のうしろで下方に連行される傾向のある一つある
いはいくつかの潜在的に有害な物質をジエツトが
阻止することあるいはこういつた物質（群）の濃
度をそれらがガラス基体に達するまでにジエツト
が稀釈することのためと思われるが被覆／基体界
面での被覆の欠点の出現を低減する効果を有して
いる。

導管４５からの空気のジエツトはガラスリボン
の通路の幅全体にわたり作用するのである一定の
瞬間にそのジエツトを構成するガスのかなりの量
は液滴流れと同調することなく液滴流れ群の移動
横断路を横切つて移動する。この空気は該横断路
から蒸気を一掃し従つてそれらがこういつた流れ
群に連行されないようにする効果を有する。従つ
てこの方法は同日付特許願(1)号発明をも含むもの
である。

導管４５に供給される空気は常温例えば25℃の
ものでありうる。しかしながら、リボン通路の幅
全体にわたり空気が連続的に排出され、空気の容
積流量は第３図および第４図の装置を用いる場合
の通常の量より実質的に大であるので、空気を予
熱することが好ましい。予熱温度は同日付特許願
(3)号に記載されている如くスプレーされた液滴の
温度に影響するよう選択することができる。

下流側被覆ステーシヨンから下流には排気ダク
ト４７があり、その低い排気ガス入口部分４８は
前記被覆ステーシヨンの方へむけられている。下
流側被覆ステーシヨンでの液滴流れの横断路前面
付近の環境ガスを該通路から前方へ、また排気ダ
クト中へと流し去り、それによりガラスリボン通
路上の環境内から被覆上への物質沈着の危険性を
低減するため前記ダクト中に吸引力を連続して保
つための手段（図示なし）がもうけられている。

以下実施例により本発明方法を説明する。

実施例 １ 第３図および第４図につき説明したような被覆
装置がリビーオーエンス型引上げ法で幅３メート
ルのガラスリボンを製造する途中、ガラスリボン
の速度１メートル／分で被覆するのに用いられ
た。この被覆装置は液滴流れの衝突区域でのガラ
ス温度が600℃であるような位置に設置された。

スプレーガンは通常の型のもので、４Kg／cm²の
圧力で操作された。このガンはガラスリボンの30
cm上の高さのところでリボン通路を前後に横切り
毎分９往復するよう移動せしめられた。スプレー
ガンはスプレーの軸がガラスリボン面に35゜にな
るよう指向せられた。

スプレーガンには水和塩化錫（SnCl₂・2H₂O）
を水に、１当り塩化錫375ｇの割合でとかし、
１当り55ｇのNH₄HF₂を加えて得た塩化錫水溶
液を供給した。

被覆溶液の送出し速度はガラスリボン上に弗素
イオンでドープされた酸化錫の被覆で厚み7500Å
のものが得られるよう調節された。

圧縮空気のジエツトが、そのオリフイスがガラ
スリボンの20cm上にあるノズル２２から15m³／時
の速度で連続的に排出された。このノズルはリボ
ン面に対し45゜の傾斜になるよう、また空気ジエ
ツトをリボン上での液滴スプレーの衝突区域のす
ぐ後ろで、ガラスリボンの方へ噴出するよう調節
された。

空気排気システムは排気ダクト１１および１３
のそれぞれの吸引ノズル（これらノズルの位置は
ガラスリボンの20cm上）中に100mm水柱の低圧を
保つよう調節された。

この方法で得られる被覆ガラスは光学的品質が
極めて高度のものであり、被覆の内部あるいは被
覆／ガラス界面にごくわずかな量の光拡散性欠点
しかないことが判つた。

硝酸インジウムの水溶液から酸化インジウムの
被覆を作ることができ、同様に良好な結果が得ら
れた。

上記方法はまたフロートタンクからの移送中に
ガラスリボンの被覆に用いることもできる。

比較試験では、ノズル２２からガスを排出する
ことなく、他は同じ条件にして上記方法が実施さ
れた。得られた被覆ガラスは第２図に示されるよ
うなパターンで分布された光拡散域多数を有する
ことが判つた。

実施例 ３ 第３図および第４図につき述べたような装置
が、液滴の衝突域で580℃の温度を有するガラス
リボンの被覆に用いられた。スプレーガンには無
水SnCl₄とメタノールの反応生成物の溶液を供給
した。溶液の濃度は、溶液安定化のためHClを、
またドーピング剤としてNH₄HF₂を加えたあと、
ジメチルホルムアミドで調節された。

被覆溶液の送出しは、弗素でドープされた
SnO₂の被覆で厚み7200Åものがガラスリボン上
に作られるように調整された。

吸引力が実施例１の如く、ダクト１１および１
３内に連続的に保たれた。

圧縮空気のジエツトがスプレーガンのガラスリ
ボンを横切つての毎横断中にノズル２２から連続
して排出された。このジエツトは液滴流れの下
部、すなわち基体のすぐ近くにむけられた。空気
の送出し速度はかかる液滴流れの自然の形を幾分
変形させるに充分なものとした。

被覆は高度の品質のもので、ガラス／被覆界面
での光拡散を生じる界面的欠点はごくわずかしか
認められなかつた。

上記方法の改変例で上記被覆溶液の代りに
SnCl₄と無水酢酸を理論割合で反応させ、得られ
た極めて粘稠な黒褐色液をおだやかにかきまぜて
HClをにがし、混合物をジメチルホルムアミドで
稀釈し、数c.c.の40容積％の市販HF液をドーピン
グ剤として加えて得た溶液を用い、実質的に同じ
結果が得られた。

さらに別の試験では、一つの場合にはノズル２
２をその軸がスプレーコーンの後方境界とガラス
リボンの交叉線と一直線になるような下方傾斜で
指向させ、さらに他の場合にはノズル２２が第５
図の導管４５からジエツトのように水平に向けら
れるようにして実施例２の方法がくり返された。
得られた被覆の質は第３図に示され、実施例２と
同様、傾斜ノズル位置を用いた場合と同様良好な
ものであつた。

実施例 ３ 第３図ならびに第４図に示されるような被覆装
置を用い、フロータンクから4.5メートル／分の
速度で送られる間に幅約2.5メートルのフロート
ガラスのリボンを被覆した。スプレーガン２０は
水平に対し30゜にセツトされ、空気ノズル２２は
水平に対し27゜の角度にセツトされ、スプレーの
下部でガラスリボン付近へと直接向けられるよう
にした。

スプレーガンは通常の型のもので３Kg／cm²の圧
力下に操作された。ガンはガラスリボンの25cm上
にもうけられ、リボン面に30゜の傾斜でむけられ
た。このガンを毎分10サイクルで往復させた。ガ
ンにはコバルトアセチルアセトネートCo
（C₅H₇O₂）2H₂Oをジメチルホルムアミドにとか
して得た溶液を供給した。ガンはこの溶液がガラ
スリボンにその通路にそいガラス温度580℃の位
置に衝突するよう位置せしめられた。

排気ダクト１１の吸引ノズル１２はガラスリボ
ンの20cm上に位置せしめた。吸引力はこの吸引ノ
ズル中に50mm水柱の低圧が保たれるよう調節され
た。排気ダクト１３は使用しなかつた。

被覆溶液の排出速度は厚み920Åの酸化コバル
ト（Co₃O₄）の被覆がガラス上に作られるよう調
節された。

圧縮空気のジエツトがガラスリボンの15cm上の
高さに位置されたノズル２２から連続的に排出さ
れた。空気の排出の容積流量は、ジエツトが直接
液滴流れに作用するが、スプレーコーンの形に変
える程強くはないようにセツトされた。被覆溶液
が極めて揮発性であるので実施例１〜２で用いら
れたものに比し比較的弱いジエツトが用いられ
た。

ガラスリボン上に形成された被覆は透過でみる
と褐色をしており、被覆の内部あるいはガラス／
被覆界面に由来するくもりはごくわずかな痕跡で
しかなかつた。

スプレーガンに種類のことなつた金属が化合物
の混合物例えば鉄、コバルト、クロム、ニツケル
から選ばれる金属の化合物の混合物を含む溶液を
供給することにより、あるいは多数のスプレーガ
ンを用い各々のガンに同時にことなる溶液を供給
することにより、酸化物の混合物からなる着色層
を作るのに上記被覆法を実施することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明装置との対比を容易ならしめる
ために示した従来の被覆装置の側断面図、第２図
は第１図装置を用いて得られる被覆の平面図、第
３図は本発明にかかる被覆装置の側断面図、第４
図は第３図の装置のスプレーノズル部付近の部分
拡大平面図、第５図はさらに別の具体例にかかる
本発明装置の側断面図を示す。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 加熱ガラス基体を被覆ステーシヨン中一定方
   向（以下前方方向と称す）に移行させる間に該基
   体をそれから被覆金属あるいは金属化合物が基体
   面上に作られる物質あるいは物質群を含む液滴の
   少なくとも一つの流れと接触させることによりガ
   ラス基体の一面に金属あるいは金属化合物の被覆
   を形成せしめる方法において、前記液滴流れ
   （群）が基体の方に下方前方にあるいは下方後方
   に傾斜され、少なくとも一つのガスのジエツトが
   基体上の環境中に排出され、それが基体上で同じ
   方向（前方あるいは後方）に流れ液滴流れ（群）
   と衝突するようにせられることを特徴とする方
   法。 ２ 液滴流れ（群）が基体の方へ下方前方に傾斜
   せられる特許請求の範囲第１項記載の方法。 ３ 少なくとも一つの前記液滴の流れが被覆され
   るべき基体面範囲内のある区域に衝突し、かかる
   流れが基体の通路を横断し反復移動せしめられる
   特許請求の範囲第１項あるいは第２項記載の方
   法。 ３ 液滴流れ（群）が基体通路を横断して前後に
   移動せられる特許請求の範囲第３項記載の方法。 ５ 液滴流れ（群）が被覆ステーシヨンで一方向
   に反復して基体通路を横切るよう無端コースにそ
   つてもうけられているスプレーヘツドあるいはス
   プレーヘツド（群）から排出される特許請求の範
   囲第３項記載の方法。 ６ 前記ガスジエツト（群）が液滴流れ（群）と
   同時に基体の通路を横断してもうけられているオ
   リフイスあるいはオリフイス群から排出される特
   許請求の範囲第４項あるいは第５項記載の方法。 ７ 前記ガスジエツト（群）が基体の通路を横断
   して伸びているあるいは分布されている一つの固
   定オリフイスあるいは固定オリフイス群から排出
   される特許請求の範囲第１項〜第５項の何れかに
   記載の方法。 ８ 前記ジエツト（群）を作るガスが外の出所か
   ら基体上の環境中に吹きこまれる特許請求の範囲
   第１項〜第７項の何れかに記載の方法。 ９ 前記ジエツト（群）を作るガスの容積流量が
   液滴流れ（群）の断面の幾分かの変形をもたらす
   程度である特許請求の範囲第１項〜第８項の何れ
   かに記載の方法。 １０ ジエツト（群）の幅が液滴流れ（群）の幅
   全体に対しそれが確実に衝突するのに少なくとも
   充分な幅である特許請求の範囲第１項〜第９項の
   何れかに記載の方法。 １１ ガスジエツト（群）が細長い断面のもので
   長い方の断面寸法が基体の通路を横切る方向にな
   つている特許請求の範囲第１項〜第１０項の何れ
   かに記載の方法。 １２ その排出オリフイスから横に開く少なくと
   も一つのガスジエツトがある特許請求の範囲第１
   項〜第１１項の何れかに記載の方法。 １３ 前記ガスジエツト（群）がガラス基体に接
   近し、液滴流れの下部に対し作用するよう指向せ
   られる特許請求の範囲第１項〜第１２項の何れか
   に記載の方法。 １４ 前記ガスジエツト（群）が排出オリフイス
   （群）から下方に傾斜されている特許請求の範囲
   第１項〜第１３項の何れかに記載の方法。 １５ 前記の傾斜されたジエツト（群）がガラス
   基体から液滴流れの一つの下部の方へ偏よらされ
   るよう指向せられる特許請求の範囲第１４項記載
   の方法。 １６ 液滴がそれから金属酸化物被覆が基体面上
   に作られる金属塩例えば金属塩化物の溶液の液滴
   である特許請求の範囲第１項〜第１５項の何れか
   に記載の方法。 １７ 液滴流れからまわりのガスをガスジエツト
   （群）が指向せられるのと基体上で同じ方向に抜
   き去るためガス排気システムが作動せられる特許
   請求の範囲第１項〜第１６項の何れかに記載の方
   法。 １８ 基体支持体、基体がこのように支持される
   間に基体を一定方向（以下前方向と称す）に運搬
   するための手段、支持基体上に液滴の少なくとも
   一つの流れを排出するためのスプレー手段からな
   り、前記スプレー手段が少なくとも一つの前記液
   滴の流れを支持された基体上に下方前方あるいは
   下方後方傾斜で排出するよう構成され配置されて
   おり、また少なくとも一つのガスジエツトを基体
   上の環境中に排出しこのジエツトが基体上を同じ
   方向（前方あるいは後方）に流れ前記液滴流れ
   （群）と衝突するようにもうけられた送風手段を
   含むことを特徴とする加熱ガラス基体の一面に金
   属あるいは金属化合物の被覆を作るのに用いられ
   る装置。 １９ 前記スプレー手段が基体の運搬される通路
   を横断して液滴流れ（群）を前後にあるいは一方
   向に反復移動させるための駆動メカニズムと組合
   わされている特許請求の範囲第１８項記載の装
   置。 ２０ 被覆装置がその中をガラス基体の運ばれる
   トンネル内にもうけられ、ガスジエツト（群）を
   排出する手段がガスを前記トンネルの外から誘導
   する特許請求の範囲第１８項あるいは第１９項記
   載の装置。 ２１ 液滴流れ（群）から環境ガスを基体上で、
   ガス排出手段がガスジエツト（群）を排出するの
   と同じ方向（前方あるいは後方）に引き去るため
   配置されているガス排気手段を含む特許請求の範
   囲第１８項〜第２０項の何れかに記載の装置。