JPH05263049A - Tape for tab and its production - Google Patents

Tape for tab and its production

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JPH05263049A
JPH05263049A JP4093562A JP9356292A JPH05263049A JP H05263049 A JPH05263049 A JP H05263049A JP 4093562 A JP4093562 A JP 4093562A JP 9356292 A JP9356292 A JP 9356292A JP H05263049 A JPH05263049 A JP H05263049A
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Japan
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equivalent
dianhydride
film
pyromellitic dianhydride
polyamic acid
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Yoshifumi Okada
好史 岡田
Taku Ito
卓 伊藤
Hitoshi Nojiri
仁志 野尻
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Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
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Abstract

PURPOSE:To provide a tape for TAB which is free from warpage or curling and undergoes little dimensional change during processing or mounting by forming an adhesive layer and a protective layer on a film of a polyimide obtd. by the cyclodehydration of a specific polyamic acid copolymer. CONSTITUTION:A-equivalent of a linear diamine (e.g. p-phenylenediamine), b-equivalent of at least one tetracarboxylic acid dianhydride compd. selected from the group consisting of pyromellitic dianhydride and its derivs. (e.g. pyromellitic dianhydride), c-equivalent of at least one tetracarboxylic acid dianhydride selected from compds. of formulas I, II, and III, and d-equivalent of at least one flexible diamine (e.g. 4,4'-diaminodiphenyl ether) are made to react in such an equivalent ratio as to satisfy the relations: a>b, a-b<c<=2(a-b), and a+d=b+c, giving a polyamic acid copolymer. The copolymer is cyclodehydrated to give a polyimide, which is formed into a film. An adhesive layer and a protective layer are formed on the film.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は半導体デバイスの組立工
程において、デバイスの多ピン化、小型化、高密度実装
に際し、注目されているTAB(Tape Automated Bondi
ng) 方式に用いられる保護層、接着剤層及び有機絶縁フ
ィルムの3層構造から成るテープ(以下、TAB用テー
プという)とその製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention is a TAB (Tape Automated Bondi) which has attracted attention in the process of assembling semiconductor devices, in order to increase the number of pins of the device, reduce the size of the device, and mount the device at high density.
ng) method, a tape having a three-layer structure of a protective layer, an adhesive layer, and an organic insulating film (hereinafter, referred to as a TAB tape), and a manufacturing method thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術と発明が解決しようとする課題】TAB用
テープにLSIを実装する工程の一例を示すと、スリ
ットやホールなどのパンチング、保護層を除去した
後、銅箔のラミネーティングと接着剤の硬化、配線パ
ターンの形成(レジストの塗布、銅箔のエッチング、レ
ジストの剥離)、メッキ処理、LSIのインナーリ
ードボンディング、樹脂封止、パンチング、アウ
ターリードボンディングの各工程があり、以上の加工工
程を経てLSIが実装されている。したがって、TAB
用テープにLSIを実装するためには、そのベースフィ
ルムはLSIを支えるだけのこし、つまり高弾性率のフ
ィルムであることが必要である。
2. Description of the Related Art An example of a process for mounting an LSI on a TAB tape is as follows. Punching of slits and holes and removal of a protective layer are followed by copper foil laminating and adhesive. Curing, wiring pattern formation (resist coating, copper foil etching, resist peeling), plating, LSI inner lead bonding, resin encapsulation, punching, outer lead bonding. The LSI is then mounted. Therefore, TAB
In order to mount the LSI on the tape for use, the base film needs to be a strain that supports the LSI, that is, a film having a high elastic modulus.

【0003】また、かかる工程のうち、銅箔のラミネ
ーティング、接着剤の硬化、インナーリードボンディ
ング、樹脂封止、アウターリードボンディングの各
加工工程においては、熱がかけられるため、TAB用テ
ープのベースフィルムの熱膨張係数が大きいと不都合が
生じる。すなわち、ベースフィルムの熱膨張係数が大き
いと、たとえばインナーリードボンディングの加工工
程では、ベースフィルムの熱膨張により、LSIとの接
合位置にずれを生ずる。同様に、アウターリードボン
ディングの加工工程では、アウターリードと基板との接
合位置にずれを生ずることになる。
Further, among these steps, heat is applied in each of the steps of laminating the copper foil, curing the adhesive, inner lead bonding, resin sealing, and outer lead bonding, so that the base of the TAB tape is used. If the coefficient of thermal expansion of the film is large, inconvenience occurs. That is, if the thermal expansion coefficient of the base film is large, for example, in the processing step of inner lead bonding, the thermal expansion of the base film causes a shift in the bonding position with the LSI. Similarly, in the outer lead bonding processing step, a displacement occurs in the bonding position between the outer lead and the substrate.

【0004】更に、銅箔のラミネーティングの加工工
程では、銅箔とともにベースフィルムが加熱されるの
で、ベースフィルムが銅箔と異なった熱挙動を示すと、
すなわち銅箔と異なった熱膨張係数を有すると、ベース
フィルムと銅箔とがラミネーティングされたフィルムに
反りやカールが生ずる原因となる。
Further, in the laminating process of the copper foil, the base film is heated together with the copper foil, so that if the base film shows different thermal behavior from the copper foil,
That is, having a coefficient of thermal expansion different from that of the copper foil causes warping or curling of the film obtained by laminating the base film and the copper foil.

【0005】したがって、インナーリードボンディン
グの加工工程においては、LSI(シリコンウエハー)
とベースフィルムの熱膨張係数が近いこと(LSIの熱
膨張係数0.4×10-5-1) が必要であり、アウタ
ーリードボンディングの加工工程では、接合する基板と
ベースフィルムの熱膨張係数が近いことが必要であり、
銅箔のラミネーティングの加工工程では、銅箔とベー
スフィルムの熱膨張係数(銅箔の熱膨張係数1.6×1
-5-1) が近いことが必要である。
Therefore, in the process of inner lead bonding, LSI (silicon wafer) is used.
And the thermal expansion coefficient of the base film are close to each other (the thermal expansion coefficient of the LSI is 0.4 × 10 -5 ° C -1 ). Must be close,
In the process of laminating the copper foil, the coefficient of thermal expansion of the copper foil and the base film (the coefficient of thermal expansion of the copper foil 1.6 × 1
It should be close to 0 -5 ° C -1 ).

【0006】このため、TAB用テープに用いられるベ
ースフィルムは、高弾性率を有し、且つ熱膨張係数が
0.4〜1.6×10-5-1程度であることが好まし
い。そこで、これらの性質を有するベースフィルムを用
いたTAB用テープの出現が待ち望まれていた。
Therefore, it is preferable that the base film used for the TAB tape has a high elastic modulus and a coefficient of thermal expansion of about 0.4 to 1.6 × 10 -5 ° C -1 . Therefore, the advent of TAB tapes using a base film having these properties has been long awaited.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明者らは従来のTA
B用テープにおける上記の問題を起こすことのないTA
B用テープを提供することを目的に鋭意研究を重ねた結
果、所定のポリイミドフィルム上に接着剤層及び保護層
を設けることに想到し、本発明に至った。
SUMMARY OF THE INVENTION The present inventors have proposed a conventional TA
TA that does not cause the above problems in B tapes
As a result of earnest studies for the purpose of providing a tape for B, the inventors have come to the idea of providing an adhesive layer and a protective layer on a predetermined polyimide film, and have reached the present invention.

【0008】本発明に係るTAB用テープの要旨とする
ところは、a当量の少なくとも1種の直線性ジアミン
と、b当量のピロメリット酸二無水物又はピロメリット
酸二無水物誘導体から選ばれる1種若しくは2種以上の
テトラカルボン酸二無水物と、c当量の化4
The gist of the TAB tape according to the present invention is that it is selected from a equivalent of at least one linear diamine and b equivalent of pyromellitic dianhydride or pyromellitic dianhydride derivative. Or two or more tetracarboxylic dianhydrides and c equivalent of

【化4】 で表される少なくとも1種のテトラカルボン酸二無水物
と、d当量の1種若しくは2種以上の屈曲性ジアミン
を、該当量が式a>b,a−b<c≦2(a−b),a
+d=b+cを満たして得られたポリアミック酸共重合
体を脱水閉環して得られるポリイミドフィルム上に、接
着剤層及び保護層を設けてなることにある。
[Chemical 4] Of at least one tetracarboxylic dianhydride and d equivalent of one or more flexible diamines, the corresponding amounts of formula a> b, ab <c ≦ 2 (ab ), A
That is, an adhesive layer and a protective layer are provided on a polyimide film obtained by dehydrating and ring-closing a polyamic acid copolymer obtained by satisfying + d = b + c.

【0009】次に、本発明に係るTAB用テープの製造
方法の要旨とするところは、少なくとも1種の直線性ジ
アミンa当量とピロメリット酸二無水物又はピロメリッ
ト酸二無水物誘導体から選ばれる1種若しくは2種以上
のテトラカルボン酸二無水物b当量を反応させた後、該
反応溶液に化5
Next, the gist of the method for producing a TAB tape according to the present invention is to select from at least one linear diamine a equivalent and pyromellitic dianhydride or pyromellitic dianhydride derivative. After reacting one or more tetracarboxylic acid dianhydride b equivalents, the reaction solution is converted to

【化5】 で表される少なくとも1種のテトラカルボン酸二無水物
c当量を加え、更に1種若しくは2種以上の屈曲性ジア
ミンd当量を加えることにより得られるポリアミック酸
共重合体を脱水閉環して得られるポリイミドフィルム
に、接着剤層及び保護層を設けることにある。
[Chemical 5] The polyamic acid copolymer obtained by adding c equivalent of at least one tetracarboxylic acid dianhydride represented by and further adding one equivalent of two or more kinds of flexible diamine d is dehydrated and ring-closed. To provide an adhesive layer and a protective layer on the polyimide film.

【0010】また、本発明に係るTAB用テープの製造
方法の他の要旨とするところは、1種又は2種以上の屈
曲性ジアミンd当量と、化6
Another aspect of the method for producing a TAB tape according to the present invention is that one or more kinds of flexible diamines d equivalent and

【化6】 で表される少なくとも1種のテトラカルボン酸二無水物
c当量を反応させた後、少なくとも1種の直線性ジアミ
ンa当量を加え、次に、ピロメリット酸二無水物又はピ
ロメリット酸二無水物誘導体から選ばれる1種若しくは
2種以上のテトラカルボン酸二無水物b当量を加えるこ
とにより得られるポリアミック酸共重合体を脱水閉環し
て得られるポリイミドフィルムに、接着剤層及び保護層
を設けることにある。
[Chemical 6] After reacting at least one tetracarboxylic acid dianhydride c equivalent, at least one linear diamine a equivalent is added, and then pyromellitic dianhydride or pyromellitic dianhydride is added. Providing an adhesive layer and a protective layer on a polyimide film obtained by dehydration ring closure of a polyamic acid copolymer obtained by adding one equivalent of tetracarboxylic acid dianhydride b equivalent selected from derivatives It is in.

【0011】[0011]

【実施例】次に、本発明の実施例を詳しく説明する。本
発明に係るTAB用テープは所定のポリイミドフィルム
に接着剤層と保護層が設けられて構成されている。そし
て、この所定のポリイミドフィルムは、a当量の少なく
とも1種の直線性ジアミンと、b当量のピロメリット酸
二無水物又はピロメリット酸二無水物誘導体から選ばれ
る1種若しくは2種以上のテトラカルボン酸二無水物
と、c当量の化学式群(1)化7
EXAMPLES Next, examples of the present invention will be described in detail. The TAB tape according to the present invention comprises a predetermined polyimide film provided with an adhesive layer and a protective layer. Then, this predetermined polyimide film has at least one kind of linear diamine of a equivalent and one or more kinds of tetracarboxylic acid selected from b equivalent of pyromellitic dianhydride or pyromellitic dianhydride derivative. Acid dianhydride and c equivalent chemical formula group (1)

【化7】 で表される少なくとも1種のテトラカルボン酸二無水物
と、d当量の1種若しくは2種以上の屈曲性ジアミン
を、該当量が式a>b,a−b<c≦2(a−b),a
+d=b+cを満たして得られたポリアミック酸共重合
体を脱水閉環して得られる。
[Chemical 7] Of at least one tetracarboxylic dianhydride and d equivalent of one or more flexible diamines, the corresponding amounts of formula a> b, ab <c ≦ 2 (ab ), A
A polyamic acid copolymer obtained by satisfying + d = b + c can be obtained by dehydration ring closure.

【0012】ここで、本発明に用いる直線性ジアミンと
はエーテル結合などの屈曲基を含まず、2つの窒素原子
を結ぶ直線とジアミンの主鎖方向が一致するような構造
を有するジアミン化合物を指す。たとえば、化8
Here, the linear diamine used in the present invention refers to a diamine compound which does not include a bending group such as an ether bond and has a structure in which the straight line connecting two nitrogen atoms and the main chain direction of the diamine are the same. . For example,

【化8】 (但し、XはF,Cl, Br, CH3 , CH3 O, CF3 を示
す。) などのジアミンを例示することができる。
[Chemical 8] (However, X represents F, Cl, Br, CH 3 , CH 3 O, CF 3 ) and the like.

【0013】一方、屈曲性ジアミンとは主鎖中にエーテ
ル結合やカルボニル基などの屈曲基を含む構造を有する
ジアミン、又はメタ位・オルト位の結合を含む芳香族ジ
アミンを指し、たとえば化9、化10、化11及び化1
On the other hand, the flexible diamine refers to a diamine having a structure containing a flexible group such as an ether bond or a carbonyl group in the main chain, or an aromatic diamine containing a meta-position or ortho-position bond. Chemical formula 10, Chemical formula 11 and Chemical formula 1
Two

【化9】 [Chemical 9]

【化10】 [Chemical 10]

【化11】 [Chemical 11]

【化12】 などのジアミンを例示することができる。[Chemical 12] Diamines such as

【0014】また、本発明に用いられるテトラカルボン
酸二無水物は、ピロメリット酸二無水物又はピロメリッ
ト酸二無水物誘導体から選ばれる1種若しくは2種以上
のテトラカルボン酸二無水物と、上記化学式群(1)化
7で表される少なくとも1種のテトラカルボン酸二無水
物がそれぞれ用いられる。
The tetracarboxylic dianhydride used in the present invention is one or more tetracarboxylic dianhydrides selected from pyromellitic dianhydride or pyromellitic dianhydride derivatives, At least one tetracarboxylic acid dianhydride represented by the chemical formula group (1) -Chemical formula 7 is used.

【0015】これら直線性ジアミンと屈曲性ジアミン、
及びピロメリット酸二無水物又はピロメリット酸二無水
物誘導体から選ばれる1種若しくは2種以上のテトラカ
ルボン酸二無水物と、上記化学式群(1)化7で表され
る少なくとも1種のテトラカルボン酸二無水物がそれぞ
れ所定量反応させられて、ポリイミドの前駆体であるポ
リアミック酸共重合体溶液が得られるのであるが、この
ポリアミック酸共重合体溶液は酸無水物とジアミン成分
を有機極性溶媒中で重合して得られる。このポリアミッ
ク酸共重合体の生成反応に使用される有機極性溶媒とし
ては、たとえばジメチルスルホキシド、ジエチルスルホ
キシドなどのスルホキシド系溶媒、N,N−ジメチルホ
ルムアミド、N,N−ジエチルホルムアミドなどのホル
ムアミド系溶媒、N,N−ジメチルアセトアミド、N,
N−ジエチルアセトアミドなどのアセトアミド系溶媒、
N−メチル−2−ピロリドン、N−ビニル−2−ピロリ
ドンなどのピロリドン系溶媒、フェノール、o−、m
−、又はp−クレゾール、キシレノール、ハロゲン化フ
ェノール、カテコールなどのフェノール系溶媒、あるい
はヘキサメチルホスホルアミド、γ−ブチロラクトンな
どを挙げることができ、これらを単独又は混合物として
用いるのが好ましいが、更にキシレン、トルエンのよう
な芳香族炭化水素の一部使用も可能である。
These linear and flexible diamines,
And one or more tetracarboxylic acid dianhydrides selected from pyromellitic dianhydride or pyromellitic dianhydride derivatives, and at least one tetracarboxylic acid represented by the chemical formula group (1) Chemical formula 7 The carboxylic acid dianhydrides are each reacted in a predetermined amount to obtain a polyamic acid copolymer solution which is a precursor of polyimide, and this polyamic acid copolymer solution has an acid anhydride and a diamine component as organic polarities. Obtained by polymerizing in a solvent. Examples of the organic polar solvent used in the reaction for producing the polyamic acid copolymer include sulfoxide solvents such as dimethyl sulfoxide and diethyl sulfoxide; formamide solvents such as N, N-dimethylformamide and N, N-diethylformamide; N, N-dimethylacetamide, N,
Acetamide-based solvent such as N-diethylacetamide,
Pyrrolidone-based solvents such as N-methyl-2-pyrrolidone and N-vinyl-2-pyrrolidone, phenol, o-, m
-Or p-cresol, xylenol, halogenated phenol, phenolic solvents such as catechol, hexamethylphosphoramide, γ-butyrolactone and the like can be mentioned, and it is preferable to use these alone or as a mixture, Partial use of aromatic hydrocarbons such as xylene and toluene is also possible.

【0016】本発明のTAB用テープに用いられる機械
的諸特性が優れたポリイミドフィルムはその前駆体であ
るポリアミック酸共重合体溶液から得られるが、このポ
リアミック酸共重合体溶液は酸無水物とジアミン成分を
実質等モル使用し、次の関係式を満たして得られる。す
なわち、かかるポリアミック酸共重合体溶液は、少なく
とも1種の直線性ジアミンをa当量、ピロメリット酸二
無水物又はピロメリット酸二無水物誘導体から選ばれる
1種若しくは2種以上のテトラカルボン酸二無水物をb
当量、化学式群(1)化7で表される少なくとも1種の
テトラカルボン酸二無水物をc当量、1種若しくは2種
以上の屈曲性ジアミンをd当量として、これらの各当量
が関係式a>b,a−b<c≦2(a−b),a+d=
b+cを満たして得られる。
The polyimide film having excellent mechanical properties used in the TAB tape of the present invention is obtained from a polyamic acid copolymer solution which is a precursor thereof, and the polyamic acid copolymer solution is used as an acid anhydride. It is obtained by using the diamine component in a substantially equimolar amount and satisfying the following relational expression. That is, such a polyamic acid copolymer solution contains at least one linear diamine a equivalent, and one or more tetracarboxylic dianhydrides selected from pyromellitic dianhydride or pyromellitic dianhydride derivatives. Anhydrous b
Equivalents, at least one tetracarboxylic acid dianhydride represented by Chemical Formula Group (1) Chemical formula 7 is c equivalent, and one or two or more flexible diamines are d equivalents, and each of these equivalents is represented by the relational expression a > B, a−b <c ≦ 2 (a−b), a + d =
It is obtained by satisfying b + c.

【0017】次に、上記関係式を満たして得られるポリ
アミック酸共重合体の4種類の合成法を示す。
Next, four kinds of synthetic methods of the polyamic acid copolymer obtained by satisfying the above relational expressions will be shown.

【0018】合成法 1 容器に有機極性溶媒と、直線性ジアミン1種若しくは2
種以上をa当量取り、冷却攪拌する。次に、この混合液
に、ピロメリット酸二無水物又はピロメリット酸二無水
物誘導体から選ばれる少なくとも1種のテトラカルボン
酸二無水物をb当量加え、好ましくは20分以上冷却攪
拌して反応させる。この反応液に上記化学式群(1)化
7から選ばれるテトラカルボン酸二無水物を1種若しく
は2種以上のc当量を加え、好ましくは20分以上冷却
攪拌する。次いで、この反応液に屈曲性ジアミン1種若
しくは2種以上をd当量、徐々に加えながら冷却攪拌し
て、ポリアミック酸共重合体溶液を得る。
Synthesis Method 1 Organic polar solvent and linear diamine 1 or 2 in a container
Take a equivalent of seeds or more and stir with cooling. Next, to this mixed solution, b equivalent of at least one tetracarboxylic acid dianhydride selected from pyromellitic dianhydride or pyromellitic dianhydride derivative is added, and the reaction is carried out by cooling and stirring for preferably 20 minutes or more. Let To this reaction solution, one or two or more tetracarboxylic acid dianhydrides selected from the chemical formula group (1) -Chem. Next, one or more flexible diamines are gradually added to this reaction solution in d equivalent amounts, and the mixture is cooled and stirred to obtain a polyamic acid copolymer solution.

【0019】合成法 2 容器に有機極性溶媒と、ピロメリット酸二無水物又はピ
ロメリット酸二無水物誘導体から選ばれる少なくとも1
種のテトラカルボン酸二無水物をb当量取り、冷却攪拌
する。次に、この混合液に直線性ジアミン1種若しくは
2種以上をa当量加え、好ましくは20分以上冷却攪拌
して反応させる。この反応液に上記化学式群(1)化7
から選ばれるテトラカルボン酸二無水物を1種若しくは
2種以上のc当量を加え、好ましくは20分以上冷却攪
拌する。次いで、この反応液に屈曲性ジアミン1種若し
くは2種以上をd当量、徐々に加えながら冷却攪拌し
て、ポリアミック酸共重合体溶液を得る。
Synthetic Method 2 At least one selected from an organic polar solvent and pyromellitic dianhydride or pyromellitic dianhydride derivative in a container.
Take b equivalent of seed tetracarboxylic dianhydride and stir with cooling. Next, one or more linear diamines are added to this mixed solution in an amount of a equivalent, and the mixture is reacted by cooling and stirring for preferably 20 minutes or more. The reaction solution is converted into the above chemical formula group (1) 7
The tetracarboxylic acid dianhydride selected from the above is added to one or two or more kinds of c equivalent, and the mixture is cooled and stirred for preferably 20 minutes or more. Next, one or more flexible diamines are gradually added to this reaction solution in d equivalent amounts, and the mixture is cooled and stirred to obtain a polyamic acid copolymer solution.

【0020】合成法 3 容器に有機極性溶媒と、屈曲性ジアミンの1種若しくは
2種以上をd当量取り、冷却攪拌する。次に、この混合
液に上記化学式群(1)化7から選ばれるテトラカルボ
ン酸二無水物の1種若しくは2種以上をc当量加え、好
ましくは20分以上冷却攪拌して反応させる。この反応
液に直線性ジアミンの1種若しくは2種以上をa当量加
え、好ましくは20分以上冷却攪拌する。次いで、この
反応液にピロメリット酸二無水物又はピロメリット酸二
無水物誘導体から選ばれる少なくとも1種のテトラカル
ボン酸二無水物をb当量、徐々に加えながら冷却攪拌し
て、ポリアミック酸共重合体溶液を得る。
Synthetic Method 3 An organic polar solvent and one or more kinds of flexible diamines are d equivalent, and the mixture is cooled and stirred. Next, c equivalent of one or more tetracarboxylic acid dianhydrides selected from the chemical formula group (1) -Chemical formula 7 is added to this mixed liquid, and the mixture is reacted by cooling and stirring for preferably 20 minutes or more. One or two or more kinds of linear diamines are added to this reaction solution in an a equivalent amount, and the mixture is cooled and stirred for preferably 20 minutes or more. Then, b equivalent of at least one tetracarboxylic acid dianhydride selected from pyromellitic dianhydride or pyromellitic dianhydride derivative is gradually added to this reaction solution while cooling and stirring to obtain polyamic acid copolymer. Obtain a coalescing solution.

【0021】合成法 4 容器に有機極性溶媒と、上記化学式群(1)化7から選
ばれるテトラカルボン酸二無水物の1種若しくは2種以
上をc当量取り、冷却攪拌する。次に、この混合液に屈
曲性ジアミンの1種若しくは2種以上をd当量加え、好
ましくは20分以上冷却攪拌して反応させる。この反応
液に直線性ジアミンの1種若しくは2種以上をa当量加
え、好ましくは20分以上冷却攪拌する。次いで、この
反応液にピロメリット酸二無水物又はピロメリット酸二
無水物誘導体から選ばれる少なくとも1種のテトラカル
ボン酸二無水物をb当量、徐々に加えながら冷却攪拌し
てポリアミック酸共重合体溶液を得る。
Synthetic Method 4 In a container, an organic polar solvent and one or more tetracarboxylic dianhydrides selected from the chemical formula group (1) -Chemical formula 7 are taken in c equivalent amounts and cooled and stirred. Next, one or two or more kinds of the flexible diamine are added to this mixed solution in a d equivalent amount, and the mixture is reacted by cooling and stirring for preferably 20 minutes or more. One or two or more kinds of linear diamines are added to this reaction solution in an a equivalent amount, and the mixture is cooled and stirred for preferably 20 minutes or more. Then, b equivalent of at least one tetracarboxylic acid dianhydride selected from pyromellitic dianhydride or pyromellitic dianhydride derivative is gradually added to this reaction liquid while cooling and stirring to obtain a polyamic acid copolymer. Get a solution.

【0022】以上のポリアミック酸共重合体溶液の合成
法において、有機極性溶媒の量は特に限定されるもので
はないが、このポリアミック酸共重合体は有機極性溶媒
中に5〜40重量%、好ましくは10〜30重量%溶解
させられているのが取扱いの面から好ましい。
In the above method for synthesizing the polyamic acid copolymer solution, the amount of the organic polar solvent is not particularly limited, but the polyamic acid copolymer is contained in the organic polar solvent in an amount of 5 to 40% by weight, preferably Is preferably dissolved in an amount of 10 to 30% by weight from the viewpoint of handling.

【0023】この有機極性溶媒に溶解させられた芳香族
ポリアミック酸共重合体をポリイミドに転化させて、本
発明のポリイミドフィルムを得るためには、熱的に脱水
する熱的方法と、脱水剤及び必要な触媒を用いる化学的
方法のいずれを用いても良いが、化学的方法によると生
成するポリイミドフィルムの伸びや引張強度などの機械
特性が優れたものになるので好ましい。
In order to obtain the polyimide film of the present invention by converting the aromatic polyamic acid copolymer dissolved in this organic polar solvent into a polyimide, a thermal method of thermal dehydration, a dehydrating agent and Any chemical method using a necessary catalyst may be used, but the chemical method is preferable because the resulting polyimide film has excellent mechanical properties such as elongation and tensile strength.

【0024】次に、ポリイミドフィルムの作成方法につ
いて、その一例を説明する。上記ポリアミック酸共重合
体又はその溶液に化学量論以上の脱水剤と触媒量の第3
級アミンを加えた溶液をドラムあるいはエンドレスベル
ト上に流延又は塗布して膜状とし、その膜を150℃以
下の温度で約5〜90分間乾燥させ、自己支持性のポリ
アミック酸の膜を得る。次いで、この膜をエンドレスベ
ルトなどの支持体より引き剥がし、そのフィルムの端部
を固定する。その後、このポリアミック酸のフィルムを
約100〜500℃まで徐々に加熱することによりイミ
ド化させ、冷却後、固定されたフィルムの端部を取り外
して、本発明に用いられるポリイミドフィルムが得られ
る。
Next, an example of a method for producing a polyimide film will be described. The above polyamic acid copolymer or the solution thereof may be used in a stoichiometric amount of a dehydrating agent and a catalytic amount of
The solution to which a primary amine is added is cast or coated on a drum or an endless belt to form a film, and the film is dried at a temperature of 150 ° C. or lower for about 5 to 90 minutes to obtain a self-supporting polyamic acid film. . Next, this film is peeled off from a support such as an endless belt, and the end portion of the film is fixed. Then, the film of this polyamic acid is gradually heated to about 100 to 500 ° C. to imidize it, and after cooling, the end of the fixed film is removed to obtain the polyimide film used in the present invention.

【0025】ここで、脱水剤としては、たとえば無水酢
酸などの脂肪族酸無水物、芳香族酸無水物などが挙げら
れる。また、触媒としては、たとえばトリエチルアミン
などの脂肪族第3級アミン類、ジメチルアニリンなどの
芳香族第3級アミン類、ピリジン、ピコリン、イソキノ
リンなどの複素環式第3級アミン類などが挙げられる。
Here, examples of the dehydrating agent include aliphatic acid anhydrides such as acetic anhydride and aromatic acid anhydrides. Examples of the catalyst include aliphatic tertiary amines such as triethylamine, aromatic tertiary amines such as dimethylaniline, and heterocyclic tertiary amines such as pyridine, picoline, and isoquinoline.

【0026】また、本発明のTAB用テープに用いられ
るポリイミドフィルムの厚みは25〜180μm程度の
ものが用いられるが、取扱いの利便性、フィルム強度、
小型化対応のための薄肉化要求などのバランスから50
〜125μmがより好適である。
The thickness of the polyimide film used in the TAB tape of the present invention is about 25 to 180 μm, which is convenient for handling, film strength,
50 from the balance of thinning requirements for downsizing
˜125 μm is more preferred.

【0027】次に、本発明のTAB用テープに用いられ
る接着剤としては、たとえばエポキシ樹脂、ポリアミド
樹脂、フェノール樹脂、アクリル樹脂、ポリイミド樹
脂、ゴム系樹脂などを単独又は種々の割合で溶剤ととも
に混合したものを用い、更に、必要に応じて硬化剤や硬
化促進剤などの添加剤を添加したものを用いることがで
きる。
Next, as the adhesive used in the TAB tape of the present invention, for example, epoxy resin, polyamide resin, phenol resin, acrylic resin, polyimide resin, rubber resin, etc. may be used alone or in various proportions with a solvent. It is possible to use the above-mentioned products, and further to which additives such as a curing agent and a curing accelerator are added if necessary.

【0028】また、接着剤層の保護層となる保護フィル
ムとしては、接着剤の乾燥時に軟化したり、変質を起こ
さない程度に耐熱性を有していれば、どのようなもので
も良いが、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエス
テルフィルムあるいはポリプロピレンなどのポリオレフ
ィンフィルムが好適である。
Any protective film may be used as a protective layer for the adhesive layer as long as it has heat resistance to the extent that it does not soften or deteriorate when the adhesive is dried. A polyester film such as polyethylene terephthalate or a polyolefin film such as polypropylene is suitable.

【0029】本発明に係るTAB用テープは上述の所定
のポリイミドフィルムに接着剤層と保護層となる保護フ
ィルムを設けて製造される。より具体的には、先ず、保
護フィルム上に所定の配合の接着剤を、最終膜厚が10
〜40μm、好ましくは15〜30μmになるように均
一に塗布する。次いで、その接着剤溶液を乾燥させ、接
着剤層を半硬化状態(B−ステージ化状態)にする。そ
の後、保護フィルム上の接着剤層にポリイミドフィルム
を重ね合わせて、温度20〜180℃、圧力0.1kg/
cm2 以上の条件で圧着し、TAB用テープが得られる。
The TAB tape according to the present invention is manufactured by providing the above-mentioned predetermined polyimide film with an adhesive layer and a protective film serving as a protective layer. More specifically, first, an adhesive having a predetermined composition is applied on the protective film so that the final film thickness is 10
-40 μm, preferably 15-30 μm. Next, the adhesive solution is dried to bring the adhesive layer into a semi-cured state (B-staged state). Then, the polyimide film is overlaid on the adhesive layer on the protective film, and the temperature is 20 to 180 ° C. and the pressure is 0.1 kg /
The tape for TAB is obtained by pressure bonding under the condition of cm 2 or more.

【0030】なお、得られたTAB用テープを用いてT
ABテープを製造するには、既術したように通常、TA
B用テープから保護フィルムを剥離した後、必要なスリ
ットやホールなどをパンチングにより孔開けし、次いで
所定位置に銅箔などを熱圧着してラミネートし、更に、
その銅箔をエッチングして回路を形成して、TABテー
プが製造されるのである。
The obtained TAB tape was used for T
In order to manufacture AB tape, it is usually TA
After peeling off the protective film from the B tape, punching necessary slits and holes by punching, then thermocompression-bonding copper foil or the like at a predetermined position and laminating,
The copper foil is etched to form a circuit, and the TAB tape is manufactured.

【0031】次に、本発明の実施例を詳述する。 実施例 1 2リットルのセパラブルフラスコに有機極性溶媒として
DMF(ジメチルホルムアミド)と、直線性ジアミンと
してp−PDA(パラフェニレンジアミン)を2当量取
り、ジアミノ化合物が完全に溶解するまで室温でよく混
合し、その後、氷で冷却しながら攪拌した。次に、PM
DA(無水ピロメリット酸)1当量を加え、40分間冷
却攪拌した。そして、BTDA(ベンゾフェノンテトラ
カルボン酸二無水物)2当量を一気に加え、40分間冷
却攪拌した。更に、屈曲性ジアミンとしてODA(4、
4′−ジアミノジフェニルエーテル)1当量をDMFに
溶かし、そのODA溶液を上記反応液に徐々に加え、そ
の後1時間冷却攪拌してポリアミック酸のDMF溶液を
得た。なお、DMFの使用量はジアミノ化合物及び芳香
族テトラカルボン酸化合物のモノマー仕込濃度が18重
量%となるようにした。また、p−PDAなどの添加量
は前記関係式を満たすものであった。
Next, examples of the present invention will be described in detail. Example 1 DMF (dimethylformamide) as an organic polar solvent and 2 equivalents of p-PDA (paraphenylenediamine) as a linear diamine were placed in a 2-liter separable flask and mixed well at room temperature until the diamino compound was completely dissolved. Then, the mixture was stirred while cooling with ice. Next, PM
One equivalent of DA (pyromellitic dianhydride) was added, and the mixture was cooled and stirred for 40 minutes. Then, 2 equivalents of BTDA (benzophenone tetracarboxylic acid dianhydride) was added all at once, and the mixture was cooled and stirred for 40 minutes. Furthermore, ODA (4,
1 equivalent of 4'-diaminodiphenyl ether) was dissolved in DMF, the ODA solution was gradually added to the above reaction solution, and then the mixture was cooled and stirred for 1 hour to obtain a DMF solution of polyamic acid. The amount of DMF used was such that the monomer charge concentration of the diamino compound and the aromatic tetracarboxylic acid compound was 18% by weight. Further, the added amount of p-PDA or the like satisfied the above relational expression.

【0032】次に、得られたポリアミック酸溶液をガラ
ス板上に流延塗布し、約100℃で約30分間乾燥させ
た後、ポリアミック酸塗膜をガラス板より剥がし、その
塗膜を支持枠に固定し、その後約100℃で約30分
間、約200℃で約60分間、約300℃で約60分間
順次加熱し、脱水閉環させてポリイミドに転化させると
ともに乾燥させ、約75μmのポリイミドフィルムを得
た。得られたポリイミドフィルムの物性を表1に示す。
Next, the obtained polyamic acid solution was cast-coated on a glass plate and dried at about 100 ° C. for about 30 minutes, then the polyamic acid coating film was peeled off from the glass plate, and the coating film was supported on a supporting frame. Then, it is heated at about 100 ° C. for about 30 minutes, at about 200 ° C. for about 60 minutes, and at about 300 ° C. for about 60 minutes in order, dehydrated and ring-closed to be converted into polyimide, and then dried to form a polyimide film of about 75 μm Obtained. Table 1 shows the physical properties of the obtained polyimide film.

【0033】次いで、表面に剥離剤処理を施した保護用
ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムに、ビ
スフェノールA型エポキシ樹脂(E1001/油化シェ
ルエポキシ社製)50部、クレゾールノボラック型エポ
キシ樹脂(180H65/油化シェルエポキシ社製)1
0部、ポリアミド樹脂(M1276/日本リルサン社
製)40部、ジアミノジフェニルスルホン7部、ジシア
ンジアミド2部、トルエン35部、イソプロピルアルコ
ール15部から成る接着剤を乾燥後約20μmになるよ
うに塗布し、150℃で10分間乾燥させた。この接着
剤付きのPETフィルムを27mm幅にスリットし、この
PETフィルムを35mm幅にスリットした上記ポリイミ
ドフィルムと40℃で圧着し、TAB用テープを得た。
Next, on a protective polyethylene terephthalate (PET) film having a surface treated with a release agent, 50 parts of a bisphenol A type epoxy resin (E1001 / made by Yuka Shell Epoxy Co.) and a cresol novolac type epoxy resin (180H65 / oil). Shell made by Epoxy) 1
An adhesive consisting of 0 part, 40 parts of polyamide resin (M1276 / manufactured by Nippon Rilsan Co., Ltd.), 7 parts of diaminodiphenyl sulfone, 2 parts of dicyandiamide, 35 parts of toluene, and 15 parts of isopropyl alcohol was applied to a thickness of about 20 μm after drying, It was dried at 150 ° C. for 10 minutes. This PET film with an adhesive was slit to a width of 27 mm, and this PET film was pressure-bonded to the above polyimide film slit to a width of 35 mm at 40 ° C. to obtain a TAB tape.

【0034】このTAB用テープからPETテープを取
り除いた後、接着剤面と銅箔(三井金属製Low−pr
ofile電解銅箔VLP−3EC)を120℃にてラ
ミネートし、この状態で外観を観察した後、次の方法に
従ってエッチング後の寸法変化率を測定した。すなわ
ち、ベースのポリイミドフィルムに銅箔をラミネート
し、加熱・キュアを行った後、寸法変化率測定用の2個
のマーキング孔a,bをMD方向(機械製造方向)にパ
ンチングによって開け、このときのa−b間の初期値L
1 を測定した。次に、銅箔を全面エッチングした後、a
−b間L2 を測定し、次の計算式に基づいて、エッチン
グ前後の寸法変化率を算出した。 寸法変化率=(L1 −L2 )/L1 ×100% その結果を表1に示す。
After removing the PET tape from the TAB tape, the adhesive surface and the copper foil (Low-pr manufactured by Mitsui Kinzoku Co., Ltd.
After laying an electrolytic electrolytic copper foil VLP-3EC) at 120 ° C. and observing the appearance in this state, the dimensional change rate after etching was measured according to the following method. That is, after laminating a copper foil on a base polyimide film, heating and curing it, two marking holes a and b for measuring the dimensional change rate are punched in the MD direction (machine manufacturing direction). Initial value L between a and b of
1 was measured. Next, after the entire surface of the copper foil is etched,
L 2 between −b was measured, and the dimensional change rate before and after etching was calculated based on the following calculation formula. Dimensional change rate = (L 1 −L 2 ) / L 1 × 100% The results are shown in Table 1.

【表1】 [Table 1]

【0035】実施例 2 2リットルのセパラブルフラスコにDMFと、直線性ジ
アミンとしてp−PDAを4当量取り、ジアミノ化合物
が完全に溶解するまで室温でよく混合させ、その後、氷
で冷却しながら攪拌した。次に、PMDA2当量を加
え、40分間冷却攪拌した。そして、この反応液にBP
DA(ビフェニルテトラカルボン酸二無水物)3当量を
一気に加え、40分間冷却攪拌した。次いで、屈曲性ジ
アミンとしてBAPB(4、4′−ビス(アミノフェノ
キシフェニル)ビフェニル)1当量をDMFに溶かし、
これを上記反応液に徐々に加え、その後1時間冷却攪拌
してポリアミック酸のDMF溶液を得た。その後、実施
例1と同様の方法で焼成し、75μmのポリイミドフィ
ルムを得た。得られたポリイミドフィルムの物性を表1
に示す。
Example 2 DMF and 4 equivalents of p-PDA as a linear diamine were placed in a 2 liter separable flask, mixed well at room temperature until the diamino compound was completely dissolved, and then stirred while cooling with ice. did. Next, 2 equivalents of PMDA were added, and the mixture was cooled and stirred for 40 minutes. Then, add BP to this reaction solution.
3 equivalents of DA (biphenyltetracarboxylic dianhydride) were added all at once, and the mixture was cooled and stirred for 40 minutes. Then, 1 equivalent of BAPB (4,4′-bis (aminophenoxyphenyl) biphenyl) as a flexible diamine was dissolved in DMF,
This was gradually added to the above reaction solution and then cooled and stirred for 1 hour to obtain a DMF solution of polyamic acid. Then, it was baked in the same manner as in Example 1 to obtain a 75 μm polyimide film. Table 1 shows the physical properties of the obtained polyimide film.
Shown in.

【0036】このポリイミドフィルムを使用し、実施例
1と同様の方法でTAB用テープを得た後、銅箔とラミ
ネートして外観の観察と寸法変化の測定を行った。その
結果を表1に示す。
Using this polyimide film, a TAB tape was obtained in the same manner as in Example 1 and then laminated with a copper foil to observe the appearance and measure the dimensional change. The results are shown in Table 1.

【0037】実施例 3 2リットルのセパラブルフラスコにDMFと、屈曲性ジ
アミンとしてODAを1当量取り、ジアミノ化合物が完
全に溶解するまで室温でよく混合させ、その後、氷で冷
却しながら攪拌した。次に、BTDA2当量を加え、4
0分間冷却攪拌した。そして、この反応液にPMDA1
当量を一気に加え、40分間冷却攪拌した。次いで、直
線性ジアミンとしてp−PDA2当量をDMFに溶か
し、これを上記反応液に徐々に加え、その後1時間冷却
攪拌してポリアミック酸のDMF溶液を得た。その後、
実施例1と同様の方法で焼成し、75μmのポリイミド
フィルムを得た。得られたポリイミドフィルムの物性を
表1に示す。
Example 3 DMF and 1 equivalent of ODA as a flexible diamine were placed in a 2 liter separable flask, mixed well at room temperature until the diamino compound was completely dissolved, and then stirred while cooling with ice. Next, add 2 equivalents of BTDA to 4
The mixture was cooled and stirred for 0 minutes. Then, PMDA1 is added to this reaction solution.
The equivalent weight was added all at once, and the mixture was cooled and stirred for 40 minutes. Then, 2 equivalents of p-PDA as a linear diamine was dissolved in DMF, this was gradually added to the above reaction solution, and then the mixture was cooled and stirred for 1 hour to obtain a DMF solution of polyamic acid. afterwards,
Firing was performed in the same manner as in Example 1 to obtain a 75 μm polyimide film. Table 1 shows the physical properties of the obtained polyimide film.

【0038】このポリイミドフィルムを使用し、実施例
1と同様の方法でTAB用テープを得た後、銅箔とラミ
ネートして外観の観察と寸法変化の測定を行った。その
結果を表1に示す。
Using this polyimide film, a TAB tape was obtained in the same manner as in Example 1, and then laminated with a copper foil to observe the appearance and measure the dimensional change. The results are shown in Table 1.

【0039】比較例 1 前述の実施例1と同様の方法により、PMDAとODA
を等モルずつ用いて、75μmのポリイミドフィルムを
得た。得られたポリイミドフィルムの物性を表1に示
す。
Comparative Example 1 PMDA and ODA were prepared in the same manner as in Example 1 above.
To obtain a 75 μm polyimide film. Table 1 shows the physical properties of the obtained polyimide film.

【0040】このポリイミドフィルムを使用して、実施
例1と同様の方法でTAB用テープを得て、銅箔とラミ
ネートして外観の観察と寸法変化の測定を行った。その
結果を表1に示す。
Using this polyimide film, a TAB tape was obtained in the same manner as in Example 1, laminated with a copper foil, and the appearance was observed and the dimensional change was measured. The results are shown in Table 1.

【0041】比較例 2 2リットルのセパラブルフラスコにDMFと、ODAを
1当量取り、ジアミノ化合物が完全に溶解するまで室温
でよく混合させ、その後、氷で冷却しながら攪拌した。
次に、PMDA2当量を加え、40分間冷却攪拌した。
そして、p−PDA1当量をDMFに溶かし、これを上
記反応液に徐々に加え、このあと1時間冷却攪拌してポ
リアミック酸のDMF溶液を得た。その後、実施例1と
同様の方法で焼成し、75μmのポリイミドフィルムを
得た。得られたポリイミドフィルムの物性を表1に示
す。
Comparative Example 2 DMF and 1 equivalent of ODA were placed in a 2-liter separable flask and mixed well at room temperature until the diamino compound was completely dissolved, and then stirred while cooling with ice.
Next, 2 equivalents of PMDA were added, and the mixture was cooled and stirred for 40 minutes.
Then, 1 equivalent of p-PDA was dissolved in DMF, this was gradually added to the reaction solution, and then the mixture was cooled and stirred for 1 hour to obtain a DMF solution of polyamic acid. Then, it was baked in the same manner as in Example 1 to obtain a 75 μm polyimide film. Table 1 shows the physical properties of the obtained polyimide film.

【0042】このポリイミドフィルムを使用し、実施例
1と同様の方法で、TAB用テープを得、銅箔とラミネ
ートして外観の観察と寸法変化の測定を行った。結果を
表1に示す。
Using this polyimide film, a TAB tape was obtained in the same manner as in Example 1, laminated with a copper foil, and the appearance was observed and the dimensional change was measured. The results are shown in Table 1.

【0043】[0043]

【発明の効果】本発明は化13According to the present invention,

【化13】 で表される化学式群の中から選ばれる少なくとも1種の
テトラカルボン酸二無水物とピロメリット酸二無水物又
はその誘導体、及び直線性ジアミンと屈曲性ジアミンを
特定の比率で用いることによって、線膨張係数が銅箔な
どの金属あるいはガラスに対して極端に差がなく、かつ
特異的に弾性率が高いポリイミドフィルムを得ることが
できる。このため、このポリイミドフィルムをベースフ
ィルムとしてTAB用テープを構成することにより、反
りやカールが生ずることがなく、加工中及び実装時の寸
法変化が小さいため、多ピン・高密度パターンのテープ
キャリアパッケージに好適な材料となる。
[Chemical 13] By using at least one tetracarboxylic acid dianhydride and pyromellitic dianhydride or a derivative thereof selected from the chemical formula group represented by, and a linear diamine and a flexible diamine in a specific ratio, It is possible to obtain a polyimide film having a coefficient of expansion that is not significantly different from that of a metal such as copper foil or glass, and having a uniquely high elastic modulus. Therefore, by forming a TAB tape using this polyimide film as a base film, warping and curling do not occur, and the dimensional change during processing and mounting is small, so a tape carrier package with a multi-pin / high-density pattern. It is a suitable material for.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 a当量の少なくとも1種の直線性ジアミ
ンと、b当量のピロメリット酸二無水物又はピロメリッ
ト酸二無水物誘導体から選ばれる1種若しくは2種以上
のテトラカルボン酸二無水物と、c当量の化1 【化1】 で表される少なくとも1種のテトラカルボン酸二無水物
と、d当量の1種若しくは2種以上の屈曲性ジアミン
を、該当量が式a>b,a−b<c≦2(a−b),a
+d=b+cを満たして得られたポリアミック酸共重合
体を脱水閉環して得られるポリイミドフィルム上に、接
着剤層及び保護層を設けてなることを特徴とするTAB
用テープ。
1. An a-equivalent of at least one linear diamine and a b-equivalent of one or more tetracarboxylic dianhydrides selected from pyromellitic dianhydride or pyromellitic dianhydride derivatives. And c equivalent formula 1 Of at least one tetracarboxylic dianhydride and d equivalent of one or more flexible diamines, the corresponding amounts of formula a> b, ab <c ≦ 2 (ab ), A
A TAB comprising an adhesive layer and a protective layer provided on a polyimide film obtained by dehydration ring closure of a polyamic acid copolymer obtained by satisfying + d = b + c.
Tape.
【請求項2】 前記請求項1に記載するTAB用テープ
の製造方法において、少なくとも1種の直線性ジアミン
a当量とピロメリット酸二無水物又はピロメリット酸二
無水物誘導体から選ばれる1種若しくは2種以上のテト
ラカルボン酸二無水物b当量を反応させた後、該反応溶
液に化2 【化2】 で表される少なくとも1種のテトラカルボン酸二無水物
c当量を加え、更に1種若しくは2種以上の屈曲性ジア
ミンd当量を加えることにより得られるポリアミック酸
共重合体を脱水閉環して得られるポリイミドフィルム
に、接着剤層及び保護層を設けることを特徴とするTA
B用テープの製造方法。
2. The method for producing a TAB tape according to claim 1, wherein at least one linear diamine a equivalent and one selected from pyromellitic dianhydride or pyromellitic dianhydride derivative or After reacting two or more tetracarboxylic dianhydride b equivalents, the reaction solution is converted into The polyamic acid copolymer obtained by adding c equivalent of at least one tetracarboxylic acid dianhydride represented by and further adding one equivalent of two or more kinds of flexible diamine d is dehydrated and ring-closed. TA characterized by providing an adhesive layer and a protective layer on a polyimide film
Method for manufacturing B tape.
【請求項3】 前記請求項1に記載するTAB用テープ
の製造方法において、1種又は2種以上の屈曲性ジアミ
ンd当量と、化3 【化3】 で表される少なくとも1種のテトラカルボン酸二無水物
c当量を反応させた後、少なくとも1種の直線性ジアミ
ンa当量を加え、次に、ピロメリット酸二無水物又はピ
ロメリット酸二無水物誘導体から選ばれる1種若しくは
2種以上のテトラカルボン酸二無水物b当量を加えるこ
とにより得られるポリアミック酸共重合体を脱水閉環し
て得られるポリイミドフィルムに、接着剤層及び保護層
を設けることを特徴とするTAB用テープの製造方法。
3. The method for producing a TAB tape according to claim 1, wherein one or more kinds of flexible diamine d equivalents and After reacting at least one tetracarboxylic acid dianhydride c equivalent, at least one linear diamine a equivalent is added, and then pyromellitic dianhydride or pyromellitic dianhydride is added. Providing an adhesive layer and a protective layer on a polyimide film obtained by dehydration ring closure of a polyamic acid copolymer obtained by adding one equivalent of tetracarboxylic acid dianhydride b equivalent selected from derivatives A method for manufacturing a TAB tape, comprising:
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004067666A1 (en) * 2003-01-31 2004-08-12 Teijin Limited Adhesive sheet and layered product
WO2020137870A1 (en) * 2018-12-26 2020-07-02 住友化学株式会社 Method for producing polyimide resin
JP2020105496A (en) * 2018-12-26 2020-07-09 住友化学株式会社 Manufacturing method of polyimide resin

Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61181827A (en) * 1985-02-06 1986-08-14 Sumitomo Bakelite Co Ltd Production of heat-resistant resin
JPS6366852A (en) * 1986-09-09 1988-03-25 Shin Kobe Electric Mach Co Ltd Manufacture of electrode for lead acid battery
JPS63166287A (en) * 1986-12-27 1988-07-09 住友ベークライト株式会社 Manufacture of flexible printed circuit substrate
JPS63254131A (en) * 1987-04-10 1988-10-20 Mitsubishi Electric Corp Production of aromatic polyimide
JPS63254130A (en) * 1987-04-10 1988-10-20 Mitsubishi Electric Corp Copolymer of aromatic polyamic acid or ester thereof
JPS6416835A (en) * 1987-07-13 1989-01-20 Kanegafuchi Chemical Ind Production of polyamic acid copolymer and polyimide copolymer therefrom
JPS6422308A (en) * 1987-07-20 1989-01-25 Organo Kk Hollow yarn module using crimped hollow yarn
JPS6456529A (en) * 1987-08-28 1989-03-03 Kawakami Sangyo Kk Thermoforming method of synthetic resin sheet and thermoforming roll
JPH0198628A (en) * 1987-06-17 1989-04-17 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd Polyimide of excellent thermal dimensional stability
JPH01282218A (en) * 1988-05-07 1989-11-14 Mitsubishi Electric Corp Production of aromatic polyimide copolymer
JPH044231A (en) * 1990-04-20 1992-01-08 Sumitomo Bakelite Co Ltd Heat-resistant film with low coefficient of linear expansion and production thereof
JPH0411632A (en) * 1990-05-01 1992-01-16 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd Polyimide and its production

Patent Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61181827A (en) * 1985-02-06 1986-08-14 Sumitomo Bakelite Co Ltd Production of heat-resistant resin
JPS6366852A (en) * 1986-09-09 1988-03-25 Shin Kobe Electric Mach Co Ltd Manufacture of electrode for lead acid battery
JPS63166287A (en) * 1986-12-27 1988-07-09 住友ベークライト株式会社 Manufacture of flexible printed circuit substrate
JPS63254131A (en) * 1987-04-10 1988-10-20 Mitsubishi Electric Corp Production of aromatic polyimide
JPS63254130A (en) * 1987-04-10 1988-10-20 Mitsubishi Electric Corp Copolymer of aromatic polyamic acid or ester thereof
JPH0198628A (en) * 1987-06-17 1989-04-17 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd Polyimide of excellent thermal dimensional stability
JPS6416835A (en) * 1987-07-13 1989-01-20 Kanegafuchi Chemical Ind Production of polyamic acid copolymer and polyimide copolymer therefrom
JPS6422308A (en) * 1987-07-20 1989-01-25 Organo Kk Hollow yarn module using crimped hollow yarn
JPS6456529A (en) * 1987-08-28 1989-03-03 Kawakami Sangyo Kk Thermoforming method of synthetic resin sheet and thermoforming roll
JPH01282218A (en) * 1988-05-07 1989-11-14 Mitsubishi Electric Corp Production of aromatic polyimide copolymer
JPH044231A (en) * 1990-04-20 1992-01-08 Sumitomo Bakelite Co Ltd Heat-resistant film with low coefficient of linear expansion and production thereof
JPH0411632A (en) * 1990-05-01 1992-01-16 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd Polyimide and its production

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004067666A1 (en) * 2003-01-31 2004-08-12 Teijin Limited Adhesive sheet and layered product
KR101086662B1 (en) * 2003-01-31 2011-11-24 데이진 가부시키가이샤 Adhesive sheet and layered product
WO2020137870A1 (en) * 2018-12-26 2020-07-02 住友化学株式会社 Method for producing polyimide resin
JP2020105496A (en) * 2018-12-26 2020-07-09 住友化学株式会社 Manufacturing method of polyimide resin
CN113272361A (en) * 2018-12-26 2021-08-17 住友化学株式会社 Method for producing polyimide resin
TWI834786B (en) * 2018-12-26 2024-03-11 日商住友化學股份有限公司 Manufacturing method of polyimide resin

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