JPH05261931A - プリントヘッド用オリフィス板 - Google Patents

プリントヘッド用オリフィス板

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JPH05261931A
JPH05261931A JP4122640A JP12264092A JPH05261931A JP H05261931 A JPH05261931 A JP H05261931A JP 4122640 A JP4122640 A JP 4122640A JP 12264092 A JP12264092 A JP 12264092A JP H05261931 A JPH05261931 A JP H05261931A
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Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【目的】複数個の先細形状のオリフィス開口部を有し、
且つより厚いノズル板を有するプリントヘッド用オリフ
ィス板を提供する。 【構成】導電領域と絶縁領域から成る表面を有するマン
ドレル１０を準備する工程と、マンドレルの導電領域お
よび絶縁領域の縁部を覆って、第１金属層１８電鋳、
オリフィス開口２０形成工程と、絶縁パターン２４形成
工程と第２金属層２８電鋳、オリフィス開口形成工程と
絶縁パターン除去工程とからなるか、第１金属層電気
めっき、オリフィス開口形成工程と、横方向より縦方向
の方が速度の早い異方性第２金属層電気めっき工程とか
らなるオリフィス板製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は一般にインクジェット・
ペン用のオリフィス板の製造に関し、特に印字性能を向
上するために厚さを増大し、またオリフィス開口部が先
細の形状を有する前記オリフィス板の製造に関する。
【０００２】
【従来技術とその問題点】感熱式インクジェット・ペン
用の薄膜印字ヘッドの製造においては、米国デラウェア
州ウイリントンのデュポン社から「Ｖａｃｒｅｌ」名で
販売されているような粘着性の障壁絶縁材料を使用し
て、金属製オリフィス板を隣接する薄膜抵抗基板に位置
合わせし、接着することが広範に実施されてきた。更に
「Ｖａｃｒｅｌ」層内の各インク噴射室が下層の薄膜抵
抗基板上の各々のヒータ抵抗体に対して、又、隣接する
オリフィス板内のオリフィス開口部又は開口部群に対し
て位置合わせされるように、「Ｖａｃｒｅｌ」層内にフ
ォトリソグラフ方式で複数個のインク噴射室とインク給
送管路を形成することが広く実施されてきた。このよう
にして、ヒータ抵抗体が公知のように電気的に励振さ
れ、各噴射室内のインクを加熱して沸騰せしめ、それに
よってインクがオリフィス板内のオリフィス開口部から
隣接の印字媒体へと噴射されることができる。
【０００３】従来はオリフィス板をオリフィス板取り付
け工程に移送する前に、オリフィス板を所望の形状に電
気めっきするために電鋳工程を利用することが一般的で
あった。この工程で、これらのオリフィス又はノズル板
は最初に薄膜抵抗基板及びその上の障壁層と光学式に位
置合わせされ、次ぎに「Ｖａｃｒｅｌ」障壁層に接着さ
れ、よって電鋳処理されたオリフィス板内のオリフィス
開口部が薄膜抵抗基板上のヒータ抵抗体に対して正確に
位置合わせされる。これらのオリフィス板の形成のため
に従来から種々の形式の電鋳工程が利用され、例えば米
国特許第４，７７３，９７１号、同第４，６７５，０８
３号、同第４，６９４，３０８号等に開示されている。
これら特許は全て本発明の出願人に譲渡され、本明細書
に参考文献として引用されている。
【０００４】更に金属面上及びその金属面上の絶縁領域
または島部の縁部の上部でこれらのオリフィス板を電気
めっきして、これらの絶縁領域または島部の表面に向か
って先細の輪郭を有するオリフィス開口部を形成する方
法も一般に実施されてきた。このようなオリフィス開口
部は通常はオリフィス板の背面の大きいオリフィス開口
部から、オリフィス板の正面またはインク噴出表面のよ
り小さいオリフィス開口部へと平滑に細まる。公知のよ
うに、感熱式インクジェット印字ヘッドの製造に際して
この形式の先細の形状のオリフィス開口部を用いること
が好ましいのは、オリフィス板及び隣接するインク噴射
室内での「ガルピング」（一気に飲み込むこと）を最小
限にし、それによって、インクジェット・ペンの噴射中
の感熱式インクジェット印字ヘッドのヒータ抵抗体の壊
食（キャビテーション磨耗）を減少することである。こ
のようなヒータ抵抗体のガルピング及び壊食の問題に関
するより詳細な議論は本出願人に譲渡された前述の米国
特許第４，６９４，３０８号に記載されている。
【０００５】種々の形式のオリフィス板の位置合わせ及
び薄膜抵抗基板の取り付け処理及び工程は基本的に前述
の引用された米国特許に開示されており、全体的な薄膜
印字ヘッド製造技術及び印字ヘッドの機構の詳細は１９
８５年５月刊のヒューレット・パッカード・ジャーナル
１６巻５号及び１９８８年８月刊の３９巻４号及に記載
されている。
【０００６】一つの型式のオリフィス板製造工程は前述
の米国特許第４，７７３．９７１号及び、米国出願番号
第０７／２３６，８９０号にも開示されている。前記の
特許及び出願は共に種々の金属が選択された基板上で電
鋳される感熱式インクジェット印字ヘッドのオリフィス
板を形成するための電気めっき工程を開示している。こ
れらの選択された基板又はマンドレルは、下層の絶縁層
もしくは基板上に形成された選択された金属パターンか
ら成る一つの群と、下層の金属層もしくは基板上に形成
された選択された絶縁パターンから成る別の群とに区分
されている。これらの精密な機構のオリフィス板を製造
する上で前述の米国特許における電鋳工程が特に興味深
いのは、炭化シリコン、ＳｉＣのような耐久性がある無
機誘電体パターンが、それ自体は厚いガラス又は水晶板
に担持されているステンレス鋼の下層上に形成されるオ
リフィス板の製造工程である。
【０００７】前述の米国特許第４，７７３，９７１号及
び特許出願第０７／２３６，８９０号に開示されている
電鋳工程により製造される前述のオリフィス板は重要視
され、商業上も成功を収め、その動作性能の殆どの側面
で優れていることが実証され、且つ、これらの電鋳工程
はオリフィスの直径及びオリフィスの心間距離を精密に
制御しつつ、高度に精密な機構のオリフィス板を製造す
ることが可能であるが、それにもかかわらず、オリフィ
ス板内のオリフィス開口の厚さを増すためにこれらのオ
リフィス板の厚さを増すことが必要な用途が幾つかあ
る。ある種の用途でこのような必要性があるのは、感熱
式インクジェット薄膜抵抗式印字ヘッドの外表面、すな
わちインク噴射オリフィス面からインク滴が噴射する際
に、噴射したインク滴の「後端」が先細のオリフィス開
口部の片側を掃引するとき時々発生することがあるイン
ク滴の噴霧を減少するためである。このインク噴霧作用
は、薄膜抵抗基板のヒータ抵抗体がオリフィス開口部の
中心線に対して僅かに偏位している形式の感熱式インク
ジェット印字ヘッドの設計と機構の場合に特に顕著にみ
られる。このヒータ抵抗体の偏位がなされるのは、ヒー
タ抵抗体がこれらのオリフィス開口部の中心線に対して
精密に位置合わせされる際に、そうしないと生ずるであ
ろう方向のエラーを補償するためである。一方、このイ
ンク滴噴霧作用によって、インク滴すなわちドットが隣
接する印字媒体に溶着される際に縁部の粗雑さが見える
ようになり、ひいてはこの縁部の粗雑さによって印字さ
れた媒体の解像度と印字性能が劣化する。
【０００８】
【発明の目的】本発明の基本的な目的は印刷性能と解像
度を大幅に向上するように前述のオリフィス板が動作す
るように、新規且つ改良された感熱式インクジェット・
オリフィス板の機構とその製造方法を提供することであ
る。
【０００９】本発明の別の目的は前述のインク滴噴霧の
問題を最小限にし、ほぼ無くすることによって、隣接す
る印字媒体に印刷されたドットの縁部の視覚的な粗雑さ
を最小限にし、ほぼ無くすることである。
【００１０】本発明の他の目的は動作の信頼度が高く、
且つ比較的高い産出量（歩留り）で経済的に製造できる
オリフィス板及びそれに関連する印字ヘッド構造を提供
するために、既存の技術を利用した感熱式インクジェッ
ト印字ヘッドの製造に有用な新規且つ改良されたオリフ
ィス板製造工程を提供することである。
【００１１】
【発明の概要】本発明の特徴は従来型のオリフィス板の
設計と比較してその厚さを大幅に増大し、同時にオリフ
ィス板に形成されるオリフィス開口部の円滑な先細の形
状を保持した前述の形式の新規且つ改良されたオリフィ
ス板を製造することである。
【００１２】本発明の別の特徴は取り外し可能で再使用
可能なマンドレル上に堆積された多重金属層を電鋳する
ことによって平滑な先細のオリフィス開口部の形状が達
成され、完成したオリフイス板構造では合成された先細
のオリフィス開口部を共に形成する隣接する各金属層中
で位置合わせされた先細のオリフィス開口部を有する前
述の形式の新規且つ改良されたオリフィス板を提供する
ことである。
【００１３】本発明の別の特徴は下層の基板もしくはマ
ンドレル上へのオリフィス板の異方性めっきを利用し
て、異なる方法で平滑な先細のオリフィス開口部の形状
が達成される前述の形式の新規且つ改良された感熱式イ
ンクジェット・オリフィス板を提供することである。こ
の方法を利用することによって、オリフィス板の厚さす
なわち縦方向のめっきは横方向のめっきよりも高速度で
行われ、それによってそのオリフィス開口部の平滑な先
細の形状が保持される。
【００１４】本発明の別の特徴は金属層と絶縁層の合成
構造を製造することによって増強されたオリフィス板の
厚さが達成される前述の形式の新規且つ改良されたオリ
フィス板の製造工程を提供することである。この新規の
構造では、絶縁層はこのようにして形成された完成した
オリフィス板の一体部分となるばかりではなく、合成オ
リフィス板の金属層部分の電気めっきに利用される永久
的なマンドレルとしても機能するという目的を持つ多機
能性を有している。
【００１５】本発明に従った多層電鋳工程の第１の実施
例では、前述の目的とそれに関連する利点は次の段階に
よって達成される。 ａ．導電領域と絶縁領域とから成る表面を有するマンド
レルを備える段階、 ｂ．マンドレルの表面領域及びその上の導電領域上に第
１金属層を電鋳し、且つマンドレル上の絶縁領域の縁を
覆って延長して、絶縁領域の頂部に位置する先細のオリ
フィス開口部を形成する段階、 ｃ．絶縁パターン内の絶縁部、すなわち島部上に重な
り、またマンドレルの絶縁領域とほぼ横方向に同程度延
びるように、第１金属層の頂部に絶縁パターンを形成す
る段階、及び、 ｄ．第１金属層の頂部上に第２金属層を電鋳し、絶縁パ
ターンの絶縁部、すなわち島部を覆って延長して、第２
金属層内に第１金属層内の先細のオリフィス開口部と位
置合わせされた先細のオリフィス開口部を形成し、それ
によって、第１及び第２金属層内の位置合わせされた先
細の開口部が第１金属層の外表面から第２金属層の外表
面まで延びる全体的なオリフィス開口部の先細の輪郭を
保持し、且つ形成される段階、である。
【００１６】本発明の第２の異方性めっきの実施例では
前記の目的と関連する利点は次の段階によって達成され
る。 ａ．導電領域と絶縁領域とから成る表面を有するマンド
レルを備える段階、 ｂ．マンドレルの導電領域及びその上の絶縁領域の縁部
を覆って金属層を電気めっきすることによって、絶縁領
域の上に先細のオリフィス開口部を形成する段階、及
び、 ｃ．厚み寸法と垂直な横方向でのめっき速度よりも速い
縦の、すなわち層の厚み方向のめっき速度で金属層を異
方性めっきすることによって、先細のオリフィス開口部
の形状を同時に形成しつつ、７５ミリメートルもしくは
それ以上の厚さの金属オリフィス板が達成される段階、
である。
【００１７】本発明の第３の実施例では、前記の目的と
関連する利点は次の段階によって達成される。 ａ．金属パターンを上に有する絶縁基板を備える段階、 ｂ．金属パターンの表面上に、絶縁基板の露出表面と接
触するように金属を電気めっきして、その電気めっきさ
れた金属層内に先細のオリフィス開口部を形成する段
階、及び、 ｃ．絶縁基板内に金属オリフィス板の先細のオリフィス
開口部と位置合わせされた開口部を作成して、金属オリ
フィス板の開口部の細まりと輪郭を絶縁基板の片側から
別の側へと延長する。よって絶縁基板とそれに隣接する
金属オリフィス板の層とが、厚み７５ミリメートルもし
くはそれ以上の合成された金属−絶縁体のオリフィス板
構造を構成する段階、である。
【００１８】
【実施例】図１（Ａ）を参照すると、番号１０で示され
た再使用可能なマンドレルが示され、これはスパッタさ
れたステンレス鋼の薄層１４が上表面上に蒸着された、
一般にガラス又は水晶板である厚さが９０−１２０ミル
の主担持基板１２を含んでいる。炭化シリコン、ＳｉＣ
のような選択された無機誘電材料の表面パターン１６が
図示のとおりステンレス鋼の層１４の上表面上に電気め
っきマスクとして形成され、かくして実質上、３層の再
使用可能なマンドレル構造を形成している。その上で第
１オリフィス板１８を形成するために本発明に従って以
下に説明するように第１の電気めっき段階が実行され
る。
【００１９】図１（Ｂ）を参照すると、マンドレル１０
は電鋳ステーションに移送され、そこでニッケルのよう
な選択された金属が図示のような形状で電気めっきさ
れ、複数個の先細のオリフィスすなわちノズル開口部２
０を有する第１オリフィス板の層１８が形成される。前
記オリフィス開口部２０は複数の無機絶縁島すなわち絶
縁領域１６の縁部２２を覆ってその上部にニッケルを電
気めっきすることによって形成される。第１ニッケル層
１８は代表的には約５０マイクロメートルの厚さにめっ
きされる。
【００２０】図１（Ｃ）を参照すると、フォトレジスト
のような適当な絶縁パターン２４が図示の形状に形成さ
れ、フォトレジスト島２４は層１８内のオリフィス開口
部２０内に配置され且つ中央に位置合わせされ、また第
１の電気めっきされたニッケル層１８の先細の縁部２６
を覆ってその上部まで延びている。これらのフォトレジ
スト島２４は前述したステンレス鋼の表面層１４上に形
成された炭化シリコン絶縁島１６の横寸法とほぼ横方向
に同一空間に延びている。フォトレジスト島２４の厚さ
は代表的には約２マイクロメートルであり、炭化シリコ
ン・ディスクの横寸法と等しいか、又は僅かに大きいか
僅かに小さい。
【００２１】図１（Ｄ）を参照すると、図１（Ｃ）に示
した構造が電鋳又は電気めっきステーションに移送さ
れ、そこでこれもニッケルである第２金属層２８が第１
金属層１８の頂部及びフォトレジスト・パターン２４の
外縁を覆ってその上部に電気めっきされる。電気めっき
された第２ニッケル層２８もこのようにして形成された
オリフィス開口部では先細の輪郭３０を有し、これらの
先細のオリフィス開口部はフォトレジスト島２４との接
触点３２まで下方に延びている。必要ならば図１（Ｄ）
に示した工程を更に拡張して、図示した２層ではなく３
つの電気めっき層（図示せず）を備えるようにしてもよ
い。
【００２２】図１（Ｅ）を参照すると、図１（Ｄ）に示
した２層めっき構造は適宜の浸漬溶剤エッチング・ステ
ーションに移送され、そこでフォトレジスト・パターン
２４は除去されて図示のような「鳥の嘴」の形状３４が
残され、且つこれは図示のようにニッケルの第１及び第
２の電気めっき層１８と２８の間で輪郭が上方に延びる
溝つき空洞３６を有している。第２ニッケル層２８は代
表的には３０ないし５０マイクロメートルの厚さにめっ
きされることによって、図示した合成オリフィス板の総
厚みが８０ないし１００マイクロメートルまで延びるよ
うにされる。図１（Ｅ）に示した合成オリフィス板構造
はガラス基板１２と、ステンレス鋼のスパッタ層１４と
下部の炭化シリコン・アイランド１６を含むマンドレル
１０を構造の下部表面３８から除去するように更に処理
される。図１（Ｅ）に示したこの合成オリフィス板構造
は参照番号４２で全般的に示した所望の全体的に先細の
オリフィス輪郭を有しており、小オリフィスの直径は代
表的には２０−５０マイクロメートルであり、オリフィ
スの心間距離は代表的には８０−１８０マイクロメート
ルである。
【００２３】感熱式インクジェット・ペンは図１（Ｅ）
に示したオリフィス板構造を用いて構成され、このよう
なペンにより作成された印刷見本の印刷品質は優れたも
のであった。これらの見本では前述の従来型のペンを使
用した場合に従来見られた、不要なインク噴霧の結果と
しての縁部の粗雑さはほとんど無視できるほど僅かであ
った。
【００２４】図２（Ａ）及び図２（Ｂ）を参照すると、
本発明の第２の実施例が示されており、この場合は図１
（Ａ）ないし図１（Ｅ）を参照して前述した金属層堆積
工程とは別の実施例として異方性電気めっきが利用され
る。図２（Ａ）では、ガラス板すなわち基板４４が図示
され、その上にステンレス鋼の表面層４６がスパッタ蒸
着される。公知のマスキング及び無機金属蒸着技術を利
用して、ステンレス鋼層４６の表面上に図示のように炭
化シリコンのような選択された無機誘電材料が蒸着され
る。次ぎにガラス、スチール及び無機誘電材料４４・４
６及び４８から成る再利用可能な合成マンドレルが異方
性めっきステーションに移送され、そこでニッケルの薄
層５０が炭化シリコン・ディスクすなわち島４８の縁部
５２を覆ってその上部にめっきされる。
【００２５】金属板５０の縦、すなわち厚さ寸法の電気
めっき速度はオリフィス板５０の横、すなわち幅寸法方
向での電気めっき速度よりも大幅に速くすることができ
る。この技術は製造しようとするオリフィス板の先細の
オリフィス内径の形状を作成する上で有用である。この
異方性電気めっきを達成するために提案された一つの技
術では、最初に電気めっき溶液を全ニッケル含有量のガ
ロン当たり約６オンスまで希釈して、電気めっき電流を
焼損を防止するのに充分低いレベルまで低下させる。次
ぎに分子量が高いポリビニール・アルコール又はポリカ
チレン・グリコールのような水溶性のポリマーを電気め
っき溶液に添加して、めっきされる金属の上表面領域に
ニッケル・イオンが拡散することを避け、且つオリフィ
ス内径の電気めっき速度が最小限になるようにされる。
この異方性めっき用に提案された別の適切なワッツ（Ｗ
ａｔｔｓ）ニッケル溶液には電気めっき浴のガロン当た
り２２オンスの希釈硫酸ニッケルＮｉＳＯ4 ・６Ｈ
2 Ｏ：電気めっき浴のガロン当たり１２オンスの塩化ニ
ッケルＮｉＣｌ6 ：及び電気めっき浴のガロン当たり６
オンスのほう酸を使用することが含まれる。次ぎに溶液
を撹拌することによって、電気めっきされるニッケルの
上表面により多くのニッケル・イオンが供給され、同時
にオリフィス口径領域でのニッケル・イオンの濃度を縮
減させる作用が得られる。電流密度、撹拌速度及び電気
めっき温度は最終的に図２（Ｂ）に示したような所望の
実施例を作成するために所望の、もしくは最適な縦対横
のニッケル電気めっき速度に達するように当業者によっ
て変更されることができる。
【００２６】溶液の温度は３５℃ないし４０℃の範囲の
いずれかに設定されるものとする。この工程を利用し
て、オリフィス板５０は約７５マイクロメートルの厚さ
までめっきされ、同時に炭化シリコン島４８の表面上の
接触点５６で終端する、このようにして形成されたオリ
フィス開口部の平滑な先細の輪郭５４の完全性を保持す
ることが期待できる。ニッケル層５０を形成するために
利用された電気めっき工程が終了すると、層４４、４６
および４８から成る再使用可能なマンドレルはニッケル
層５０の下部表面５８から剥離されることによって、オ
リフィス板５０は完全なままに残され、オリフィス板を
薄膜ヒータ抵抗体及び障壁層（図示せず）に固定するた
めのオリフィス板位置合わせ及び取り付けステーション
へと移送できるようにされる。より厚いオリフィス板の
厚さが必要な場合は、図１（Ａ）ないし１（Ｅ）を参照
して前述したように追加の金属層を電気めっきすること
ができる。
【００２７】図３（Ａ）、３（Ｂ）及び３（Ｃ）を順次
参照すると、図３（Ａ）には全体的に６０で示され、厚
さが代表的には２５マイクロメートルに形成されたポリ
イミド又はその他の適宜の基板材料６２を含む永久マン
ドレルが図示されている。内部に複数個の開口部を有す
る金属パターン６４はポリイミド基板６２の上表面上に
溶着される。金属パターン６４は代表的には厚さ約１０
００オングストロームに溶着され、直径が２０−５０マ
イクロメートル、心間距離が８０−１８０マイクロメー
トルの開口部を有する銅のような材料でよい。図３
（Ａ）に示した永久マンドレル６０は電気めっき溶着ス
テーションに移送され、そこでニッケルのような薄い金
属層６８が図３（Ｂ）に示した先細の形状で銅パターン
６４の頂部、その縁部６６を覆って下方及びポリイミド
基板層６２の上表面との接触点７０へとめっきされる。
【００２８】図３（Ｂ）に示した合成オリフィス板構造
は次ぎに別の材料処理ステーションに移送され、そこで
層６２の領域７２の、側壁７４によって境界付けされた
ポリイミド材料が例えばレーザ切除工程を用いて除去さ
れる。このような工程の一つはＰｏｕｌｉｎ及びＥｉｓ
ｅｌｅ共著「Ａｄｖａｎｃｅｓ ｉｎ Ｅｘｃｉｍｅｒ
Ｌａｓｅｒ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ Ｐｒｏｃｅｓｓｉ
ｎｇ」（ＳＰＩＥ会報９９８号８４ページ、ルモノクス
・プレス１９８８年９月刊）に記載されている。この段
階は更に金属層６８内の以前に形成されたオリフィス開
口部７６のオリフィス内径及び先細の輪郭を、ポリイミ
ド材料６２内の開口部７２の位置合わせされた側壁７４
に沿って下方に延長する。このようにして、前記のよう
に形成された構造の出力インク噴射オリフィス開口部
は、ポリイミド層６２の環状の出口開口部、すなわち穴
７８に位置している。ポリイミド層６２は代表的には厚
さが約２５マイクロメートルであり、一方、金属電気め
っき層６８は代表的には厚さが約５０マイクロメートル
であり、図３（Ｃ）に示したオリフィス板構造の合成層
の総厚みが７５マイクロメートル又はそれ以上の値にな
るようにされている。
【００２９】前述の形式であり、図３（Ｃ）に示した外
部ポリイミド層を有する合成オリフィス板を備えること
によって幾つかの付随的な利点が得られる。第１に、ポ
リイミドのオリフィス板材料はその上でのインクの集結
を防止し、ひいてはインク噴霧を防止して反復性がある
インク滴軌道をもたらす湿り止め表面を有している。第
２に、ポリイミド材料の内表面はレーザ切除を用いて湿
潤にすることができるので、オリフィスの再充填及び気
泡排除特性を促進し、同時に気泡の摂取を防止し、オリ
フィス板の高頻度の安定動作を促進することができる。
第３に、ポリイミド材料によって、そのリールからリー
ルへの加工能力により、製造が容易になる。
【００３０】本発明の精神と範囲から逸脱することなく
前述の実施例で、又、これに加えて多くの変更が可能で
ある。例えば、前述の発明は説明したマンドレルに使用
される特定の金属、又は電気めっきされた金属オリフィ
ス板の形成に使用される金属に限定されるものではな
い。
【００３１】本発明の３つの実施例で特に説明した絶縁
体上のマンドレルの代わりに、前述の米国特許第４，７
７３，９７１号及び特許出願第０７／２３６，８９０号
に記載されているような選択された絶縁パターンを上に
形成した金属基板から成る再使用可能なマンドレルも使
用できる。更に、前述のニッケル・オリフィス板は更に
オリフィスすなわちノズル板構造を前述のように完成し
た後に、例えば金めっき技術を用いて金属オリフィス層
の表面に金めっき処理を行うこともできる。更に、前述
のいずれかの実施例においてより厚いオリフィス板の厚
さが必要ならば、追加の金属層を図１（Ａ）から−図１
（Ｅ）を参照して前述したように電気めっきすることが
できる。従って、当業者に可能な前述の、及びその他の
設計及び工程上の変更はすべて本発明に含まれるもので
ある。
【００３２】
【発明の効果】以上の説明より明らかなように、本発明
によれば先細形状のオリフィス板の新規な構造およびそ
の製造方法を提供することができ、特にオリフィス板の
開口部の厚さを増加させることができる。そしてインク
滴噴霧の問題点をほぼ無くすることができ、ドットの縁
部の視覚的粗雑さを最小限にすることができ、印字品質
を高めることができる。また信頼性が高く、比較的高い
歩留りで製造可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施例によるプリントヘッド用オリ
フィス板の製造工程を示した図である。
【図２】本発明の他の実施例によるプリントヘッド用オ
リフィス板の製造工程を示した図である。
【図３】本発明の他の実施例によるプリントヘッド用オ
リフィス板の製造工程を示した図である。
【符号の説明】
１０：マンドレル、１２：基板、１４：導電薄膜層、１
６：絶縁パターン、１８、２８：金属層、２０：先細オ
リフィス、２４：絶縁パターン、４４：基板、４０：導
電表面層、４８：マスクパターン５０：金属層、６０：
永久マンドレル、６２：基板、６４：金属パターン、６
８：金属層
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成５年３月１０日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正内容】
【００３２】
【発明の効果】以上の説明より明らかなように、本発明
によれば先細形状のオリフィス板の新規な構造およびそ
の製造方法を提供することができ、特にオリフィス板の
開口部の厚さを増加させることができる。そしてインク
滴噴霧の問題点をほぼ無くすることができ、ドットの縁
部の視覚的粗雑さを最小限にすることができ、印字品質
を高めることができる。また信頼性が高く、比較的高い
歩留りで製造可能となる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正内容】
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施例によるプリントヘッド用オリ
フィス板の製造工程を示した図である。
【図２】本発明の他の実施例によるプリントヘッド用オ
リフィス板の製造工程を示した図である。
【図３】本発明の他の実施例によるプリントヘッド用オ
リフィス板の製造工程を示した図である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正内容】
【図１】
【図２】
【図３】
フロントページの続き (72)発明者 ケネス・イー・トルーバ アメリカ合衆国オレゴン州コーバリス ノ ース・ウエスト フェアー・オークス・ド ライブ 5755

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】導電領域と絶縁領域から成る表面を有する
    マンドレルを準備する工程と、前記マンドレルの前記導
    電領域および前記絶縁領域の縁部を覆って、第１金属層
    を電鋳し、前記絶縁領域の頂部に位置する先細のオリフ
    ィス開口部を形成する工程と、前記絶縁領域とほぼ横方
    向に同程度の距離だけ延びるように、前記開口部および
    前記第１金属層上に絶縁パターンを形成する工程と、前
    記第１金属層および前記絶縁パターンの縁部を覆って第
    ２金属層を電鋳し、前記開口部と位置合わせされた、前
    記第１金属層と第２金属層の外表面によるオリフィス開
    口を形成する工程と、前記絶縁パターンを除去する工程
    とを有するプリントヘッド用オリフィス板の製造方法。
  2. 【請求項２】導電領域と絶縁領域から成る表面を有する
    マンドレルを準備する工程と、前記マンドレルの前記導
    電領域および前記絶縁領域の縁部を覆って第１金属層を
    電気めっきして前記絶縁領域上に先細のオリフィス開口
    部を形成する工程と、厚み方向の方が横方向よりも速い
    異方性めっき速度で前記第１金属層上に金属層をめっき
    する工程とを有するプリントヘッド用オリフィス板の製
    造方法。
  3. 【請求項３】表面上に金属パターンを有する絶縁基板を
    準備する工程と、前記金属パターンの表面上に、且つ前
    記絶縁基板の露出表面と接触するように金属を電気めっ
    きして、めっきされた金属層中に先細のオリフィス開口
    部を形成する工程と、前記金属の前記絶縁基板への接触
    点を延長させて前記絶縁基板中に開口部を形成して前記
    オリフィス開口部と位置合わせされた開口部を形成する
    工程とを有するプリントヘッド用オリフィス板の製造方
    法。
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