JPH05259065A

JPH05259065A - 現像装置

Info

Publication number: JPH05259065A
Application number: JP5351492A
Authority: JP
Inventors: Koichi Tagami; 公一田上; Noriyuki Anai; 徳行穴井; Takayuki Tomoe; 隆之友枝; Shinji Kitamura; 晋治北村; Takazo Sato; 尊三佐藤; Tatsuya Iwasaki; 達也岩崎; Kengo Mizosaki; 健吾溝崎
Original assignee: Tokyo Electron Ltd; Tokyo Electron Kyushu Ltd
Current assignee: Tokyo Electron Ltd; Tokyo Electron Kyushu Ltd
Priority date: 1992-03-12
Filing date: 1992-03-12
Publication date: 1993-10-08

Abstract

(57)【要約】【目的】従来に較べて処理の必要な廃液の量を低減す
ることができ、製品コストの低減を図ることのできる現
像装置を提供する。【構成】現像装置１には、ＬＣＤ用ガラス基板２を保
持可能に構成されたスピンチャック３が設けられてい
る。このスピンチャック３は、駆動モータ４に接続され
ており、ＬＣＤ用ガラス基板２を高速回転させることが
できるよう構成されている。スピンチャック３の周囲に
は、このスピンチャック３およびＬＣＤ用ガラス基板２
の周囲を囲み内部に現像用の空間（現像部）を形成する
如く、カップ５が設けられている。このカップ５の底部
には、排気機構に接続された排気配管６と、廃液配管７
が接続されている。廃液配管７には、三方バルブ９が介
挿され、この三方バルブ９から先が2 つの配管に分けら
れており、一方は現像廃液収容部１０に、他方は純水廃
液収容部１１に接続されている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、現像装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来から、半導体装置の製造工程では、
被処理基板、例えば、半導体ウエハやＬＣＤ用ガラス基
板上に精密写真転写技術を用いて所定の回路パターンの
転写を行っており、このような工程における感光膜（フ
ォトレジスト膜）の現像に現像装置が用いられている。

【０００３】このような現像装置は、半導体ウエハある
いはＬＣＤ用ガラス基板等の被処理基板を保持して回転
可能に構成された基板保持台を備えており、この基板保
持台の周囲を囲むようにして現像用空間（現像部）を形
成する如くいわゆるカップあるいはチャンバが設けられ
ている。また、この基板保持台の上部には、基板保持台
上の被処理基板に現像液およびリンス液を供給するため
の現像液供給ノズルおよびリンス液供給ノズルが設けら
れており、カップあるいはチャンバの底部等には、現像
液およびリンス液を排出するための廃液配管が設けられ
ている。

【０００４】そして、被処理基板を基板保持台上に載置
して、現像液供給ノズルから被処理基板に現像液を供給
し、被処理基板上に現像液が表面張力で液盛りされた状
態として所定時間現像を行い、この後、被処理基板を回
転させて遠心力で被処理基板上の現像液を振り切り、し
かる後、リンス液供給ノズルから被処理基板に純水等の
リンス液を供給してリンスを行い、最後に、被処理基板
を高速回転させて乾燥を行う。

【０００５】なお、使用された現像液および純水等のリ
ンス液は、カップあるいはチャンバの底部等に設けられ
た廃液配管から外部に排出される。一般に、このような
廃液は、かなりｐＨの高いアルカリ性廃液であり、特定
の処理を行った後、廃棄する必要がある。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た現像装置の廃液の処理には、かなりの労力、時間、費
用等がかかり、製品コスト上昇の一因となっていた。さ
らに、環境汚染等の問題もあり、このような廃液の量を
低減することが望まれていた。

【０００７】本発明は、かかる従来の事情に対処してな
されたもので、従来に較べて処理の必要な廃液の量を低
減することができ、製品コストの低減を図ることのでき
る現像装置を提供しようとするものである。

【０００８】

【課題を解決するための手段】すなわち、本発明の現像
装置は、現像部に設けられた被処理基板に、現像液およ
びリンス液を順次供給して該被処理基板に形成された感
光膜の現像を行う現像装置において、前記現像部から前
記現像液および前記リンス液を排出する廃液配管に切り
替え機構を設け、この切り替え機構を切り替えることに
より、前記現像液と前記リンス液を異なる部位に排出す
るよう構成したことを特徴とする。

【０００９】

【作用】一般に、現像装置では、現像液に較べてリンス
液を大量に使用するが、通常リンス液は純水等であり、
本来廃液処理は不要である。そこで、上記構成の本発明
の現像装置では、カップあるいはチャンバ等によって構
成された現像部から現像液およびリンス液を排出する廃
液配管に設けた切り替え機構を切り替えることにより、
現像液とリンス液を異なる部位に排出する。

【００１０】したがって、従来に較べて処理の必要な廃
液の量を低減することができ、製品コストの低減を図る
ことができる。

【００１１】

【実施例】以下、本発明をＬＣＤ用ガラス基板の現像を
行う現像装置に適用した一実施例を、図面を参照して説
明する。

【００１２】図１に示すように、現像装置１には、ＬＣ
Ｄ用ガラス基板２を例えば真空チャックにより吸着保持
可能に構成されたスピンチャック３が設けられている。
このスピンチャック３は、駆動モータ４に接続されてお
り、上面にＬＣＤ用ガラス基板２を吸着保持した状態
で、このＬＣＤ用ガラス基板２を高速回転させることが
できるよう構成されている。

【００１３】上記スピンチャック３の周囲には、このス
ピンチャック３およびＬＣＤ用ガラス基板２の周囲を囲
み、内部に現像用の空間（現像部）を形成する如く、カ
ップ５が設けられている。このカップ５の底部には、図
示しない排気機構に接続された排気配管６と、廃液配管
７が接続されている。これらの排気配管６および廃液配
管７の開口部には、メッシュ状に形成されたフィルタ機
構８が着脱自在に設けられている。このフィルタ機構８
は、図２に示すように、上端部にフランジ部８ａを有す
る筒状部材８ｂと、この筒状部材８ｂの底部に設けられ
たメッシュ状部材８ｃとから構成されており、排気配管
６および廃液配管７の開口部上方から挿入し、開口縁部
にフランジ部８ａを係止させるように構成されている。

【００１４】また、廃液配管７には、三方バルブ９が介
挿され、この三方バルブ９から先が2 つの配管に分けら
れており、一方は現像廃液収容部１０に、他方は純水廃
液収容部１１に接続されている。

【００１５】一方、スピンチャック３の上部には、現像
液をＬＣＤ用ガラス基板２に供給するための現像液供給
ノズル１２と、リンス液としての純水をＬＣＤ用ガラス
基板２に供給するための純水供給ノズル１３が設けられ
ている。これらの現像液供給ノズル１２および純水供給
ノズル１３には、それぞれスキャナ１４、１５が設けら
れており、ＬＣＤ用ガラス基板２中央部上方の供給位置
（図１の現像液供給ノズル１２の位置）と、ＬＣＤ用ガ
ラス基板２上部から外れた退避位置（図１の純水供給ノ
ズル１３の位置）とに、現像液供給ノズル１２および純
水供給ノズル１３を移動させることができるよう構成さ
れている。

【００１６】上記現像液供給ノズル１２には、一端を現
像液１６を収容する現像液収容ボトル１７内に開口し、
開閉バルブ１８、温度調整用ジャケット１９等を備えた
現像液供給配管２０が接続されている。また、上記純水
供給ノズル１３には、一端を純水２１を収容する純水収
容ボトル２２内に開口し、開閉バルブ２３等を備えた純
水供給配管２４が接続されている。なお、現像液収容ボ
トル１７および純水収容ボトル２２には、それぞれ現像
液１６および純水２１を加圧して送出するための窒素ガ
ス供給源２５が接続されている。

【００１７】また、上記駆動モータ４、三方バルブ９、
スキャナ１４、１５、開閉バルブ１８、２３等は、制御
装置２６からの制御信号によって統括的に制御され、次
のようにしてＬＣＤ用ガラス基板２表面に形成されたフ
ォトレジスト膜の現像処理を実施するよう構成されてい
る。

【００１８】すなわち、制御装置２６は、スキャナ１
４、１５によって、現像液供給ノズル１２および純水供
給ノズル１３を共に退避位置に位置させておき、この状
態で図示しない搬送アーム等によってＬＣＤ用ガラス基
板２がスピンチャック３上に載置されると、真空チャッ
クを作動させてＬＣＤ用ガラス基板２をスピンチャック
３上に吸着保持する。

【００１９】次に、スキャナ１４によって現像液供給ノ
ズル１２をＬＣＤ用ガラス基板２上の供給位置に移動さ
せ、開閉バルブ１８を作動させて所定量の現像液１６を
供給し、ＬＣＤ用ガラス基板２上に液盛りして所定時間
現像を行う。

【００２０】この時、三方バルブ９は現像廃液収容部１
０側に設定されており、余分な現像液１６は、カップ５
から現像廃液収容部１０に流れ込むようになっている。

【００２１】この後、スキャナ１４によって現像液供給
ノズル１２を退避させ、スキャナ１５によって純水供給
ノズル１３を供給位置に移動させる。そして、所定の現
像時間が経過すると、駆動モータ４を起動し、スピンチ
ャック３とともにＬＣＤ用ガラス基板２を回転させ、遠
心力でＬＣＤ用ガラス基板２上の現像液１６を振り切る
とともに、開閉バルブ２３を作動させてＬＣＤ用ガラス
基板２上にシャワー状に純水２１を供給する。

【００２２】この時、開閉バルブ２３を開として、純水
２１の供給を開始してから所定時間例えば数秒程度経過
した後、三方バルブ９を純水廃液収容部１１側に切り替
えて、カップ５から排出された純水２１が純水廃液収容
部１１に流れ込むようにする。ここで、上記のように三
方バルブ９の切り替えタイミングを、純水２１の供給開
始とずらすのは、現像液１６および現像液１６を高濃度
で含む純水２１がカップ５内から流れ出るのに要する時
間を考慮したためである。これによって、現像時および
リンスを開始した直後の廃液は、現像廃液収容部１０に
流れ込み、現像液１６をほとんど含まない純水２１の廃
液は、純水廃液収容部１１に流れ込む。したがって、ｐ
Ｈの高い特殊な処理を必要とする廃液の量を従来に較べ
て減少させることができる。

【００２３】しかる後、開閉バルブ２３を閉じて純水２
１の供給を停止し、駆動モータ４によってＬＣＤ用ガラ
ス基板２を高速回転させて純水１０を振り切り、乾燥を
実施する。

【００２４】なお、例えばＬＣＤ用ガラス基板２にクラ
ックが入っていたような場合、このような高速回転に伴
ってＬＣＤ用ガラス基板２が破損することがある。しか
しながら、排気配管６および廃液配管７の開口部には、
メッシュ状に形成されたフィルタ機構８が配置されてい
るので、ＬＣＤ用ガラス基板２の破片がカップ５内に飛
散しても、これらの破片が排気配管６および廃液配管７
内に侵入することを防止することができ、このフィルタ
機構８を取り外してこれらの破片を容易に除去すること
ができる。

【００２５】図３は、上記構成の現像装置１が配置され
た基板処理システムの構成を示すものである。この基板
処理システムでは、一方の端部にＬＣＤ用ガラス基板２
を収容する複数のカセットを載置可能に構成されたカセ
ットステーション３０が設けられており、このカセット
ステーション３０の側方には、中央にＬＣＤ用ガラス基
板２を搬送するためのメインアーム３１、このメインア
ーム３１の両側に各処理装置が位置するよう配列されて
いる。

【００２６】処理装置としては、カセットステーション
３０側方に位置するように、ＬＣＤ用ガラス基板２をブ
ラシ洗浄するためのブラシスクラバー３２およびこのブ
ラシ洗浄の後に高圧ジェット水により洗浄を施すための
高圧ジェット洗浄機３３が一体的に構成された洗浄機構
がメインアーム３１を挟むように2 組設けられており、
このうち一方の高圧ジェット洗浄機３３の側方に、2 台
の加熱装置３４が積み重ねるようにして配置されてい
る。

【００２７】さらに、これらの機器の側方には、接続用
ユニット３５を介して、ＬＣＤ用ガラス基板２にフォト
レジストを塗布する前にこれを疎水化処理するアドヒー
ジョン処理装置３６、このアドヒージョン処理装置３６
の下方に配置されたクーリング装置３７、ＬＣＤ用ガラ
ス基板２にフォトレジストを塗布するレジスト塗布装置
３８、それぞれ2 台ずつ積み重ねるようにして配置され
た合計4 台の加熱装置、および上述した現像装置１が配
列されている。

【００２８】以上のように構成された基板処理システム
では、ＬＣＤ用ガラス基板２は、カセットステーション
３０からメインアーム３１により保持されてブラシスク
ラバー３２内に搬送され、この中でブラシ洗浄が行われ
る。更に、このＬＣＤ用ガラス基板２は、高圧ジェット
洗浄機３３にて高圧ジェット水により洗浄され、加熱装
置３４によって乾燥される。この後、ＬＣＤ用ガラス基
板２は、アドヒージョン処理装置３６にて疎水化処理が
施され、クーリング装置３７で冷却された後、フォトレ
ジスト塗布装置３８でフォトレジストを塗布される。そ
して、加熱装置３４で加熱され、ベーキング処理が施さ
れた後、図示しない露光装置で露光され、この後、上述
したようにして現像装置１による現像が行われ、メイン
アーム３１によってカセットステーション３０に搬送さ
れる。

【００２９】現像装置１をこのような基板処理システム
に配置した場合、スペース等の都合上、例えば排気配管
６および廃液配管７等のメンテナンスは困難になるが、
本実施例の現像装置１では、前述したようにフィルタ機
構８が配置されているので、ＬＣＤ用ガラス基板２の破
片等が排気配管６および廃液配管７内に侵入することが
なく、その除去を容易に行うことができる。したがっ
て、メンテナンス時間を削減して装置稼働率の向上を図
ることができる。

【００３０】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の現像装置
によれば、従来に較べて処理の必要な廃液の量を低減す
ることができ、製品コストの低減を図ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例の現像装置の構成を示す図。

【図２】図１の現像装置のフィルタ機構の構成を示す
図。

【図３】図１の現像装置が配置された基板処理システム
の構成を示す図。

【符号の説明】

１現像装置２ＬＣＤ用ガラス基板３スピンチャック４駆動モータ５カップ６排気配管７廃液配管８フィルタ機構９三方バルブ１０現像廃液収容部１１純水廃液収容部１２現像液供給ノズル１３純水供給ノズル１４，１５スキャナ１６現像液１７現像液収容ボトル１８開閉バルブ１９温度調整用ジャケット２０現像液供給配管２１純水２２純水収容ボトル２３開閉バルブ２４純水供給配管２５窒素ガス供給源２６制御装置

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者友枝隆之熊本県菊池郡菊陽町津久礼2655番地東京エレクトロン九州株式会社内 (72)発明者北村晋治熊本県菊池郡菊陽町津久礼2655番地東京エレクトロン九州株式会社内 (72)発明者佐藤尊三熊本県菊池郡菊陽町津久礼2655番地東京エレクトロン九州株式会社内 (72)発明者岩崎達也熊本県菊池郡菊陽町津久礼2655番地東京エレクトロン九州株式会社内 (72)発明者溝崎健吾熊本県菊池郡菊陽町津久礼2655番地東京エレクトロン九州株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】現像部に設けられた被処理基板に、現像
液およびリンス液を順次供給して該被処理基板に形成さ
れた感光膜の現像を行う現像装置において、前記現像部から前記現像液および前記リンス液を排出す
る廃液配管に切り替え機構を設け、この切り替え機構を
切り替えることにより、前記現像液と前記リンス液を異
なる部位に排出するよう構成したことを特徴とする現像
装置。
【請求項２】請求項１記載の現像装置において、前記現像部から前記現像液および前記リンス液を排出す
る廃液配管の開口部と、前記現像部から排気を行う排気
配管の開口部の少なくとも一方に、着脱自在なフィルタ
機構を配置したことを特徴とする現像装置。