JPH05255267A - 置換ピラゾリン類の製造法 - Google Patents
置換ピラゾリン類の製造法Info
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- JPH05255267A JPH05255267A JP4352300A JP35230092A JPH05255267A JP H05255267 A JPH05255267 A JP H05255267A JP 4352300 A JP4352300 A JP 4352300A JP 35230092 A JP35230092 A JP 35230092A JP H05255267 A JPH05255267 A JP H05255267A
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D231/00—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings
- C07D231/02—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings
- C07D231/06—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C225/00—Compounds containing amino groups and doubly—bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton, at least one of the doubly—bound oxygen atoms not being part of a —CHO group, e.g. amino ketones
- C07C225/02—Compounds containing amino groups and doubly—bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton, at least one of the doubly—bound oxygen atoms not being part of a —CHO group, e.g. amino ketones having amino groups bound to acyclic carbon atoms of the carbon skeleton
- C07C225/14—Compounds containing amino groups and doubly—bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton, at least one of the doubly—bound oxygen atoms not being part of a —CHO group, e.g. amino ketones having amino groups bound to acyclic carbon atoms of the carbon skeleton the carbon skeleton being unsaturated
- C07C225/16—Compounds containing amino groups and doubly—bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton, at least one of the doubly—bound oxygen atoms not being part of a —CHO group, e.g. amino ketones having amino groups bound to acyclic carbon atoms of the carbon skeleton the carbon skeleton being unsaturated and containing six-membered aromatic rings
-
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- C07D231/00—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings
- C07D231/02—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings
- C07D231/10—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D231/14—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D231/16—Halogen atoms or nitro radicals
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 式
【化１】
［式中、Ｒ1及びＲ3は同一又は相異なり、それぞれ場合
により置換されていてもよいアリール又は１−４個が窒
素原子であり、残りが炭素原子である５又は６員の場合
により置換されていてもよい及び／又はベンゾ−縮合さ
れていてもよい複素環であり、Ｒ2は水素又はアルキ
ル、シクロアルキル又はアリールであり、該基はそれぞ
れ場合により置換されていていてもよい］のピラゾリン
の新規製造法を提供する。 【構成】 第１段階で式 【化２】 のケトンを０℃−１００℃間の温度にて式 【化４】（Ｒ4）2Ｎ−ＣＨ2−Ｎ（Ｒ4）2 のビス−ジアルキルアミノメタンと反応させ、形成され
る式 【化５】 の置換ジアルキルアミノアルキルケトンを第２段階で０
℃−１００℃間の温度にてヒドラジン（水和物）と反応
させる。
により置換されていてもよいアリール又は１−４個が窒
素原子であり、残りが炭素原子である５又は６員の場合
により置換されていてもよい及び／又はベンゾ−縮合さ
れていてもよい複素環であり、Ｒ2は水素又はアルキ
ル、シクロアルキル又はアリールであり、該基はそれぞ
れ場合により置換されていていてもよい］のピラゾリン
の新規製造法を提供する。 【構成】 第１段階で式 【化２】 のケトンを０℃−１００℃間の温度にて式 【化４】（Ｒ4）2Ｎ−ＣＨ2−Ｎ（Ｒ4）2 のビス−ジアルキルアミノメタンと反応させ、形成され
る式 【化５】 の置換ジアルキルアミノアルキルケトンを第２段階で０
℃−１００℃間の温度にてヒドラジン（水和物）と反応
させる。
Description
【０００１】本発明は、有害生物防除剤（ｐｅｓｔｉｃ
ｉｄｅｓ）のための中間体として使用することができる
既知の置換ピリゾリン類の製造のための新規な方法及び
新規な中間体に関する。
ｉｄｅｓ）のための中間体として使用することができる
既知の置換ピリゾリン類の製造のための新規な方法及び
新規な中間体に関する。
【０００２】置換アルケニルケトンをヒドラジン（水和
物）と反応させると置換ピラゾリンが得られることは既
知である（欧州特許出願第４３８６９０号を参照）。し
かしこの方法の場合、置換ピラゾリン及び原料として必
要なアルケニルケトンが低収率でしか得られない。さら
にバッチの大きさが増すと共に収率が下がり、それに対
応する大規模な工業的生産が実際に不可能である。
物）と反応させると置換ピラゾリンが得られることは既
知である（欧州特許出願第４３８６９０号を参照）。し
かしこの方法の場合、置換ピラゾリン及び原料として必
要なアルケニルケトンが低収率でしか得られない。さら
にバッチの大きさが増すと共に収率が下がり、それに対
応する大規模な工業的生産が実際に不可能である。
【０００３】今回、一般式（Ｉ）
【０００４】
【化９】
【０００５】［式中、Ｒ1及びＲ3は同一又は相異なり、
それぞれ場合により置換されていてもよいアリール又は
１−４個が窒素原子であり、残りが炭素原子である５又
は６員の場合により置換されていてもよい及び／又はベ
ンゾ−縮合していてもよい複素環であり、Ｒ2は水素又
はアルキル、シクロアルキル又はアリールであり、該基
はそれぞれ場合により置換されていてもよい］の置換ピ
ラゾリンが、第１段階で一般式（ＩＩ）
それぞれ場合により置換されていてもよいアリール又は
１−４個が窒素原子であり、残りが炭素原子である５又
は６員の場合により置換されていてもよい及び／又はベ
ンゾ−縮合していてもよい複素環であり、Ｒ2は水素又
はアルキル、シクロアルキル又はアリールであり、該基
はそれぞれ場合により置換されていてもよい］の置換ピ
ラゾリンが、第１段階で一般式（ＩＩ）
【０００６】
【化１０】
【０００７】［式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は上記の意味を
有する］の置換ケトンを、場合により希釈剤の存在下に
０℃−１００℃間の温度にて一般式（ＩＩＩ）
有する］の置換ケトンを、場合により希釈剤の存在下に
０℃−１００℃間の温度にて一般式（ＩＩＩ）
【０００８】
【化１１】 （Ｒ4）2Ｎ−ＣＨ2−Ｎ（Ｒ4）2 （ＩＩＩ） ［式中、Ｒ4はアルキルである］のビス−ジアルキルア
ミノメタンと反応させ、この方法により形成される一般
式（ＩＶ）
ミノメタンと反応させ、この方法により形成される一般
式（ＩＶ）
【０００９】
【化１２】
【００１０】［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は上記の意
味を有する］の置換ジアルキルアミノアルキルケトンを
場合により単離し、第２段階で場合により希釈剤の存在
下に０℃−１００℃の温度にてヒドラジン（水和物）と
反応させると、非常な高収率及び非常な高品質で得られ
ることが見いだされた。
味を有する］の置換ジアルキルアミノアルキルケトンを
場合により単離し、第２段階で場合により希釈剤の存在
下に０℃−１００℃の温度にてヒドラジン（水和物）と
反応させると、非常な高収率及び非常な高品質で得られ
ることが見いだされた。
【００１１】驚くべきことに、式（Ｉ）の置換ピラゾリ
ンは、本発明の方法を用いることにより、欧州特許出願
第４３８６９０号に記載の既知の方法の場合よりずっと
高収率及び高品質で得ることができる。
ンは、本発明の方法を用いることにより、欧州特許出願
第４３８６９０号に記載の既知の方法の場合よりずっと
高収率及び高品質で得ることができる。
【００１２】既知の方法と対照的に、本発明の方法は何
の問題もなく工業規模に変換することができる。従って
本発明の方法は、先行技術の有用な拡張法となる。
の問題もなく工業規模に変換することができる。従って
本発明の方法は、先行技術の有用な拡張法となる。
【００１３】例えばα−（ピラゾール−１−イル）−４
−フルオロアセトフェノン及びビス−ジメチルアミノメ
タンを出発材料として用いると、本発明の方法の場合の
反応経路は以下の反応式により概述することができる：
−フルオロアセトフェノン及びビス−ジメチルアミノメ
タンを出発材料として用いると、本発明の方法の場合の
反応経路は以下の反応式により概述することができる：
【００１４】
【化１３】
【００１５】本発明の方法により製造する式（Ｉ）の好
ましい化合物は、式中、Ｒ1及びＲ3が同一又は相異な
り、それぞれ場合によりハロゲン、シアノ、ニトロ、Ｃ
1−Ｃ6−アルキル、Ｃ1−Ｃ6−ハロゲノアルキル、Ｃ1
−Ｃ6−アルコキシ、Ｃ1−Ｃ6−ハロゲノアルコキシ、
Ｃ1−Ｃ6−アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ6−ハロゲノアルキル
チオ、Ｃ1−Ｃ6−アルキルスルフィニル、Ｃ1−Ｃ6−ハ
ロゲノアルキルスルフィニル、Ｃ1−Ｃ6−アルキルスル
ホニル、Ｃ1−Ｃ6−ハロゲノアルキルスルホニル、ジ−
（Ｃ1−Ｃ4−アルキル）−アミノ、Ｃ1−Ｃ2−アルキレ
ンジオキシ、Ｃ1−Ｃ2−ハロゲノアルキレンジオキシ、
（場合によりハロゲン及び／又はＣ1−Ｃ4−ハロゲノア
ルキルにより置換されていてもよい）フェノキシ、又は
（場合によりハロゲン及び／又はＣ1−Ｃ4−ハロゲノア
ルキルにより置換されていてもよい）フェニルチオによ
り置換されていてもよいフェニル又はナフチルである
か、又はそれぞれ場合によりハロゲン、シアノ、ニト
ロ、Ｃ1−Ｃ6−アルキル、Ｃ1−Ｃ6−ハロゲノアルキ
ル、Ｃ1−Ｃ6−アルコキシ、Ｃ1−Ｃ6−ハロゲノアルコ
キシ、Ｃ1−Ｃ6−アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ6−ハロゲノア
ルキルチオ、Ｃ1−Ｃ6−アルキルスルフィニル、Ｃ1−
Ｃ6−ハロゲノアルキルスルフィニル、Ｃ1−Ｃ6−アル
キルスルホニル又はＣ1−Ｃ6−ハロゲノアルキルスルホ
ニルにより置換されていてもよいピロール、ピラゾー
ル、イミダゾール、トリアゾール、ピリジン、ピリド
ン、ピリミジン、ピラジン、ピリダジン又はトリアジン
基であり、Ｒ2が水素、場合によりハロゲンにより置換
されていてもよいＣ1−Ｃ6−アルキル、場合によりハロ
ゲン及び／又はＣ1−Ｃ4−アルキルにより置換されてい
てもよいＣ3−Ｃ6シクロアルキル又は場合によりハロゲ
ン又はＣ1−Ｃ6−アルキルにより置換されていてもよい
フェニルである化合物である。
ましい化合物は、式中、Ｒ1及びＲ3が同一又は相異な
り、それぞれ場合によりハロゲン、シアノ、ニトロ、Ｃ
1−Ｃ6−アルキル、Ｃ1−Ｃ6−ハロゲノアルキル、Ｃ1
−Ｃ6−アルコキシ、Ｃ1−Ｃ6−ハロゲノアルコキシ、
Ｃ1−Ｃ6−アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ6−ハロゲノアルキル
チオ、Ｃ1−Ｃ6−アルキルスルフィニル、Ｃ1−Ｃ6−ハ
ロゲノアルキルスルフィニル、Ｃ1−Ｃ6−アルキルスル
ホニル、Ｃ1−Ｃ6−ハロゲノアルキルスルホニル、ジ−
（Ｃ1−Ｃ4−アルキル）−アミノ、Ｃ1−Ｃ2−アルキレ
ンジオキシ、Ｃ1−Ｃ2−ハロゲノアルキレンジオキシ、
（場合によりハロゲン及び／又はＣ1−Ｃ4−ハロゲノア
ルキルにより置換されていてもよい）フェノキシ、又は
（場合によりハロゲン及び／又はＣ1−Ｃ4−ハロゲノア
ルキルにより置換されていてもよい）フェニルチオによ
り置換されていてもよいフェニル又はナフチルである
か、又はそれぞれ場合によりハロゲン、シアノ、ニト
ロ、Ｃ1−Ｃ6−アルキル、Ｃ1−Ｃ6−ハロゲノアルキ
ル、Ｃ1−Ｃ6−アルコキシ、Ｃ1−Ｃ6−ハロゲノアルコ
キシ、Ｃ1−Ｃ6−アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ6−ハロゲノア
ルキルチオ、Ｃ1−Ｃ6−アルキルスルフィニル、Ｃ1−
Ｃ6−ハロゲノアルキルスルフィニル、Ｃ1−Ｃ6−アル
キルスルホニル又はＣ1−Ｃ6−ハロゲノアルキルスルホ
ニルにより置換されていてもよいピロール、ピラゾー
ル、イミダゾール、トリアゾール、ピリジン、ピリド
ン、ピリミジン、ピラジン、ピリダジン又はトリアジン
基であり、Ｒ2が水素、場合によりハロゲンにより置換
されていてもよいＣ1−Ｃ6−アルキル、場合によりハロ
ゲン及び／又はＣ1−Ｃ4−アルキルにより置換されてい
てもよいＣ3−Ｃ6シクロアルキル又は場合によりハロゲ
ン又はＣ1−Ｃ6−アルキルにより置換されていてもよい
フェニルである化合物である。
【００１６】本発明の方法により製造する式（Ｉ）の化
合物は特に式中、Ｒ1が場合によりハロゲン、シアノ、
ニトロ、Ｃ1−Ｃ4−アルキル、Ｃ1−Ｃ2−ハロゲノアル
キル、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシ、Ｃ1−Ｃ2−ハロゲノアル
コキシ、Ｃ1−Ｃ4−アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ2−ハロゲノ
アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ4−アルキルスルフィニル、Ｃ1
−Ｃ2−ハロゲノアルキルスルフィニル、Ｃ1−Ｃ4−ア
ルキルスルホニル、Ｃ1−Ｃ2−ハロゲノアルキルスルホ
ニル、Ｃ1−Ｃ2−アルキレンジオキシ又はＣ1−Ｃ2−ハ
ロゲノアルキレンジオキシで置換されていてもよいフエ
ニルであり、Ｒ2が水素であり、Ｒ3が各場合において窒
素原子を経て結合し、場合によりハロゲン、シアノ、ニ
トロ、Ｃ1−Ｃ4−アルキル、Ｃ1−Ｃ2−ハロゲノアルキ
ル、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシ、Ｃ1−Ｃ2−ハロゲノアルコ
キシ、Ｃ1−Ｃ4−アルキルチオ又はＣ1−Ｃ2−ハロゲノ
アルキルチオにより置換されていてもよいピラゾール又
はピリドン基である化合物である。
合物は特に式中、Ｒ1が場合によりハロゲン、シアノ、
ニトロ、Ｃ1−Ｃ4−アルキル、Ｃ1−Ｃ2−ハロゲノアル
キル、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシ、Ｃ1−Ｃ2−ハロゲノアル
コキシ、Ｃ1−Ｃ4−アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ2−ハロゲノ
アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ4−アルキルスルフィニル、Ｃ1
−Ｃ2−ハロゲノアルキルスルフィニル、Ｃ1−Ｃ4−ア
ルキルスルホニル、Ｃ1−Ｃ2−ハロゲノアルキルスルホ
ニル、Ｃ1−Ｃ2−アルキレンジオキシ又はＣ1−Ｃ2−ハ
ロゲノアルキレンジオキシで置換されていてもよいフエ
ニルであり、Ｒ2が水素であり、Ｒ3が各場合において窒
素原子を経て結合し、場合によりハロゲン、シアノ、ニ
トロ、Ｃ1−Ｃ4−アルキル、Ｃ1−Ｃ2−ハロゲノアルキ
ル、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシ、Ｃ1−Ｃ2−ハロゲノアルコ
キシ、Ｃ1−Ｃ4−アルキルチオ又はＣ1−Ｃ2−ハロゲノ
アルキルチオにより置換されていてもよいピラゾール又
はピリドン基である化合物である。
【００１７】式（Ｉ）の定義におけるハロゲンは、フッ
素、塩素、臭素又はヨウ素であることが好ましい。
素、塩素、臭素又はヨウ素であることが好ましい。
【００１８】本発明の方法における中間体としての一般
式（ＩＶ）の置換ジアルキルアミノアルキルケトンは、
文献から既知のものではなく、これも本特許出願の主題
である。
式（ＩＶ）の置換ジアルキルアミノアルキルケトンは、
文献から既知のものではなく、これも本特許出願の主題
である。
【００１９】式（ＩＶ）のＲ1、Ｒ2及びＲ3は、本発明
の方法により製造する式（Ｉ）の化合物に関する記載と
関連して好ましい、又は特に好ましいとしてすでに上記
で述べた意味と同義であることが好ましく、又は特に好
ましく；Ｒ4はＣ1−Ｃ6−アルキルが好ましく、メチ
ル、エチル、プロピル又はブチルが特に好ましい。
の方法により製造する式（Ｉ）の化合物に関する記載と
関連して好ましい、又は特に好ましいとしてすでに上記
で述べた意味と同義であることが好ましく、又は特に好
ましく；Ｒ4はＣ1−Ｃ6−アルキルが好ましく、メチ
ル、エチル、プロピル又はブチルが特に好ましい。
【００２０】本発明の方法における式（Ｉ）の化合物の
製造の出発材料として使用する置換ケトンは、一般に式
（ＩＩ）により定義される。式（ＩＩ）中のＲ1、Ｒ2及
びＲ3は、本発明の方法により製造する式（Ｉ）の化合
物に関する記載と関連してＲ1、Ｒ2及びＲ3として好ま
しい、又は特に好ましいとすでに上記で述べた意味と同
義であることが好ましく、又は特に好ましい。
製造の出発材料として使用する置換ケトンは、一般に式
（ＩＩ）により定義される。式（ＩＩ）中のＲ1、Ｒ2及
びＲ3は、本発明の方法により製造する式（Ｉ）の化合
物に関する記載と関連してＲ1、Ｒ2及びＲ3として好ま
しい、又は特に好ましいとすでに上記で述べた意味と同
義であることが好ましく、又は特に好ましい。
【００２１】式（ＩＩ）の出発材料は既知であるか、及
び／又は基本的に既知の方法を用いて製造することがで
きる（欧州特許出願第４３８６９０号を参照）。
び／又は基本的に既知の方法を用いて製造することがで
きる（欧州特許出願第４３８６９０号を参照）。
【００２２】本発明の方法でやはり出発材料として用い
るビス−ジアルキルアミノメタンは、一般に式（ＩＩ
Ｉ）で定義される。式（ＩＩＩ）において、Ｒ4はＣ1−
Ｃ6−アルキル、特にメチル、エチル、プロピル又はブ
チルであることが好ましい。
るビス−ジアルキルアミノメタンは、一般に式（ＩＩ
Ｉ）で定義される。式（ＩＩＩ）において、Ｒ4はＣ1−
Ｃ6−アルキル、特にメチル、エチル、プロピル又はブ
チルであることが好ましい。
【００２３】式（ＩＩＩ）の出発材料は既知の有機合成
化学品である。
化学品である。
【００２４】式（ＩＶ）の中間体を得るための本発明の
方法の第１段階は、希釈剤を添加せずに、又は希釈剤の
存在下で行うことができる。この場合適した希釈剤は特
に場合によりハロゲン化された脂肪族、脂環式又は芳香
族炭化水素、例えばペンタン、ヘキサン、ヘプタン、シ
クロヘキサン、メチルクロヘキサン、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、メチレンクロリド、クロロホルム、テト
ラクロロメタン、クロロベンゼン及びｏ−ジクロロベン
ゼンである。この場合メチレンクロリドを希釈剤として
使用するのが特に好ましい。
方法の第１段階は、希釈剤を添加せずに、又は希釈剤の
存在下で行うことができる。この場合適した希釈剤は特
に場合によりハロゲン化された脂肪族、脂環式又は芳香
族炭化水素、例えばペンタン、ヘキサン、ヘプタン、シ
クロヘキサン、メチルクロヘキサン、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、メチレンクロリド、クロロホルム、テト
ラクロロメタン、クロロベンゼン及びｏ−ジクロロベン
ゼンである。この場合メチレンクロリドを希釈剤として
使用するのが特に好ましい。
【００２５】本発明の第１段階を行う場合、反応温度は
広い範囲で変化させることができる。使用温度は０℃−
１００℃であることができ、５℃−８０℃が好ましく、
１０℃−５０℃が特に好ましい。
広い範囲で変化させることができる。使用温度は０℃−
１００℃であることができ、５℃−８０℃が好ましく、
１０℃−５０℃が特に好ましい。
【００２６】本発明の方法の第１段階を行うために、一
般に式（ＩＩ）の置換ケトン１モル当たり０．９−１．
５モル、好ましくは１．０−１．２モルの式（ＩＩＩ）
のビス−ジアルキルアミノメタンを使用する。一般に式
（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）の出発材料及び好ましくは希釈
剤、例えばメチレンクロリドを約５℃−約３０℃の温度
で混合し、好ましくは５℃−３０℃の温度で反応の終結
まで撹拌する。得られる式（ＩＶ）の中間体は一般に、
反応の終結後に混合物を減圧下で蒸発により濃縮し、残
留物を例えばヘキサンなどの非−極性溶媒と共に撹拌
し、結晶生成物を吸引濾過により単離すると、結晶の形
態で単離することができる。式（Ｉ）の化合物の製造法
は、式（ＩＶ）の中間体を単離せずに行うが好ましい。
般に式（ＩＩ）の置換ケトン１モル当たり０．９−１．
５モル、好ましくは１．０−１．２モルの式（ＩＩＩ）
のビス−ジアルキルアミノメタンを使用する。一般に式
（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）の出発材料及び好ましくは希釈
剤、例えばメチレンクロリドを約５℃−約３０℃の温度
で混合し、好ましくは５℃−３０℃の温度で反応の終結
まで撹拌する。得られる式（ＩＶ）の中間体は一般に、
反応の終結後に混合物を減圧下で蒸発により濃縮し、残
留物を例えばヘキサンなどの非−極性溶媒と共に撹拌
し、結晶生成物を吸引濾過により単離すると、結晶の形
態で単離することができる。式（Ｉ）の化合物の製造法
は、式（ＩＶ）の中間体を単離せずに行うが好ましい。
【００２７】本発明の方法の第２段階は、希釈剤を用い
て行うのが好ましい。実際にすべての不活性有機溶媒が
適した希釈剤である。これらは場合によりハロゲン化さ
れていてもよい脂肪族及び芳香族炭化水素類、例えばペ
ンタン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、石油エ
ーテル、ガソリン、リグロイン、ベンゼン、トルエン、
キシレン、メチレンクロリド、エチレンクロリド、クロ
ロホルム、テトラクロロメタン、クロロベンゼン及びｏ
−ジクロロベンゼン、エーテル類、例えばジエチル及び
ジブチルエーテル、グリコールジメチルエーテル及びジ
グリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフランなら
びにジオキサン、ケトン類、例えばアセトン、メチルエ
チル、メチルイソプロピル及びメチルイソブチルケト
ン、エステル類、例えば酢酸メチル及び酢酸エチル、ニ
トリル類、例えばアセトニトリル及びプロピオニトリ
ル、アミド類、例えばジメチルホルムアミド、ジメチル
アセトアミド及びＮ−メチルピロリドン、ならびにジメ
チルスルホキシド、テトラメチレンスルホン及びヘキサ
メチルリン酸トリアミド、ならびにアルコール類、例え
ばエタノール、ｎ−及びイソ−プロパノール、ｎ−、イ
ソ−、ｓｅｃ−及びｔｅｒｔ−ブタノールを含むのが好
ましい。本発明の方法の第２段階の溶媒としてエタノー
ルが特に好ましい。
て行うのが好ましい。実際にすべての不活性有機溶媒が
適した希釈剤である。これらは場合によりハロゲン化さ
れていてもよい脂肪族及び芳香族炭化水素類、例えばペ
ンタン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、石油エ
ーテル、ガソリン、リグロイン、ベンゼン、トルエン、
キシレン、メチレンクロリド、エチレンクロリド、クロ
ロホルム、テトラクロロメタン、クロロベンゼン及びｏ
−ジクロロベンゼン、エーテル類、例えばジエチル及び
ジブチルエーテル、グリコールジメチルエーテル及びジ
グリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフランなら
びにジオキサン、ケトン類、例えばアセトン、メチルエ
チル、メチルイソプロピル及びメチルイソブチルケト
ン、エステル類、例えば酢酸メチル及び酢酸エチル、ニ
トリル類、例えばアセトニトリル及びプロピオニトリ
ル、アミド類、例えばジメチルホルムアミド、ジメチル
アセトアミド及びＮ−メチルピロリドン、ならびにジメ
チルスルホキシド、テトラメチレンスルホン及びヘキサ
メチルリン酸トリアミド、ならびにアルコール類、例え
ばエタノール、ｎ−及びイソ−プロパノール、ｎ−、イ
ソ−、ｓｅｃ−及びｔｅｒｔ−ブタノールを含むのが好
ましい。本発明の方法の第２段階の溶媒としてエタノー
ルが特に好ましい。
【００２８】本発明の第２段階を行う場合、反応温度は
広い範囲で変えることができる。使用温度は０℃−１０
０℃であることができ、０℃−６０℃が好ましく、０℃
−４０℃が特に好ましい。
広い範囲で変えることができる。使用温度は０℃−１０
０℃であることができ、０℃−６０℃が好ましく、０℃
−４０℃が特に好ましい。
【００２９】本発明の方法の第２段階を行うために、式
（ＩＩ）の出発材料１モル当たり一般に０．９−１．５
モル、好ましくは１．０−１．２モルのヒドラジン（水
和物）を使用する。
（ＩＩ）の出発材料１モル当たり一般に０．９−１．５
モル、好ましくは１．０−１．２モルのヒドラジン（水
和物）を使用する。
【００３０】方法の第１の変法の場合、上記に記載の通
りに単離した式（ＩＶ）の中間体を希釈剤、好ましくは
エタノール中に取り上げる。その後ヒドラジン（水和
物）をゆっくり量り込み、反応混合物を数時間撹拌す
る。冷却後、結晶生成物を一般に吸引濾過により単離す
ることができる。
りに単離した式（ＩＶ）の中間体を希釈剤、好ましくは
エタノール中に取り上げる。その後ヒドラジン（水和
物）をゆっくり量り込み、反応混合物を数時間撹拌す
る。冷却後、結晶生成物を一般に吸引濾過により単離す
ることができる。
【００３１】方法の第２の変法の場合、方法の第１段階
を行った後、反応混合物にヒドラジン（水和物）を直接
加える、すなわち式（ＩＶ）の中間体の中間単離を省略
する。混合物を反応の終結まで撹拌し、通常の方法で仕
上げる（製造例を参照）。
を行った後、反応混合物にヒドラジン（水和物）を直接
加える、すなわち式（ＩＶ）の中間体の中間単離を省略
する。混合物を反応の終結まで撹拌し、通常の方法で仕
上げる（製造例を参照）。
【００３２】方法の特に好ましい第３の変法の場合、メ
チレンクロリドを希釈剤として用いて上記の要領で方法
の第１段階を行う。その後混合物を蒸発により濃縮し、
残留物をエタノール中に取り上げ、ヒドラジン（水和
物）をそれに加える。その後反応混合物を反応の終結ま
で撹拌する。冷却後、生成物を吸引濾過により単離する
ことができる。しかし反応の終結後に混合物を蒸発さ
せ、残留物を例えば水などの他の溶媒と撹拌し、その後
混合物を吸引濾過するのも有利である（製造例を参
照）。
チレンクロリドを希釈剤として用いて上記の要領で方法
の第１段階を行う。その後混合物を蒸発により濃縮し、
残留物をエタノール中に取り上げ、ヒドラジン（水和
物）をそれに加える。その後反応混合物を反応の終結ま
で撹拌する。冷却後、生成物を吸引濾過により単離する
ことができる。しかし反応の終結後に混合物を蒸発さ
せ、残留物を例えば水などの他の溶媒と撹拌し、その後
混合物を吸引濾過するのも有利である（製造例を参
照）。
【００３３】本発明の方法で製造する式（Ｉ）の置換ピ
ラゾリンは、有害生物防除剤（ｐｅｓｔｉｃｉｄｅ）の
製造における中間体として使用することができる（欧州
特許出願番号第４３８ ６９０号を参照）。
ラゾリンは、有害生物防除剤（ｐｅｓｔｉｃｉｄｅ）の
製造における中間体として使用することができる（欧州
特許出願番号第４３８ ６９０号を参照）。
【００３４】式（Ｉ）の化合物の殺虫性最終生成物への
変換は、以下の例を用いて示すことができる：
変換は、以下の例を用いて示すことができる：
【００３５】
【化１４】
【００３６】
【実施例】製造例 実施例１
【００３７】
【化１５】
【００３８】１０７ｇ（１．０５モル）のビス−ジチメ
ルアミノメタンを、９００ｍｌのジクロロメタン中の２
５５ｇ（１．０モル）のα−（４−クロロピラゾール−
１−イル）−４−クロロアセトフェノンの溶液に２０℃
−２５℃にて加える。その後混合物を９０分間加熱還流
する。２０℃に冷却後、５５ｇ（１．１モル）のヒドラ
ジンハイドレートを１５分かけて滴下する。その後反応
混合物を２０℃にて２０分間、最後に５℃にて３０分間
撹拌する。結晶生成物を吸引濾過により単離する。
ルアミノメタンを、９００ｍｌのジクロロメタン中の２
５５ｇ（１．０モル）のα−（４−クロロピラゾール−
１−イル）−４−クロロアセトフェノンの溶液に２０℃
−２５℃にて加える。その後混合物を９０分間加熱還流
する。２０℃に冷却後、５５ｇ（１．１モル）のヒドラ
ジンハイドレートを１５分かけて滴下する。その後反応
混合物を２０℃にて２０分間、最後に５℃にて３０分間
撹拌する。結晶生成物を吸引濾過により単離する。
【００３９】１１５ｇ（理論値の４１％）の融点が１７
６℃の３−（４−クロロフェニル）−４−（４−クロロ
ピラゾール−１−イル）−４，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピ
ラゾールを得る。
６℃の３−（４−クロロフェニル）−４−（４−クロロ
ピラゾール−１−イル）−４，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピ
ラゾールを得る。
【００４０】濾液を振り、有機相を分離し、各回２００
ｍｌの水で２回洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過
する。濾液を水流ポンプ真空下で蒸発させ、残留物をジ
イソプロピルエーテルと共に撹拌する。この方法で得た
結晶生成物を吸引濾過する。この方法でさらに４７．２
ｇ（理論値の１７％）の上記の生成物を得る。
ｍｌの水で２回洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過
する。濾液を水流ポンプ真空下で蒸発させ、残留物をジ
イソプロピルエーテルと共に撹拌する。この方法で得た
結晶生成物を吸引濾過する。この方法でさらに４７．２
ｇ（理論値の１７％）の上記の生成物を得る。
【００４１】合計収量：１６２．２ｇ（理論値の５８
％）。
％）。
【００４２】実施例２
【００４３】
【化１６】
【００４４】４５０ｇ（４．４モル）のビス−ジメチル
アミノメタンを、１０２０ｇ（４．０モル）のα−（４
−クロロピラゾール−１−イル）−４−クロロアセトフ
ェノン及び１６００ｍｌのメチレンクロリドの混合物に
２０℃−２５℃で加える。反応混合物を１５時間加熱還
流し、水流ポンプ真空下で蒸発させる。残る残留物を４
リットルのエタノール中に取り上げ、その後２３２ｇ
（４．６４モル）のヒドラジンハイドレートを混合物に
１５分かけて滴下する。約３０分後、透明な溶液が形成
され、さらに約３０分後、生成物が結晶化し始める。混
合物を２０℃−３０℃で約５時間、その後１０℃で約３
０分間撹拌する。その後結晶生成物を吸引濾過により単
離する。
アミノメタンを、１０２０ｇ（４．０モル）のα−（４
−クロロピラゾール−１−イル）−４−クロロアセトフ
ェノン及び１６００ｍｌのメチレンクロリドの混合物に
２０℃−２５℃で加える。反応混合物を１５時間加熱還
流し、水流ポンプ真空下で蒸発させる。残る残留物を４
リットルのエタノール中に取り上げ、その後２３２ｇ
（４．６４モル）のヒドラジンハイドレートを混合物に
１５分かけて滴下する。約３０分後、透明な溶液が形成
され、さらに約３０分後、生成物が結晶化し始める。混
合物を２０℃−３０℃で約５時間、その後１０℃で約３
０分間撹拌する。その後結晶生成物を吸引濾過により単
離する。
【００４５】９８３ｇ（理論値の８７％）の融点が１７
６℃の３−（４−ロロフェニル）−４−（４−クロロピ
ラゾール−１−イル）−４，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピラ
ゾールを得る。
６℃の３−（４−ロロフェニル）−４−（４−クロロピ
ラゾール−１−イル）−４，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピラ
ゾールを得る。
【００４６】実施例３
【００４７】
【化１７】
【００４８】５６．２ｇ（０．５５モル）のビス−ジメ
チルアミノメタンを、２０℃にて１４３ｇ（０．５モ
ル）のα−（４−クロロピラゾール−１−イル）−４−
ジフルオロメトキシアセトフェノン及び４５０ｍｌのメ
チレンクロリドの混合物に加える。反応混合物を１９時
間加熱還流し、その後水流ポンプ真空下で蒸発させる。
残る残留物を７５０ｍｌのエタノール中に取り上げ、２
７ｇ（０．５４モル）のヒドラジンハイドレートで処理
すると内部温度が２５℃から３５℃に上昇する。反応混
合物をさらに５時間撹拌し、その後水流ポンプ真空下で
蒸発させる。残留物を１リットルの水と共に撹拌し、結
晶生成物を吸引濾過により単離する。
チルアミノメタンを、２０℃にて１４３ｇ（０．５モ
ル）のα−（４−クロロピラゾール−１−イル）−４−
ジフルオロメトキシアセトフェノン及び４５０ｍｌのメ
チレンクロリドの混合物に加える。反応混合物を１９時
間加熱還流し、その後水流ポンプ真空下で蒸発させる。
残る残留物を７５０ｍｌのエタノール中に取り上げ、２
７ｇ（０．５４モル）のヒドラジンハイドレートで処理
すると内部温度が２５℃から３５℃に上昇する。反応混
合物をさらに５時間撹拌し、その後水流ポンプ真空下で
蒸発させる。残留物を１リットルの水と共に撹拌し、結
晶生成物を吸引濾過により単離する。
【００４９】１５４ｇ（理論値の９８％）の融点が９３
℃の３−（４−ジフルオロメトキシフェニル）−４−
（４−クロロピラゾール−１−イル）−４，５−ジヒド
ロ−１Ｈ−ピラゾールを得る。
℃の３−（４−ジフルオロメトキシフェニル）−４−
（４−クロロピラゾール−１−イル）−４，５−ジヒド
ロ−１Ｈ−ピラゾールを得る。
【００５０】式（ＩＶ）の中間体 実施例（ＩＶ−１）
【００５１】
【化１８】
【００５２】１４３ｇ（０．５６モル）のα−（４−ク
ロロピラゾール−１−ル）−４−クロロアセトフェノ
ン、６３ｇ（０．６２モル）のビス−ジメチルアミノメ
タン及び５００ｍｌのメチレンクロリドの混合物を１５
時間加熱還流し、その後水流ポンプ真空下で蒸発させ
る。残留物を５００ｍｌのヘキサンと共に撹拌し、結晶
生成物を吸引濾過により単離する。
ロロピラゾール−１−ル）−４−クロロアセトフェノ
ン、６３ｇ（０．６２モル）のビス−ジメチルアミノメ
タン及び５００ｍｌのメチレンクロリドの混合物を１５
時間加熱還流し、その後水流ポンプ真空下で蒸発させ
る。残留物を５００ｍｌのヘキサンと共に撹拌し、結晶
生成物を吸引濾過により単離する。
【００５３】１４８ｇ（理論値の８５％）の融点が１０
７℃のα−（４−クロロピラゾール−１−イル）−α−
ジメチルアミノメチル−４−クロロアセトフェノンを得
る。本発明の主たる特徴及び態様は以下の通りである。
７℃のα−（４−クロロピラゾール−１−イル）−α−
ジメチルアミノメチル−４−クロロアセトフェノンを得
る。本発明の主たる特徴及び態様は以下の通りである。
【００５４】１．第１段階で一般式（ＩＩ）
【００５５】
【化１９】
【００５６】［式中、Ｒ1及びＲ3は同一又は相異なり、
それぞれ場合により置換されていてもよいアリール又は
１−４個が窒素原子であり、残りが炭素原子である５又
は６員の場合により置換されていてもよい及び／又はベ
ンゾ−縮合されていてもよい複素環であり、Ｒ2は水素
又はアルキル、シクロアルキル又はアリールであり、該
基はそれぞれ場合により置換されていてもよい］の置換
ケトンを、場合により希釈剤の存在下に０℃−１００℃
間の温度にて一般式（ＩＩＩ）
それぞれ場合により置換されていてもよいアリール又は
１−４個が窒素原子であり、残りが炭素原子である５又
は６員の場合により置換されていてもよい及び／又はベ
ンゾ−縮合されていてもよい複素環であり、Ｒ2は水素
又はアルキル、シクロアルキル又はアリールであり、該
基はそれぞれ場合により置換されていてもよい］の置換
ケトンを、場合により希釈剤の存在下に０℃−１００℃
間の温度にて一般式（ＩＩＩ）
【００５７】
【化２０】 （Ｒ4）2Ｎ−ＣＨ2−Ｎ（Ｒ4）2 （ＩＩＩ） ［式中、Ｒ4はアルキルである］のビス−ジアルキルア
ミノメタンと反応させ、この方法により形成される一般
式（ＩＶ）
ミノメタンと反応させ、この方法により形成される一般
式（ＩＶ）
【００５８】
【化２１】
【００５９】［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は上記の意
味を有する］の置換ジアルキルアミノアルキルケトンを
場合により単離し、第２段階で場合により希釈剤の存在
下に０℃−１００℃間の温度にてヒドラジン（水和物）
と反応させることを特徴とする一般式（Ｉ）
味を有する］の置換ジアルキルアミノアルキルケトンを
場合により単離し、第２段階で場合により希釈剤の存在
下に０℃−１００℃間の温度にてヒドラジン（水和物）
と反応させることを特徴とする一般式（Ｉ）
【００６０】
【化２２】
【００６１】［式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は上記の意味を
有する］の置換ピラゾリンの製造法。
有する］の置換ピラゾリンの製造法。
【００６２】２．式（ＩＶ）のジアルキルアミノアルキ
ルケトン中間体を単離する第１項記載の方法。
ルケトン中間体を単離する第１項記載の方法。
【００６３】３．式（Ｉ）において、Ｒ1及びＲ3が同一
又は相異なり、それぞれ場合によりハロゲン、シアノ、
ニトロ、Ｃ1−Ｃ6−アルキル、Ｃ1−Ｃ6−ハロゲノアル
キル、Ｃ1−Ｃ6−アルコキシ、Ｃ1−Ｃ6−ハロゲノアル
コキシ、Ｃ1−Ｃ6−アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ6−ハロゲノ
アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ6−アルキルスルフィニル、Ｃ1
−Ｃ6−ハロゲノアルキルスルフィニル、Ｃ1−Ｃ6−ア
ルキルスルホニル、Ｃ1−Ｃ6−ハロゲノアルキルスルホ
ニル、ジ−（Ｃ1−Ｃ4−アルキル）−アミノ、Ｃ1−Ｃ2
−アルキレンジオキシ、Ｃ1−Ｃ2−ハロゲノアルキレン
ジオキシ、（場合によりハロゲン及び／又はＣ1−Ｃ4−
ハロゲノアルキルにより置換されていてもよい）フェノ
キシ、又は（場合によりハロゲン及び／又はＣ1−Ｃ4−
ハロゲノアルキルにより置換されていてもよい）フェニ
ルチオにより置換されていてもよいフェニル又はナフチ
ルであるか、又はそれぞれ場合によりハロゲン、シア
ノ、ニトロ、Ｃ1−Ｃ6−アルキル、Ｃ1−Ｃ6−ハロゲノ
アルキル、Ｃ1−Ｃ6−アルコキシ、Ｃ1−Ｃ6−ハロゲノ
アルコキシ、Ｃ1−Ｃ6−アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ6−ハロ
ゲノアルキルチオ、Ｃ1−Ｃ6−アルキルスルフィニル、
Ｃ1−Ｃ6−ハロゲノアルキルスルフィニル、Ｃ1−Ｃ6−
アルキルスルホニル又はＣ1−Ｃ6−ハロゲノアルキルス
ルホニルにより置換されていてもよいピロール、ピラゾ
ール、イミダゾール、トリアゾール、ピリジン、ピリド
ン、ピリミジン、ピラジン、ピリダジン又はトリアジン
基であり、Ｒ2が水素、場合によりハロゲンにより置換
されていてもよいＣ1−Ｃ6−アルキル、場合によりハロ
ゲン及び／又はＣ1−Ｃ4−アルキルにより置換されてい
てもよいＣ3−Ｃ6シクロアルキル又は場合によりハロゲ
ン又はＣ1−Ｃ6−アルキルにより置換されていてもよい
フェニルである第１及び２項記載の一般式（Ｉ）の置換
ピラゾリンの製造法。
又は相異なり、それぞれ場合によりハロゲン、シアノ、
ニトロ、Ｃ1−Ｃ6−アルキル、Ｃ1−Ｃ6−ハロゲノアル
キル、Ｃ1−Ｃ6−アルコキシ、Ｃ1−Ｃ6−ハロゲノアル
コキシ、Ｃ1−Ｃ6−アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ6−ハロゲノ
アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ6−アルキルスルフィニル、Ｃ1
−Ｃ6−ハロゲノアルキルスルフィニル、Ｃ1−Ｃ6−ア
ルキルスルホニル、Ｃ1−Ｃ6−ハロゲノアルキルスルホ
ニル、ジ−（Ｃ1−Ｃ4−アルキル）−アミノ、Ｃ1−Ｃ2
−アルキレンジオキシ、Ｃ1−Ｃ2−ハロゲノアルキレン
ジオキシ、（場合によりハロゲン及び／又はＣ1−Ｃ4−
ハロゲノアルキルにより置換されていてもよい）フェノ
キシ、又は（場合によりハロゲン及び／又はＣ1−Ｃ4−
ハロゲノアルキルにより置換されていてもよい）フェニ
ルチオにより置換されていてもよいフェニル又はナフチ
ルであるか、又はそれぞれ場合によりハロゲン、シア
ノ、ニトロ、Ｃ1−Ｃ6−アルキル、Ｃ1−Ｃ6−ハロゲノ
アルキル、Ｃ1−Ｃ6−アルコキシ、Ｃ1−Ｃ6−ハロゲノ
アルコキシ、Ｃ1−Ｃ6−アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ6−ハロ
ゲノアルキルチオ、Ｃ1−Ｃ6−アルキルスルフィニル、
Ｃ1−Ｃ6−ハロゲノアルキルスルフィニル、Ｃ1−Ｃ6−
アルキルスルホニル又はＣ1−Ｃ6−ハロゲノアルキルス
ルホニルにより置換されていてもよいピロール、ピラゾ
ール、イミダゾール、トリアゾール、ピリジン、ピリド
ン、ピリミジン、ピラジン、ピリダジン又はトリアジン
基であり、Ｒ2が水素、場合によりハロゲンにより置換
されていてもよいＣ1−Ｃ6−アルキル、場合によりハロ
ゲン及び／又はＣ1−Ｃ4−アルキルにより置換されてい
てもよいＣ3−Ｃ6シクロアルキル又は場合によりハロゲ
ン又はＣ1−Ｃ6−アルキルにより置換されていてもよい
フェニルである第１及び２項記載の一般式（Ｉ）の置換
ピラゾリンの製造法。
【００６４】４．式（Ｉ）において、Ｒ1が場合により
ハロゲン、シアノ、ニトロ、Ｃ1−Ｃ4−アルキル、Ｃ1
−Ｃ2−ハロゲノアルキル、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシ、Ｃ1
−Ｃ2−ハロゲノアルコキシ、Ｃ1−Ｃ4−アルキルチ
オ、Ｃ1−Ｃ2−ハロゲノアルキルチオ、Ｃ1−Ｃ4−アル
キルスルフィニル、Ｃ1−Ｃ2−ハロゲノアルキルスルフ
ィニル、Ｃ1−Ｃ4−アルキルスルホニル、Ｃ1−Ｃ2−ハ
ロゲノアルキルスルホニル、Ｃ1−Ｃ2−アルキレンジオ
キシ又はＣ1−Ｃ2−ハロゲノアルキレンジオキシで置換
されていてもよいフェニルであり、Ｒ2が水素であり、
Ｒ3が各場合において窒素原子を経て結合し、場合によ
りハロゲン、シアノ、ニトロ、Ｃ1−Ｃ4−アルキル、Ｃ
1−Ｃ2−ハロゲノアルキル、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシ、Ｃ
1−Ｃ2−ハロゲノアルコキシ、Ｃ1−Ｃ4−アルキルチオ
又はＣ1−Ｃ2−ハロゲノアルキルチオにより置換されて
いてもよいピラゾール又はピリドン基である第１及び２
項記載の一般式（Ｉ）の置換ビラゾリンの製造法。
ハロゲン、シアノ、ニトロ、Ｃ1−Ｃ4−アルキル、Ｃ1
−Ｃ2−ハロゲノアルキル、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシ、Ｃ1
−Ｃ2−ハロゲノアルコキシ、Ｃ1−Ｃ4−アルキルチ
オ、Ｃ1−Ｃ2−ハロゲノアルキルチオ、Ｃ1−Ｃ4−アル
キルスルフィニル、Ｃ1−Ｃ2−ハロゲノアルキルスルフ
ィニル、Ｃ1−Ｃ4−アルキルスルホニル、Ｃ1−Ｃ2−ハ
ロゲノアルキルスルホニル、Ｃ1−Ｃ2−アルキレンジオ
キシ又はＣ1−Ｃ2−ハロゲノアルキレンジオキシで置換
されていてもよいフェニルであり、Ｒ2が水素であり、
Ｒ3が各場合において窒素原子を経て結合し、場合によ
りハロゲン、シアノ、ニトロ、Ｃ1−Ｃ4−アルキル、Ｃ
1−Ｃ2−ハロゲノアルキル、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシ、Ｃ
1−Ｃ2−ハロゲノアルコキシ、Ｃ1−Ｃ4−アルキルチオ
又はＣ1−Ｃ2−ハロゲノアルキルチオにより置換されて
いてもよいピラゾール又はピリドン基である第１及び２
項記載の一般式（Ｉ）の置換ビラゾリンの製造法。
【００６５】５．第１反応段階を５℃−８０℃で行う第
１−４項記載の方法。
１−４項記載の方法。
【００６６】６．式（ＩＩ）の置換ケトン１モル当たり
０．９−１．５モルの式（ＩＩＩ）のビス−ジアルキル
アミノメタンを用いる第１−５項記載の方法。
０．９−１．５モルの式（ＩＩＩ）のビス−ジアルキル
アミノメタンを用いる第１−５項記載の方法。
【００６７】７．第２段階を不活性有機希釈剤の存在下
０℃−６０℃の温度にて行う第１−６項記載の方法。
０℃−６０℃の温度にて行う第１−６項記載の方法。
【００６８】８．式（ＩＩ）の出発材料１モル当たり
０．９−１．５モルのヒドラジン水和物を用いる第１−
７項記載の方法。
０．９−１．５モルのヒドラジン水和物を用いる第１−
７項記載の方法。
【００６９】９．一般式（ＩＶ）
【００７０】
【化２３】
【００７１】［式中、Ｒ1及びＲ3は同一又は相異なり、
それぞれ場合により置換されていてもよいアリール又は
１−４個が窒素原子であり、残りが炭素原子である５又
は６員の場合により置換されていてもよい及び／又はベ
ンゾ−縮合されていてもよい複素環であり、Ｒ2は水素
又はアルキル、シクロアルキル又はアリールであり、該
基のそれぞれは場合により置換されており、Ｒ4はアル
キルである］の置換ジアルキルアミノアルキルケトン。
それぞれ場合により置換されていてもよいアリール又は
１−４個が窒素原子であり、残りが炭素原子である５又
は６員の場合により置換されていてもよい及び／又はベ
ンゾ−縮合されていてもよい複素環であり、Ｒ2は水素
又はアルキル、シクロアルキル又はアリールであり、該
基のそれぞれは場合により置換されており、Ｒ4はアル
キルである］の置換ジアルキルアミノアルキルケトン。
【００７２】１０．一般式（ＩＩ）
【００７３】
【化２４】
【００７４】［式中、Ｒ1及びＲ3は同一又は相異なり、
それぞれ場合により置換されていてもよいアリール又は
１−４個が窒素原子であり、残りが炭素原子である５又
は６員の場合により置換されていてもよい及び／又はベ
ンゾ−縮合されていてもよい複素環であり、Ｒ2は水素
又はアルキル、シクロアルキル又はアリールであり、該
基はそれぞれ場合により置換されていてもよい］の置換
ケトンを、場合により希釈剤の存在下に０℃−１００℃
間の温度にて一般式（ＩＩＩ）
それぞれ場合により置換されていてもよいアリール又は
１−４個が窒素原子であり、残りが炭素原子である５又
は６員の場合により置換されていてもよい及び／又はベ
ンゾ−縮合されていてもよい複素環であり、Ｒ2は水素
又はアルキル、シクロアルキル又はアリールであり、該
基はそれぞれ場合により置換されていてもよい］の置換
ケトンを、場合により希釈剤の存在下に０℃−１００℃
間の温度にて一般式（ＩＩＩ）
【００７５】
【化２５】 （Ｒ4）2Ｎ−ＣＨ2−Ｎ（Ｒ4）2 （ＩＩＩ） ［式中、Ｒ4はアルキルである］のビス−ジアルキルア
ミノメタンと反応させることを特徴とする一般式（Ｉ
Ｖ）
ミノメタンと反応させることを特徴とする一般式（Ｉ
Ｖ）
【００７６】
【化２６】
【００７７】［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は前記の意
味を有する］の置換ジアルキルアミノアルキルケトンの
製造法。
味を有する］の置換ジアルキルアミノアルキルケトンの
製造法。
Claims (3)
- 【請求項１】 第１段階で一般式（ＩＩ） 【化１】 ［式中、Ｒ1及びＲ3は同一又は相異なり、それぞれ場合
により置換されていてもよいアリール又は１−４個が窒
素原子であり、残りが炭素原子である５又は６員の場合
により置換されていてもよい及び／又はベンゾ−縮合さ
れていてもよい複素環であり、Ｒ2は水素又はアルキ
ル、シクロアルキル又はアリールであり、該基はそれぞ
れ場合により置換されていてもよい］の置換ケトンを、
場合により希釈剤の存在下に０℃−１００℃間の温度に
て一般式（ＩＩＩ） 【化２】 （Ｒ4）2Ｎ−ＣＨ2−Ｎ（Ｒ4）2 （ＩＩＩ） ［式中、Ｒ4はアルキルである］のビス−ジアルキルア
ミノメタンと反応させ、この方法により形成される一般
式（ＩＶ） 【化３】 ［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は上記の意味を有する］
の置換ジアルキルアミノアルキルケトンを場合により単
離し、第２段階で場合により希釈剤の存在下に０℃−１
００℃間の温度にてヒドラジン（水和物）と反応させる
ことを特徴とする一般式（Ｉ） 【化４】 ［式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は上記の意味を有する］の置
換ピラゾリンの製造法。 - 【請求項２】 一般式（ＩＶ） 【化５】 ［式中、Ｒ1及びＲ3は同一又は相異なり、それぞれ場合
により置換されていてもよいアリール又は１−４個が窒
素原子であり、残りが炭素原子である５又は６員の場合
により置換されていてもよい及び／又はベンゾ−縮合さ
れていてもよい複素環であり、Ｒ2は水素又はアルキ
ル、シクロアルキル又はアリールであり、該基のそれぞ
れは場合により置換されており、Ｒ4はアルキルであ
る］の置換ジアルキルアミノアルキルケトン。 - 【請求項３】 一般式（ＩＩ） 【化６】 ［式中、Ｒ1及びＲ3は同一又は相異なり、それぞれ場合
により置換されていてもよいアリール又は１−４個が窒
素原子であり、残りが炭素原子である５又は６員の場合
により置換されていてもよい及び／又はベンゾ−縮合さ
れていてもよい複素環であり、Ｒ2は水素又はアルキ
ル、シクロアルキル又はアリールであり、該基はそれぞ
れ場合により置換されていてもよい］の置換ケトンを、
場合により希釈剤の存在下に０℃−１００℃間の温度に
て一般式（ＩＩＩ） 【化７】 （Ｒ4）2Ｎ−ＣＨ2−Ｎ（Ｒ4）2 （ＩＩＩ） ［式中、Ｒ4はアルキルである］のビス−ジアルキルア
ミノメタンと反応させることを特徴とする一般式（Ｉ
Ｖ） 【化８】 ［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は前記の意味を有する］
の置換ジアルキルアミノアルキルケトンの製造法。
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|---|---|---|---|
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