JPH05251592A - モジュール回路の防湿構造 - Google Patents
モジュール回路の防湿構造Info
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- JPH05251592A JPH05251592A JP4049382A JP4938292A JPH05251592A JP H05251592 A JPH05251592 A JP H05251592A JP 4049382 A JP4049382 A JP 4049382A JP 4938292 A JP4938292 A JP 4938292A JP H05251592 A JPH05251592 A JP H05251592A
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- Japan
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- circuit
- module circuit
- moisture
- substrate
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- Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)
- Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
イスなどからなるモジュール回路の防湿性を確保して、
腐蝕に対する信頼性を向上すると共に、電気特性にも影
響を与えないモジュール回路の防湿構造を提供する。 【構成】 基板上に形成されたストリップラインや高周
波デバイスの上に、みかけの比誘電率が2.0以下となる
ように調製された多孔質フィルムが被覆され、さらにそ
の上に樹脂コーティング材が施されてなるモジュール回
路の防湿構造。
Description
構造に関する。さらに詳しくは、数GHz以上の高周波
で使用するモジュール回路の防湿構造に関する。
るモジュール回路は、同軸線やトリプレートラインなど
で構成されており、このような構成にすることにより、
湿気、結露による配線腐蝕や電気的な特性変動に対して
保護されている。また、基板上にストリップラインを形
成して電子回路が形成されたモジュール回路は、セラミ
ック容器内に封入されるか、特開昭64-17492号公報に開
示されているように、防湿コートが施されることによ
り、配線腐蝕や電気的な特性変動に対して保護されてい
る。
を使用する構造では接続の煩雑さがあり、トリプレート
ラインを使用する構造では回路形成に手間がかかり、共
に生産コストが高くなるという問題がある。
は、配線接続、回路形成に伴う問題は解消されるが、セ
ラミック容器を用いたばあい、セラミック容器のコスト
が高いこと、大量生産にむかないことなどの問題があ
る。
防湿コート材の誘電率が空気よりかなり大きいため、電
気的な回路特性が大きく変動する。この特性変動を見込
んで回路設計することは可能であるが、防湿コートの厚
さにより電気的な回路特性が変動し、回路設計による厚
さで常に正確に被覆しなければならない。しかし、数十
μmの厚さを±数μmの範囲でコントロールすることは難
しいという問題がある。また、ストリップラインの防湿
コート材上に結露したばあい、水の比誘電率が約80と非
常に大きいため、電気的な回路特性に大きく影響するこ
ととなり、とくに好ましくない。防湿コート材で結露の
影響を回避するためには、1mm以上の防湿コートの厚さ
を必要とするが、誘電率の大きい防湿コート材を1mm以
上形成すると、コート材だけで電気的な回路特性が大き
く変化し、回路設計では吸収できないばあいが生じる。
ストリップラインで構成し、その電気的な回路特性を殆
ど変えることなく、防湿性を確保できるモジュール回路
の防湿構造を提供することである。
回路の防湿構造は、高周波回路および/または高周波デ
バイスを含むモジュール回路が形成された基板上の少な
くとも前記モジュール回路の一部に、みかけの比誘電率
が2.0以下となる多孔質フィルムが設けられ、さらにそ
の上に樹脂コーティング材が施されたことを特徴とする
ものである。
板上に形成されたストリップライン、回路素子、GaA
sICやMMICなどの高周波デバイスなどの単独また
はこれらの複合回路をも含む広い概念を意味し、本発明
によるモジュール回路の防湿構造は、これらの一部に適
用するものも含む。また、みかけの比誘電率とは、気泡
を含んだ状態の膜の比誘電率をいう。
れた多孔質フィルムの誘電率が空気の誘電率に近いた
め、電気的な回路特性にほとんど影響しない。また、多
孔質フィルムに撥水性があり、さらに樹脂コーティング
材が施されているため、回路を湿気から保護し、高周波
特性および信頼性の優れたモジュール回路を構成するこ
とができる。
する。
回路の防湿構造を示す断面構造説明図である。1は裏面
に導体層が付着された基板で、2はストリップラインな
どの配線、3はみかけの比誘電率が2.0以下となるよう
に、気孔率を調整して形成した多孔質フィルム、4は樹
脂コーティング材である。
に、必要に応じてシリコーン系、あるいはフッ素系など
のコーティング材を介して形成することができる。ま
た、シランカップリング剤、シリコーン系プライマ[た
とえば、プライマA(信越化学工業(株)製)、プライ
マD(東レ・ダウコーニング・シリコーン(株)製]な
どで、あらかじめ基板や多孔質フィルムを処理して用い
ることもできる。
とえば、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、ポ
リエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)、ポリス
チレン(PS)およびこれらモノマーの共重合体などの
多孔質フィルムがあげられる。
としては、2.0以下で、好ましくは、1.5以下である。こ
のみかけの比誘電率を達成するためには、初期のフィル
ムの比誘電率にもよるが、気孔率としては、5〜90%が
必要で、この比誘電率になるように、気孔率を調整す
る。この気孔率を調整した多孔質フィルムを形成するに
は、たとえば、フィルムを延伸することにより形成でき
る。
上が必要で、好ましくは0.5mmから2.0mmの範囲である。
0.1mm未満では、結露水の影響を除くことができないば
あいが生じる。2.0mmを超えても回路特性には殆ど影響
しないが、高密度実装を行うためには、2.0mmを超えな
いことが望ましい。
ーンゴム、シリコーンゲル、シリカなどの充填材を配合
したシリコーン樹脂などのシリコーン系、シリカ、アル
ミナなどの充填材を配合したエポキシ樹脂系、フッ素系
樹脂などがあげられる。
路、デバイスなどの耐湿性の観点から、塩素イオン、ナ
トリウムイオン、およびこれらを含む化合物ができるだ
け少ないことが好ましい。
湿構造を実施例に基づいてさらに具体的に説明するが、
本発明はこれらに限定されるものではない。
して、みかけの比誘電率が1.2および1.6のゴアテックス
フィルム(多孔質PTFEフィルム、ジャパンゴアテッ
クス(株)製、以下ゴアテックスフィルムという)およ
び、みかけの比誘電率が1.5の多孔質ポリエチレンフィ
ルムをそれぞれ、アルミナセラミック基板上に形成され
たバンドリジェクションフィルタ(Band Rejection Fil
ter、以下BRFという)の回路上に設け、さらにポッ
ティング用シリコーン樹脂(JCR6143、東レ・ダ
ウコーニング・シリコーン(株)製、以下JCR614
3という)で封止したサンプルを作製した。なお、BR
F回路は、アルミナセラミック基板上に形成されたマイ
クロストリップラインにより構成されたものを用いた。
また、比較のため、多孔質フィリムの代わりにJCR6
143をそれぞれ30μmと1mmコーティングし、150℃で
2時間硬化させてサンプルを作製した。
のそれぞれのばあいについて、測定周波数約10GHz
で、それぞれ電気特性を評価した。その結果を表1に示
す。
では、いずれのばあいも、水滴が付着しても通過損失が
殆ど増加しないのに対し、基板のみのばあいまたはシリ
コーンポッティング材で直接被覆したばあいは、水滴の
付着により通過損失が大幅に増加する。なお、シリコー
ンポッティング材を1mmコーティングしたサンプルは、
BRF回路の損失が3dBと初期より大きく、水滴を垂ら
したときの影響については調べなかった。
アテックスフィルム(前出と同じ)の厚さを0.5mm、1.0
mmおよび2.0mmと変えて、それぞれシリコーンポッティ
ング材(JCR6143)を介してBRF回路上に接着
した。JCR6143の厚さは、約10μmとし、150 ℃
で2時間硬化させた。さらに、シリコーンゲル(SE1
880、東レ・ダウコーニング・シリコーン(株)製、
以下SE1880という)あるいは、液状エポキシ樹脂
(セミコート220、信越化学工業(株)製、以下セミ
コート220という)でコーティングした。SE188
0は、125℃で2時間、セミコート220は、100℃で1
時間と150℃で4時間の熱処理により硬化させた。
例1と同様の評価を行なった。その結果を表2に示す。
μmと薄いときは、通過損失がやや大きくなるが、いず
れのばあいもBRF回路の初期の損失と殆ど変わらず、
多孔質フィルム上に水滴を垂らしたときでもその影響は
殆ど見られない。また、リジェクション(Rejection)
周波数のずれについても評価したところ、同様の結果と
なった。
に、クロム/金の薄膜対向配線を設けた評価基板を用
い、みかけの比誘電率が1.2のゴアテックスフィルム
(前出と同じ)の厚さを0.5mm、1.0mmおよび2.0mmと変
え、シリコーンポッティング材(JCR6143)を介
して接着した。JCR6143の厚さは、約10μmと
し、150℃で2時間硬化させた。さらに、JCR614
3をコーティングし、150℃で2時間硬化させた。
としてのクロム/金の薄膜対向配線を設けたアルミナセ
ラミック基板のみで、耐湿性評価を行った。その条件
は、PCT(Pressure Cooker Test)121℃、2気圧
下、DCバイアス5V印加で、配線のマイグレーション
による絶縁抵抗変化で調べた。その結果を表3に示す。
は、約10分で配線間絶縁抵抗が106Ωまで低下したのに
対し、配線上にJCR6143を介して多孔質フィルム
を接着し、さらにJCR6143をコーティングしたサ
ンプルは、200時間まで絶縁抵抗の低下は起こらなかっ
た。
は、みかけの比誘電率が2.0以下の多孔質フィルムを高
周波回路上に設け、さらに樹脂コーティングが施された
構造となっているため、電気的な回路特性を殆ど損なう
ことなしに優れた耐湿性を有し、高周波モジュールなど
の回路に好適に使用できるという効果を奏する。
高特性のモジュール回路をうることができ、高周波機器
の利用範囲が広まる効果がある。
構造の断面説明図である。
Claims (1)
- 【請求項1】 高周波回路および/または高周波デバイ
スを含むモジュール回路が形成された基板上の少なくと
も前記モジュール回路の一部に、みかけの比誘電率が2.
0以下となる多孔質フィルムが設けられ、さらにその上
に樹脂コーティング材が施されたことを特徴とするモジ
ュール回路の防湿構造。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4938292A JP2854451B2 (ja) | 1992-03-06 | 1992-03-06 | モジュール回路の防湿構造 |
US07/939,734 US5276414A (en) | 1991-12-10 | 1992-09-02 | Moistureproof structure for module circuits |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4938292A JP2854451B2 (ja) | 1992-03-06 | 1992-03-06 | モジュール回路の防湿構造 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05251592A true JPH05251592A (ja) | 1993-09-28 |
JP2854451B2 JP2854451B2 (ja) | 1999-02-03 |
Family
ID=12829475
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4938292A Expired - Lifetime JP2854451B2 (ja) | 1991-12-10 | 1992-03-06 | モジュール回路の防湿構造 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2854451B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015128878A (ja) * | 2014-01-08 | 2015-07-16 | サンユレック株式会社 | 積層体及びその製造方法 |
US11342287B2 (en) | 2020-03-09 | 2022-05-24 | Kioxia Corporation | Semiconductor device |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6066319U (ja) * | 1983-10-11 | 1985-05-11 | ライオン株式会社 | 生理用ナプキン |
-
1992
- 1992-03-06 JP JP4938292A patent/JP2854451B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6066319U (ja) * | 1983-10-11 | 1985-05-11 | ライオン株式会社 | 生理用ナプキン |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015128878A (ja) * | 2014-01-08 | 2015-07-16 | サンユレック株式会社 | 積層体及びその製造方法 |
US11342287B2 (en) | 2020-03-09 | 2022-05-24 | Kioxia Corporation | Semiconductor device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2854451B2 (ja) | 1999-02-03 |
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