JPH05250992A - プラズマディスプレイパネル - Google Patents
プラズマディスプレイパネルInfo
- Publication number
- JPH05250992A JPH05250992A JP4647892A JP4647892A JPH05250992A JP H05250992 A JPH05250992 A JP H05250992A JP 4647892 A JP4647892 A JP 4647892A JP 4647892 A JP4647892 A JP 4647892A JP H05250992 A JPH05250992 A JP H05250992A
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- Japan
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- electrode
- transparent electrode
- bus electrode
- insulating layer
- plasma display
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Abstract
(57)【要約】
【目的】透明電極の電気抵抗を小さくする金属のバス電
極をエッチングで容易に形成することを可能にする。 【構成】SnO2 等で形成した透明電極2の上に、Al
2 O3 等の絶縁層3を形成し、その上に金属のバス電極
4を形成する。バス電極4の形成は金属薄膜もしくは厚
膜のフォトリソグラフィーを用いる。絶縁層3があるの
でレジスト現像もしくはエッチングの時に、透明電極と
金属バス電極の間の電気化学反応によって電極が腐食す
ることを防げる。
極をエッチングで容易に形成することを可能にする。 【構成】SnO2 等で形成した透明電極2の上に、Al
2 O3 等の絶縁層3を形成し、その上に金属のバス電極
4を形成する。バス電極4の形成は金属薄膜もしくは厚
膜のフォトリソグラフィーを用いる。絶縁層3があるの
でレジスト現像もしくはエッチングの時に、透明電極と
金属バス電極の間の電気化学反応によって電極が腐食す
ることを防げる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、情報表示端末や平面形
テレビなどに用いられるプラズマディスプレイパネルに
関し、特に高精細、高輝度プラズマディスプレイパネル
の構造に関する。
テレビなどに用いられるプラズマディスプレイパネルに
関し、特に高精細、高輝度プラズマディスプレイパネル
の構造に関する。
【0002】
【従来の技術】プラズマディスプレイパネルにはNeの
発光色を利用するモノクロパネルと、蛍光体の発光色を
利用するカラーパネルとがある。本発明はいずれにも共
通する技術であるが、ここではカラープラズマディスプ
レイパネルを例に採る。
発光色を利用するモノクロパネルと、蛍光体の発光色を
利用するカラーパネルとがある。本発明はいずれにも共
通する技術であるが、ここではカラープラズマディスプ
レイパネルを例に採る。
【0003】カラープラズマディスプレイパネルはガス
放電によって発生した紫外線によって蛍光体を励起発光
させ可視光を得て表示動作させるディスプレイである
が、放電方式によりAC型とDC型に分類できる。AC
型の中でも反射型AC面放電型が輝度、発光効率、寿命
の点で優れているのでこれを例に採る。図4に従来の反
射型AC面放電プラズマディスプレイパネルの平面図を
示す。図3に図4のb−b′における従来の反射型AC
面放電プラズマディスプレイパネルの断面図を示す。図
3に於て、前面基板30上に透明電極31が形成されて
いる。この隣合う透明電極31の間に通常数十kHzか
ら数百kHzのパルス状AC電圧を印加し表示放電を得
るのであるが、透明電極31に例えばSnO2 を用いる
と、シート抵抗が通常数十Ω/□と高いために、特に大
型パネルや高精細パネルでは電極抵抗が数十kΩにな
り、電圧パルスが十分に立ち上がらず駆動が困難にな
る。そこで透明電極31の上に金属バス電極32を形成
し電極の抵抗値を下げる。金属バス電極32は例えばA
lの薄膜で形成する。金属バス電極32のパターンニン
グはフォトリソグラフィーを用いる。この上から絶縁層
33で被覆する。絶縁層33は例えば低融点鉛ガラスの
厚膜である。絶縁層33の上に保護層34を形成する。
保護層34は例えばMgOの薄膜、もしくは厚膜で形成
する。
放電によって発生した紫外線によって蛍光体を励起発光
させ可視光を得て表示動作させるディスプレイである
が、放電方式によりAC型とDC型に分類できる。AC
型の中でも反射型AC面放電型が輝度、発光効率、寿命
の点で優れているのでこれを例に採る。図4に従来の反
射型AC面放電プラズマディスプレイパネルの平面図を
示す。図3に図4のb−b′における従来の反射型AC
面放電プラズマディスプレイパネルの断面図を示す。図
3に於て、前面基板30上に透明電極31が形成されて
いる。この隣合う透明電極31の間に通常数十kHzか
ら数百kHzのパルス状AC電圧を印加し表示放電を得
るのであるが、透明電極31に例えばSnO2 を用いる
と、シート抵抗が通常数十Ω/□と高いために、特に大
型パネルや高精細パネルでは電極抵抗が数十kΩにな
り、電圧パルスが十分に立ち上がらず駆動が困難にな
る。そこで透明電極31の上に金属バス電極32を形成
し電極の抵抗値を下げる。金属バス電極32は例えばA
lの薄膜で形成する。金属バス電極32のパターンニン
グはフォトリソグラフィーを用いる。この上から絶縁層
33で被覆する。絶縁層33は例えば低融点鉛ガラスの
厚膜である。絶縁層33の上に保護層34を形成する。
保護層34は例えばMgOの薄膜、もしくは厚膜で形成
する。
【0004】一方、後面基板39には書き込み電極38
を形成し、これを絶縁層37で被覆し、更に各画素にな
る部分に各画素の発光色の蛍光体36を塗布する。これ
に前述の前面基板30を隔壁35を介して張り合わせ気
密封止し内部に放電可能なガス、例えばHeとXeの混
合ガスを250torr程度封入する。隣合う透明電極
31の間にパルス状の交流電圧を印加するとガス放電が
おきプラズマ40が生成される。ここで発生した紫外光
41で蛍光体36を励起し可視光52を前面基板30を
通して得る。
を形成し、これを絶縁層37で被覆し、更に各画素にな
る部分に各画素の発光色の蛍光体36を塗布する。これ
に前述の前面基板30を隔壁35を介して張り合わせ気
密封止し内部に放電可能なガス、例えばHeとXeの混
合ガスを250torr程度封入する。隣合う透明電極
31の間にパルス状の交流電圧を印加するとガス放電が
おきプラズマ40が生成される。ここで発生した紫外光
41で蛍光体36を励起し可視光52を前面基板30を
通して得る。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上述のような構造のカ
ラープラズマディスプレイパネルでは、金属バス電極は
通常Al等の薄膜のフォトリソグラフィーで形成される
が、この際次のような問題が生じる。一般に、異種金属
と接合させたものを電解液中に漬けた場合、電気化学反
応が生じる。この場合の異種金属とは透明電極と金属バ
ス電極で、電解液はレジスト現像液やエッチング液であ
る。例えばSnO2 とAl薄膜の場合、Alが電解液中
に溶けだすと水素発生反応が起き、続いてSnO2 が還
元され、結果として電極が腐食される。この反応を抑え
ることは困難である。従って、腐食によって金属バス電
極の断線が生じ歩留まりが大幅に低下する。これを防ぐ
ためには金属バス電極の線幅を太くする必要がある。し
かし、放電セルの開口率を下げない様にするために、金
属バス電極は隔壁の下に隠れる必要があり、できるだけ
細い線幅で形成しなくてはならないが、実際は困難なの
で隔壁の幅は金属バス電極の線幅によって制限され太く
せざるをえない。すると放電セルの開口率が落ちてしま
う。しかるに放電セルの開口率は、放電特性やパネルの
面平均輝度に大きく影響するために、どうしても線幅の
細い金属バス電極を歩留まり良く形成できる方法が必要
であった。
ラープラズマディスプレイパネルでは、金属バス電極は
通常Al等の薄膜のフォトリソグラフィーで形成される
が、この際次のような問題が生じる。一般に、異種金属
と接合させたものを電解液中に漬けた場合、電気化学反
応が生じる。この場合の異種金属とは透明電極と金属バ
ス電極で、電解液はレジスト現像液やエッチング液であ
る。例えばSnO2 とAl薄膜の場合、Alが電解液中
に溶けだすと水素発生反応が起き、続いてSnO2 が還
元され、結果として電極が腐食される。この反応を抑え
ることは困難である。従って、腐食によって金属バス電
極の断線が生じ歩留まりが大幅に低下する。これを防ぐ
ためには金属バス電極の線幅を太くする必要がある。し
かし、放電セルの開口率を下げない様にするために、金
属バス電極は隔壁の下に隠れる必要があり、できるだけ
細い線幅で形成しなくてはならないが、実際は困難なの
で隔壁の幅は金属バス電極の線幅によって制限され太く
せざるをえない。すると放電セルの開口率が落ちてしま
う。しかるに放電セルの開口率は、放電特性やパネルの
面平均輝度に大きく影響するために、どうしても線幅の
細い金属バス電極を歩留まり良く形成できる方法が必要
であった。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、透明絶縁基板
上に形成された透明電極群と前記透明電極上に形成した
金属電極とを有するプラズマディスプレイパネルに於
て、前記透明電極と前記金属電極の間に絶縁層を形成す
ることを特徴とする。
上に形成された透明電極群と前記透明電極上に形成した
金属電極とを有するプラズマディスプレイパネルに於
て、前記透明電極と前記金属電極の間に絶縁層を形成す
ることを特徴とする。
【0007】
【作用】レジスト現像や金属バス電極をエッチングで形
成する際に生じる電気化学反応は、透明電極と金属バス
電極の間に薄い絶縁膜を挟み込むことによって、局所電
池作用による電流を抑える。これにより、レジスト現像
や金属バス電極のエッチング中に生じる電極の腐食を防
ぐことが出来た。なお、透明電極と金属バス電極は薄い
絶縁膜を介して容量で結合する。絶縁膜の厚さは十分に
薄いので静電容量は大きい。従って、金属バス電極と透
明電極の間に絶縁層を挿入しても、放電に必要な電流を
充分流すことが出来た。
成する際に生じる電気化学反応は、透明電極と金属バス
電極の間に薄い絶縁膜を挟み込むことによって、局所電
池作用による電流を抑える。これにより、レジスト現像
や金属バス電極のエッチング中に生じる電極の腐食を防
ぐことが出来た。なお、透明電極と金属バス電極は薄い
絶縁膜を介して容量で結合する。絶縁膜の厚さは十分に
薄いので静電容量は大きい。従って、金属バス電極と透
明電極の間に絶縁層を挿入しても、放電に必要な電流を
充分流すことが出来た。
【0008】
【実施例】次に本発明の実施例を図面を参照して説明す
る。ここでは従来例で説明した反射型AC面放電プラズ
マディスプレイパネルを例に取って説明するが、SnO
2系やITO、ZnO系の透明電極を用い、この抵抗値
を下げるために透明電極上に金属バス電極を形成するプ
ラズマディスプレイパネル全てに共通する発明である。
図2に本発明の一実施例の平面図を示す。図1に図2の
a−a′断面図を示す。図1に於て、基本的構造は従来
例で説明した図3と同じであるが、透明電極2の上に絶
縁層3を形成した点が異なる。この絶縁層3は例えばA
l2 O3 薄膜を300オングストローム程度蒸着する。
この上に形成する金属バス電極4のパターンニングは、
例えばAl等の薄膜をフォリソグラフィーか、Ag等の
厚膜をフォトリソグラフィーで行う。透明電極2と金属
バス電極4の間に絶縁層3を挟むことで、レジスト現像
時やエッチング時の電気化学反応による電極の腐食が防
げる。従って、断線の心配がなくなり、線幅を細くする
ことが可能になり、また歩留まりも大幅に向上した。透
明電極2と金属バス電極4の間のコンタクトは容量結合
による。絶縁層3の厚さは例えば300オングストロー
ムで、放電を発生させる隣合う透明電極2の間の距離が
例えば200μmである。これらの静電容量に大きな差
があるため、金属バス電極4に印加されたパルス電圧
は、ほとんど隣合う透明電極2の間にかかる。従って直
流に対しては絶縁されていても、AC型PDPの場合、
絶縁層3によって絶縁される金属バス電極4と透明電極
2の間の静電容量が充分に大きければ、ほとんどロス無
く駆動が可能となる。
る。ここでは従来例で説明した反射型AC面放電プラズ
マディスプレイパネルを例に取って説明するが、SnO
2系やITO、ZnO系の透明電極を用い、この抵抗値
を下げるために透明電極上に金属バス電極を形成するプ
ラズマディスプレイパネル全てに共通する発明である。
図2に本発明の一実施例の平面図を示す。図1に図2の
a−a′断面図を示す。図1に於て、基本的構造は従来
例で説明した図3と同じであるが、透明電極2の上に絶
縁層3を形成した点が異なる。この絶縁層3は例えばA
l2 O3 薄膜を300オングストローム程度蒸着する。
この上に形成する金属バス電極4のパターンニングは、
例えばAl等の薄膜をフォリソグラフィーか、Ag等の
厚膜をフォトリソグラフィーで行う。透明電極2と金属
バス電極4の間に絶縁層3を挟むことで、レジスト現像
時やエッチング時の電気化学反応による電極の腐食が防
げる。従って、断線の心配がなくなり、線幅を細くする
ことが可能になり、また歩留まりも大幅に向上した。透
明電極2と金属バス電極4の間のコンタクトは容量結合
による。絶縁層3の厚さは例えば300オングストロー
ムで、放電を発生させる隣合う透明電極2の間の距離が
例えば200μmである。これらの静電容量に大きな差
があるため、金属バス電極4に印加されたパルス電圧
は、ほとんど隣合う透明電極2の間にかかる。従って直
流に対しては絶縁されていても、AC型PDPの場合、
絶縁層3によって絶縁される金属バス電極4と透明電極
2の間の静電容量が充分に大きければ、ほとんどロス無
く駆動が可能となる。
【0009】なお、絶縁層3としてはAl2 O3 の他に
もSiO2 等の酸化物や、あるいは窒化物等の透光性を
有する物質の薄膜を用いることが出来る。また膜厚が充
分薄ければ低融点鉛ガラス等の厚膜でも良い。膜厚は本
発明の効果を奏し、且つ駆動電圧の上昇が実用的に問題
とならない範囲で選ぶことが出来る。
もSiO2 等の酸化物や、あるいは窒化物等の透光性を
有する物質の薄膜を用いることが出来る。また膜厚が充
分薄ければ低融点鉛ガラス等の厚膜でも良い。膜厚は本
発明の効果を奏し、且つ駆動電圧の上昇が実用的に問題
とならない範囲で選ぶことが出来る。
【0010】また、これまで透明電極とバス電極の間に
絶縁層を挟むとしてきたが、絶縁層は完全な絶縁物であ
る必要は必ずしも無く、高抵抗の物質であれば実質的に
は問題なく、同様の効果が得られる。
絶縁層を挟むとしてきたが、絶縁層は完全な絶縁物であ
る必要は必ずしも無く、高抵抗の物質であれば実質的に
は問題なく、同様の効果が得られる。
【0011】
【発明の効果】以上述べたように本発明のプラズマディ
スプレイパネルにより、透明電極の抵抗を下げる金属バ
ス電極を、電気化学反応による電極の腐食を防ぎながら
形成することが可能なプラズマディスプレイパネルを作
ることが出来た。
スプレイパネルにより、透明電極の抵抗を下げる金属バ
ス電極を、電気化学反応による電極の腐食を防ぎながら
形成することが可能なプラズマディスプレイパネルを作
ることが出来た。
【図1】本発明の一実施例の断面図である。
【図2】本発明の一実施例の平面図である。
【図3】従来例の断面図である
【図4】従来例の平面図である。
1,30 前面基板 2,31 透明電極 3,5,9,33,37 絶縁層 4,32 金属バス電極 6,34 保護層 7,35 隔壁 8,36 蛍光体 10,38 書き込み電極 11,39 後面基板 12,40 プラズマ 13,41 紫外光 14,42 可視光 15,43 放電セル
Claims (1)
- 【請求項1】 透明絶縁基板上に形成された透明電極群
と前記透明電極上に形成した金属電極とを有するプラズ
マディスプレイパネルに於て、前記透明電極と前記金属
電極の間に絶縁層を形成することを特徴とするプラズマ
ディスプレイパネル。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4647892A JP2993263B2 (ja) | 1992-03-04 | 1992-03-04 | プラズマディスプレイパネル |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4647892A JP2993263B2 (ja) | 1992-03-04 | 1992-03-04 | プラズマディスプレイパネル |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05250992A true JPH05250992A (ja) | 1993-09-28 |
JP2993263B2 JP2993263B2 (ja) | 1999-12-20 |
Family
ID=12748308
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4647892A Expired - Fee Related JP2993263B2 (ja) | 1992-03-04 | 1992-03-04 | プラズマディスプレイパネル |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2993263B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6281628B1 (en) | 1998-02-13 | 2001-08-28 | Lg Electronics Inc. | Plasma display panel and a driving method thereof |
WO2003017314A1 (fr) * | 2001-08-14 | 2003-02-27 | Sony Corporation | Ecran plasma |
WO2007099603A1 (ja) * | 2006-02-28 | 2007-09-07 | Fujitsu Hitachi Plasma Display Limited | プラズマディスプレイパネル |
US7336033B2 (en) | 2000-07-24 | 2008-02-26 | Pioneer Corporation | Plasma display panel and method for fabricating the same |
JP2011134581A (ja) * | 2009-12-24 | 2011-07-07 | Advanced Pdp Development Corp | プラズマディスプレイパネル |
-
1992
- 1992-03-04 JP JP4647892A patent/JP2993263B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6281628B1 (en) | 1998-02-13 | 2001-08-28 | Lg Electronics Inc. | Plasma display panel and a driving method thereof |
US7336033B2 (en) | 2000-07-24 | 2008-02-26 | Pioneer Corporation | Plasma display panel and method for fabricating the same |
US7847481B2 (en) | 2000-07-24 | 2010-12-07 | Panasonic Corporation | Plasma display panel and method for fabricating the same |
WO2003017314A1 (fr) * | 2001-08-14 | 2003-02-27 | Sony Corporation | Ecran plasma |
WO2007099603A1 (ja) * | 2006-02-28 | 2007-09-07 | Fujitsu Hitachi Plasma Display Limited | プラズマディスプレイパネル |
JP2011134581A (ja) * | 2009-12-24 | 2011-07-07 | Advanced Pdp Development Corp | プラズマディスプレイパネル |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2993263B2 (ja) | 1999-12-20 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
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