JPH05249467A - Apparatus for producing liquid crystal display device - Google Patents

Apparatus for producing liquid crystal display device

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JPH05249467A
JPH05249467A JP4051691A JP5169192A JPH05249467A JP H05249467 A JPH05249467 A JP H05249467A JP 4051691 A JP4051691 A JP 4051691A JP 5169192 A JP5169192 A JP 5169192A JP H05249467 A JPH05249467 A JP H05249467A
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JP
Japan
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humidity
cover
rubbing
liquid crystal
voltage power
Prior art date
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Application number
JP4051691A
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Japanese (ja)
Inventor
Koji Ishikawa
幸司 石川
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Denso Corp
Original Assignee
NipponDenso Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To provide stable liquid crystal orientation by controlling the humidity of a rubbing treatment device. CONSTITUTION:A substrate 13 formed with an oriented film 14 is installed on a table 12 installed within a device cover 11 and the outer periphery of a rotating rubbing roller 15 is brought into contact with the oriented film 14. The wet air from a humidifier 17 is introduced via an outdoor air introducing port 16 into this device cover 11. A discharge electrode 18 to be impressed and set with a high voltage from a high-voltage power source 19 is installed within the cover 11. The high-voltage power source is controlled by a control circuit 20 in accordance with the moisture detection signal from a moisture sensitive sensor 21. The high-voltage power source impressed to the discharge electrode 18 is subjected to on-off control in such a manner that the moisture is set within a prescribed range.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、静電気を発生する処
理手段、例えば安定した液晶配向が得られるようにする
ラビング処理手段が改良されるようにした、アクティブ
マトリックス型の液晶表示装置の製造装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus for manufacturing an active matrix type liquid crystal display device in which processing means for generating static electricity, for example, rubbing processing means for obtaining stable liquid crystal alignment is improved. Regarding

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶表示装置の製造工程にあっては、基
板に対して配向膜を印刷形成し焼成した後に、この配向
膜のラビング処理が行われる。このラビング処理は、絶
縁膜によって構成される配向膜をラビング布によって擦
ることにより行われるもので、例えば数KVの静電気が
発生する。
2. Description of the Related Art In a manufacturing process of a liquid crystal display device, an alignment film is printed on a substrate and baked, and then the alignment film is rubbed. This rubbing treatment is performed by rubbing an alignment film formed of an insulating film with a rubbing cloth, and static electricity of, for example, several KV is generated.

【0003】この様な高電圧の静電気は、アクティブ素
子を破壊する原因となるものであるため、例えば特開平
1−225918号公報に示されるように、ラビング処
理雰囲気を高湿度の状態に保つようにすることが考えら
れている。すなわち、処理雰囲気の湿度を高くすること
によって、静電気の発生を抑えるものであり、アクティ
ブ素子を破壊から護るための効果が発揮される。
Since such high-voltage static electricity causes destruction of the active element, it is necessary to keep the rubbing atmosphere in a high humidity state as disclosed in, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 1-225918. It is considered to be. That is, by increasing the humidity of the processing atmosphere, the generation of static electricity is suppressed, and the effect of protecting the active element from destruction is exhibited.

【0004】しかし、ラビング処理雰囲気が例えば70
%以上の高湿度の状態となると、ラビング布の毛足が乱
れ、また配向膜の膨潤等によって、配向状態を安定して
得ることが困難となる。
However, the rubbing treatment atmosphere is, for example, 70
When it is in a high humidity state of not less than%, it is difficult to stably obtain the alignment state due to disordered fur of the rubbing cloth and swelling of the alignment film.

【0005】また、この様なラビング工程は発塵工程で
あるため、このラビング処理のための装置はカバーによ
って囲むようにして構成され、またこのカバー内にラビ
ングローラの回転部等の発熱部が存在するものであり、
したがってラビング処理環境の湿度制御は、クリーンル
ームにおける空調では不可能である。
Further, since such a rubbing process is a dusting process, an apparatus for the rubbing process is constructed so as to be surrounded by a cover, and a heat generating part such as a rotating part of the rubbing roller is present in the cover. Is something
Therefore, the humidity control of the rubbing processing environment cannot be performed by air conditioning in a clean room.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】この発明は上記のよう
な点に鑑みなされたもので、例えばラビング布によって
発生された高電圧の静電気の処理を行わせてアクティブ
素子の破壊を効果的に防止できるようにすると共に、安
定した配向状態が設定されるようにする、特に静電気が
発生されるラビング処理工程が改善されるようにした液
晶表示装置の製造装置を提供しようとするものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above points and effectively prevents destruction of an active element by treating high-voltage static electricity generated by a rubbing cloth, for example. It is an object of the present invention to provide an apparatus for manufacturing a liquid crystal display device, which enables the stable alignment state to be set, and particularly improves the rubbing process step in which static electricity is generated.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】この発明に係る液晶表示
装置の製造装置は、内部に静電気の発生を伴う処理を行
う機構、例えばラビングローラを設置した装置カバー内
に加湿手段からの湿気を導入すると共に、前記カバー内
に高電圧電源に接続された放電電極を設ける。そして、
前記カバー内の湿度に対応して前記放電電極の高電圧電
源を断続制御するものである。
A liquid crystal display manufacturing apparatus according to the present invention introduces moisture from a humidifying means into an apparatus cover having a mechanism for performing a process involving generation of static electricity inside, for example, a rubbing roller. In addition, a discharge electrode connected to a high voltage power source is provided in the cover. And
The high-voltage power supply for the discharge electrode is intermittently controlled according to the humidity in the cover.

【0008】[0008]

【作用】この様に構成される液晶表示装置の製造装置に
よれば、装置カバー内に湿気が導入されるものであるた
め、配向膜部に高電圧の静電気が発生することが効果的
に抑制され、アクティブ素子を高電圧の破壊から防護す
ることができる。また、装置カバー内に高電圧電源に接
続された放電電極が設けられているため、この電極から
の放電によって装置カバー内雰囲気の湿気がイオン化さ
れ、必要以上にカバー内の湿度が高くなったときに、こ
の湿度を低下させる。したがって、湿度検出手段からの
検出値に基づいて前記高圧電源をオン・オフ制御するこ
とにより、装置カバー内雰囲気を最も効果的な湿度に安
定設定することができ、信頼性の高いラビング処理等が
行われる。
According to the liquid crystal display manufacturing apparatus configured as described above, since moisture is introduced into the apparatus cover, generation of high-voltage static electricity in the alignment film portion is effectively suppressed. The active element can be protected from high voltage breakdown. In addition, since a discharge electrode connected to a high-voltage power supply is provided inside the device cover, when the humidity in the atmosphere inside the device cover is ionized by the discharge from this electrode and the humidity inside the cover becomes higher than necessary. To lower this humidity. Therefore, by controlling ON / OFF of the high-voltage power supply based on the detection value from the humidity detecting means, the atmosphere in the apparatus cover can be stably set to the most effective humidity, and a highly reliable rubbing process can be performed. Done.

【0009】[0009]

【実施例】以下、図面を参照してこの発明の一実施例を
説明する。図1は液晶表示装置の製造装置における、特
に配向膜のラビング処理工程部分を示すもので、ラビン
グ処理雰囲気を作るための装置カバー11が設定される。
この装置カバー11は、ラビング処理によって発生する塵
の周囲への飛散防止と局所的な湿度コントロールのため
に設置される。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 shows a rubbing process step part of an alignment film in a liquid crystal display device manufacturing apparatus, in which a device cover 11 for setting a rubbing processing atmosphere is set.
This device cover 11 is installed for preventing scattering of dust generated by the rubbing process to the surroundings and for controlling local humidity.

【0010】この装置カバー11内には処理用のテーブル
12が設定され、このテーブル12上には基板13が設定され
るもので、この基板13上には薄膜トランジスタや薄膜ダ
イオードによって構成されたアクティブ素子がマトリク
ス状の配置で形成される。そして基板13の表面には、ス
ピンコート法等で成膜した後適宜焼成された配向膜14が
形成されている。
A table for processing is provided in the device cover 11.
12 is set, and the substrate 13 is set on the table 12. On the substrate 13, active elements composed of thin film transistors and thin film diodes are formed in a matrix arrangement. Then, on the surface of the substrate 13, an alignment film 14 is formed, which is formed by a spin coating method or the like and then appropriately baked.

【0011】ラビング処理は、レーヨン、ポリエステル
等の不織布によって構成されたラビング布が外周に巻き
付けられたラビングローラ15によって行われるもので、
このラビングローラ15はその外周が配向膜14の面に接触
された状態で回転されるようになっている。
The rubbing treatment is carried out by a rubbing roller 15 around which a rubbing cloth made of a non-woven fabric such as rayon or polyester is wound.
The rubbing roller 15 is rotated with its outer periphery in contact with the surface of the alignment film 14.

【0012】この様なラビング処理機構が内蔵された装
置カバー11には、外気導入口16が開口形成されている。
この外気導入口16には、加湿器17からの高湿度の空気が
導入されるもので、この加湿器17からの湿気によって、
装置カバー11の内部の湿度が上昇されるようにする。
An outside air introduction port 16 is formed in the device cover 11 having the rubbing processing mechanism built-in.
The high-humidity air from the humidifier 17 is introduced into the outside air inlet 16, and the humidity from the humidifier 17 causes
The humidity inside the device cover 11 is increased.

【0013】そして、この様にラビング機構の内蔵した
装置カバー11の内部には、さらに放電電極18が設定さ
れ、この放電電極18には高圧電源19から、例えば20K
V程度の高電圧が印加設定される。高圧電源19は制御回
路20からの指令によって電源のオン・オフ制御されるも
ので、この制御回路20には装置カバー11内に設置した感
湿センサ21からの検出信号を供給し、装置カバー11内の
湿度が所定値より高くなったときには、放電電極18に高
電圧を印加設定する。そして、カバー11内の湿度が低下
した場合に、放電電極18に印加される高圧電源を断つよ
うにしている。
A discharge electrode 18 is further set inside the apparatus cover 11 having a built-in rubbing mechanism as described above, and the discharge electrode 18 is supplied from a high-voltage power source 19, for example, 20K.
A high voltage of about V is applied and set. The high-voltage power supply 19 is turned on / off by a command from the control circuit 20, and the control circuit 20 is supplied with a detection signal from a humidity sensor 21 installed in the device cover 11 so that the device cover 11 When the internal humidity becomes higher than a predetermined value, a high voltage is applied and set to the discharge electrode 18. Then, when the humidity inside the cover 11 is lowered, the high voltage power source applied to the discharge electrode 18 is cut off.

【0014】ラビング処理中における装置カバー11内の
湿度管理は、配向膜14において常に安定した配向状態を
得るために重要である。しかし、この様なラビング処理
は発塵工程であるために、この処理機構部を装置カバー
11によって覆う必要がある。カバー11内には、ローラ15
の回転機構部等の発熱の影響があり、要求される所望の
60±5%の湿度に制御するためには、通常のクリーン
ルームの空調装置では不可能であり、局所的な湿度制御
がラビング処理時に必要となる。
Humidity control inside the apparatus cover 11 during the rubbing process is important for obtaining a stable alignment state in the alignment film 14. However, since such a rubbing process is a dusting process, this processing mechanism is not covered by the device cover.
Need to be covered by 11. Inside the cover 11, the roller 15
There is an influence of heat generation of the rotating mechanism part of the above, and it is impossible to control the humidity to the desired 60 ± 5% required, which is impossible with a normal air conditioner in a clean room. Sometimes needed.

【0015】このため、実施例に示した装置において
は、ラビング処理部である装置カバー11内の湿度を高め
るために、加湿器17で発生した湿気を、外気導入口16か
ら装置カバー11内に導入する。
Therefore, in the apparatus shown in the embodiment, in order to increase the humidity in the apparatus cover 11 which is the rubbing processing section, the humidity generated in the humidifier 17 is introduced into the apparatus cover 11 from the outside air inlet 16. Introduce.

【0016】この様に装置カバー11内に湿気を導入する
ことによって、ラビング処理の雰囲気の湿度が高くな
り、静電気の防止効果は大きくなる。しかし、装置カバ
ー11内のラビング処理雰囲気の湿度が、70%以上の高
湿度となると、安定した液晶の配向状態を得ることがで
きない。
By introducing moisture into the apparatus cover 11 as described above, the humidity of the atmosphere of the rubbing process is increased, and the effect of preventing static electricity is increased. However, when the humidity of the rubbing treatment atmosphere in the device cover 11 becomes high humidity of 70% or more, a stable alignment state of the liquid crystal cannot be obtained.

【0017】この様にラビング雰囲気の湿度が設定範囲
の上限を越える状態は、カバー11内に設置した少なくと
も1つの感湿センサ21によって検知されるもので、この
感湿センサ21によって検出される湿度が70%を越える
状態となったときに、制御回路20でこれを検知し、高圧
電源19に指令を与えて、放電電極18に高電圧を印加設定
する。
In this way, when the humidity of the rubbing atmosphere exceeds the upper limit of the set range, it is detected by at least one humidity sensor 21 installed in the cover 11, and the humidity detected by this humidity sensor 21. When it exceeds 70%, the control circuit 20 detects this and gives a command to the high-voltage power supply 19 to set a high voltage to the discharge electrode 18.

【0018】放電電極18に高電圧が印加されると、この
電極18に接触した湿気は高電圧放電によってイオン化
[2H2 O→4H+ +2O- 2 (2H2 +O2 )]し、
装置カバー11内の湿度が低下される。
[0018] When a high voltage is applied to the discharge electrode 18, the moisture in contact with the electrode 18 ionized by high voltage discharge - and [2H 2 O → 4H + + 2O 2 (2H 2 + O 2)],
The humidity inside the device cover 11 is reduced.

【0019】この様な連続的な高電圧放電によって、装
置カバー11内のラビング処理雰囲気の湿度が低下するも
ので、この雰囲気湿度が設定範囲の下限よりも低くなる
以前に、感湿センサ21からの検出信号に基づいて制御回
路20が高圧電源19を制御し、放電電極18に印加される高
圧電源を断つ。
Due to such continuous high-voltage discharge, the humidity of the rubbing treatment atmosphere in the apparatus cover 11 is lowered. Before the ambient humidity becomes lower than the lower limit of the set range, the humidity sensor 21 detects The control circuit 20 controls the high-voltage power supply 19 based on the detection signal of, and cuts off the high-voltage power supply applied to the discharge electrode 18.

【0020】ここで、外気導入口16からの湿気の導入は
常時行うようにしてもよいが、湿度を低下させる状況の
ときには、加湿器17を制御し、あるいは図示しないバル
ブ機構を用いて湿気の導入を中止制御するようにしても
よい。
Here, although the introduction of moisture from the outside air introduction port 16 may be carried out at all times, in a situation where the humidity is lowered, the humidifier 17 is controlled or a valve mechanism (not shown) is used to remove the moisture. The introduction may be controlled to be stopped.

【0021】この様に湿度センサ21とその検出信号に基
づいて高圧電源19を制御し、放電電極18に印加される高
圧電源をオン・オフ制御することによって、装置カバー
11内のラビング処理雰囲気の湿度制御が行え、この雰囲
気を好ましい湿度範囲に保つことが可能となる。したが
って、安定した液晶配向状態を確実に得ることができ
る。
As described above, the high-voltage power supply 19 is controlled based on the humidity sensor 21 and the detection signal thereof, and the high-voltage power supply applied to the discharge electrode 18 is controlled to be turned on / off to thereby cover the device cover.
Humidity of the rubbing treatment atmosphere in 11 can be controlled, and this atmosphere can be maintained in a preferable humidity range. Therefore, a stable liquid crystal alignment state can be reliably obtained.

【0022】図2はラビング処理時の湿度を“60±5
%”に設定した根拠を示すもので、ラビング処理によっ
て基板13に帯電する静電気量は、湿度が高くなると共に
減少する。そして、湿度70%では0KV(計測器の計
測限界0.05KV)であった。
FIG. 2 shows the humidity during rubbing treatment as "60 ± 5".
% ", The amount of static electricity charged on the substrate 13 by the rubbing process decreases as the humidity increases. And, at 70% humidity, it is 0 KV (measurement limit of the measuring device is 0.05 KV). It was

【0023】アクティブ素子の耐圧を考慮すると、帯電
電圧は0.6KV以下にする必要があり、このためには
少なくとも50%以上の湿度が要求される。しかし、7
0%以上の高湿度では、静電気に対しての効果は発揮さ
れるが、配向状態が不良であるLCDが発生する領域に
入る。したがって、ラビング時の湿度雰囲気は、50〜
70%であり、好ましくは“60±5%”に制御すると
効果的である。
Considering the breakdown voltage of the active element, the charging voltage must be 0.6 KV or less, and for this purpose, a humidity of at least 50% or more is required. But 7
At a high humidity of 0% or more, although the effect against static electricity is exhibited, it enters a region where an LCD with a poor alignment state is generated. Therefore, the humidity atmosphere during rubbing is 50-
It is 70%, and it is effective to control to “60 ± 5%”.

【0024】上記実施例においては液晶の配向制御を行
うラビング処理の例を説明したが、これはシール印刷工
程にそのまま応用可能である。シール印刷はスクリーン
印刷法によって行われ、印刷時に静電気が発生するもの
で、この静電気によってシール材が飛散する等の弊害が
発生する。
In the above embodiment, the example of the rubbing process for controlling the alignment of the liquid crystal has been described, but this can be applied to the sticker printing process as it is. The sticker printing is performed by a screen printing method, and static electricity is generated during printing. This static electricity causes harmful effects such as scattering of the seal material.

【0025】この場合、シール印刷時においてその雰囲
気湿度を高くすると、静電気発生の弊害の除去に対して
効果を発揮するが、その反面シール材料への高湿度によ
る悪影響が生じ、ラビング処理時と同様に処理雰囲気の
湿度範囲を制御する必要がある。したがって、この様な
シール印刷時においても放電電極を設置し、雰囲気湿度
に対応して高圧電源をオン・オフ制御することによっ
て、良質のシール印刷が可能とされるようになる。
In this case, if the atmospheric humidity is increased during sticker printing, the effect of removing the harmful effects of static electricity is exerted, but on the other hand, the adverse effect of high humidity on the seal material occurs, and it is the same as during rubbing. It is necessary to control the humidity range of the processing atmosphere. Therefore, even in such sticker printing, by installing the discharge electrode and controlling the ON / OFF of the high-voltage power source in accordance with the atmospheric humidity, it becomes possible to perform good sticker printing.

【0026】さらに液晶を収納する部分を形成するため
のスペーサ散布工程においても、この実施例を応用する
ことができる。すなわち、基板13上にノズルからの噴射
によってスペーサを散布する際に、静電気によってスペ
ーサが凝集する問題が存在する。この様な問題を解決す
るためには、散布時の湿度制御が重要であり、この様な
局所的な湿度制御は加湿手段と高電圧放電手段によって
行えるようになる。
Further, this embodiment can be applied to the spacer spraying step for forming the portion for storing the liquid crystal. That is, when the spacers are sprayed onto the substrate 13 by spraying from the nozzles, there is a problem that the spacers aggregate due to static electricity. In order to solve such a problem, humidity control at the time of spraying is important, and such local humidity control can be performed by the humidifying means and the high voltage discharging means.

【0027】この様なシール印刷工程およびスペーサ散
布工程を行う装置は、図1で示した装置のラビングロー
ラ15に代わって、装置カバー11内にスキージとスクリー
ン印刷版等のシール印刷部、あるいはスペーサ散布ノズ
ルを設置すればよい。
An apparatus for performing such a seal printing step and a spacer spraying step, instead of the rubbing roller 15 of the apparatus shown in FIG. 1, has a squeegee and a seal printing section such as a screen printing plate in the apparatus cover 11 or a spacer. A spray nozzle should be installed.

【0028】[0028]

【発明の効果】以上のようにこの発明に係る液晶表示装
置の製造ラビング処理に際して発生する静電気によっ
て、アクティブ素子の破壊を確実に防止するようにし
て、安定した液晶配向状態を実現できる、ラビング処理
の雰囲気を好ましい湿度範囲に設定できるものであり、
信頼性の高い液晶表示装置を容易且つ確実に製造できる
ものである。
As described above, the rubbing treatment can surely prevent the active element from being broken by the static electricity generated during the rubbing treatment for manufacturing the liquid crystal display device according to the present invention, thereby realizing a stable liquid crystal alignment state. The atmosphere of can be set to a preferable humidity range,
A highly reliable liquid crystal display device can be manufactured easily and reliably.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明の一実施例に係る液晶表示装置の製造
装置の特にラビング処理部を説明する構成図。
FIG. 1 is a configuration diagram illustrating particularly a rubbing processing unit of a liquid crystal display device manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図2】ラビング処理雰囲気の湿度と静電気の基板帯電
電圧との関係を示す図。
FIG. 2 is a diagram showing a relationship between humidity in a rubbing processing atmosphere and electrostatic substrate charging voltage.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11…装置カバー、12…テーブル、13…基板、14…配向
膜、 15…ラビングローラ、16…外気導入口、17…加湿
器、18…放電電極、19…高圧電源、 20…制御回路、21
…湿度センサ。
11 ... Device cover, 12 ... Table, 13 ... Substrate, 14 ... Alignment film, 15 ... Rubbing roller, 16 ... Outside air inlet, 17 ... Humidifier, 18 ... Discharge electrode, 19 ... High voltage power supply, 20 ... Control circuit, 21
… Humidity sensor.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 内部に液晶表示装置の静電気の発生を伴
う処理を行う機構を設置した装置カバーと、 この装置カバー内に湿気を導入する加湿手段と、 前記カバー内に設置され、このカバー内雰囲気の湿気を
イオン化する高電圧電源に接続された放電電極と、 前記カバー内に設置され、カバー内の湿度を検出する湿
度検出手段とを具備し、 湿度検出手段で検出された前記カバー内湿度に対応し
て、前記放電電極の高電圧電源を制御するようにしたこ
とを特徴とする液晶表示装置の製造装置。
1. A device cover in which a mechanism for performing a process involving generation of static electricity of a liquid crystal display device is installed inside, a humidifying means for introducing moisture into the device cover, and installed in the cover. A discharge electrode connected to a high voltage power source for ionizing atmospheric humidity, and a humidity detecting unit installed in the cover for detecting the humidity in the cover, and the humidity in the cover detected by the humidity detecting unit. The high voltage power supply of the discharge electrode is controlled in accordance with the above item, and a manufacturing apparatus of a liquid crystal display device.
JP4051691A 1992-03-10 1992-03-10 Apparatus for producing liquid crystal display device Pending JPH05249467A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000019519A (en) * 1998-06-26 2000-01-21 Alps Electric Co Ltd Rubbing device
KR101331802B1 (en) * 2006-11-30 2013-11-21 엘지디스플레이 주식회사 Rubbing apparatus and method of adjusting humidification of rubbing apparatus

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000019519A (en) * 1998-06-26 2000-01-21 Alps Electric Co Ltd Rubbing device
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