JPH05243872A - 定在波効果による高周波高出力半導体素子 - Google Patents

定在波効果による高周波高出力半導体素子

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JPH05243872A
JPH05243872A JP4044391A JP4439192A JPH05243872A JP H05243872 A JPH05243872 A JP H05243872A JP 4044391 A JP4044391 A JP 4044391A JP 4439192 A JP4439192 A JP 4439192A JP H05243872 A JPH05243872 A JP H05243872A
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JP
Japan
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gate electrode
constant
equation
gate
standing wave
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Pending
Application number
JP4044391A
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English (en)
Inventor
Akishige Nakajima
秋重 中島
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】移動体通信,衛星通信及び衛星放送などの高周
波領域における半導体素子で素子の高出力・高利得化を
実現する。 【構成】ゲート電極を分布定数線路と考え、ゲート電極
の減衰定数αと位相定数βの比を0.8以下にし、ゲー
トフィンガー長を最適化する。 【効果】/βを0.8以下にすることで高出力高利得が
実現できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は移動体通信,衛星通信及
び衛星放送などの高周波領域における半導体素子構造に
係わり、特に、素子の高出力・高利得化に好適な動作原
理、素子構造に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の高周波高出力素子は図8に示すよ
うな櫛形電極パターンを使い、高出力化は、ゲートフィ
ンガー本数の増加,ゲートフィンガー長の増加をする必
要がある。
【0003】半導体素子のゲート電極を分布定数線路と
みなし、そこに発生する定在波の効果により利得上昇を
図るという素子構造および動作原理についての公知例は
見当たらない。分布定数線路の素子への応用例は、19
91年電子情報通信学会春季全国大会(予稿集c−49
1、pp5−82)に述べられているように、広帯域化
に使われているだけである。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】半導体素子のゲートフ
ィンガー長を増加させると、ゲート抵抗,相互コンダク
タンス,ゲート・ソース間容量,ソース抵抗の電力利得
に対する素子感度の違いから、増幅器を作る際のデバイ
スの重要な性能指数であるfmax(最大有能電力利得が1
になる周波数)が低下してしまい、利得低下の問題があ
った。
【0005】本発明の目的は、ゲート電極を分布定数線
路として扱い、ゲート電極に発生する定在波を用いるこ
とでこの問題点を解決できる高周波高出力化に最適な動
作原理および素子構造を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】動作状態にある半導体素
子のゲート電極を分布定数線路と扱い、数2で示される
減衰定数αと数3で示される位相定数βとを有する分布
定数線路と考えた前記ゲート電極において、α/βを
0.8(Np/rad)以下とすることで利得上昇が達成で
きる。
【0007】
【作用】図2は、伝搬定数γ(=α+jβ、α:減衰定
数、β:位相定数)を持つ長さLwの分布定数線路の等
価回路図である。分布定数線路は、単位長さ当たりの抵
抗R,インダクタンスL,並列コンダクタンスG,並列
キャパシタンスCのはしご型構造で表すことができる。
【0008】今、ポート2を開放にし、ポート1に電圧
v0のRF信号を印加する。ポート1の端子から距離x
の点での電圧は、一般に数1で示される。
【0009】
【数1】
【0010】ただし、
【0011】
【数2】
【0012】
【数3】
【0013】ここで、FETのゲート電極を図2に示し
たように、終端が開放の長さLwの分布定数線路と考え
ると、ゲート電極に印加された電圧は数1のように給電
点からの距離に対し変化する。このゲート電圧変化によ
る利得変化を解析することで、課題の解決を行なう。
【0014】図3に示したFETの構造において、ゲー
トフィンガー長をLw、電圧供給端子にv0を印加した
とする。ゲート電極を分布定数線路として扱うと、ゲー
トフィンガー長Lwを持つFETは、ゲート電極をn等
分した小FET(図中破線で示した2)の並列接続した
ものと考えられる。なお、数2,数3で示したα,βの
並列キャパシタンスCと並列コンダクタンスGは、ゲー
ト電極をn等分した小FETのゲート・ソース間容量C
gsとチャネル抵抗Riに対応し、抵抗Rはゲート電極を
n等分した小FETのゲート抵抗Rg、インダクタンス
Lは、ゲート電極の断面形状に対応しているので、デバ
イス構造と密接な関係を持っている。
【0015】図4にi番目の小FETの簡略化等価回路
を示す。出力電流源gmi・vgsi のvgsiは数1より、
数4と表すことができる。
【0016】
【数4】
【0017】ゲートフィンガー長Lwを持つFETに負
荷抵抗RLを接続したときの全出力電力Pouttotal を、
数6に示す。ただし、Iiはi番目の小FETから負荷
抵抗RLに供給される電流である。
【0018】
【数5】
【0019】
【数6】
【0020】ゲートフィンガー長LwのFETの相互コ
ンダクタンスをgm0とすると、i番目の小FETの相互
コンダクタンスgmiは、gm0/nと表せる。gmiと数2
を数6に代入すると数8が得られる。
【0021】
【数7】
【0022】
【数8】
【0023】また、定在波を考慮しないときの出力電力
P'outは、Rgm02v02となる。
【0024】そこで、入力電力は定在波にかかわらず同
じなので、両者の利得差ΔGpは、下式となる。
【0025】
【数9】
【0026】
【数10】
【0027】n→∞において、数10を書き換え(数1
1)、展開し整理すると数12が導ける。
【0028】
【数11】
【0029】
【数12】
【0030】ここで、図1は、数12において、α,β
に対するΔGpの最大値をゲートフィンガー長を最適に
選んで求めた図である。α/βの大きさとゲートフィン
ガー長Lwの最適化によりΔGpを正の値にできるの
で、利得上昇が実現できる。
【0031】
【実施例】本発明による定在波効果を有効に使える実施
例を図5に示す。ドープ量を3.0×1017(1/c
m3)、厚さ0.13μmのチャネル層をエピ成長で形成
し、ゲート長が0.5μm 、マッシュルーム型のゲート
電極断面形状を有する図6に示した従来の高周波高出力
素子において、ゲート長は同一であるが、ゲート電極上
部の幅を3分の1に狭め、ゲート電極の厚さを3.6倍
厚くする。
【0032】本実施例によれば、断面積が1.2倍に広
がり、Rは4.2から3.5(Ω/100μm)に小さくで
き、ゲート電極断面の幅が小さくなったことで、Lは
6.5 から9.1(pH/100μm)と大きくなること
で、αが0.17から0.14(Np/100μm)、β
が0.188から0.185(rad/100μm)になり、
α/βは0.9から0.76(Np/rad)にできる。
【0033】図7は、本実施例における数12のゲート
フィンガー長特性を示したものである。ゲートフィンガ
ー長を400μmにすることで、ΔGpが0dBを越
え、最大値が得られるので、定在波効果による半導体素
子の高利得化が期待できる。
【0034】
【発明の効果】本発明によれば、ゲート電極を分布定数
線路としてあつかい、α/βが0.8(Np/rad)以下
となるゲート電極構造とゲートフィンガー長の最適化す
ることで利得向上が期待できるので、高出力高利得が実
現できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】伝搬定数と利得上昇量の関係を示した特性図。
【図2】分布定数線路の等価回路図。
【図3】ゲートフィンガー長Lwを持つFETの斜視
図。
【図4】図2に示したFETをn分割した小FETの等
価回路図。
【図5】本発明の定在波効果を有効に使うための伝搬定
数を最適化したゲート電極の断面図。
【図6】従来のゲート構造の断面図。
【図7】本発明の実施例における利得変化と従来構造で
の利得変化を示した説明図。
【図8】従来の高出力高利得半導体素子の平面パターン
を示した説明図。
【符号の説明】
1…チャネル空乏層、2…ゲートフィンガー長Lw/n
を持つ小FET、3…ゲート電極、4…ソース電極、5
…チャネル層、6…負荷抵抗RL。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】動作状態にある半導体素子のゲート電極を
    分布定数線路と扱い、前記ゲート電極の特性インピーダ
    ンスZ0,伝搬定数γ(=α+jβ),ゲートフィンガ
    ー長Lwを用いて表せる入力インピーダンスZ0×coth
    γLwを五つの異なる周波数で測定することにより求ま
    る数2で示される減衰定数αと数3で示される位相定数
    βとを有する分布定数線路と考えたゲート電極におい
    て、α/βが0.8(Np/rad)以下となるゲート電極を
    特徴とする定在波効果による高周波高出力半導体素子。
  2. 【請求項2】請求項1において、ゲート電極の一端から
    ゲートフィンガー長方向の距離をXとした時、v0×co
    shγ(Lw−X)/coshγLwで示されるゲート電極の電
    圧分布の実数部を三つの異なる点で測定することにより
    求まる数2で示される減衰定数αと数3で示される位相
    定数βとを有する分布定数線路と考えたゲート電極で、
    α/βが0.8(Np/rad)以下となるゲート電極を設
    けた定在波効果による高周波高出力半導体素子。
JP4044391A 1992-03-02 1992-03-02 定在波効果による高周波高出力半導体素子 Pending JPH05243872A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0821425A2 (en) * 1996-07-24 1998-01-28 Nec Corporation A semiconductor device having a semiconductor switch structure
JP2012009615A (ja) * 2010-06-24 2012-01-12 Fujitsu Ltd 化合物半導体装置及びその製造方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0821425A2 (en) * 1996-07-24 1998-01-28 Nec Corporation A semiconductor device having a semiconductor switch structure
EP0821425A3 (en) * 1996-07-24 2000-07-05 Nec Corporation A semiconductor device having a semiconductor switch structure
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