JPH05235512A - プリント配線板の製造方法 - Google Patents

プリント配線板の製造方法

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Publication number
JPH05235512A
JPH05235512A JP3734192A JP3734192A JPH05235512A JP H05235512 A JPH05235512 A JP H05235512A JP 3734192 A JP3734192 A JP 3734192A JP 3734192 A JP3734192 A JP 3734192A JP H05235512 A JPH05235512 A JP H05235512A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
copper plating
plating solution
organic additive
wiring board
printed wiring
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP3734192A
Other languages
English (en)
Inventor
Kiyoshi Hasegawa
清 長谷川
Akishi Nakaso
昭士 中祖
Jun Nirasawa
純 韮沢
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Showa Denko Materials Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
Priority to JP3734192A priority Critical patent/JPH05235512A/ja
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  • Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】有機性添加剤を含む銅めっき液を使用した電気
めっきにおいて、ヒゲ状の異常析出を防止すること。 【構成】酸性銅めっき液を用いて電気銅めっきを行う方
法において、有機性添加剤を含まない酸性銅めっき液を
用いて、電気銅めっきを行った後、有機性添加剤を含む
酸性銅めっき液を用いて、電気銅めっきを行うこと。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、プリント配線板の製造
方法に関する。
【0002】
【従来の技術】プリント配線板の配線密度は、年々高く
なってきており、プリント配線板の製造工程での異常形
状の発生、異物混入、部分的欠落などを最小限にするこ
とが要求されている。
【0003】プリント配線板の製造方法において、電気
銅めっきはパネルめっき、パターンめっきなどがある。
パネルめっきは化学めっきで電気的導通のとれたスルホ
ールをもつ配線基板全体をめっきする方法であり、パタ
ーンめっきはレジストパターンが形成された配線基板を
めっきする方法である。
【0004】電気銅めっきで使用されるめっき液は酸性
銅めっき液が一般的である。酸性銅めっき液は硫酸銅め
っき液とほうふっ化銅めっき液が知られており、硫酸銅
めっきが広く使用されている。硫酸銅めっき液は硫酸
銅、硫酸、塩素イオンを含む水溶液である。
【0005】プリント配線板の製造に使用する酸性銅め
っき液はスルホール内の析出向上と表面の平滑性向上の
ために有機性添加剤を含んでいる。また、析出銅の機械
的物性を向上させて、プリント配線板の接続信頼性を高
くするための有機性添加剤を含んでいる酸性銅めっき液
もある。これらの有機性添加剤は光沢剤として市販され
ており、光沢剤は数種類の有機化合物を含んでいる。
【0006】プリント配線板の製造方法において、従来
の酸性銅めっきは有機性添加剤を含む電気銅めっき液を
用いている。また、被めっき物である配線基板のめっき
表面は銅張積層板、化学銅めっき、または電気銅めっき
の銅層を研磨したものである。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかし、有機性添加剤
を含む銅めっき液を使用した電気めっきでは、ヒゲ状の
異常析出が発生する問題があった。この異常析出は、プ
リント配線板の高密度化に対して、短絡等の問題になっ
た。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明者らは前記課題を
解決するために鋭意研究を重ねた結果、研磨した銅表面
に直接、有機性添加剤を含む酸性銅めっき液で電気めっ
きするとヒゲ状の異常析出が発生することがわかった。
この知見に基づき本発明を完成するに至った。
【0009】すなわち、本発明はプリント配線板の製造
工程で、酸性銅めっき液を用いて、電気銅めっきを行う
方法において、有機性添加剤を含まない酸性銅めっき液
を用いて、電気銅めっきを行った後、有機性添加剤を含
む酸性銅めっき液を用いて、電気銅めっきを行うことを
特徴とするプリント配線板の製造方法を提供するもので
ある。
【0010】ここで、酸性銅めっき液は硫酸銅、硫酸、
塩酸イオンを含む硫酸銅めっき液であることが好ましい
が、特に限定するものではなく、ほうふっ化銅めっき
液、塩化銅めっき液、硝酸銅めっき液等の酸性銅めっき
液でもよい。
【0011】有機添加剤を含まない酸性銅めっき液を用
いた電気銅めっきのめっき膜厚は0.01μm以上、3
μm以下で、有機添加剤を含む酸性銅めっき液を用いた
電気銅めっきのめっき膜厚は3μm以上が好ましい。有
機添加剤を含まない酸性銅めっき液を用いた電気銅めっ
きではめっき膜厚が3μm以下でヒゲ状の異常析出を抑
制することができるが、めっき膜厚が3μm以上になる
と、有機添加剤を含んでいないため、めっき皮膜の機械
的物性の低下が問題になる。また、有機添加剤を含む酸
性銅めっき液を用いた電気銅めっきでは、光沢、平滑
性、機械的物性等の特性面で、めっき膜厚が3μm以上
あれば十分であるが、3μm以下では問題である。
【0012】また、有機性添加剤は光沢剤またはポリエ
チレングリコールとその誘導体であることが好ましい
が、特に限定するものではなく、めっき光沢作用のある
化合物ならばよい。光沢剤は市販品でもよい。
【0013】
【実施例】実施例1 銅張積層板に穴明け加工、研磨、化学めっき、パネル電
気銅めっき、研磨、レジストパターン形成を行ったもの
を、酸性脱脂、ソフトエッチング、硫酸処理した後、以
下の2種類の電気銅めっき液を用いて、の電気めっき
の後に、の電気めっきを行い、連続してパターン電気
銅めっきを行った。 有機性添加剤を含まない電気銅めっき液による電気め
っき ・めっき液組成 硫酸銅・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・60
g/l 硫酸・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・180
g/l 塩素イオン・・・・・・・・・・・・・・・・・50m
g/l ・めっき条件 電流密度 :0.1〜3A/dm2 めっき時間:10〜600秒 陽極 :含隣銅 有機性添加剤を含む電気銅めっき液による電気めっき ・めっき液組成 硫酸銅・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・60
g/l 硫酸・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・180
g/l 塩素イオン・・・・・・・・・・・・・・・・・50m
g/l 光沢剤(CG−125、メルテックス社製)・・10m
l/l ・めっき条件 電流密度 :0.1〜3A/dm2 めっき時間:60分 陽極 :含隣銅 ここで、得られた基板に半田めっき、レジスト剥離、エ
ッチングを行って、プリント配線板を得た。
【0014】実施例2 パターン電気銅めっきを下記のものを使用すること以外
はすべて実施例1と同様にしてプリント配線板を得た。 有機性添加剤を含まない電気銅めっき液による電気め
っき ・めっき液組成 硫酸銅・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・60
g/l 硫酸・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・180
g/l 塩素イオン・・・・・・・・・・・・・・・・・50m
g/l ・めっき条件 電流密度 :0.1〜3A/dm2 めっき時間:10〜600秒 有機性添加剤を含む電気銅めっき液による電気めっき ・めっき液組成 硫酸銅・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・60
g/l 硫酸・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・180
g/l 塩素イオン・・・・・・・・・・・・・・・・・50m
g/l ポリエチレングリコール(分子量1000)・・0.1
g/l ・めっき条件 電流密度 :0.1〜3A/dm2 めっき時間:60分 陽極 :含隣銅
【0015】比較例1 パターン電気銅めっきを下記のものを使用すること以外
はすべて実施例1と同様にしてプリント配線板を得た。 有機性添加剤を含む電気銅めっき液による電気めっき ・めっき液組成 硫酸銅・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・60
g/l 硫酸・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・180
g/l 塩素イオン・・・・・・・・・・・・・・・・・50m
g/l 光沢剤(CG−125、メルテックス社製)・・10m
l/l ・めっき条件 電流密度 :0.1〜3A/dm2 めっき時間:60分 ここで、得られた基板に半田めっき、レジスト剥離、エ
ッチングを行って、プリント配線板を得た。
【0016】比較例2 パターン電気銅めっきを下記のものを使用すること以外
はすべて実施例1と同様にしてプリント配線板を得た。 有機性添加剤を含む電気銅めっき液による電気めっき ・めっき液組成 硫酸銅・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・60
g/l 硫酸・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・180
g/l 塩素イオン・・・・・・・・・・・・・・・・・50m
g/l ポリエチレングリコール(分子量1000)・・0.1
g/l ・めっき条件 電流密度 :0.1〜3A/dm2 めっき時間:60分 ここで、得られた基板に半田めっき、レジスト剥離、エ
ッチングを行って、プリント配線板を得た。
【0017】実施例1、2及び比較例1、2で得られて
プリント配線板一枚(500mm×500mm)中のヒ
ゲ状異常析出数を測定した結果を表1に示した。
【0018】
【表1】
【0019】
【発明の効果】以上に説明したように、本発明によっ
て、電気銅めっきでのヒゲ状異常析出の抑制に優れたプ
リント配線板の製造法を提供することができる。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】プリント配線板の製造工程で、酸性銅めっ
    き液を用いて、電気銅めっきを行う方法において、有機
    性添加剤を含まない酸性銅めっき液を用いて、電気銅め
    っきを行った後、有機性添加剤を含む酸性銅めっき液を
    用いて、電気銅めっきを行うことを特徴とするプリント
    配線板の製造方法。
  2. 【請求項2】酸性銅めっき液が硫酸銅、硫酸、塩素イオ
    ンを含むことを特徴とする請求項1に記載のプリント配
    線板の製造方法。
  3. 【請求項3】有機添加剤を含まない酸性銅めっき液を用
    いた電気銅めっきのめっき膜厚が0.01μm以上、3
    μm以下であり、有機添加剤を含む酸性銅めっき液を用
    いた電気銅めっきのめっき膜厚が3μm以上であること
    を特徴とする請求項1、または2に記載のプリント配線
    板の製造方法。
  4. 【請求項4】有機性添加剤が光沢剤であることを特徴と
    する請求項1〜3記載のうちいずれかに記載のプリント
    配線板の製造方法。
  5. 【請求項5】有機性添加剤がポリエチレングリコール、
    またはポリエチレングリコールの誘導体であることを特
    徴とする請求項1〜3記載のうちいずれかに記載のプリ
    ント配線板の製造方法。
JP3734192A 1992-02-25 1992-02-25 プリント配線板の製造方法 Pending JPH05235512A (ja)

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