JPH05226440A - Semiconductor integrated circuit device - Google Patents

Semiconductor integrated circuit device

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Publication number
JPH05226440A
JPH05226440A JP4025266A JP2526692A JPH05226440A JP H05226440 A JPH05226440 A JP H05226440A JP 4025266 A JP4025266 A JP 4025266A JP 2526692 A JP2526692 A JP 2526692A JP H05226440 A JPH05226440 A JP H05226440A
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JP
Japan
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integrated circuit
semiconductor integrated
temperature
circuit device
test
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Application number
JP4025266A
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Japanese (ja)
Inventor
Naohiko Takeshige
直彦 武重
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
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Publication of JPH05226440A publication Critical patent/JPH05226440A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To make it possible to shorten a time for a screen test, which is conducted in the final process for manufacturing a semiconductor integrated circuit device, by a method wherein a temperature sensor for detecting an ambient temperature and a heater for warming a semiconductor chip are provided in a package main body. CONSTITUTION:A temperature detecting means (a temperature sensor) 6 and a heating means (a heater) 7 are installed in the interior of a package main body 2 constituting a semiconductor integrated circuit device 1. The sensor 6 is a means for detecting an ambient temperature and is, for instance, installed on the side of the main surface of a semiconductor chip 3. The heater 7 is a means for warming the chip 3 on the basis of information on the ambient temperature detected by the sensor 6 and is, for instance, installed on the side of the rear of the chip 3. Accordingly, as the chip 3 can be always put in an environment of a prescribed temperature or higher, a characteristic test process in a low-temperature atmosphere, which is one process of screening test processes, can be omitted. Thereby, the simplification of a screening test becomes possible.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体集積回路装置技
術に関し、特に、素子集積度の高い、大形パッケージ構
造の半導体集積回路装置に適用して有効な技術に関する
ものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device technology, and more particularly to a technology effectively applied to a semiconductor integrated circuit device having a large package structure with a high degree of element integration.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体集積回路装置の最終製造工程にお
いては、半導体集積回路装置の良否およびグレード等を
検査するための選別試験が必要であり、その試験におい
ては、通常、テスタおよびハンドリング装置等を使用し
て全ての半導体集積回路装置を試験するのが一般的であ
る。
2. Description of the Related Art In the final manufacturing process of a semiconductor integrated circuit device, a screening test is required to inspect the quality and grade of the semiconductor integrated circuit device. In the test, a tester and a handling device are usually used. It is common to use it to test all semiconductor integrated circuit devices.

【0003】選別試験においては、常温での動作保証試
験(例えば25℃)および低温時の動作保証試験(例え
ば−5℃〜−50℃)を行うのが一般的であり、測定温
度の種類に対応した複数のハンドリング装置を用いて同
一の半導体集積回路装置に対して複数回測定を行ってい
る。
In the selection test, it is common to perform an operation guarantee test at room temperature (for example, 25 ° C.) and an operation guarantee test at low temperature (for example, −5 ° C. to −50 ° C.), depending on the type of measurement temperature. The same semiconductor integrated circuit device is measured a plurality of times by using a plurality of corresponding handling devices.

【0004】なお、半導体集積回路装置のパッケージン
グ工程後の信頼性試験については、例えば株式会社オー
ム社、昭和59年11月30日発行、「LSIハンドブ
ック」P681〜P684に記載されている。
The reliability test of the semiconductor integrated circuit device after the packaging process is described, for example, in "LSI Handbook" P681 to P684, published by Ohmsha Co., Ltd., November 30, 1984.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】ところが、上記従来の
選別試験技術においては、以下の問題があることを本発
明者は見い出した。
However, the inventor of the present invention has found that the above-mentioned conventional screening test technique has the following problems.

【0006】すなわち、半導体集積回路装置における素
子集積度の向上に伴い、試験項目が増え、試験時間が長
くなる問題があった。
That is, as the degree of integration of elements in the semiconductor integrated circuit device is improved, the number of test items is increased and the test time is lengthened.

【0007】また、低温雰囲気時における特性試験の場
合、例えば−5℃〜−50℃程度の低温雰囲気を形成す
る関係上、試験が困難である、試験設備の劣化が激し
い、その上、凍結・解凍等のため試験時間が長くなる等
の問題があった。
Further, in the case of a characteristic test in a low temperature atmosphere, the test is difficult because of the formation of a low temperature atmosphere of, for example, about -5 ° C to -50 ° C, and the deterioration of the test equipment is severe. There was a problem that the test time was long due to thawing.

【0008】本発明は上記課題に着目してなされたもの
であり、その目的は、半導体集積回路装置の最終工程で
行われる選別試験の時間を短縮することのできる技術を
提供することにある。
The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a technique capable of shortening the time of a screening test performed in the final step of a semiconductor integrated circuit device.

【0009】本発明の他の目的は、半導体集積回路装置
の最終工程で行われる選別試験を簡素化することのでき
る技術を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a technique capable of simplifying a selection test performed in the final process of a semiconductor integrated circuit device.

【0010】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、明細書の記述および添付図面から明らかにな
るであろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will be apparent from the description of the specification and the accompanying drawings.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
Among the inventions disclosed in the present application, a brief description will be given to the outline of typical ones.
It is as follows.

【0012】すなわち、請求項1記載の発明は、パッケ
ージ本体内またはその近傍に周囲温度を検出する温度検
出手段と、前記温度検出手段によって検出された情報に
基づいてパッケージ本体内に封止された半導体チップを
暖める加熱手段とを設けた半導体集積回路装置構造とす
るものである。
That is, the invention according to claim 1 is sealed in the package body based on the temperature detection means for detecting the ambient temperature in or near the package body and the information detected by the temperature detection means. The semiconductor integrated circuit device structure is provided with heating means for heating the semiconductor chip.

【0013】[0013]

【作用】上記した請求項1記載の発明によれば、周囲温
度が所定温度以下になったことが温度検出手段により検
出された場合に、半導体チップをその近傍に設置された
加熱手段によって暖めることにより、半導体チップを常
に所定温度以上の環境におくことができるので、選別試
験工程の一工程である低温雰囲気下における特性試験工
程を省略することができる。
According to the invention described in claim 1, when the temperature detecting means detects that the ambient temperature has become equal to or lower than the predetermined temperature, the semiconductor chip is warmed by the heating means installed in the vicinity thereof. As a result, the semiconductor chip can always be kept in an environment of a predetermined temperature or higher, so that the characteristic test process under a low temperature atmosphere, which is one of the selection test process, can be omitted.

【0014】[0014]

【実施例】図1は本発明の一実施例である半導体集積回
路装置の構造を説明するための説明図、図2は図1の半
導体集積回路装置における温度検出手段および加熱手段
部分の回路図である。
1 is an explanatory view for explaining the structure of a semiconductor integrated circuit device according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a circuit diagram of a temperature detecting means and a heating means portion in the semiconductor integrated circuit device of FIG. Is.

【0015】図1に示す本実施例の半導体集積回路装置
1は、例えばDIP(Dual InlinePackage)である。半
導体集積回路装置1を構成するパッケージ本体2は、例
えばエポキシ樹脂等のような樹脂からなる。
The semiconductor integrated circuit device 1 of this embodiment shown in FIG. 1 is, for example, a DIP (Dual Inline Package). The package body 2 constituting the semiconductor integrated circuit device 1 is made of resin such as epoxy resin.

【0016】パッケージ本体2の内部には、半導体チッ
プ3が封止されている。半導体チップ3の裏面は、例え
ばAg入りエポキシ樹脂等のような接着剤によってリー
ドフレーム4のチップ搭載台4aに接着されている。
A semiconductor chip 3 is sealed inside the package body 2. The back surface of the semiconductor chip 3 is adhered to the chip mounting base 4a of the lead frame 4 with an adhesive such as an epoxy resin containing Ag.

【0017】半導体チップ3は、例えばシリコン(S
i)単結晶からなり、その主面上には、例えばSRAM
(Static RAM)等のような半導体集積回路(図示せず)
が形成されている。
The semiconductor chip 3 is made of, for example, silicon (S
i) It is made of a single crystal and has, for example, an SRAM on its main surface.
Semiconductor integrated circuit (not shown) such as (Static RAM)
Are formed.

【0018】その半導体集積回路の電極は、例えば金
(Au)等からなるボンディングワイヤ5を通じてリー
ドフレーム4のインナーリード4bと電気的に接続され
ている。インナーリード4bは、アウターリード4cと
一体的に成形されており、これにより、半導体チップ3
内の半導体集積回路の電極が外部に引き出されている。
The electrodes of the semiconductor integrated circuit are electrically connected to the inner leads 4b of the lead frame 4 through the bonding wires 5 made of gold (Au) or the like. The inner lead 4b is formed integrally with the outer lead 4c, whereby the semiconductor chip 3
The electrode of the semiconductor integrated circuit inside is drawn out to the outside.

【0019】なお、リードフレーム4は、例えば42ア
ロイからなる。
The lead frame 4 is made of 42 alloy, for example.

【0020】ところで、本実施例においては、パッケー
ジ本体2の内部に、温度センサ(温度検出手段)6およ
びヒータ(加熱手段)7が設置されている。
In this embodiment, a temperature sensor (temperature detecting means) 6 and a heater (heating means) 7 are installed inside the package body 2.

【0021】温度センサ6は、周囲温度を検出するため
の手段であり、例えば半導体チップ3の主面側に設置さ
れている。本実施例において温度センサ6は、例えばバ
イメタル等によって構成されており、周囲温度が所定温
度(例えば0℃)以下になるとスイッチが閉じON状態
となるように設定されている。
The temperature sensor 6 is a means for detecting the ambient temperature and is installed, for example, on the main surface side of the semiconductor chip 3. In the present embodiment, the temperature sensor 6 is made of, for example, bimetal, and is set so that the switch is closed to be in the ON state when the ambient temperature becomes equal to or lower than a predetermined temperature (for example, 0 ° C.).

【0022】ヒータ7は、温度センサ6で検出された温
度情報に基づいて半導体チップ3を暖めるための手段で
あり、例えば半導体チップ7の裏面側に設置されてい
る。ヒータ7は、抵抗体等によって構成されている。
The heater 7 is means for warming the semiconductor chip 3 based on the temperature information detected by the temperature sensor 6, and is installed on the back surface side of the semiconductor chip 7, for example. The heater 7 is composed of a resistor or the like.

【0023】図2に温度センサ6とヒータ7との回路接
続状態を示す。直流電源8は、半導体集積回路装置1を
駆動させるのに使用する電源であり、例えば5V程度の
電源電圧を供給できるように設定されている。温度セン
サ6およびヒータ7は、直流電源8の正・負極間に直列
に接続されている。
FIG. 2 shows a circuit connection state between the temperature sensor 6 and the heater 7. The DC power supply 8 is a power supply used to drive the semiconductor integrated circuit device 1, and is set so as to be able to supply a power supply voltage of, for example, about 5V. The temperature sensor 6 and the heater 7 are connected in series between the positive and negative electrodes of the DC power supply 8.

【0024】温度センサ6と並列に接続されているコン
デンサCは、温度センサ6のスイッチがONとなった瞬
間に発生するノイズを吸収するためのコンデンサであ
る。
The capacitor C connected in parallel with the temperature sensor 6 is a capacitor for absorbing noise generated at the moment when the switch of the temperature sensor 6 is turned on.

【0025】回路接続状態から判るように、本実施例に
おいては、温度センサ6のスイッチが閉じてON状態と
なると、ヒータ7に電流が流れ、ヒータ7が発熱するよ
うに設定されている。
As can be seen from the circuit connection state, in this embodiment, when the switch of the temperature sensor 6 is closed and turned on, a current flows through the heater 7 and the heater 7 is heated.

【0026】すなわち、本実施例の半導体集積回路装置
1は、周囲温度が所定温度(例えば0℃)以下となる
と、温度センサ6のスイッチがON状態となる結果、ヒ
ータ7に電流が流れヒータ7が発熱し、半導体チップ3
を暖める構造になっている。
That is, in the semiconductor integrated circuit device 1 of this embodiment, when the ambient temperature becomes lower than a predetermined temperature (for example, 0 ° C.), the switch of the temperature sensor 6 is turned on, and as a result, a current flows through the heater 7 and the heater 7 Generates heat and the semiconductor chip 3
It has a structure that heats the.

【0027】このため、本実施例においては、以下の効
果を得ることが可能となっている。
Therefore, the following effects can be obtained in this embodiment.

【0028】(1).半導体チップ3を常に所定温度以上の
環境におくことができるので、半導体集積回路装置1の
選別試験での低温雰囲気下における特性試験を省略する
ことが可能となる。
(1) Since the semiconductor chip 3 can always be kept in an environment of a predetermined temperature or higher, the characteristic test under a low temperature atmosphere in the screening test of the semiconductor integrated circuit device 1 can be omitted.

【0029】(2).上記(1) により、選別試験の簡素化が
可能となる。
(2). According to the above (1), the screening test can be simplified.

【0030】(3).上記(1) により、選別試験における試
験項目を低減できるので、試験時間を短縮することがで
き、スループットを向上させることが可能となる。
(3) By the above (1), the test items in the screening test can be reduced, so that the test time can be shortened and the throughput can be improved.

【0031】(4).上記(1) により、選別試験のための設
備コストおよび試験コストを低減することが可能とな
る。
(4). Due to the above (1), it is possible to reduce the equipment cost and the test cost for the screening test.

【0032】(5).上記(1) により、低温雰囲気下での特
性試験がなくなるので、本来、その試験で不良と判定さ
れる半導体集積回路装置1も良品となる。このため、半
導体集積回路装置1の歩留りを向上させることが可能と
なる。
(5) Since the characteristic test in the low temperature atmosphere is eliminated by the above (1), the semiconductor integrated circuit device 1 originally determined to be defective in the test is also a good product. Therefore, the yield of the semiconductor integrated circuit device 1 can be improved.

【0033】以上、本発明者によってなされた発明を実
施例に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施例
に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲
で種々変更可能であることはいうまでもない。
Although the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiments, the present invention is not limited to the embodiments and various modifications can be made without departing from the scope of the invention. Needless to say.

【0034】例えば前記実施例においては、加熱手段を
半導体チップの裏面側に設置した場合について説明した
が、これに限定されるものではなく種々変更可能であ
り、例えば加熱手段を半導体チップの主面側または側面
側に設置しても良い。
For example, in the above-mentioned embodiment, the case where the heating means is installed on the back surface side of the semiconductor chip has been described. However, the present invention is not limited to this, and various modifications can be made. You may install on the side or the side.

【0035】また、前記実施例においては、加熱手段を
半導体チップの外部に設置した場合について説明した
が、これに限定されるものではなく、例えば加熱手段を
半導体チップの内部に設置しても良い。
In the above embodiment, the case where the heating means is installed outside the semiconductor chip has been described, but the present invention is not limited to this, and the heating means may be installed inside the semiconductor chip, for example. ..

【0036】また、前記実施例においては、パッケージ
本体を樹脂封止形とした場合について説明したが、これ
に限定されるものではなく、例えばパッケージ本体を気
密封止形としても良い。また、DIPに限定されるもの
ではなく種々変更可能であり、例えばQFP(Quad Fla
t Package)やSOJ(Small Outline J-Lead Package)
等でも良い。
Further, in the above embodiment, the case where the package body is of the resin-sealed type has been described, but the present invention is not limited to this, and the package body may be of the hermetically sealed type, for example. Further, it is not limited to DIP, and various modifications are possible, such as QFP (Quad Fla
t Package) and SOJ (Small Outline J-Lead Package)
And so on.

【0037】以上の説明では主として本発明者によって
なされた発明をその背景となった利用分野であるSRA
Mを有する半導体集積回路装置に適用した場合について
説明したが、これに限定されず種々適用可能であり、例
えばDRAM(Dynamic RAM)や論理回路を有する半導体
集積回路装置等、他の半導体集積回路装置に適用するこ
とも可能である。
In the above description, SRA, which is the field of application behind the invention made mainly by the present inventor, is the background.
The case where the present invention is applied to the semiconductor integrated circuit device having M has been described, but the present invention is not limited to this and various applications are possible. For example, another semiconductor integrated circuit device such as a semiconductor integrated circuit device having a DRAM (Dynamic RAM) or a logic circuit. It is also possible to apply to.

【0038】[0038]

【発明の効果】本願において開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
下記のとおりである。
The effects obtained by the typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows.
It is as follows.

【0039】すなわち、請求項1記載の発明によれば、
周囲温度が所定温度になったことが温度検出手段により
検出された場合に、半導体チップをその近傍に設置され
た加熱手段によって暖めることにより、半導体チップを
常に所定温度以上の環境におくことができるので、選別
試験工程の一工程である低温雰囲気下における特性試験
工程を省略することができる。したがって、選別試験の
簡素化が可能となる。
That is, according to the invention of claim 1,
When it is detected by the temperature detecting means that the ambient temperature has reached the predetermined temperature, the semiconductor chip can be kept in an environment above the predetermined temperature by warming the semiconductor chip by the heating means installed in the vicinity thereof. Therefore, it is possible to omit the characteristic test step in the low temperature atmosphere, which is one step of the selection test step. Therefore, the screening test can be simplified.

【0040】また、選別試験における試験項目を低減で
きるので、試験時間を短縮することができ、スループッ
トを向上させることが可能となる。
Further, since the test items in the selection test can be reduced, the test time can be shortened and the throughput can be improved.

【0041】さらに、使用温度範囲が拡がっても半導体
チップに温度マージン(低温側)を持たせることが出来
る。
Furthermore, even if the operating temperature range is widened, the semiconductor chip can be provided with a temperature margin (low temperature side).

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例である半導体集積回路装置の
構造を説明するための説明図である。
FIG. 1 is an explanatory diagram illustrating a structure of a semiconductor integrated circuit device that is an embodiment of the present invention.

【図2】図1の半導体集積回路装置における温度検出手
段および加熱手段部分の回路図である。
2 is a circuit diagram of a temperature detecting means and a heating means portion in the semiconductor integrated circuit device of FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 半導体集積回路装置 2 パッケージ本体 3 半導体チップ 4 リードフレーム 4a チップ搭載台 4b インナーリード 4c アウターリード 5 ボンディンングワイヤ 6 温度センサ(温度検出手段) 7 ヒータ(加熱手段) 8 直流電源 C コンデンサ 1 semiconductor integrated circuit device 2 package body 3 semiconductor chip 4 lead frame 4a chip mounting base 4b inner lead 4c outer lead 5 bonding wire 6 temperature sensor (temperature detecting means) 7 heater (heating means) 8 DC power supply C capacitor

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 パッケージ本体内またはその近傍に周囲
温度を検出する温度検出手段と、前記温度検出手段によ
って検出された情報に基づいてパッケージ本体内に封止
された半導体チップを暖める加熱手段とを設けたことを
特徴とする半導体集積回路装置。
1. A temperature detecting means for detecting an ambient temperature in or near the package body, and a heating means for heating a semiconductor chip sealed in the package body on the basis of information detected by the temperature detecting means. A semiconductor integrated circuit device provided.
【請求項2】 前記温度検出手段がバイメタルであるこ
とを特徴とする請求項1記載の半導体集積回路装置。
2. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein the temperature detecting means is a bimetal.
JP4025266A 1992-02-12 1992-02-12 Semiconductor integrated circuit device Pending JPH05226440A (en)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011196993A (en) * 2010-02-25 2011-10-06 Hitachi Chem Co Ltd Semiconductor chip for evaluation, evaluation system, and repairing method of the same
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