JPH05222378A - 炭化水素を含むガス流の熱分解方法 - Google Patents
炭化水素を含むガス流の熱分解方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は熱分解プロセスにおいて炭化水素を
含むガス流と接触する金属表面上のコークス生成を減少
させることを目的とする。 【構成】 熱分解プロセスにおいて炭化水素に暴露され
る金属上のカーボン生成はこれらの金属を、チタンとス
ズの組合せおよびチタンとアンチモンの組合せから成る
群より選択される防汚剤と接触させることにより減少さ
せられる。
含むガス流と接触する金属表面上のコークス生成を減少
させることを目的とする。 【構成】 熱分解プロセスにおいて炭化水素に暴露され
る金属上のカーボン生成はこれらの金属を、チタンとス
ズの組合せおよびチタンとアンチモンの組合せから成る
群より選択される防汚剤と接触させることにより減少さ
せられる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は炭化水素を含むガス流の
熱分解方法に関する。本発明は一つの態様において炭化
水素を含むガス流の熱分解のために用いられる炉内の分
解管上の、および炉から流れる流出物を冷却するために
用いられるすべての熱交換器内のカーボンの生成を減少
させる方法に関する。他の一つの態様において本発明は
そのような分解管の壁上の、およびそのような熱交換器
内のカーボンの生成速度を減少させるために役立つ特別
の防汚剤に関する。
熱分解方法に関する。本発明は一つの態様において炭化
水素を含むガス流の熱分解のために用いられる炉内の分
解管上の、および炉から流れる流出物を冷却するために
用いられるすべての熱交換器内のカーボンの生成を減少
させる方法に関する。他の一つの態様において本発明は
そのような分解管の壁上の、およびそのような熱交換器
内のカーボンの生成速度を減少させるために役立つ特別
の防汚剤に関する。
【0002】
【従来の技術】分解炉は、例えばエタンおよび/または
プロパンおよび/またはナフサからエチレンおよびその
他の価値ある炭化水素生成物の製造のように、多くの化
学品製造プロセスの心臓部を形成する。水蒸気のような
希釈流体が通例として炭化水素原料と共に組合わされて
分解炉に供給される。炉の内部で、既に希釈流体と混合
された原料の流れは、主として水素、メタン、エチレ
ン、プロピレン、ブタジェン、および少量のより重質の
ガスを含む混合ガスに変換される。炉の出口においてこ
の混合物は前記の重質ガスの大部分を除くように冷却さ
れてから、次に圧縮される。圧縮された混合物はいろい
ろな蒸留塔を通過して送られ、そこでエチレンのような
個々の成分が精製されかつ分離される。「コークス」と
呼ばれる半精製カーボンが分解炉において炉内分解作業
の結果として形成される。コークスは分解炉から流出す
るガス状製品の混合物を冷却するために用いられる熱交
換器内においても形成される。コークス生成は気相内の
均一熱反応(熱コークス化)および気相内の炭化水素と
分解管または熱交換器の壁の金属との間の不均一接触反
応(接触コークス化)の組合せから一般に結果として起
る。
プロパンおよび/またはナフサからエチレンおよびその
他の価値ある炭化水素生成物の製造のように、多くの化
学品製造プロセスの心臓部を形成する。水蒸気のような
希釈流体が通例として炭化水素原料と共に組合わされて
分解炉に供給される。炉の内部で、既に希釈流体と混合
された原料の流れは、主として水素、メタン、エチレ
ン、プロピレン、ブタジェン、および少量のより重質の
ガスを含む混合ガスに変換される。炉の出口においてこ
の混合物は前記の重質ガスの大部分を除くように冷却さ
れてから、次に圧縮される。圧縮された混合物はいろい
ろな蒸留塔を通過して送られ、そこでエチレンのような
個々の成分が精製されかつ分離される。「コークス」と
呼ばれる半精製カーボンが分解炉において炉内分解作業
の結果として形成される。コークスは分解炉から流出す
るガス状製品の混合物を冷却するために用いられる熱交
換器内においても形成される。コークス生成は気相内の
均一熱反応(熱コークス化)および気相内の炭化水素と
分解管または熱交換器の壁の金属との間の不均一接触反
応(接触コークス化)の組合せから一般に結果として起
る。
【0003】コークスは一般に、炭化水素を含む供給原
料の流れと接触する分解管の金属表面上で、および分解
炉からのガス状流出物と接触する熱交換器の金属表面上
で生成するもの言われている。しかし、コークスは高い
温度で炭化水素と接触する連結導管およびその他の金属
表面の上でもまた生成することがある。したがって、
「金属」なる語は以下において、炭化水素に暴露される
およびコークス析出の対象となる、分解プロセスにおけ
るすべての金属を称するために用いられるであろう。
料の流れと接触する分解管の金属表面上で、および分解
炉からのガス状流出物と接触する熱交換器の金属表面上
で生成するもの言われている。しかし、コークスは高い
温度で炭化水素と接触する連結導管およびその他の金属
表面の上でもまた生成することがある。したがって、
「金属」なる語は以下において、炭化水素に暴露される
およびコークス析出の対象となる、分解プロセスにおけ
るすべての金属を称するために用いられるであろう。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】分解炉の通常の操作手
順は定期的に炉を閉鎖してコークス析出物を焼却するこ
とである。この休止期間は結果として生産の実質的損失
をもたらす。それ故、コークスが析出するに従って、分
解ゾーンにおけガス温度を所望の水準に維持するために
より高い炉の温度が要求される。そのような高温は燃料
消費を増加させ、そして結局管の寿命を短かくすること
になる。
順は定期的に炉を閉鎖してコークス析出物を焼却するこ
とである。この休止期間は結果として生産の実質的損失
をもたらす。それ故、コークスが析出するに従って、分
解ゾーンにおけガス温度を所望の水準に維持するために
より高い炉の温度が要求される。そのような高温は燃料
消費を増加させ、そして結局管の寿命を短かくすること
になる。
【0005】カーボン生成に伴う他の一つの問題は二つ
の仕方で起る金属の侵食である。第一に、接触コークス
化の場合に金属触媒の粒子が表面から除去されるか移動
されて、コークスの中に持ち込まれる。この現象は結果
として急速な金属の損失をもたらし、そして結局金属の
破損を生じる。第二の型の侵食は管壁から追い出されて
ガス流に入る炭素粒子によって引き起される。これらの
粒子の摩滅作用は特に炉管の返しベンドで特にはげしく
なり得る。
の仕方で起る金属の侵食である。第一に、接触コークス
化の場合に金属触媒の粒子が表面から除去されるか移動
されて、コークスの中に持ち込まれる。この現象は結果
として急速な金属の損失をもたらし、そして結局金属の
破損を生じる。第二の型の侵食は管壁から追い出されて
ガス流に入る炭素粒子によって引き起される。これらの
粒子の摩滅作用は特に炉管の返しベンドで特にはげしく
なり得る。
【0006】コークス形成の他の一つの効果は、炉管の
合金(一般に微量成分としてクロムを固溶体として含む
鋼)にコークスが入るときに起る。その時炭素は合金中
のクロムと反応して炭化クロムを生成する。この炭化と
して知られている現象は前記の合金にその本来の耐酸化
性を失わさせるので、それにより化学的侵食を受け易く
なる。管の機械的特性もまた不利な影響を受ける。炭化
はまた合金中の鉄とニッケルについても起ることがあ
る。
合金(一般に微量成分としてクロムを固溶体として含む
鋼)にコークスが入るときに起る。その時炭素は合金中
のクロムと反応して炭化クロムを生成する。この炭化と
して知られている現象は前記の合金にその本来の耐酸化
性を失わさせるので、それにより化学的侵食を受け易く
なる。管の機械的特性もまた不利な影響を受ける。炭化
はまた合金中の鉄とニッケルについても起ることがあ
る。
【0007】特許文献、例えば米国特許第4,404,
087号、第4,507,196号、第4,545,8
93号、第4,551,227号、第4,552,64
3号、第4,687,567号および第4,692,2
34号、にいろいろな防汚剤が記載されているが、いろ
いろな利点を示すことができかつ既知の防汚剤よりもさ
らに環境的に許容されることのできる他の代りの防汚剤
系を開発する要求が常に存在している。
087号、第4,507,196号、第4,545,8
93号、第4,551,227号、第4,552,64
3号、第4,687,567号および第4,692,2
34号、にいろいろな防汚剤が記載されているが、いろ
いろな利点を示すことができかつ既知の防汚剤よりもさ
らに環境的に許容されることのできる他の代りの防汚剤
系を開発する要求が常に存在している。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、スズと
チタンの組合せおよびアンチモンとチタンの組合せから
成る群より選択される防汚剤が金属と、該金属を防汚剤
で前処理することにより、分解炉に流入する炭化水素含
有の原料に防汚剤を添加することにより、あるいは両者
により接触させられる。好ましくは、防汚剤は適当な溶
媒に溶解される。防汚剤の使用は金属上のコークス生成
を実質上減少させ、そしてそのようなコークス生成の不
利な影響を軽減する。
チタンの組合せおよびアンチモンとチタンの組合せから
成る群より選択される防汚剤が金属と、該金属を防汚剤
で前処理することにより、分解炉に流入する炭化水素含
有の原料に防汚剤を添加することにより、あるいは両者
により接触させられる。好ましくは、防汚剤は適当な溶
媒に溶解される。防汚剤の使用は金属上のコークス生成
を実質上減少させ、そしてそのようなコークス生成の不
利な影響を軽減する。
【0009】また本発明によれば、チタンとスズの組合
せが提供される。さらにまた本発明により、チタンとア
ンチモンの組合せが提供される。
せが提供される。さらにまた本発明により、チタンとア
ンチモンの組合せが提供される。
【0010】本発明をエチレンの製造工程において使用
される分解炉により説明する。しかし、ここに述べられ
る本発明の適用可能範囲は、分解炉が原料をある所望の
成分に分解するために使用されかつその分解炉内の分解
管の壁上の、または分解プロセスに関係するその他の金
属表面上のコークス生成が問題となる他のプロセスにま
で広がる。
される分解炉により説明する。しかし、ここに述べられ
る本発明の適用可能範囲は、分解炉が原料をある所望の
成分に分解するために使用されかつその分解炉内の分解
管の壁上の、または分解プロセスに関係するその他の金
属表面上のコークス生成が問題となる他のプロセスにま
で広がる。
【0011】すべての適当な形のチタンはチタンとスズ
の組合せ防汚剤において、およびチタンとアンチモンの
組合せ防汚剤において使用されることができる。元素の
チタン、無機チタン化合物および有機チタン化合物、並
びにそれらのいずれか2種以上の混合物は適当なチタン
源である。用語「チタン」は一般にこれらのチタン源の
いずれをも意味する。
の組合せ防汚剤において、およびチタンとアンチモンの
組合せ防汚剤において使用されることができる。元素の
チタン、無機チタン化合物および有機チタン化合物、並
びにそれらのいずれか2種以上の混合物は適当なチタン
源である。用語「チタン」は一般にこれらのチタン源の
いずれをも意味する。
【0012】本発明の防汚剤を提供するためスズまたは
アンチモンと組合せて用いることのできる無機チタン化
合物の非限定的な例は、三フッ化チタン、四フッ化チタ
ン、ヘキサフルオロチタン(III)酸ナトリウム、ヘ
キサフルオロチタン(IV)酸アンモニウム、三塩化チ
タン、四塩化チタン、塩化チタニル、ヘキサアミン四塩
化チタン、三臭化チタン、四臭化チタン、硫酸チタン
(III)、硫酸チタン(IV)、硫酸 チタニル、硫
酸アンモニウムチタン(III)、二酸化チタンなどで
ある。ハロゲン を含むチタン化合物は比較的好まれな
い。
アンチモンと組合せて用いることのできる無機チタン化
合物の非限定的な例は、三フッ化チタン、四フッ化チタ
ン、ヘキサフルオロチタン(III)酸ナトリウム、ヘ
キサフルオロチタン(IV)酸アンモニウム、三塩化チ
タン、四塩化チタン、塩化チタニル、ヘキサアミン四塩
化チタン、三臭化チタン、四臭化チタン、硫酸チタン
(III)、硫酸チタン(IV)、硫酸 チタニル、硫
酸アンモニウムチタン(III)、二酸化チタンなどで
ある。ハロゲン を含むチタン化合物は比較的好まれな
い。
【0013】使用できる有機チタン化合物の非限定的な
例は、チタンのヒドロカルボキシド、Ti(OR)4で
あり、前式中の各Rは好ましくは1〜8の炭素原子を含
むアルキル、シクロアルキルおよびアリールの各基から
成る群よりそれぞれ選択され、例えば、チタンメトキシ
ド、チタンエトキシド、チタンn−プロポキシド、チタ
ンイソプロポキシド、チタンn−ブトキシド、チタンイ
ソブトキシド、チタンsec−ブトキシド、チタンte
rt−ブトキシド、チタンn−ペントキシド、チタンフ
ェノキシドなどである。その他の適当なチタンの有機化
合物は、ジフェニルチタン、フェニルチタントリイソプ
ロポキシド、フェニルシクロペンタジエニルチタン、ジ
フェニルジシクロペンタジエニルチタンなど、チタンオ
キシドビス(2,4−ペンタジオナート)、チタンジイ
ソプロポキシドビス(2,4−ペンタジオナート)など
を含む。有機チタン化合物の無機化合物より以上に好ま
れる。現在、チタンn−ブトキシドが最も好まれてい
る。
例は、チタンのヒドロカルボキシド、Ti(OR)4で
あり、前式中の各Rは好ましくは1〜8の炭素原子を含
むアルキル、シクロアルキルおよびアリールの各基から
成る群よりそれぞれ選択され、例えば、チタンメトキシ
ド、チタンエトキシド、チタンn−プロポキシド、チタ
ンイソプロポキシド、チタンn−ブトキシド、チタンイ
ソブトキシド、チタンsec−ブトキシド、チタンte
rt−ブトキシド、チタンn−ペントキシド、チタンフ
ェノキシドなどである。その他の適当なチタンの有機化
合物は、ジフェニルチタン、フェニルチタントリイソプ
ロポキシド、フェニルシクロペンタジエニルチタン、ジ
フェニルジシクロペンタジエニルチタンなど、チタンオ
キシドビス(2,4−ペンタジオナート)、チタンジイ
ソプロポキシドビス(2,4−ペンタジオナート)など
を含む。有機チタン化合物の無機化合物より以上に好ま
れる。現在、チタンn−ブトキシドが最も好まれてい
る。
【0014】すべての適当な形のアンチモンはチタンと
アンチモンの組合せ防汚剤に使用されることができる。
元素のアンチモン、無機アンチモン化合物および有機ア
ンチモン化合物、並びにそれらいずれか2種以上の混合
物は適当なアンチモン源である。用語「アンチモン」は
一般にこれらのアンチモン源のいずれをも意味する。
アンチモンの組合せ防汚剤に使用されることができる。
元素のアンチモン、無機アンチモン化合物および有機ア
ンチモン化合物、並びにそれらいずれか2種以上の混合
物は適当なアンチモン源である。用語「アンチモン」は
一般にこれらのアンチモン源のいずれをも意味する。
【0015】使用できる若干の無機アンチモン化合物の
例に含まれるものは、アンチモン酸化物(例えば、三酸
化アンチモン、四酸化アンチモン、五酸化アンチモ
ン)、アンチモン硫化物(例えば、三硫化アンチモンお
よび五硫化アンチモン)、アンチモン硫酸塩(例えば、
三硫酸アンチモン)、アンチモン酸(例えば、メタアン
チモン酸、オルトアンチモン酸およびピロアンチモン
酸)、アンチモンハロゲン化物(例えば、三フッ化アン
チモン、三塩化アンチモン、三臭化アンチモン、三ヨウ
化アンチモン、五フッ化アンチモンおよび五塩化アンチ
モン)、アンチモニルハロゲン化物(例えば、塩化アン
チモニルおよび三塩化アンチモニル)である。無機アン
チモン化合物の中で、ハロゲンを含まないものが特に好
まれる。
例に含まれるものは、アンチモン酸化物(例えば、三酸
化アンチモン、四酸化アンチモン、五酸化アンチモ
ン)、アンチモン硫化物(例えば、三硫化アンチモンお
よび五硫化アンチモン)、アンチモン硫酸塩(例えば、
三硫酸アンチモン)、アンチモン酸(例えば、メタアン
チモン酸、オルトアンチモン酸およびピロアンチモン
酸)、アンチモンハロゲン化物(例えば、三フッ化アン
チモン、三塩化アンチモン、三臭化アンチモン、三ヨウ
化アンチモン、五フッ化アンチモンおよび五塩化アンチ
モン)、アンチモニルハロゲン化物(例えば、塩化アン
チモニルおよび三塩化アンチモニル)である。無機アン
チモン化合物の中で、ハロゲンを含まないものが特に好
まれる。
【0016】使用できる若干の有機アンチモン化合物の
例に含まれるものは、アンモンカルボン酸塩(例えば、
三ギ酸アンチモン、三酢酸アンチモン、トリオクタン酸
アンチモン、トリドデカン酸アンチモン、トリオクタド
デカン酸アンチモン、トリ安息香酸アンチモン、および
トリシクロヘキサン酸アンチモン)、アンチモンチオカ
ルボン酸塩(例えば、アンチモントリス(チオアセター
ト)、アンチモントリス(ジチオアセタート)およびア
ンチモントリス(ジチオペンタノアート))、アンチモ
ンチオカルボナート(例えば、アンチモントリス(O−
プロピルジチオカルボナート))、アンチモンカルボナ
ート(例えば、アンチモントリス(エチルカルボナー
ト))、トリヒドロカルビルアンチモン化合物(例え
ば、トリフェニルアンチモン)、トリヒドロカルビルア
ンチモンオキシド(例えば、トリフェニルアンチモンオ
キシド)、フェノール化合物のアンチモン塩(例えば、
アンチモントリフェノキシド)、チオフェノール化合物
のアンチモン塩(例えば、アンチモントリス(チオフェ
ノキシド))、アンチモンスルホン酸塩(例えば、アン
チモントリス(ベンゼンスルホナート)およびアンチモ
ントリス(p−トルエンスルホナート))、アンチモン
カルバミン酸塩(例えば、アンチモントリス(ジエチル
カルバマート))、アンチモンチオカルバミン酸塩〔例
えば、アンチモントリス(ジプロピルジチオカルバマー
ト)、アンチモントリス(フェニルジチオカルバマー
ト)およびアンチモントリス(ブチルチオカルバマー
ト)〕、アンチモン亜リン酸塩〔例えば、アンチモント
リス(ジフェニルホスフィート)〕、アンチモンリン酸
塩〔例えば、アンチモントリス(ジプロピル)ホスファ
ート)、アンチモンチオリン酸塩(例えば、アンチモン
トリス(O,O−ジプロピルチオホスファート)および
アンチモントリス(O,O−ジプロピルチオホスファー
ト)〕などである。アンチモンの有機化合物はアンチモ
ンの無機化合物より以上に好まれる。現在、2−エチル
ヘキサン酸アンチモンが最も好まれている。
例に含まれるものは、アンモンカルボン酸塩(例えば、
三ギ酸アンチモン、三酢酸アンチモン、トリオクタン酸
アンチモン、トリドデカン酸アンチモン、トリオクタド
デカン酸アンチモン、トリ安息香酸アンチモン、および
トリシクロヘキサン酸アンチモン)、アンチモンチオカ
ルボン酸塩(例えば、アンチモントリス(チオアセター
ト)、アンチモントリス(ジチオアセタート)およびア
ンチモントリス(ジチオペンタノアート))、アンチモ
ンチオカルボナート(例えば、アンチモントリス(O−
プロピルジチオカルボナート))、アンチモンカルボナ
ート(例えば、アンチモントリス(エチルカルボナー
ト))、トリヒドロカルビルアンチモン化合物(例え
ば、トリフェニルアンチモン)、トリヒドロカルビルア
ンチモンオキシド(例えば、トリフェニルアンチモンオ
キシド)、フェノール化合物のアンチモン塩(例えば、
アンチモントリフェノキシド)、チオフェノール化合物
のアンチモン塩(例えば、アンチモントリス(チオフェ
ノキシド))、アンチモンスルホン酸塩(例えば、アン
チモントリス(ベンゼンスルホナート)およびアンチモ
ントリス(p−トルエンスルホナート))、アンチモン
カルバミン酸塩(例えば、アンチモントリス(ジエチル
カルバマート))、アンチモンチオカルバミン酸塩〔例
えば、アンチモントリス(ジプロピルジチオカルバマー
ト)、アンチモントリス(フェニルジチオカルバマー
ト)およびアンチモントリス(ブチルチオカルバマー
ト)〕、アンチモン亜リン酸塩〔例えば、アンチモント
リス(ジフェニルホスフィート)〕、アンチモンリン酸
塩〔例えば、アンチモントリス(ジプロピル)ホスファ
ート)、アンチモンチオリン酸塩(例えば、アンチモン
トリス(O,O−ジプロピルチオホスファート)および
アンチモントリス(O,O−ジプロピルチオホスファー
ト)〕などである。アンチモンの有機化合物はアンチモ
ンの無機化合物より以上に好まれる。現在、2−エチル
ヘキサン酸アンチモンが最も好まれている。
【0017】すべての適当な形のスズはチタンとスズの
組合せ防汚剤に使用されることができる。元素のスズ、
無機スズ化合物および有機スズ化合物、並びにそれらい
ずれか2種以上の混合物は適当なスズ源である。用語
「スズ」は一般にこれらのスズ源のいずれをも意味す
る。
組合せ防汚剤に使用されることができる。元素のスズ、
無機スズ化合物および有機スズ化合物、並びにそれらい
ずれか2種以上の混合物は適当なスズ源である。用語
「スズ」は一般にこれらのスズ源のいずれをも意味す
る。
【0018】使用できる若干の無機スズ化合物の例に含
まれるものは、スズ酸化物(例えば、酸化第一スズおよ
び酸化第二スズ)、スズ硫化物(例えば、硫化第一スズ
および硫化第二スズ)、スズ硫酸塩(例えば、硫酸第一
スズおよび硫酸第二スズ)スズ酸(例えば、メタスズ酸
およびチオスズ酸)、スズハロゲン化物(例えば、フッ
化第一スズ、塩化第一スズ、臭化第一スズ、ヨウ化第一
スズ、フッ化第二スズ、塩化第二スズ、臭化第二スズお
よびヨウ化第二スズ)、スズリン酸塩(例えば、リン酸
第二スズ)、スズオキシハロゲン化物(例えば、オキシ
塩化第一スズおよびオキシ塩化第二スズ)などである。
無機スズ化合物の中で、ハロゲンを含まないものがスズ
源として特に好まれる。
まれるものは、スズ酸化物(例えば、酸化第一スズおよ
び酸化第二スズ)、スズ硫化物(例えば、硫化第一スズ
および硫化第二スズ)、スズ硫酸塩(例えば、硫酸第一
スズおよび硫酸第二スズ)スズ酸(例えば、メタスズ酸
およびチオスズ酸)、スズハロゲン化物(例えば、フッ
化第一スズ、塩化第一スズ、臭化第一スズ、ヨウ化第一
スズ、フッ化第二スズ、塩化第二スズ、臭化第二スズお
よびヨウ化第二スズ)、スズリン酸塩(例えば、リン酸
第二スズ)、スズオキシハロゲン化物(例えば、オキシ
塩化第一スズおよびオキシ塩化第二スズ)などである。
無機スズ化合物の中で、ハロゲンを含まないものがスズ
源として特に好まれる。
【0019】使用できる若干の有機スズ化合物の例に含
まれるものは、スズカルボン酸塩(例えば、ギ酸第一ス
ズ、酢酸第一スズ、酪酸第一スズ、オクタン酸第一ス
ズ、デカン酸第一スズ、安息香酸第一スズ、およびシク
ロヘキサン酸第一スズ)、スズチオカルボン酸塩(例え
ば、チオ酢酸第一スズおよびジチオ酢酸第一スズ)、ジ
ヒドロカルビルスズビス(ヒドロカルビルメルカプトア
ルカノアート)〔例えば、ジブチルスズビス(イソオク
チルメルカプトアセタート)およびジプロピルスズピス
(ブチルメルカプトアセタート)〕、スズチオカルボバ
ナート(例えば、スズ(II)O−エチルジチオカルボ
ナート)、スズカルボナート(例えば、スズ(II)プ
ロピルカルボナート)、テトラヒドロカルビルスズ化合
物(例えば、テトラブチルスズ、テトラオクチルスズ、
テトラドデシルスズ、およびテトラフェニルスズ)、ジ
ヒドロカルビルスズオキシド(例えば、ジプロピルスズ
オキシド、ジブチルスズオキシド、ブチルスズ(II)
酸、ジオクチルスズオキシド、およびジフェニルスズオ
キシド)、ジヒドロカルビルスズビス(ヒドロカルビル
メルカプチド)〔例えば、ジブチルスズビス(ドデシル
メルカプチド)〕、フェノールまたはチオフェノール化
合物のスズ塩(例えば、スズ(II)フェノキシドおよ
びスズ(II)チオフェノキシド)、スズスルホン酸塩
(例えば、スズ(II)ベンゼンスルホナートおよびス
ズ(II)p−トルエンスルホナート)、スズカルバミ
ン酸塩(例えば、スズ(II)ジエチルカルバマー
ト)、スズチオカルバミン酸塩(例えば、スズ(II)
プロピルチオカルバマートおよびスズ(II)ジエチル
チオカルバマート)、スズ 亜リン酸塩(例えば、スズ
(II)ジフェニルホスフィート)、スズリン酸塩(例
え ば、スズ(II)ジプロピルホスファート)、スズ
チオリン酸塩(例えば、スズ(II)O,O−ジプロピ
ルチオホスファート)、スズ(II)O,O−ジプロピ
ルジチオホスファート)、ジヒドロカルビルスズビス
(O,O−ジヒドロカルビルチオホスファート)〔例え
ば、ジブチルスズビス(O,O−ジプロピルジチオホス
ファート)〕などである。再び、アンチモンと同様に、
有機スズ化合物は無機スズ化合物より以上に好まれる。
現在、2−エチルヘキサン酸第一スズおよびテトラブチ
ルスズが最も好まれている。
まれるものは、スズカルボン酸塩(例えば、ギ酸第一ス
ズ、酢酸第一スズ、酪酸第一スズ、オクタン酸第一ス
ズ、デカン酸第一スズ、安息香酸第一スズ、およびシク
ロヘキサン酸第一スズ)、スズチオカルボン酸塩(例え
ば、チオ酢酸第一スズおよびジチオ酢酸第一スズ)、ジ
ヒドロカルビルスズビス(ヒドロカルビルメルカプトア
ルカノアート)〔例えば、ジブチルスズビス(イソオク
チルメルカプトアセタート)およびジプロピルスズピス
(ブチルメルカプトアセタート)〕、スズチオカルボバ
ナート(例えば、スズ(II)O−エチルジチオカルボ
ナート)、スズカルボナート(例えば、スズ(II)プ
ロピルカルボナート)、テトラヒドロカルビルスズ化合
物(例えば、テトラブチルスズ、テトラオクチルスズ、
テトラドデシルスズ、およびテトラフェニルスズ)、ジ
ヒドロカルビルスズオキシド(例えば、ジプロピルスズ
オキシド、ジブチルスズオキシド、ブチルスズ(II)
酸、ジオクチルスズオキシド、およびジフェニルスズオ
キシド)、ジヒドロカルビルスズビス(ヒドロカルビル
メルカプチド)〔例えば、ジブチルスズビス(ドデシル
メルカプチド)〕、フェノールまたはチオフェノール化
合物のスズ塩(例えば、スズ(II)フェノキシドおよ
びスズ(II)チオフェノキシド)、スズスルホン酸塩
(例えば、スズ(II)ベンゼンスルホナートおよびス
ズ(II)p−トルエンスルホナート)、スズカルバミ
ン酸塩(例えば、スズ(II)ジエチルカルバマー
ト)、スズチオカルバミン酸塩(例えば、スズ(II)
プロピルチオカルバマートおよびスズ(II)ジエチル
チオカルバマート)、スズ 亜リン酸塩(例えば、スズ
(II)ジフェニルホスフィート)、スズリン酸塩(例
え ば、スズ(II)ジプロピルホスファート)、スズ
チオリン酸塩(例えば、スズ(II)O,O−ジプロピ
ルチオホスファート)、スズ(II)O,O−ジプロピ
ルジチオホスファート)、ジヒドロカルビルスズビス
(O,O−ジヒドロカルビルチオホスファート)〔例え
ば、ジブチルスズビス(O,O−ジプロピルジチオホス
ファート)〕などである。再び、アンチモンと同様に、
有機スズ化合物は無機スズ化合物より以上に好まれる。
現在、2−エチルヘキサン酸第一スズおよびテトラブチ
ルスズが最も好まれている。
【0020】上に列挙されたスズ源はいずれも前に挙げ
たチタン源のいずれかと組合わされてスズとチタンの配
合物を作ることができる。同様に、列挙されたアンチモ
ン源はいずれも前に挙げたチタン源のいずれかと組合わ
されてアンチモンとチタンの配合防汚剤を作ることがで
きる。
たチタン源のいずれかと組合わされてスズとチタンの配
合物を作ることができる。同様に、列挙されたアンチモ
ン源はいずれも前に挙げたチタン源のいずれかと組合わ
されてアンチモンとチタンの配合防汚剤を作ることがで
きる。
【0021】チタンとアンチモンの組合せ防汚剤におい
て、アンチモンのある適当な濃度が用いられる。約10
モル%より約90モル%までの範囲内のアンチモン濃度
が、チタンとアンチモンの組合せ防汚剤が(図3に示さ
れるように)最大のコークス減少効果を与えるため現在
特に好まれる。同様に、チタンとスズの組合せ防汚剤に
おいて、スズのある適当な濃度が用いられる。約10モ
ル%より約90モル%までの範囲内のスズ濃度が、チタ
ンとスズの組合せ防汚剤が(図2に示されるように)コ
ークス減少効果を最大ならしめるために現在特に好まれ
ている。
て、アンチモンのある適当な濃度が用いられる。約10
モル%より約90モル%までの範囲内のアンチモン濃度
が、チタンとアンチモンの組合せ防汚剤が(図3に示さ
れるように)最大のコークス減少効果を与えるため現在
特に好まれる。同様に、チタンとスズの組合せ防汚剤に
おいて、スズのある適当な濃度が用いられる。約10モ
ル%より約90モル%までの範囲内のスズ濃度が、チタ
ンとスズの組合せ防汚剤が(図2に示されるように)コ
ークス減少効果を最大ならしめるために現在特に好まれ
ている。
【0022】一般に本発明の防汚剤は、すべて高温の鋼
鉄上におけるコークスの蓄積を減少させる効果がある。
分解管に一般に使用される鋼鉄の非限定的例はInco
nel 600、Incoloy 800、HK−4
0、およびタイプ304ステンレス鋼である。これらの
鋼鉄の重量%での組成が表1に記載されている。
鉄上におけるコークスの蓄積を減少させる効果がある。
分解管に一般に使用される鋼鉄の非限定的例はInco
nel 600、Incoloy 800、HK−4
0、およびタイプ304ステンレス鋼である。これらの
鋼鉄の重量%での組成が表1に記載されている。
【0023】
【表1】
【0024】本発明の防汚剤は金属と、該金属を防汚剤
で前処理することにより、炭化水素を含む原料に防汚剤
を添加することにより、あるいは好ましくは前記両者共
に行うことにより接触させることができる。
で前処理することにより、炭化水素を含む原料に防汚剤
を添加することにより、あるいは好ましくは前記両者共
に行うことにより接触させることができる。
【0025】もし金属が前処理されることになるなら
ば、特に好ましい前処理方法は、炭化水素を含まないガ
スが該金属と接触している間に、その金属を防汚剤の溶
液(コロイド状であってもよい)と接触させることであ
る。分解管は防汚剤液に浸されることが好ましい。防汚
剤はある適当な長さの時間に分解管の表面と接触して留
まることを許される。少なくとも1分間の時間は分解管
の表面全体が処理されてしまうことを保証するために望
ましい。接触時間は商業的操業において一般に約10分
またはそれ以上である。しかし、より長い時間をかける
ことは、作業者に分解管が処理されたことを十分に確信
させる効果以外に何ら実質的利益があるとは信じられな
い。
ば、特に好ましい前処理方法は、炭化水素を含まないガ
スが該金属と接触している間に、その金属を防汚剤の溶
液(コロイド状であってもよい)と接触させることであ
る。分解管は防汚剤液に浸されることが好ましい。防汚
剤はある適当な長さの時間に分解管の表面と接触して留
まることを許される。少なくとも1分間の時間は分解管
の表面全体が処理されてしまうことを保証するために望
ましい。接触時間は商業的操業において一般に約10分
またはそれ以上である。しかし、より長い時間をかける
ことは、作業者に分解管が処理されたことを十分に確信
させる効果以外に何ら実質的利益があるとは信じられな
い。
【0026】分解管以外の処理されるべき金属の上に防
汚剤液を吹きつけるかまたははけ塗りすることが大抵の
場合に必要であるが、しかしその装置が浸漬されること
が可能な場合には、浸漬を適用することができる。
汚剤液を吹きつけるかまたははけ塗りすることが大抵の
場合に必要であるが、しかしその装置が浸漬されること
が可能な場合には、浸漬を適用することができる。
【0027】防汚剤の溶液(コロイド状であってもよ
い)を調製するためにいずれか適当な溶媒を使用するこ
とができる。適当な溶媒の例をあげれば、水、酸素を含
む有機液体(例えば、アルコール、ケトンおよびエステ
ル)、および液状の脂肪族、脂環族および芳香族の炭化
水素並びにそれらの誘導体である。現在特に好ましい溶
媒はn−ヘキサンおよびトルエンであるが、商業的操業
において代表的に使用されている溶媒といえばケロシン
である。
い)を調製するためにいずれか適当な溶媒を使用するこ
とができる。適当な溶媒の例をあげれば、水、酸素を含
む有機液体(例えば、アルコール、ケトンおよびエステ
ル)、および液状の脂肪族、脂環族および芳香族の炭化
水素並びにそれらの誘導体である。現在特に好ましい溶
媒はn−ヘキサンおよびトルエンであるが、商業的操業
において代表的に使用されている溶媒といえばケロシン
である。
【0028】ある適当な濃度の防汚剤が溶液中で使用さ
れる。少なくとも0.5モーラーの濃度を用いることが
望ましく、また濃度は金属学的および経済的配慮により
制限されている濃度の効果に応じて1モーラーまたはそ
れ以上であってもよい。現在好まれる溶液中の防汚剤濃
度は約0.3モーラーより約0.6モーラーまでの範囲
内である。
れる。少なくとも0.5モーラーの濃度を用いることが
望ましく、また濃度は金属学的および経済的配慮により
制限されている濃度の効果に応じて1モーラーまたはそ
れ以上であってもよい。現在好まれる溶液中の防汚剤濃
度は約0.3モーラーより約0.6モーラーまでの範囲
内である。
【0029】防汚剤液はまた分解管の表面に、その表面
が近づき易いならば吹きつけまたははけ塗りにより塗布
することができるが、しかしこのようにして塗布すると
コークス析出に対する保護の点で浸漬に劣ることが判明
した。分解管はまた防汚剤の微粉末と共に処理されるか
または蒸着により処理されることもできるが、しかしこ
れらの方法は現在比較的好まれていない。
が近づき易いならば吹きつけまたははけ塗りにより塗布
することができるが、しかしこのようにして塗布すると
コークス析出に対する保護の点で浸漬に劣ることが判明
した。分解管はまた防汚剤の微粉末と共に処理されるか
または蒸着により処理されることもできるが、しかしこ
れらの方法は現在比較的好まれていない。
【0030】防汚剤による金属の前処理に加えて、ある
いは金属を防汚剤と接触させる他の代りの方法として、
ある適当な濃度の防汚剤が炭化水素原料の流れに、また
は分解炉に入る前に炭化水素原料の流れに混合される希
釈剤の流れ(例えば、水蒸気)に、あるいは分解炉に入
る前に炭化水素原料と希釈剤(例えば、水蒸気)の混合
物に添加されてもよい。一般に、原料の流れの中の炭化
水素部分の重量に基づき、防汚剤中に含まれる金属の重
量により少なくとも5ppmの、炭化水素を含む原料の
流れ(すなわち、炭化水素原料の流れまたは炭化水素原
料と希釈剤の混合物)中の防汚剤濃度が用いられる。現
在特に好まれる、原料の流れ中の防汚剤金属の濃度は、
原料の流れの炭化水素部分の重量に基づき約10ppm
より約100ppmまでの範囲内にある。より高い濃度
の防汚剤を原料の流れに添加してもよいが、防汚剤の効
果は実質的に増加せず、また経済的配慮が一般により高
い濃度の使用を排除する。
いは金属を防汚剤と接触させる他の代りの方法として、
ある適当な濃度の防汚剤が炭化水素原料の流れに、また
は分解炉に入る前に炭化水素原料の流れに混合される希
釈剤の流れ(例えば、水蒸気)に、あるいは分解炉に入
る前に炭化水素原料と希釈剤(例えば、水蒸気)の混合
物に添加されてもよい。一般に、原料の流れの中の炭化
水素部分の重量に基づき、防汚剤中に含まれる金属の重
量により少なくとも5ppmの、炭化水素を含む原料の
流れ(すなわち、炭化水素原料の流れまたは炭化水素原
料と希釈剤の混合物)中の防汚剤濃度が用いられる。現
在特に好まれる、原料の流れ中の防汚剤金属の濃度は、
原料の流れの炭化水素部分の重量に基づき約10ppm
より約100ppmまでの範囲内にある。より高い濃度
の防汚剤を原料の流れに添加してもよいが、防汚剤の効
果は実質的に増加せず、また経済的配慮が一般により高
い濃度の使用を排除する。
【0031】防汚剤はある適当な方法で原料の流れに添
加される。好ましくは、防汚剤の添加は、防汚剤が高度
に分散されるような条件の下でなされる。好ましくは、
防汚剤は溶液(コロイド状であってもよい)の中に、該
溶液を微粒子に分散させるため圧力下にオリフィスを通
過して注入される。前に論じられた溶媒がその溶液を作
るため使用される。溶液中の防汚剤の濃度は、原料の流
れの中で所望の防汚剤濃度を与える如きものでなければ
ならない。
加される。好ましくは、防汚剤の添加は、防汚剤が高度
に分散されるような条件の下でなされる。好ましくは、
防汚剤は溶液(コロイド状であってもよい)の中に、該
溶液を微粒子に分散させるため圧力下にオリフィスを通
過して注入される。前に論じられた溶媒がその溶液を作
るため使用される。溶液中の防汚剤の濃度は、原料の流
れの中で所望の防汚剤濃度を与える如きものでなければ
ならない。
【0032】分解炉はある適当な温度と圧力において操
作される。軽炭化水素のエチレンへの水蒸気分解の工程
においては、分解管を通って流れる流体の温度は管を通
るその通過の間に増加して、分解炉の出口において約8
50℃の最高温度に到達するであろう。分解管の壁の温
度はさらに高くなり、そしてコークスの絶縁層が蓄積す
るに従って実質的にさらに高くなることがあり得る。約
2000℃の炉温度が採用されることもある。分解操作
の代表的圧力は通常分解管の出口で約5〜約20psi
の範囲内にあるであろう。
作される。軽炭化水素のエチレンへの水蒸気分解の工程
においては、分解管を通って流れる流体の温度は管を通
るその通過の間に増加して、分解炉の出口において約8
50℃の最高温度に到達するであろう。分解管の壁の温
度はさらに高くなり、そしてコークスの絶縁層が蓄積す
るに従って実質的にさらに高くなることがあり得る。約
2000℃の炉温度が採用されることもある。分解操作
の代表的圧力は通常分解管の出口で約5〜約20psi
の範囲内にあるであろう。
【0033】
【実施例】本発明をさらに説明する例について詳細に述
べる前に、使用される実験室試験装置を図1を参照して
説明しよう。図2には9mmの石英反応器11が例示さ
れている。石英反応器11の一部は電気炉12の内側に
位置している。金属の試片13は反応器11の内部に2
mmの石英棒14の上に支持されて反応器11を通るガ
ス流に対して最小の制限のみを与えるようになってい
る。炭化水素原料の流れ(エチレン)は導管16と17
の組合せを通って反応器11に供給される。空気(脱コ
ークスサイクルの間に使用されるときに)は導管18と
17の組合せを通って反応器11に供給される。
べる前に、使用される実験室試験装置を図1を参照して
説明しよう。図2には9mmの石英反応器11が例示さ
れている。石英反応器11の一部は電気炉12の内側に
位置している。金属の試片13は反応器11の内部に2
mmの石英棒14の上に支持されて反応器11を通るガ
ス流に対して最小の制限のみを与えるようになってい
る。炭化水素原料の流れ(エチレン)は導管16と17
の組合せを通って反応器11に供給される。空気(脱コ
ークスサイクルの間に使用されるときに)は導管18と
17の組合せを通って反応器11に供給される。
【0034】導管21を通って流れる窒素は加熱されて
いる飽和器22を通過させられから、導管24を通って
反応器11に供給される。水がタンク26から導管27
を通って飽和器22へ供給される。導管28は圧力の均
衡化のために使用される。
いる飽和器22を通過させられから、導管24を通って
反応器11に供給される。水がタンク26から導管27
を通って飽和器22へ供給される。導管28は圧力の均
衡化のために使用される。
【0035】水蒸気は飽和器22を通って流れる窒素キ
ャリヤーガスを飽和させることにより発生される。水蒸
気/窒素比は電気加熱の飽和器22の温度を調整するこ
とにより変えられる。反応流出物は反応器11から導管
31を通って引き出される。分析のため望まれるときは
反応流出物をガスクロマトグラフへ向けるための準備が
なされている。
ャリヤーガスを飽和させることにより発生される。水蒸
気/窒素比は電気加熱の飽和器22の温度を調整するこ
とにより変えられる。反応流出物は反応器11から導管
31を通って引き出される。分析のため望まれるときは
反応流出物をガスクロマトグラフへ向けるための準備が
なされている。
【0036】金属試片上へのコークス析出速度の測定に
おいて分解過程の間に生成する一酸化炭素の量は金属試
片上に析出するコークスの量に比例すると考えられた。
防汚剤の効力を評価するこの方法のための理論的根據
は、炭素−水蒸気反応により析出したコークスから一酸
化炭素が生成するという仮定であった。熱分解実験の終
了後に検査された金属試片は本質的に遊離の炭素をつけ
ていなかったので、このことはコークスが水蒸気により
ガス化されたという仮定を支持する。
おいて分解過程の間に生成する一酸化炭素の量は金属試
片上に析出するコークスの量に比例すると考えられた。
防汚剤の効力を評価するこの方法のための理論的根據
は、炭素−水蒸気反応により析出したコークスから一酸
化炭素が生成するという仮定であった。熱分解実験の終
了後に検査された金属試片は本質的に遊離の炭素をつけ
ていなかったので、このことはコークスが水蒸気により
ガス化されたという仮定を支持する。
【0037】一酸化炭素に変換されたエチレンの選択率
は方程式1に従って計算された。その際窒素は内部標準
として用いられた。
は方程式1に従って計算された。その際窒素は内部標準
として用いられた。
【0038】
【数1】
【0039】変換率は方程式2に従って計算された。
【数2】
【0040】全サイクルについてのCO水準は方程式3
に従って1サイクルの間になされた全分析値の加重平均
として計算された。
に従って1サイクルの間になされた全分析値の加重平均
として計算された。
【数3】 パーセント選択率は反応器から出る流出物中の一酸化炭
素の量に直接関係づけられる。
素の量に直接関係づけられる。
【0041】以下の例は本発明をさらに説明するために
提供されるものであり、本発明の範囲を不当に制限する
ものと考えられてはならない。
提供されるものであり、本発明の範囲を不当に制限する
ものと考えられてはならない。
【0042】例1 Incoloy800の試片、1′
×1/4″×1/16″、がこの例において使用され
た。被覆を施される前に各Incoloy800試片は
アセトンで洗浄された。次に各防汚剤が、最小4mlの
防汚剤/溶媒の溶液中に試片を1分間浸することにより
塗布された。それぞれの防汚剤につき一つの新しい試片
が使われた。その塗布に続いて次に空気中700℃にお
いて1分間の熱処理を行って防汚剤をその酸化物に分解
させかつ残留する溶媒を除いた。比較のために使われる
ブランク試片は、前記試片をアセトンで洗浄してから何
も塗布せずに空気中700℃に1分間熱処理をすること
により調製された。いろいろな被覆材料溶液の調製は次
のようにして行われた。(註、Mはモル/lを意味す
る。)
×1/4″×1/16″、がこの例において使用され
た。被覆を施される前に各Incoloy800試片は
アセトンで洗浄された。次に各防汚剤が、最小4mlの
防汚剤/溶媒の溶液中に試片を1分間浸することにより
塗布された。それぞれの防汚剤につき一つの新しい試片
が使われた。その塗布に続いて次に空気中700℃にお
いて1分間の熱処理を行って防汚剤をその酸化物に分解
させかつ残留する溶媒を除いた。比較のために使われる
ブランク試片は、前記試片をアセトンで洗浄してから何
も塗布せずに空気中700℃に1分間熱処理をすること
により調製された。いろいろな被覆材料溶液の調製は次
のようにして行われた。(註、Mはモル/lを意味す
る。)
【0043】0.5M Sn: 2.02gの2−エチ
ルヘキサン酸スズ、 Sn(C8H15O2)2、を十分量のn−ヘキサン中
に溶解させて10.0mlの溶液を作った。以下これを
溶液Aと呼ぶ。
ルヘキサン酸スズ、 Sn(C8H15O2)2、を十分量のn−ヘキサン中
に溶解させて10.0mlの溶液を作った。以下これを
溶液Aと呼ぶ。
【0044】0.5M Sb: 2.76gの2−エチ
ルヘキサン酸アンチモン Sb(C8H15O2)2、を十分量のn−ヘキサンと
混合して10.0mlの溶液を作った。以下これを溶液
Bと呼ぶ
ルヘキサン酸アンチモン Sb(C8H15O2)2、を十分量のn−ヘキサンと
混合して10.0mlの溶液を作った。以下これを溶液
Bと呼ぶ
【0045】0.5M Ti: 1.70gのチタンn
−ブトキシド、 Ti(OC4H9)4、を十分量のトルエン中に溶解さ
せて10.0mlの溶液を作った。以下これを溶液Cと
呼ぶ。
−ブトキシド、 Ti(OC4H9)4、を十分量のトルエン中に溶解さ
せて10.0mlの溶液を作った。以下これを溶液Cと
呼ぶ。
【0046】0.5M Sn−Ti: 1.01gの2
−エチルヘキサン酸スズおよび0.85gのチタンn−
ブトキシドを十分量のトルエン中に溶解させて10.0
mlのSn−Ti等モル溶液を作った。以下これを溶液
Dと呼ぶ
−エチルヘキサン酸スズおよび0.85gのチタンn−
ブトキシドを十分量のトルエン中に溶解させて10.0
mlのSn−Ti等モル溶液を作った。以下これを溶液
Dと呼ぶ
【0047】0.5M Sb−Ti: 1.37gの2
−エチルヘキサン酸アンチモンおよひ0.86gのチタ
ンn−ブトキシドを十分量のトルエン中に溶解させて1
0.0mlのSb−Ti等モル溶液を作った。以下これ
を溶液Eと呼ぶ。
−エチルヘキサン酸アンチモンおよひ0.86gのチタ
ンn−ブトキシドを十分量のトルエン中に溶解させて1
0.0mlのSb−Ti等モル溶液を作った。以下これ
を溶液Eと呼ぶ。
【0048】石英反応器の温度は、最高熱ゾーンが90
0°±5℃であるように維持された。反応器が反応温度
にある間に一つの試片を反応器の中に置いた。
0°±5℃であるように維持された。反応器が反応温度
にある間に一つの試片を反応器の中に置いた。
【0049】代表的な実験は20時間のコークス化サイ
クル(エチレン、窒素および水蒸気)から成り、それに
引き続いて5分間の窒素パージおよび50分間の脱コー
クス化サイクル(窒素、水蒸気および空気)が行われ
た。コークス化サイクルの間、73ml/分のエチレ
ン、145ml/分の窒素および73ml/分の水蒸気
から成るガス混合物が反応器を流下して通過した。定期
的に、反応流出物の採取試料をガスクロマトグラフで分
析した。水蒸気/炭化水素のモル比は1:1であった。
クル(エチレン、窒素および水蒸気)から成り、それに
引き続いて5分間の窒素パージおよび50分間の脱コー
クス化サイクル(窒素、水蒸気および空気)が行われ
た。コークス化サイクルの間、73ml/分のエチレ
ン、145ml/分の窒素および73ml/分の水蒸気
から成るガス混合物が反応器を流下して通過した。定期
的に、反応流出物の採取試料をガスクロマトグラフで分
析した。水蒸気/炭化水素のモル比は1:1であった。
【0050】表2は、試験溶液A−E(前記に説明され
た)の中に浸されたIncoloy800試片を用いた
実験の結果を要約している。
た)の中に浸されたIncoloy800試片を用いた
実験の結果を要約している。
【0051】
【表2】 表2の結果は明らかに、Sn−Ti二元配合物(溶液
D)およびSb−Ti二元配合物(溶液E)はそれぞれ
溶液A,BおよびC(それぞれスズのみ、アンチモンの
みおよびチタンのみを含む)よりもかなり有効であるこ
とを示している。
D)およびSb−Ti二元配合物(溶液E)はそれぞれ
溶液A,BおよびC(それぞれスズのみ、アンチモンの
みおよびチタンのみを含む)よりもかなり有効であるこ
とを示している。
【0052】例2 例1の操作条件を用いて、異なる比
のスズとチタンおよび異なる比のアンチモンとチタンを
含むいろいろな防汚剤を使用して複数の実験を行った。
各実験は、例1に述べたようにして予め洗浄および処理
をした新しいIncoloy800試片を使用した。防
汚剤は例1に述べたようにして調製されたが、ただし元
素の原子比はいろいろに変えられた。これらの試験の結
果は図2および3に示されている。
のスズとチタンおよび異なる比のアンチモンとチタンを
含むいろいろな防汚剤を使用して複数の実験を行った。
各実験は、例1に述べたようにして予め洗浄および処理
をした新しいIncoloy800試片を使用した。防
汚剤は例1に述べたようにして調製されたが、ただし元
素の原子比はいろいろに変えられた。これらの試験の結
果は図2および3に示されている。
【0053】図2について、スズとチタンの組合せは、
スズの濃度が約10モル%から約90モル%までの範囲
内にあるとき特に有効であることを見ることができる。
スズの濃度が約10モル%から約90モル%までの範囲
内にあるとき特に有効であることを見ることができる。
【0054】図3について、アンチモンとチタンの組合
せは、アンチモンの濃度が約10モル%から約90モル
%までの範囲内にあるとき特に有効であることを再び見
ることができる。
せは、アンチモンの濃度が約10モル%から約90モル
%までの範囲内にあるとき特に有効であることを再び見
ることができる。
【0055】正当な変更と改変は記載された発明および
添付された特許請求の範囲内で当業者により可能であ
る。
添付された特許請求の範囲内で当業者により可能であ
る。
【0056】
図1は防汚剤の効力を試験するために使用された試験装
置の線図である。
置の線図である。
【0057】図2はスズとチタンの組合せの防汚効果の
グラフ図である。
グラフ図である。
【0058】図3はアンチモンとチタンの組合せの防汚
効果のグラフ図である。
効果のグラフ図である。
Claims (15)
- 【請求項1】 熱分解プロセスにおいて炭化水素を含む
ガス流と接触する金属表面上のコークス生成を減少させ
る方法において、前記の金属表面をチタンとスズの組合
せまたはチタンとアンチモンの組合せである防汚剤と接
触させることから成り、前記のチタン、スズまたはアン
チモンはそれらの元素形で存在するかまたはそれらの有
機または無機の化合物として存在する前記の方法。 - 【請求項2】 金属表面がガス流と接触する前に、前記
ガス流の中に適当量の防汚剤を添加することにより前記
防汚剤を前記金属表面と接触させる請求項1に記載の方
法。 - 【請求項3】 ガス流中の防汚剤の重量による濃度が、
前記ガス流中の炭化水素の重量に基づき少なくとも5重
量ppmの防汚剤金属である請求項2に記載の方法。 - 【請求項4】 ガス流中の防汚剤の重量による濃度が、
前記ガス流中の炭化水素の重量に基づき約10〜100
重量ppmの防汚剤金属である請求項3に記載の方法。 - 【請求項5】 防汚剤をガス流に添加するに際して、前
記防汚剤の溶液を微粒子に分散させるように加圧下にオ
リフィスを通して前記溶液を注入することにより防汚剤
をガス流に添加する請求項2より4までのいずれか1項
に記載の方法。 - 【請求項6】 ガス流が金属表面と接触していない時
に、前記金属表面を防汚剤溶液と接触させる請求項1よ
り5までのいずれか1項に記載の方法。 - 【請求項7】 金属表面を防汚剤溶液と少なくとも1分
間接触させ、かつ前記溶液中の防汚剤濃度を少なくとも
約0.05モル濃度とする請求項6に記載の方法。 - 【請求項8】 防汚剤溶液中の防汚剤の濃度が約0.3
モル〜0.6モル濃度の範囲内にある請求項7に記載の
方法。 - 【請求項9】 防汚剤の溶液を作るために使用される溶
媒が水、酸素を含む有機液体または液状の脂肪族、脂環
族または芳香族の炭化水素である請求項6より8までの
いずれか1項に記載の方法。 - 【請求項10】 防汚剤はチタンとスズの組合せであ
り、かつ該防汚剤中のスズの濃度が約10モル%〜約9
0モル%の範囲内にある請求項1より9までのいずれか
1項に記載の方法。 - 【請求項11】 防汚剤が少なくとも1種のチタンのヒ
ドロカルボキシドおよび少なくとも1種のスズのカルボ
ン酸塩から成る請求項10に記載の方法。 - 【請求項12】 防汚剤がチタンn−ブトキシドおよび
2−エチルヘキサン酸第一スズから成る請求項11に記
載の方法。 - 【請求項13】 防汚剤はチタンとアンチモンの組合せ
であり、かつ該防汚剤中のアンチモンの濃度が約10モ
ル%〜約90モル%の範囲内にある請求項1より9まで
のいずれか1項に記載の方法。 - 【請求項14】 防汚剤が少なくとも1種のチタンのヒ
ドロカルボキシドおよび少なくとも1種のアンチモンの
カルボン酸塩から成る請求項13に記載の方法。 - 【請求項15】 防汚剤はチタンn−ブトキシドおよび
2−エチルヘキサン酸アンチモンである請求項14に記
載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
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