JPH05221171A - グラビア印刷シリンダー製造用金属プレート、該金属プレートの製造方法、及び図柄を造形されたロール - Google Patents
グラビア印刷シリンダー製造用金属プレート、該金属プレートの製造方法、及び図柄を造形されたロールInfo
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- JPH05221171A JPH05221171A JP31524192A JP31524192A JPH05221171A JP H05221171 A JPH05221171 A JP H05221171A JP 31524192 A JP31524192 A JP 31524192A JP 31524192 A JP31524192 A JP 31524192A JP H05221171 A JPH05221171 A JP H05221171A
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 機械的に彫刻可能な金属層を含む、特にグラ
ビア印刷シリンダーの製造に適した金属プレートであっ
て、前記金属層上に比較的硬質である機械的に彫刻可能
な上層が少なくとも1個存在するプレート。上記上層は
耐摩耗性であり、0.1〜5%の材料伸びと400〜1
050のビッカース硬度とを有する。機械的に彫刻可能
な金属層は3%未満の材料伸びと約80〜350のビッ
カース硬度とを有する。 【効果】 本発明の金属プレートでは彫刻される図柄の
鮮明度が高く、しかも彫刻工具の耐用期間が短縮されな
いので、高品質の図柄が得られる。
ビア印刷シリンダーの製造に適した金属プレートであっ
て、前記金属層上に比較的硬質である機械的に彫刻可能
な上層が少なくとも1個存在するプレート。上記上層は
耐摩耗性であり、0.1〜5%の材料伸びと400〜1
050のビッカース硬度とを有する。機械的に彫刻可能
な金属層は3%未満の材料伸びと約80〜350のビッ
カース硬度とを有する。 【効果】 本発明の金属プレートでは彫刻される図柄の
鮮明度が高く、しかも彫刻工具の耐用期間が短縮されな
いので、高品質の図柄が得られる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、機械的に彫刻可能な金
属層を含む、特にグラビア印刷シリンダーの製造に適し
た金属プレートに係わる。
属層を含む、特にグラビア印刷シリンダーの製造に適し
た金属プレートに係わる。
【0002】
【従来の技術】支持ロールなどの支持体に付着させた金
属層を彫刻して該層に、例えばグラフィック工業のグラ
ビア印刷部門で用いられ得る図柄を造形する際に、彫刻
されるべき層を構成する金属の種類とその特性とに起因
して図柄の鮮明度に関し問題が生じる恐れが有ることが
知られている。即ち―金属が軟質である場合、彫刻工具
(例えば硬質金属用たがねまたはダイヤモンド)での線
刻で生じる加工縁が崩れて曖昧となり、その結果加工し
たところとしないところとの接合部が“広がって”像品
質が低下し、―金属が硬質である場合は鮮明な図柄が得
られるが、彫刻工具が摩耗するため該工具の耐用期間が
きわめて短くなる。
属層を彫刻して該層に、例えばグラフィック工業のグラ
ビア印刷部門で用いられ得る図柄を造形する際に、彫刻
されるべき層を構成する金属の種類とその特性とに起因
して図柄の鮮明度に関し問題が生じる恐れが有ることが
知られている。即ち―金属が軟質である場合、彫刻工具
(例えば硬質金属用たがねまたはダイヤモンド)での線
刻で生じる加工縁が崩れて曖昧となり、その結果加工し
たところとしないところとの接合部が“広がって”像品
質が低下し、―金属が硬質である場合は鮮明な図柄が得
られるが、彫刻工具が摩耗するため該工具の耐用期間が
きわめて短くなる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】従って、加工されるべ
き金属が、機械加工の結果として十分な図柄鮮明度をも
たらすような特性は有するが、使用工具の耐用期間を許
容不能に短縮するほど高い硬度は有しないという妥協点
を追及することが常に必要である。工具の耐用期間が短
いと、コスト高となるのみでなく、造形される図柄の再
現性が低下する恐れが有る。
き金属が、機械加工の結果として十分な図柄鮮明度をも
たらすような特性は有するが、使用工具の耐用期間を許
容不能に短縮するほど高い硬度は有しないという妥協点
を追及することが常に必要である。工具の耐用期間が短
いと、コスト高となるのみでなく、造形される図柄の再
現性が低下する恐れが有る。
【0004】
【課題を解決するための手段】本願出願人は、冒頭に述
べたような金属プレートであって上述の欠点を免れたも
のを発見した。
べたような金属プレートであって上述の欠点を免れたも
のを発見した。
【0005】本発明による金属プレートは、機械的に彫
刻可能な金属層の上にそれより硬質である機械的に彫刻
可能な上層が少なくとも1個存在することを特徴とす
る。この上層は好ましくは耐摩耗性であり、耐摩耗性の
程度は該上層が用いられる状況に合わせて選択される。
刻可能な金属層の上にそれより硬質である機械的に彫刻
可能な上層が少なくとも1個存在することを特徴とす
る。この上層は好ましくは耐摩耗性であり、耐摩耗性の
程度は該上層が用いられる状況に合わせて選択される。
【0006】明らかに、上層は機械的に彫刻可能な金属
層に対して良好に付着しなければならない。上層と金属
層とは機械加工の間、互いから分離してはならない。
層に対して良好に付着しなければならない。上層と金属
層とは機械加工の間、互いから分離してはならない。
【0007】機械的に彫刻可能な積層体である本発明プ
レートの上層の材料伸びは好ましくは0.1〜5%で、
約2.5%であれば特に好ましい。材料伸びが上記より
高率であると上層材料は軟質過ぎ、その結果鮮鋭な図柄
を得ることが不可能または困難となる。材料伸びが上記
より低率である場合は上層材料の硬度または脆性が高過
ぎるので、図柄の鮮明度は高くなり得てもたがねの甚だ
しい摩耗が避けられない。彫刻される層の構造は微晶質
から非晶質でなければならないものとする。本発明によ
る金属プレートの表面に位置する上層は好ましくは表面
で約400〜1050、特に好ましくは450〜500
のビッカース硬度を有し、また該層の厚みは15μm以
下で、好ましくは約2μmである。このような上層の存
在は、高い精度及び再現性を有する図柄の造形にも彫刻
工具の許容可能な耐用期間にも悪影響を及ぼすとは考え
られない。上層の厚みの上限は、この限界を越える層厚
では上層材料の硬度が工具に不利に影響してその耐用期
間を短縮する一方、彫刻品質にも悪い影響が出るので重
要である。
レートの上層の材料伸びは好ましくは0.1〜5%で、
約2.5%であれば特に好ましい。材料伸びが上記より
高率であると上層材料は軟質過ぎ、その結果鮮鋭な図柄
を得ることが不可能または困難となる。材料伸びが上記
より低率である場合は上層材料の硬度または脆性が高過
ぎるので、図柄の鮮明度は高くなり得てもたがねの甚だ
しい摩耗が避けられない。彫刻される層の構造は微晶質
から非晶質でなければならないものとする。本発明によ
る金属プレートの表面に位置する上層は好ましくは表面
で約400〜1050、特に好ましくは450〜500
のビッカース硬度を有し、また該層の厚みは15μm以
下で、好ましくは約2μmである。このような上層の存
在は、高い精度及び再現性を有する図柄の造形にも彫刻
工具の許容可能な耐用期間にも悪影響を及ぼすとは考え
られない。上層の厚みの上限は、この限界を越える層厚
では上層材料の硬度が工具に不利に影響してその耐用期
間を短縮する一方、彫刻品質にも悪い影響が出るので重
要である。
【0008】上層の厚みその他の特性は、機械的彫刻工
程で少なくとも該上層の厚み全体に及ぶ彫刻を行なえる
ように規定されていなければならない。即ち、上層も機
械的に彫刻される層であり、後から設けられる(保護)
層ではない。
程で少なくとも該上層の厚み全体に及ぶ彫刻を行なえる
ように規定されていなければならない。即ち、上層も機
械的に彫刻される層であり、後から設けられる(保護)
層ではない。
【0009】表面加工が高い再現性の下で行なわれるよ
うに、上層は好ましくは均一な厚みを有する。
うに、上層は好ましくは均一な厚みを有する。
【0010】像品質が最も好ましく再現され得るのは特
に、上層が無電解析出した金属または合金から成る場合
である。そのような金属または合金の例としてリン−ニ
ッケル、ホウ素−ニッケル、スズ−ニッケル、ニッケル
及びニッケル−コバルトが挙げられ、これらの物質から
成る層は、リン−ニッケルでは公知であるように硬質ま
たは熱硬化性である。窒化チタン、窒化ホウ素及び炭化
クロムなど、幾種かのセラミックも上層材料として用い
られ得る。
に、上層が無電解析出した金属または合金から成る場合
である。そのような金属または合金の例としてリン−ニ
ッケル、ホウ素−ニッケル、スズ−ニッケル、ニッケル
及びニッケル−コバルトが挙げられ、これらの物質から
成る層は、リン−ニッケルでは公知であるように硬質ま
たは熱硬化性である。窒化チタン、窒化ホウ素及び炭化
クロムなど、幾種かのセラミックも上層材料として用い
られ得る。
【0011】当然ながら上記以外の、例えばクロムなど
の物質及び混合物を用いることも、硬度及び構造に関し
て先に述べた必要条件が満たされれば可能である。
の物質及び混合物を用いることも、硬度及び構造に関し
て先に述べた必要条件が満たされれば可能である。
【0012】しかし、上層は電解析出によっても形成さ
れ得、所望の彫刻可能積層体の実現にはイオン打ち込み
技術も原則として用いられ得る。
れ得、所望の彫刻可能積層体の実現にはイオン打ち込み
技術も原則として用いられ得る。
【0013】これに関連してイオン打ち込み以外にも、
レーザー光線を用いて既に設けた1個以上の層を合金化
することを含めた、高エネルギー輻射に基づく様々な近
代的技術が挙げられ得る。更に、所望形態次第ではCV
D/PVD及びプラズマジェット技術を用いることも可
能である。
レーザー光線を用いて既に設けた1個以上の層を合金化
することを含めた、高エネルギー輻射に基づく様々な近
代的技術が挙げられ得る。更に、所望形態次第ではCV
D/PVD及びプラズマジェット技術を用いることも可
能である。
【0014】機械的に彫刻可能な金属層は比較的軟質の
材料から成り得、例えば約80〜350のビッカース硬
度と低率の伸びとを有する金属層であり得ることに留意
されたい。金属層材料の例には、軟質ニッケル、銅、ア
ルミニウム、鉄、様々な合金、亜鉛等が有る。
材料から成り得、例えば約80〜350のビッカース硬
度と低率の伸びとを有する金属層であり得ることに留意
されたい。金属層材料の例には、軟質ニッケル、銅、ア
ルミニウム、鉄、様々な合金、亜鉛等が有る。
【0015】しかし、彫刻可能金属層の少なくとも一部
がプラスチック材料から成ることも可能であり、その際
プラスチック材料は、当然ながら先に特定したような硬
度及び伸び特性を有しなければならず、また比較的硬質
である上層が付着し得るように金属化可能でもなければ
ならない。
がプラスチック材料から成ることも可能であり、その際
プラスチック材料は、当然ながら先に特定したような硬
度及び伸び特性を有しなければならず、また比較的硬質
である上層が付着し得るように金属化可能でもなければ
ならない。
【0016】本発明は、印刷システムに用いるのに適し
た金属構造物製造用積層材も提供し、この積層材は支持
体と、機械的に彫刻可能な金属層を含む金属プレートと
から成り、前記金属プレートが本発明による金属プレー
トであることを特徴とする。本発明による金属プレート
をロール形支持体上に圧着するだけで、完成したロール
を製造することができる。
た金属構造物製造用積層材も提供し、この積層材は支持
体と、機械的に彫刻可能な金属層を含む金属プレートと
から成り、前記金属プレートが本発明による金属プレー
トであることを特徴とする。本発明による金属プレート
をロール形支持体上に圧着するだけで、完成したロール
を製造することができる。
【0017】比較的軟質の金属層を該層上に薄い上層を
設けてから彫刻すると、硬質銅などの微粒状金属で得ら
れるような図柄鮮明度が得られる。しかし、ここではた
がねまたはダイヤモンドである彫刻工具の耐用期間の短
縮は、本発明による積層体では観察されない。従って、
特に高い像品質が達成される。
設けてから彫刻すると、硬質銅などの微粒状金属で得ら
れるような図柄鮮明度が得られる。しかし、ここではた
がねまたはダイヤモンドである彫刻工具の耐用期間の短
縮は、本発明による積層体では観察されない。従って、
特に高い像品質が達成される。
【0018】低率の伸びを有する比較的軟質の彫刻可能
金属層として、軟質ニッケル、硬質銅、アルミニウム、
亜鉛、鉄及び様々な合金の層が選択され得ることを指摘
する。そのような層の硬度は普通、ビッカース硬度で8
0〜350である。構造に関する制限は無いが、粗い結
晶質構造よりも微晶質構造の方が優れた結果をもたらす
ことは明白である。このことは支持体(卑金属層)に
も、また1個以上存在する上層にも該当する。機械的に
彫刻可能な金属層の材料伸びは、好ましくは3%未満で
ある。
金属層として、軟質ニッケル、硬質銅、アルミニウム、
亜鉛、鉄及び様々な合金の層が選択され得ることを指摘
する。そのような層の硬度は普通、ビッカース硬度で8
0〜350である。構造に関する制限は無いが、粗い結
晶質構造よりも微晶質構造の方が優れた結果をもたらす
ことは明白である。このことは支持体(卑金属層)に
も、また1個以上存在する上層にも該当する。機械的に
彫刻可能な金属層の材料伸びは、好ましくは3%未満で
ある。
【0019】付言すれば、支持体と金属プレートとが同
じ金属または合金から成る場合、支持体が分離した金属
プレートを具備する必要は無い。そのような場合は明ら
かに一体的支持体、即ち例えば一体的ロールでも十分で
ある。しかし、機械的に彫刻可能な金属層は該層下の支
持体ロールに彫刻が及ばないような厚みを有しなければ
ならない。従って、彫刻可能金属層の厚みは普通約50
μmで十分であるが、該厚みを例えば100μmまたは
25μmに変更することも、当然ながら転写するべき図
柄や所望の彫刻深度次第では問題なく可能である。
じ金属または合金から成る場合、支持体が分離した金属
プレートを具備する必要は無い。そのような場合は明ら
かに一体的支持体、即ち例えば一体的ロールでも十分で
ある。しかし、機械的に彫刻可能な金属層は該層下の支
持体ロールに彫刻が及ばないような厚みを有しなければ
ならない。従って、彫刻可能金属層の厚みは普通約50
μmで十分であるが、該厚みを例えば100μmまたは
25μmに変更することも、当然ながら転写するべき図
柄や所望の彫刻深度次第では問題なく可能である。
【0020】“彫刻”とは本発明の範囲内で、線刻具、
たがね、ダイヤモンド等のような工具を用いて行なう、
関連する機械的変形を伴う切削に基づく機械加工を意味
すると理解するべきであることを指摘する。
たがね、ダイヤモンド等のような工具を用いて行なう、
関連する機械的変形を伴う切削に基づく機械加工を意味
すると理解するべきであることを指摘する。
【0021】本発明は、特に印刷システムに用いるのに
適した金属プレート積層材を製造する方法も提供し、こ
の方法は支持体に1個以上の機械的に彫刻可能な金属層
を付着させることを含み、かつ前記金属層に該層の硬度
より高い硬度を有する1個以上の機械的に彫刻可能な上
層を更に付着させることを特徴とする。明らかに、機械
的に彫刻可能な金属層への上層の付着は良好でなければ
ならず、これら2層は機械加工の間互いから分離しては
ならない。好ましくは、付着させる上層は耐摩耗性であ
る。
適した金属プレート積層材を製造する方法も提供し、こ
の方法は支持体に1個以上の機械的に彫刻可能な金属層
を付着させることを含み、かつ前記金属層に該層の硬度
より高い硬度を有する1個以上の機械的に彫刻可能な上
層を更に付着させることを特徴とする。明らかに、機械
的に彫刻可能な金属層への上層の付着は良好でなければ
ならず、これら2層は機械加工の間互いから分離しては
ならない。好ましくは、付着させる上層は耐摩耗性であ
る。
【0022】耐摩耗性上層のビッカース硬度は好ましく
は約450〜750、更に好ましくは500〜680
で、約650であれば特に好ましい。
は約450〜750、更に好ましくは500〜680
で、約650であれば特に好ましい。
【0023】上層の厚みは好ましくは10μm以下で、
約2μmであれば特に好ましい。
約2μmであれば特に好ましい。
【0024】上層が15μmより大きい厚みを有する種
類である場合、その結晶構造は該構造中に存在し得るデ
ィスロケーションの結果として好ましくない破断線を有
する恐れが有り、このような構造は優れた像品質の達成
に悪影響を及ぼす。くわえて、15μmを上回る厚みは
比較的微細な機械加工を可能にするには大き過ぎ、たが
ねも過度に摩耗する。
類である場合、その結晶構造は該構造中に存在し得るデ
ィスロケーションの結果として好ましくない破断線を有
する恐れが有り、このような構造は優れた像品質の達成
に悪影響を及ぼす。くわえて、15μmを上回る厚みは
比較的微細な機械加工を可能にするには大き過ぎ、たが
ねも過度に摩耗する。
【0025】本発明の特に好ましい一例によれば、上層
は金属または合金の無電解析出によって形成する。この
方法は上層全体の厚みの均一化を助長し、その結果像品
質の優れた再現性が達成される。リン−ニッケル、ホウ
素−ニッケル、スズ−ニッケル等を無電解析出させて形
成した層以外に窒化チタン、窒化ホウ素、及び他の類似
物質から成る層を上層として用いることも可能であり、
その際いずれの層も本発明の範囲内で最大の効果を得る
のに理想的な厚みをそれぞれ有する。明らかに、彫刻可
能金属層への上層の付着は良好でなければならない。図
柄造形の際に両層が互いから分離すると、本発明の構想
に従って優れた像鮮明度を達成することが不可能とな
る。
は金属または合金の無電解析出によって形成する。この
方法は上層全体の厚みの均一化を助長し、その結果像品
質の優れた再現性が達成される。リン−ニッケル、ホウ
素−ニッケル、スズ−ニッケル等を無電解析出させて形
成した層以外に窒化チタン、窒化ホウ素、及び他の類似
物質から成る層を上層として用いることも可能であり、
その際いずれの層も本発明の範囲内で最大の効果を得る
のに理想的な厚みをそれぞれ有する。明らかに、彫刻可
能金属層への上層の付着は良好でなければならない。図
柄造形の際に両層が互いから分離すると、本発明の構想
に従って優れた像鮮明度を達成することが不可能とな
る。
【0026】機械的に彫刻可能な金属層は、例えばニッ
ケルまたはアルミニウムから成り得る。印刷シリンダー
製造過程で金属化可能であり、かつ熱的及び機械的に安
定であり得るものであれば特定プラスチックも用い得
る。彫刻可能金属層は普通支持体に付着させるが、一体
的な金属プレートまたはロールを用いることも当然なが
ら可能である。機械的に彫刻可能な金属層の厚みは、転
写するべき図柄、及び所望の図柄深度に適するように選
択する。機械的に彫刻可能な金属層の厚みは普通約50
μmとするが、適用形態次第では例えば25μmまたは
100μmとする方が好ましい場合も有る。
ケルまたはアルミニウムから成り得る。印刷シリンダー
製造過程で金属化可能であり、かつ熱的及び機械的に安
定であり得るものであれば特定プラスチックも用い得
る。彫刻可能金属層は普通支持体に付着させるが、一体
的な金属プレートまたはロールを用いることも当然なが
ら可能である。機械的に彫刻可能な金属層の厚みは、転
写するべき図柄、及び所望の図柄深度に適するように選
択する。機械的に彫刻可能な金属層の厚みは普通約50
μmとするが、適用形態次第では例えば25μmまたは
100μmとする方が好ましい場合も有る。
【0027】上層は好ましくは、無電解硬化可能なニッ
ケルもしくはニッケル合金層またはクロム薄層から成
る。このような層のビッカース硬度は約450〜550
であるが、通常の加熱処理を施すことによって約110
0まで高めることができる。硬度の上昇は、粒子衝撃に
よってか、または高エネルギーレーザー及び/またはマ
グネトロンからの輻射によって実現することも可能であ
る。
ケルもしくはニッケル合金層またはクロム薄層から成
る。このような層のビッカース硬度は約450〜550
であるが、通常の加熱処理を施すことによって約110
0まで高めることができる。硬度の上昇は、粒子衝撃に
よってか、または高エネルギーレーザー及び/またはマ
グネトロンからの輻射によって実現することも可能であ
る。
【0028】機械的に彫刻可能な金属層は約80〜35
0のビッカース硬度を有することが有利である点に留意
されたい。本発明による金属プレートには精細かつ鮮明
な図柄を造形しなければならないので、粗い構造を有す
る金属層よりも微晶質構造の金属層の方が良い結果をも
たらす。そのうえ、金属層が比較的低い硬度と小さい伸
び値とを併せ持つと優れた結果が得られることが判明し
た。金属層を電解析出層とする場合は電解質に、大きい
分散力(層厚が均一となる)、微晶質の析出品質、耐熱
性、基層として適正なビッカース硬度、及び小さい伸び
値(NiCo、NiP、NiSn等)、並びに場合によ
っては付加的工程での硬化可能性を必要条件として課す
るべきである。
0のビッカース硬度を有することが有利である点に留意
されたい。本発明による金属プレートには精細かつ鮮明
な図柄を造形しなければならないので、粗い構造を有す
る金属層よりも微晶質構造の金属層の方が良い結果をも
たらす。そのうえ、金属層が比較的低い硬度と小さい伸
び値とを併せ持つと優れた結果が得られることが判明し
た。金属層を電解析出層とする場合は電解質に、大きい
分散力(層厚が均一となる)、微晶質の析出品質、耐熱
性、基層として適正なビッカース硬度、及び小さい伸び
値(NiCo、NiP、NiSn等)、並びに場合によ
っては付加的工程での硬化可能性を必要条件として課す
るべきである。
【0029】本発明は、機械的彫刻によって図柄を造形
された、特に印刷システムに用いるのに適したロールも
提供し、このロールは支持体ロールと金属プレートとを
含み、前記金属プレートが本発明による金属プレートで
あることを特徴とする。
された、特に印刷システムに用いるのに適したロールも
提供し、このロールは支持体ロールと金属プレートとを
含み、前記金属プレートが本発明による金属プレートで
あることを特徴とする。
【0030】最後に本発明は、彫刻可能な金属基層に図
柄を機械的に彫刻する方法も提供し、この方法は、彫刻
前に前記基層に、比較的薄くかつ硬質である彫刻可能な
上層を少なくとも1個付着させ、得られた積層体を金属
基層中に達する深さまで彫刻して図柄を造形することを
含む。上記上層は、好ましくは耐摩耗性である。上層の
材料伸びは好ましくは0.1〜5%で、約2.5%であ
れば特に好ましい。上層のビッカース硬度は約400〜
1050、好ましくは450〜500であり、またその
厚みは好ましくは10μm以下で、約2μmであれば特
に好ましく、しかも均一であることが好ましい。好まし
くは、上層は金属基層上に設けた後に硬化可能である。
柄を機械的に彫刻する方法も提供し、この方法は、彫刻
前に前記基層に、比較的薄くかつ硬質である彫刻可能な
上層を少なくとも1個付着させ、得られた積層体を金属
基層中に達する深さまで彫刻して図柄を造形することを
含む。上記上層は、好ましくは耐摩耗性である。上層の
材料伸びは好ましくは0.1〜5%で、約2.5%であ
れば特に好ましい。上層のビッカース硬度は約400〜
1050、好ましくは450〜500であり、またその
厚みは好ましくは10μm以下で、約2μmであれば特
に好ましく、しかも均一であることが好ましい。好まし
くは、上層は金属基層上に設けた後に硬化可能である。
【0031】
【実施例】本発明のその他の特徴、及び本発明がもたら
す利点の多くは、以下の実施例を参照することによって
より良く理解されるほどに容易に認められよう。
す利点の多くは、以下の実施例を参照することによって
より良く理解されるほどに容易に認められよう。
【0032】実施例1 この実施例では、厚み約300μmの標準的なグラビア
印刷シリンダーを出発点とした。上記シリンダーのビッ
カース硬度は約450であり、材料伸びは7%であっ
た。シリンダー表面をレーザー輻射で加熱処理して、厚
み50〜150μmの表面層のビッカース硬度を200
〜350とし、またその材料伸びを3%未満とした。
印刷シリンダーを出発点とした。上記シリンダーのビッ
カース硬度は約450であり、材料伸びは7%であっ
た。シリンダー表面をレーザー輻射で加熱処理して、厚
み50〜150μmの表面層のビッカース硬度を200
〜350とし、またその材料伸びを3%未満とした。
【0033】上記のように処理したグラビア印刷シリン
ダーに厚み約2μmのリン−ニッケル層を無電解被覆法
で付着させた。このように形成した上層のビッカース硬
度は450〜500であった。
ダーに厚み約2μmのリン−ニッケル層を無電解被覆法
で付着させた。このように形成した上層のビッカース硬
度は450〜500であった。
【0034】得られた金属積層体を、たがねを用いて機
械的に彫刻加工した。
械的に彫刻加工した。
【0035】加工した積層体に加熱処理を施して上層を
硬化させ、そのビッカース硬度を900〜1000に上
昇させた。
硬化させ、そのビッカース硬度を900〜1000に上
昇させた。
【0036】造形した図柄は、線刻の加工縁が崩れて曖
昧となり、その結果像鮮明度が低下するという公知の欠
点を有しなかった。くわえて、用いたたがねを調べたと
ころ、場合によっては該工具の耐用期間を制限しかねな
い摩耗が全く生じていないことが判明した。
昧となり、その結果像鮮明度が低下するという公知の欠
点を有しなかった。くわえて、用いたたがねを調べたと
ころ、場合によっては該工具の耐用期間を制限しかねな
い摩耗が全く生じていないことが判明した。
【0037】得られた像鮮明度は通常の彫刻条件下に得
られる像鮮明度と同等以上であったことに留意された
い。
られる像鮮明度と同等以上であったことに留意された
い。
【0038】実施例2 この実施例ではグラビア印刷シリンダーを製造した。
【0039】硬質ニッケルロール(ビッカース硬度45
0)に厚み500μmの銅層を付着させた。
0)に厚み500μmの銅層を付着させた。
【0040】この銅層に厚み2μmの無電解析出ニッケ
ル層を付着させた。
ル層を付着させた。
【0041】無電解析出ニッケル層のビッカース硬度は
550であった。
550であった。
【0042】その後、ロールに所望の図柄をhelio
klischographによって彫刻した。彫刻済み
のロールに(約800℃で15分間)加熱処理を施すこ
とによって、無電解析出ニッケルから成る上層のビッカ
ース硬度を1050に上昇させた。従って、完成ロール
の耐摩耗性は相当向上した。
klischographによって彫刻した。彫刻済み
のロールに(約800℃で15分間)加熱処理を施すこ
とによって、無電解析出ニッケルから成る上層のビッカ
ース硬度を1050に上昇させた。従って、完成ロール
の耐摩耗性は相当向上した。
Claims (27)
- 【請求項1】 機械的に彫刻可能な金属層を含む、特に
グラビア印刷シリンダーの製造に適した金属プレートで
あって、前記金属層上にそれより硬質である機械的に彫
刻可能な上層が少なくとも1個存在するプレート。 - 【請求項2】 上層が耐摩耗性であることを特徴とする
請求項1に記載のプレート。 - 【請求項3】 上層の材料伸びが0.1〜5%で、好ま
しくは約2.5%であることを特徴とする請求項1に記
載のプレート。 - 【請求項4】 上層のビッカース硬度が約400〜10
50、好ましくは450〜500であることを特徴とす
る請求項1に記載のプレート。 - 【請求項5】 上層の厚みが15μm以下で、好ましく
は約2μmであり、この厚みは好ましくは均一であるこ
とを特徴とする請求項1に記載のプレート。 - 【請求項6】 上層が無電解析出または電解析出した金
属または合金から成るか、または窒化チタン、窒化ホウ
素及び炭化クロムの中から選択されたセラミック材料か
ら成ることを特徴とする請求項1に記載のプレート。 - 【請求項7】 無電解析出金属または合金がリン−ニッ
ケル、ホウ素−ニッケル、スズ−ニッケル、ニッケル及
びニッケル−コバルトの中から選択されることを特徴と
する請求項6に記載のプレート。 - 【請求項8】 機械的に彫刻可能な金属層が約80〜3
50のビッカース硬度と3%未満の材料伸びとを有する
ことを特徴とする請求項1に記載のプレート。 - 【請求項9】 上層が硬化可能であることを特徴とする
請求項1に記載のプレート。 - 【請求項10】 彫刻可能金属層の少なくとも一部がプ
ラスチック材料から成ることを特徴とする請求項1に記
載のプレート。 - 【請求項11】 印刷システムに用いるのに適した金属
構造物製造用積層材であって、支持体と、機械的に彫刻
可能な金属層を含む金属プレートとから成り、前記金属
プレートが請求項1に記載の金属プレートである積層
材。 - 【請求項12】 特に印刷システムに用いるのに適した
金属プレート積層材を製造する方法であって、支持体に
1個以上の機械的に彫刻可能な金属層を付着させ、この
金属層に該層の硬度より高い硬度を有する1個以上の機
械的に彫刻可能な上層を更に付着させる方法。 - 【請求項13】 上層のビッカース硬度が約400〜1
050、好ましくは450〜500であることを特徴と
する請求項12に記載の方法。 - 【請求項14】 上層の材料伸びが0.1〜5%で、好
ましくは約2.5%であることを特徴とする請求項12
に記載の方法。 - 【請求項15】 上層が耐摩耗性であることを特徴とす
る請求項12に記載の方法。 - 【請求項16】 厚みが10μm以下で、好ましくは約
2μmである上層を付着させることを特徴とする請求項
12に記載の方法。 - 【請求項17】 上層を金属または合金の無電解析出ま
たは電解析出によって形成することを特徴とする請求項
12に記載の方法。 - 【請求項18】 無電解析出させる金属または合金をリ
ン−ニッケル、ホウ素−ニッケル、スズ−ニッケル、ニ
ッケル−コバルト及びニッケルの中から選択することを
特徴とする請求項17に記載の方法。 - 【請求項19】 窒化チタン、窒化ホウ素及び炭化クロ
ムの中から選択したセラミック材料から成る上層を付着
させることを特徴とする請求項12に記載の方法。 - 【請求項20】 金属プレート積層材に、上層の硬度を
上昇させる付加的処理を施すことを特徴とする請求項1
2に記載の方法。 - 【請求項21】 機械的彫刻によって図柄を造形され
た、特に印刷システムに用いるのに適したロールであっ
て、支持ロールと金属プレートとを含み、前記金属プレ
ートが請求項1に記載のプレート、もしくは請求項12
に記載の方法によって得られるプレートであるロール。 - 【請求項22】 彫刻可能な金属基層に図柄を機械的に
彫刻する方法であって、彫刻前に前記基層に、それより
薄くかつより硬質である彫刻可能な上層を少なくとも1
個付着させ、得られた積層体を金属基層中に達する深さ
まで彫刻する方法。 - 【請求項23】 上層が耐摩耗性であることを特徴とす
る請求項22に記載の方法。 - 【請求項24】 上層の材料伸びが0.1〜5%で、好
ましくは約2.5%であることを特徴とする請求項22
に記載の方法。 - 【請求項25】 上層のビッカース硬度が約400〜1
050、好ましくは450〜500であることを特徴と
する請求項22に記載の方法。 - 【請求項26】 上層の厚みが10μm以下で、好まし
くは約2μmであることを特徴とする請求項22に記載
の方法。 - 【請求項27】 上層が硬化可能であることを特徴とす
る請求項22に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL9101971 | 1991-11-25 | ||
NL9101971A NL9101971A (nl) | 1991-11-25 | 1991-11-25 | Metalen plaat ter vervaardiging van een diepdrukhuls en werkwijze ter vervaardiging daarvan. |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05221171A true JPH05221171A (ja) | 1993-08-31 |
Family
ID=19859957
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP31524192A Pending JPH05221171A (ja) | 1991-11-25 | 1992-11-25 | グラビア印刷シリンダー製造用金属プレート、該金属プレートの製造方法、及び図柄を造形されたロール |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0545468A1 (ja) |
JP (1) | JPH05221171A (ja) |
NL (1) | NL9101971A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004136674A (ja) * | 2002-10-17 | 2004-05-13 | Hell Gravure Systems Gmbh | 凹版印刷に用いられる印刷版を製造するための方法、凹版印刷に用いられる印刷版およびその使用 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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USRE38468E1 (en) | 1996-12-04 | 2004-03-23 | Day International, Inc. | Replaceable sleeve |
US5860360A (en) * | 1996-12-04 | 1999-01-19 | Day International, Inc. | Replaceable printing sleeve |
EP0922590B1 (de) * | 1997-12-10 | 2002-07-24 | CeramTec AG Innovative Ceramic Engineering | Druckform aus Keramik |
JP3739962B2 (ja) | 1998-05-18 | 2006-01-25 | 富士写真フイルム株式会社 | 平版印刷版用原版、これを用いた平版印刷版の製版方法および平版印刷版用原版の製造方法 |
WO2010102808A2 (de) * | 2009-03-13 | 2010-09-16 | Ipt International Plating Technologies Gmbh | Werkstück mit mindestens einer nickelhaltigen schicht |
EP2438219B1 (de) * | 2009-03-13 | 2015-09-30 | Stohrer IPT AG | Werkstück mit zwei nickelhaltigen schichten |
FR3032725B1 (fr) * | 2015-02-12 | 2019-04-12 | Safran Aircraft Engines | Procede de depot d'un revetement de protection contre l'erosion sur une piece metallique |
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DE3231490C1 (de) * | 1982-08-25 | 1983-10-20 | Reprodec-Gravuren GmbH, 7889 Grenzach-Wyhlen | Druckwalze und Verfahren zur Herstellung einer Tiefdruckform |
NL8702724A (nl) * | 1987-11-13 | 1989-06-01 | Twentse Graveerind | Substraat voorzien van slijtvaste deklaag en werkwijze voor het aanbrengen van een dergelijke deklaag. |
GB2212172B (en) * | 1987-11-17 | 1992-03-04 | Baj Ltd | Wear-resistant coated articles |
DE4008254A1 (de) * | 1990-03-15 | 1991-09-19 | Huettl & Vester Gmbh | Verfahren zum herstellen von gravierten walzen oder platten |
NL9000596A (nl) * | 1990-03-15 | 1991-10-01 | Stork Screens Bv | Rasterwals met een patroonlaag in een galvanische toplaag en walslichaam voor een dergelijke wals. |
-
1991
- 1991-11-25 NL NL9101971A patent/NL9101971A/nl not_active Application Discontinuation
-
1992
- 1992-11-23 EP EP92203621A patent/EP0545468A1/en not_active Withdrawn
- 1992-11-25 JP JP31524192A patent/JPH05221171A/ja active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004136674A (ja) * | 2002-10-17 | 2004-05-13 | Hell Gravure Systems Gmbh | 凹版印刷に用いられる印刷版を製造するための方法、凹版印刷に用いられる印刷版およびその使用 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0545468A1 (en) | 1993-06-09 |
NL9101971A (nl) | 1993-06-16 |
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