JPH05220231A - 皮膚を日焼けさせ又は紫外線に起因する皮膚の損傷を治療する装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 炎症又はその他の有害な結果を伴う虞れがな
く、選択された波長の極めて短かい不連続パルスに露呈
することに起因する人間の日焼け効果を促進する方法及
び装置を提供すること 【構成】 一型式の装置１０は、選択された波長の電磁
放射線を連続的に発生させ、その放射線を機械的な経路
妨害手段を通じて投射し、不連続パルスを形成する。一
部の機械的な経路妨害手段は、穴４０を有する回転薄板
４１、放射線源１２と位置３６との間に配置された穴２
６を有する１又は２以上の回転シリンダ２０、放射線源
１２の周囲に配置された穴２６０、３６０を有する１又
は２以上の中空シリンダ２００、３００、及び平行な回
転部材４２である。別の型式の装置１０はストロボスコ
ープ閃光管５６を使用し、所望の不連続パルスの持続時
間及び所望の波長の電磁放射線を間欠的に発生させ、所
望の効果を生じさせる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】本出願は、1991年3月27日に出願された
「パルス光により日焼けを生じさせる方法又はＤＡＮの
治療方法及びその装置」という名称の米国特許出願第07
/675,689号及び1992年1月10日に出願された「光パルス
を提供する装置」という名称の米国一部継続特許出願第
07/819,116号に基づく優先権を主張するものである。

【０００２】

【産業上の利用分野】本発明は、例えば、約２５０−４
００ナノメータ（「ｎｍ」）、望ましくは、約２８０−
３００ｎｍ、最適には、約２９０ｎｍの選択された波長
の極めて短かい不連続な電磁放射線パルスを利用するこ
とにより、人体に「日焼け」（Tanning）を生じさせる
新技術に関するものである。本発明は、第２の実施例に
おいて、約３２０−６００ｎｍ、望ましくは、約３７５
ｎｍ以上で、最適には、約４６０−５００ｎｍ、目標と
しては、約４８０ｎｍの第２の選択された波長の電磁放
射線を使用して紫外線エネルギで損傷したデオキシリボ
核酸（「ＤＡＮ」）の治療効果を向上させることが出来
る。両実施例は、ユーザの選択により組み合わせて単一
の装置とし、日焼け又はＤＡＮの治療を選択的に促進さ
せることが出来る。

【０００３】

【従来の技術】従来技術は、人間の皮膚を人工的に日焼
けさせる幾つかの装置を開示している。次の米国特許を
参照のこと。米国特許第4,862,886号（クラーケ（Clark
e））、同第4,794,925号（ケイ・モリ（Kei Mori））、
同第4,711,448号（ツヒィ・ゴールデンバーグ（Tsvi Go
ldenberg））、同第4,611,327号（クラーケ）、同第4,4
69,102号（フッシ（Fish））。従来技術の装置は、通
常、一般的に紫外線Ａ（「ＵＶＡ」）スペクトル（波長
３２０乃至３９０ｎｍ）範囲内にあり、極く少量の紫外
線Ｂ（「ＵＶＢ」）スペクトル（波長２８６乃至３２０
ｎｍ）を有する連続的な蛍光紫外線（「ＵＶ」）放射エ
ネルギを利用し、日焼け機械に紫外線Ｃスペクトル
（「ＵＶＣ」、波長４０−２８６ｎｍ）が利用されるこ
とは滅多にない。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】日焼けは、メラノサイ
トとして公知のメラニンを含む細胞を刺激することによ
り色素の小さい収容部分を生じさせて皮膚を黒くする方
法であるメラニン形成として公知の方法により行われ
る。人間がその皮膚の色素を増加させたとき、一般に、
健康な感じを与え、その人の外見を良くする効果があ
る。ＵＶＢ光は、約２９０ｎｍの波長のときに最大の
「日焼け効果」のあるメラニン形成に対する公知の励起
手段である。しかし、ＵＶＢは従来から安全上の問題が
あった。これは、最大の日焼け効果が約２９０ｎｍにて
生じることが公知であるが、又、ＵＢＶエネルギに露呈
されることは、紅斑又は「炎症」という有害な結果を招
く顕著な虞れがあることも事実である。かかる危険性の
ため、米国連邦の法律（例えば、21CFR§1040.20(ii)
(c)(1))は、人間が受けるＵＶＢ放射線量に厳しい制限
を課している（通常、総エネルギ源のうち、ＵＶＢ放出
量は、０.３％以下でなければならない）。従って、従
来技術の日焼け装置は、通常、ＵＶＡエネルギ源（例え
ば、連続的に放出する蛍光管）を利用しなければならな
い。その結果、現在利用可能な日焼けブース等は、効率
的でない放射線エネルギ源を利用して、日焼け効果を促
進させすることを余儀なくされている。

【０００５】約３２０ｎｍ以上であるが、略３２０ｎｍ
に近い光はＵＶＡスペクトルの範囲内である。ＵＶＡ
は、皮膚内の黒い色素、即ち、予め存在するメラニンの
酸化に関与する「急速日焼け」を生じさせる。この日焼
けの励起は、最小量ではあるが、市販の日焼け光源内に
依然存在するＵＶＢを利用するものである。これら現在
市販の日焼け光源は、一連の有害な結果、例えば、遺伝
子の急速な破壊（チミン・ダイマの形成）及び細胞毒
素、恐らく過酸化物及びそれに伴う生成物の蓄積による
蛋白質構造体といった結果を生じさせる連続的光源を使
用するものである。かかる有害な結果は短期間及び長期
間の影響に分けられることが多い。短期間の影響として
は、炎症、角膜の濁り及び網膜の損傷がある。長期間の
影響としては、皮膚の過早老化及び急速な癌化（例え
ば、黒色腫）がある。

【０００６】従って、本発明の目的は、炎症又はその他
の有害な結果を伴う虞れがなく、選択された波長の極め
て短かい不連続パルスに露呈することに起因する人間の
日焼け効果を促進する方法及び装置を提供することであ
る。

【０００７】本発明の別の目的は、第２の選択された波
長の極めて短かい不連続なエネルギパルスに損傷した組
織を露呈させることにより、光エネルギに起因する皮膚
細胞内のＤＮＡの損傷の治療を促進する方法及び装置を
提供することである。

【０００８】本発明の更に別の目的は、多数の選択され
た波長の極めて短かい不連続なエネルギパルスを提供
し、日焼け及び組織の治療の双方を同時に又は別個に行
うことを可能にする、エネルギ源を備えた装置を提供す
ることである。

【０００９】本発明の更に別の目的は、極めて短かい時
間内で日焼けを促進させる方法及び装置を提供すること
である。

【００１０】本発明の更に別の目的は、当業者が以下の
説明、図面及び特許請求の範囲の記載を参照することに
より明らかになるであろう。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明の一つの特徴によ
れば、皮膚を日焼けさせ又は紫外線で損傷した皮膚を治
療する装置にして、日焼け又は治療のために皮膚を位置
決めすべき位置を画成する手段と、不連続な電磁放射線
パルスを上記位置画成手段に向けて照射する少なくとも
１つの電磁パルス発生手段であって、上記位置画成手段
に向けた経路内で電磁放射線を連続的に放出する連続的
な電磁発生手段と、連続的に放出される電磁放射線の経
路を周期的に妨害し、不連続な電磁放射線パルスを得る
経路妨害手段とを有する電磁パルス発生装置とを備える
装置が提供される。

【００１２】上記経路妨害手段は、上記位置決め手段と
上記連続的な電磁発生手段との間に配置された複数の平
行な回転薄板を備えており、該複数の平行な回転薄板の
各々は、所定の回転位置にて連続的に放出された電磁放
射線の透過を許容する穴を有する。更に、上記経路妨害
手段は、上記位置画成手段と上記連続的な電磁発生手段
との間に配置された１又は２以上の回転シリンダであっ
て、その各々が、所定の回転位置にて連続的に放出され
た電磁放射線の透過を許容する貫通穴を有する回転シリ
ンダと、上記連続的な電磁発生手段の周囲に配置された
１又は２以上の回転中空シリンダであって、その各々が
所定の回転位置にて連続的に放出された電磁放射線が上
記位置画成手段に向けて透過するのを許容する少なくと
も１つの貫通穴を有する中空シリンダと、複数の平行な
回転可能な部材と、及び該複数の平行な回転可能な部材
を回転させる手段を備え、該複数の回転可能な部材の各
々が少なくとも１つの反射面を備え、上記回転可能な部
材を回転させたとき、連続的に放出された電磁放射線を
上記位置画成手段に向けて周期的に反射させることを特
徴とする。

【００１３】本発明の別の特徴によれば、皮膚を日焼け
させ又は紫外線に起因する皮膚の損傷を治療する装置に
して、日焼け又は治療のために皮膚を位置決めすべき位
置を画成する位置画成手段と、不連続な電磁放射線パル
スを上記位置画成手段に向ける少なくとも１つの電磁パ
ルス発生手段であって、電磁放射線を間欠的に発生させ
る少なくとも１つのストロボ灯を有する電磁パルス発生
手段とを備える装置が提供される。又、該電磁パルス発
生手段は、上記少なくとも１つのストロボ灯と上記位置
画成手段との間に配置され、１又は２以上の選択された
波長帯域の間欠的な電磁放射線を透過させるフィルタ手
段を更に備えることが出来る。

【００１４】本発明の別の特徴によれば、上記何れかの
型式の上記電磁パルス発生手段内には、上記第１の選択
された波長の電磁放射線を放出し、日焼けを生じさせる
第１の手段と、上記第２の選択された波長の電磁放射線
を放出し、皮膚細胞内の紫外線に起因するＤＮＡの損傷
を治療する第２の手段とが設けられる。

【００１５】本発明の別の特徴によれば、上述の装置内
には、少なくとも２つの電磁パルス発生手段が設けら
れ、上記位置画成手段に向けた不連続パルスが同期化さ
れる。上述の全ての装置において、望ましくは、各不連
続な放射線パルスは、約１ピコ秒乃至約２０ミリ秒のパ
ルス持続時間を有し、日焼け用の不連続な放射線パルス
は、約２５０乃至４００ナノメータの波長を有し、皮膚
の細胞内の紫外線に起因するＤＮＡの損傷を治療する不
連続な放射線パルスは、約３２０乃至６００ナノメータ
の波長を有している。又、上述の全ての装置において、
電磁パルス発生手段は、所望の波長の電磁放射線を発生
させるものか、又は多くの波長の放射線を生じさせ、そ
の波長をろ過して所望の波長のみを透過させるようにし
たものを選択することが可能である。

【００１６】最後に、本発明の別の特徴によれば、皮膚
を日焼けさせ、又は紫外線に起因する皮膚の損傷を治療
する方法にして、皮膚を不連続な電磁放射線パルスに露
呈させる段階を備える方法が提供される。

【００１７】本出願人は、パルス放射線により日焼けを
生じさせることが出来、又、日焼けを生じさせるために
は連続な放射線源を備える必要がないことが分かった。
皮膚を極めて短かい不連続なエネルギパルスに露呈させ
ることにより、メラノサイト励起して、連続的な光源に
より生じるのと同等の色素変化を起こさせ、しかも、こ
れら従来技術の装置に伴うことが多い組織の顕著な損傷
（例えば、炎症）が生ずることがない。このように、本
発明は、日焼けを許容するが、コラーゲン及び細胞のよ
うな機質的要素の損傷を著しく軽減する短かい不連続な
電磁エネルギパルスを放射する。

【００１８】パルス放射線に露呈させることにより、画
成される波長に依存して日焼け及び／又は損傷したＤＮ
Ａの治療を行うことが出来る。ピコ秒からミリ秒の程度
のパルスにより、連続的な照射中に蓄積することが知ら
れている有害な生成物の蓄積を阻止する照射サイクルが
得られる。本発明の重要な特徴は、パルスエネルギによ
り、照射領域内の残留酵素が例えば、過酸化物、チミン
ダイマ、酸化した感光性蛋白質（即ち、皮膚の炎症の特
徴的な副産物）のような光に起因する有害な生成物を消
滅させるのに十分なエネルギ照射間の時間を許容するこ
とである。このように、所望の日焼け程度を得るのに必
要なエネルギ源への総照射量及び絶対時間が著しく軽減
される。

【００１９】又、適当な波長のパルスエネルギの照射
は、ＵＶエネルギの過剰な照射により損傷したＤＮＡダ
イマを治療することが可能である。連続的な光に照射さ
れると、チミン構造体が変化し、チミンダイマが生じる
ことでＤＮＡが損傷する。チミンダイマの形成速度は皮
膚の健全な状態に極めて危険であると考えられる。又、
連続的に紫外線が照射されると、チミン塩基がチミンダ
イマに変化することも公知である。多くの人は、これは
過早老化及び皮膚癌の発生の増大に寄与すると考えてい
る。

【００２０】チミンダイマの形成を修正する身体の応答
性には、光分解物質として公知の酵素を発生させる光再
活性化現象として公知の現象及び暗（dark）治療として
公知の別の現象が含まれる。チミンダイマ治療の大部分
は光分解物質を通じて行われると考えられる。ＵＶに起
因する皮膚の損傷を生じさせ、又は阻止するためのＵＶ
放射線のエネルギ吸収特性は一般に公知である。光分解
物質の生成は、青から緑色の光（波長、３７５−５００
ｎｍ）により最も効率的に励起され、暗治療は光を使用
せずに行われる。ここに記載した本発明を試験するため
の実験を行うことにより、光再活性化現象又は光分解物
質は、単一の不連続パルスによってもＵＶＡ領域（波
長、３７５ｎｍ以上）における高領域端の紫外線エネル
ギの不連続パルスにより生じさせ又は励起させることが
出来ることが分かった。通常、ＵＶ灯に連続的に照射さ
れると、過酸化物のような有害な副産物が蓄積し、その
結果、人間の光分解物質中に存在すると考えられる光再
活性化系を劣化させる可能性がある。しかし、この領域
内のＵＶエネルギの不連続パルスに逐次的に露呈させる
場合、現在の日焼けブースにより行われる連続的なＵＶ
照射に伴う通常の有害な副産物が生じることがなく、実
際上、チミンダイマの治療効果を向上させると考えられ
る。これは、不連続パルスの場合、励起パルスの活性部
分の間に「暗」部分が存在するためであると考えられ
る。各不連続パルスに暗い非励起部分があるため、各パ
ルス内の蓄積エネルギは光分解物質を生じさせるのに十
分であるが、有毒な副産物を生じさせ又は形成するには
不十分である。

【００２１】本発明によって提供される装置は、累積的
なエネルギ入力が皮膚内のメラニンの形成を励起させ、
メラノ産出を生じさせるのに十分であるが、皮膚をＵＶ
照射に過剰に露呈させることに伴うことが公知の有害な
生成物を生じるには不十分である。

【００２２】通常、連続的なエネルギ源に露呈すること
に伴う有害な生成物の蓄積は、不連続パルスを利用する
場合、著しく軽減されるため、本発明によれば、従来の
有害な副作用を伴わずに、その最も効率的な日焼け領域
（例えば、約２９０ｎｍ）内でより効率的なＵＶＢエネ
ルギ源を利用することが可能となる。上述のように、本
発明を一定の選択されたエネルギ波長（例えば、３７５
−５００ｎｍ）に利用する場合、不連続パルスはＵＶに
起因する皮膚の損傷を治療し得ると考えられる。エネル
ギ／光源、又はろ過装置の異なるスペクトル特性を使用
し、回復モード（例えば、３７５ｎｍ以上）を日焼けモ
ード（例えば、２８０−３００ｎｍ）と別個に又はこれ
と共に行うことが可能となる。

【００２３】

【実施例】図１、図２、図４、図５、図７、図９乃至図
１４に示した機械的発生装置及び図３、図６及び図８に
示した電子パルス発生装置という不連続パルスを発生さ
せる本発明の２つの基本的な実施例について説明する。

【００２４】実施例Ｉ：機械的パルス発生。

【００２５】先ず、図１及び図２を参照すると、機械的
なパルス放射線源発生装置１０が示してある。放射線源
１２が設けられており、２５０乃至４００ｎｍ、望まし
くは、２８０乃至３００ｎｍ、好適には波長約２９０ｎ
ｍの範囲内の日焼け用の第１の選択された波長１４の放
射線を発生させる。３２０−６００ｎｍ、望ましくは、
３７５ｎｍ以上、好適には波長は約４６０−５００ｎ
ｍ、目標としては、４８０ｎｍの第２の選択された波長
を利用してＤＮＡ治療を行うことが出来る。放射線１４
の好適又は最適な波長は、１又は２以上の透過フィルタ
１６を放射線を透過させることにより選択することが出
来、かかるフィルタ１６は、米国、マサチューセッツ
州、サーレムのＥＧ＆ＧインコーポレーテッドのＥＧ＆
Ｇ電子光学素子部門から販売されているＵＶＴプラスチ
ック２６０（約６.４ｍｍ（１／４インチ））又はその
他の幾つかの公知の材料にて形成し、選択された波長１
４ｆのろ過された放射線を提供することが出来る。

【００２６】図１において、未ろ過放射線１４は、経路
妨害手段、この場合、急速回転するシリンダ２０の上方
の放射線源１２により発生される。シリンダ２０は、そ
の少なくとも１つの長手方向端部２２が接続手段２３に
より回転手段２４、この場合、チェーン手段２５により
駆動されるスプロケット２４に接続されている。スプロ
ケット２４及びチェーン手段２５は、任意の適当な駆動
手段（図示せず）により駆動される。シリンダ２０は、
スリット２６が形成されており、該スリットはシリンダ
２０を貫通して該シリンダ２０の全長を伸長する。シリ
ンダ２０のスリット２６が適正な整合状態にあるときに
限り、エネルギ１４ｐは下方に移動することが出来るの
が理解される。スリット２６が適正な整合状態にないと
き、ろ過されたエネルギ１４ｆの経路は、シリンダ２０
により反射されてエネルギ１４ｒとなり、又は吸収され
てエネルギ１４ａの何れかとなるため、周期的に妨害さ
れる。

【００２７】殆んどの時間、エネルギ１４の経路は妨害
されていることが更に理解される。スリット２６が放射
線源１２と垂直方向に適正に整合している短かい不連続
な瞬間だけ、放射線はスリット２６を透過することが出
来る。それ以外のときは、エネルギ経路はシリンダ２０
により妨害され、エネルギはスリット２６内に透過せず
又はスリット２６から放出されない。この結果、スリッ
ト２６からエネルギ１７の不連続パルスが放出される。
又、透過フィルタ１６をスリット２６の出口端に配置
し、選択された波長１８の不連続な放射線パルスを提供
することが出来る。次に、皮膚の日焼け又はＤＮＡの治
療の何れかが行われる箇所３６に選択された波長の放射
線１８を向ける。望ましくは、複数のシリンダを使用す
る場合（例えば、より広い面積に亙りパルス放射線を提
供するため）、チェーン手段２５はタイミングチェーン
型であり、そのため、スプロケット２４はその他のスプ
ロケットの各々と同期化して急速回転し、これにより、
スリット２６と同期して整合させ、その面積全体に亙り
均一なパルスエネルギを提供することが可能となる。

【００２８】図２の機械的パルス発生装置には、放射線
が透過しかつその下方を通過するのを阻止するフィルタ
ブロック又は格子２８が設けられる。図１のフィルタブ
ロック２８には、回転するシリンダ２０のスリット２６
と整合させたスロット３０の形態の放射線透過手段が設
けられており、これらスロット３０は、フィルタブロッ
ク２８の厚さを通って伸長し、パルス放射線１７の透過
を許容する。不要の放射線がスロット３０内に透過しな
いようにするため、これらスロットは、独立気泡構造発
泡材等のような任意の光吸収材料から成るブラインダ３
２で内張りされる。

【００２９】図１及び図２の機械的パルス発生装置は、
図７に示した波形を有する選択されたエネルギの不連続
な選択されたエネルギパルスを発生させる。スリット２
６がスロット３０及び放射線源発生装置１２と完全に整
合されていない場合、放射線経路は妨害され、各種のグ
ラフで「零」線で示すように、放射線は全く放出されな
い。図７Ａに示すように、スリット２６、スロット３０
及び放射線源１２が整合状態にあるとき、強度又は出力
レベル「ｙ」の正のエネルギがパルス持続時間「ｘ」、
放出される。シリンダ２０の回転により、スロット３
０、スリット２６及び光源１２を駆動して、非整合状態
とすると、装置は「暗」となり、時間「ｚ」の間、エネ
ルギは全く放出されない。各パルスの持続時間及びパル
ス間の暗い時間は、シリンダ２０及びスリット２６の幾
何学的形状に依存する。例えば、シリンダ２０が２.５
４ｃｍ（１インチ）の径、スリット２６が約４．２ｍｍ
（０.１６５インチ）の幅であり、これらを分当たり１
０００回の回転数（ｒｐｍ）で回転させるとき、シリン
ダ２０のスロット３０から放出されるＵＶエネルギ１７
の不連続パルスは、約１.５乃至２.０ミリ秒となる。

【００３０】シリンダ２０、スロット３０及びスリット
２６の配置形態を異なったものとすれば、異なるパルス
特性が得られるであろう。例えば、図７Ｂには、各パル
ス間の暗時間が一定で持続時間及び出力が均一な２つの
パルスが示してある。図７Ｃには、一連のパルスと相対
的に同一長さの暗時間で中断される一連の均一な比較的
低い出力パルスが示してある。図７Ｄには、比較的長い
暗時間後のより高い出力レベルの単一のパルスが示して
ある。図７Ｅには、反復的な可変の多数パルスの発生順
序が示してあり、このサイクルにおいて、第１の高出力
パルス、その後の短い暗時間、更に、その後の略同一の
パルス持続時間のより低出力時間、より長い暗時間とい
う、パルスサイクルが反復される。特定のサイクル内の
パルスパターンの種類を制限するものは、設計者の幾何
学的創造力のみである。例えば、図２には、２列の回転
シリンダ２０が示してある一方、図１には、単一列のシ
リンダ２０が示してある。同様に、透過フィルタ１６を
相互に交換し、単一の装置が２つの選択された波長の放
射線の不連続パルスを放出し、一方が日焼けを促進し、
その他方がＤＮＡの治療を促進するようにすることが出
来る。

【００３１】図４及び図５を参照すると、機械的なパル
ス発生装置の別の実施例が示してある。図４において、
パルス発生装置１０Ｂは、例えば、未ろ過又は選択され
た波長のエネルギ１４Ｂを放出する一連の蛍光管のよう
な放射線源１２Ｂと共に提供される。透過フィルタ１６
Ｂは、選択された波長のエネルギ１８Ｂの透過のみを許
容する。放射線源１２Ｂ及びフィルタ１６Ｂは、図示し
ない装置により作動されて、急速回転するローラ３８の
回りを回転する平坦な板３６の上方に配置される。平坦
な板３６には、放射線に対して略不透過性である複数の
平行な薄板４１が設けられており、更に、該平坦な板３
６の厚さ部を貫通して、例えば約１.２７ｃｍ（０.５イ
ンチ）幅の一連の穴４０が形成されている。

【００３２】平坦な板３６がローラ３８の回りを秒当た
り約４５.７２ｃｍ（１.５フィート／秒）の速度で回転
するとき、これにより上方薄板４１（及び隣接する穴４
０）及び下方薄板４１（及び隣接穴４０）は相互に反対
方向に回転する。この反対方向への回転モード中、放射
線経路は、その殆んどの時間、放射線不透過性薄板４１
により妨害されており、一部の放射線が頂部の穴４０を
透過することができても、殆んどの時間、その放射線４
０Ｂは底部の放射線不透過性薄板４１により妨害され
る。しかし、適時、符号４０Ａで示すように上方及び下
方穴４０は整合状態となり、その結果、ろ過した放射線
１７は、回転する平坦な板３６を完全に透過し、これに
より、約１.５ミリ秒の持続時間の放出エネルギの不連
続パルスを生じさせる。別のフィルタ４２を設け、放射
線４４の放出パルスの選択された波長を更に修正するこ
とが可能である。

【００３３】図４に示した実施例による装置は、放射線
源１２Ｂを太陽として屋外で提供することも出来る。ユ
ーザは装置１０Ｂの下方に位置し、通常、太陽により供
給される損傷の虞れのある全体として連続的なＵＶエネ
ルギに連続的に露呈させずに、太陽エネルギの不連続パ
ルスにのみ露呈させるだけでよい。これは皮膚の損傷を
顕著に防止すると考えられる。

【００３４】図５において、放射線源１２Ｃ（１）、１
２Ｃ（２）からのエネルギ１４Ｃがろ過されずに（１２
Ｃ（１））、又は、透過フィルタ１６Ｃを通じて（１２
Ｃ（２）から）、回転する１又は２以上の反射面４２
（例えば、ミラー）に供給することにより、エネルギの
不連続パルスが提供される装置１０Ｃが示してある。反
射面４２は、三角形又はその他の異なる多角形の形態に
て提供され、その軸線４４を中心として回転される（４
３）。反射面４２は、平坦な面４２ｐが提供される不連
続的な時間のみ反射することが出来、これにより、エネ
ルギの不連続な反射パルスを発生させることがわかる。
最適な波長を更に選択することが望ましい場合、この反
射された放射線は、透過フィルタ４６で更にろ過するこ
とが出来る。

【００３５】当業者には、図４及び図５の装置からの放
出パルスの放出波形は、図７に示した波形と同様である
ことが明らかであろう。同様に、構成要素の幾何学的形
態いかんにより、各種のパルス波形が実現可能である。

【００３６】図１及び図２において、シリンダ２０は、
放射線源１２に隣接している。経験から、この構成の結
果、放射線源１２は周縁方向の全方向に放射し、スリッ
ト２６は該スリット２６に向けて放出された量の放射線
のみを透過させるため、放射線の大部分が無駄になるこ
とが分かった。故に、図９乃至図１４を参照すると、貫
通穴を有するシリンダを放射線源を中心として配置し、
これらシリンダを回転させる異なる方法を教示する別の
実施例が示してある。図９には、本発明の一実施例の貫
通穴を有する１つの中空シリンダ内にある周縁方向の全
方向に放射する放射線源が示してある。図１０には、本
発明の別の実施例の貫通穴を有する一対の中空シリンダ
内にある周縁方向の全方向に放射する放射線源が示して
ある。図１１には、図９及び図１０に示した装置用の選
択された放射パターンが示してある。図１２には、１つ
の中空シリンダ内に各々設けられた複数の放射線源を備
える本発明の一実施例の平面図及び底面図が示してあ
る。図１３には、複数の単一のシリンダを軸方向に回転
させる１つの手段、及び本発明に適用可能である複数の
内側及び外側シリンダを反対方向に向け軸方向に回転さ
せる別の手段が示してある。図１４には、空気タービン
技術を利用してシリンダを回転させるため、シリンダに
フィンを取り付ける方法が示してある。日焼け及びＤＮ
Ａ治療の場合、図１０に示すような内側及び外側シリン
ダの実施例は、パルスを所望の方向にのみ放射すること
が望ましいとき、好適なものであると考えられる。 次
に、図９を参照すると、放射線源１２は円筒状表面に２
つの穴２６０を有する第１の中空シリンダ２００内にあ
る状態で示してある。以下に説明するように、シリンダ
２００の一端に配置されたスプロケット２４０を使用し
て、シリンダ２００をその軸線を中心として回転させ
る。図１０において、放射線源１２及び第１の中空シリ
ンダ２００は、第２の中空シリンダ３００内に挿入され
ている。これら第１のシリンダ２００及び第２のシリン
ダ３００は同軸状に整合している。又、該第２のシリン
ダ３００はその円筒状表面に２つの穴３６０を有してい
る。図１０に示すように、第１の中空シリンダ２００は
第２の中空シリンダ３００の軸方向長さよりも長い軸方
向長さを有している。スプロケット２４０を有する第１
のシリンダ２００の端部は、スプロケット３４０を有す
る第２のシリンダ３００の端部の外側を軸方向に伸長し
ている。以下に説明するように、これらスプロケット２
４０、３４０を使用し、シリンダ２００をその軸線を中
心として一方向に及び第２のシリンダ３００をその軸線
を中心として反対方向に回転させる。

【００３７】又、図１０には、スロット又は貫通穴３０
を有するフィルタブロック又は表面２８が示してある。
放射線源１２、第１のシリンダ２００の穴２６０、第２
のシリンダ３００の穴３６０及び穴３０が放射線連通状
態にあるとき、放射線源１２からの放射線がこれらを透
過して進む。第１のシリンダ２００及び第２のシリンダ
３００の一方又はその双方が回転するとき、穴２６０、
３６０及び穴３０を整合させ、放射線はパルス１７の形
態にて放射線源１２から穴３０を経て表面３６に向けて
透過して進むようにする。

【００３８】図１１ａには、穴３０を有する表面２８、
表面３６、及び放射線ビーム１７が付加された、図９の
線１１ａに沿った平面的な断面図が示してある。放射線
源１２が周縁の全方向に連続的に放射する状態で、シリ
ンダ２００の回転は、「灯台効果」を生じさせる。穴２
６０を透過する放射線１７は、シリンダ２００の軸線を
中心として回転し、シリンダ２００が回転する毎に放射
線パルスが穴３０を透過し、表面３６の一定の箇所を照
射する。しかし、例えば、日焼けに使用する回転速度の
ため、人間の眼はこの「灯台効果」を感知することは出
来ず、連続的な放射線として認識されよう。

【００３９】全方向性の放射線源１２から放射された放
射線１７の波長に対するシリンダ２００の内側円筒状表
面の反射率を増大させることにより、単位面積当たりよ
り多くの出力にて表面３６上の固定の箇所を照射するこ
とが出来る。一方、放射線源１２は、パルスを放射すべ
き表面３６の固定の位置の方向にのみ放射し得るような
構造とすることが出来る。この場合、「灯台効果」は生
じない。その代わり、シリンダ２００の回転の結果、固
定の位置に向けて放射される放射線１７がシリンダ２０
０の内側円筒状面により遮断されることにより、表面３
６の上のその固定の位置に放射線パルスが現れる。この
指向性放射線源１２により、シリンダ２００の内側円筒
状面は放射線１７の波長をより吸収するもので形成し、
不要の反射光を減少させることが出来る。

【００４０】図１１ｂ乃至図１１ｄには、図１０の線１
１ｂ−１１ｄに沿った平面的な断面図が示してある。図
１１ｂ乃至図１１ｄは、全て、周縁方向の全方向に放射
する放射線源１２と、穴２６０を有する第１のシリンダ
２００と、穴３６０を有する第２のシリンダ３００と、
穴３０を有する表面２８と、表面３６と、放射線ビーム
１７とが示してある。図１１ｂでは、第１のシリンダ２
００は静止している一方、第２のシリンダ３００は回転
している。図１１ｃでは、第１のシリンダ２００は回転
する一方、第２のシリンダ３００は静止している。図１
１ｄでは、第１のシリンダ２００及び第２のシリンダ３
００は、単位時間当たり等しい回転数で、但し、反対方
向に回転する。これら３つの形態の全てにおいて、放射
線源１２及び穴２６０、３６０、３０が放射線連通状態
となる毎に、１つのパルス１７は表面３６上の１つの位
置を照射する。回転する一方又は双方のシリンダの回転
速度により、周期「ｑ」が決定される。各種の穴の寸法
とシリンダ径との間の幾何学的関係、並びに回転速度に
より、表面３６にパルスがあるときの時間「ｘ」の長さ
が決定される。暗時間「ｚ」の間、表面３６にはパルス
が存在しない。故に、この周期は、パルスの長さと暗時
間との合計、即ち「ｘ＋ｚ＝ｑ」で表示される。例え
ば、日焼け中、暗時間は、パルス時間の少なくとも３倍
長いと考える。しかし、所望の適用例及び露呈時間によ
り、この関係は著しく変化する。

【００４１】図１１ａに関して説明したように、周縁方
向の全方向放射線源１２により放射される放射線１７の
波長に対する第１のシリンダ２００の内側円筒状面の反
射率を増大させることにより、単位面積当たりより多く
の出力にて表面３６上の位置を照射することが出来る。
更に、幾何学的形状いかんにより、第１のシリンダ２０
０の内側円筒状面は放物線状の形状とし、放射線１７を
穴２６０を通じて幾何学的に集束させることが望ましい
こともある。

【００４２】放射線源１２及び穴２６０、３６０、３０
が放射線連通状態であるときに限り、所望のパルスが発
生されため、第１のシリンダ２００の外側円筒状面及び
第２のシリンダ３００の内側及び外側円筒状面の双方
は、放射線源１２から放射される放射線１７の波長を吸
収し得るようにすることが出来る。同様に、図１１ａの
単一のシリンダの形態について説明したように、放射線
源１２は該放射線源１２及び穴２６０、３６０、３０が
放射線連通状態にある方向に向けてのみ放射するような
構造とすることが出来る。

【００４３】図１２ａは、放射線パルスを提供する装置
１０の平面図である。作動時、装置１０の頂部には、保
護カバーが取り付けられる。装置１０は、各々、中空シ
リンダ２００内に収容された３つの放射線源１２を備え
ている。中空シリンダ２００の各々は、該シリンダ２０
０の円筒状面に２つの穴２６０を有している。図示する
ように、各シリンダ２００の２つの穴２６０の組み合わ
せた長さは、シリンダ２００内の放射線源１２の長さに
近似する。穴２６０の各々は、シリンダ２００内の放射
線源１２の径に近似する幅を備えている。又、全てのシ
リンダ２００の穴２６０の全ては平行に整合され、又、
全ての穴２６０は、例えば上向きの状態で示してある。
これら３つのシリンダは相互に等間隔に離間されかつ相
互に平行な状態で示してある。この間隔は、前の図に示
すように、パルスにより照射される面３６が装置１０か
ら離れる距離及び表面３６の上の所望の照射パターンに
より決まる。日焼け及びＤＮＡ治療の場合、単位面積当
たり均一な出力の照射量分布となるようにすることが望
ましい。

【００４４】図１２ｂには、図１２ａに示した位置から
１８０°回転させたシリンダ２００を備え、穴２６０が
全て装置１０の底部を向くようにした図１２ａの装置１
０の底面図が示してある。図１２ｂに示した状態のと
き、放射線１７のパルスは、各放射線源１２から各シリ
ンダ２００の穴２６０を通じ、更に、面２８の穴３０を
通って同時に伝送される。

【００４５】又、図１２ａには、１つの典型的な回転手
段４００が示してある。図１３ａは、図１２ａに示した
線１３ａに沿った手段４００の側面図である。図１２ａ
及び図１３ａの双方を参照すると、各シリンダ２００の
一端のスプロケット２４０は平面内で整合される。手段
４００は、スプロケット付き歯車駆動装置４２０に接続
されたシャフト４１５を有するモータ４１０を備えて示
してある。スプロケット付き無端コンベヤ４５０が各シ
リンダ２００及びスプロケット付き歯車駆動装置４２０
の適当なスプロケット２４０に係合する。コンベヤの張
力手段４３０はスプロケット付き無端コンベヤ４５０の
適正な張力を維持する。モータ４１０がシャフト４１５
を回転させ、これにより、スプロケット付き歯車駆動装
置４２０を回転させると、スプロケット付き無端コンベ
ヤ４５０が回転し、その結果、シリンダ２００を回転さ
せる。

【００４６】図１３ｂには、回転手段４００を使用して
一対の第１の中空シリンダ２００を軸方向に向け一方向
に回転させ、又一対の第２の中空シリンダ３００を軸方
向に向け反対方向に回転させる方法が示してある。回転
手段４００は、スプロケット付き歯車駆動装置４２０に
接続されたシャフト４１５に接続したモータ（図示せ
ず）を備えている。図１２ａ、図１３ａに示した３つの
単一のシリンダ２００の場合のように、スプロケット付
き無端コンベヤ４５０はスプロケット付き歯車駆動装置
４２０に係合する。又、該無端コンベヤ４５０は、第２
のシリンダ３００の各々の適当なスプロケット３４０に
係合する。その両側部にスプロケットを備える第２のス
プロケット付き無端コンベヤ４６０を使用する。コンベ
ヤ４６０の片側のスプロケットがシリンダ２００の各々
の適当なスプロケット２４０に係合する一方、コンベヤ
４６０の反対側のスプロケットがスプロケット付き歯車
駆動装置４２０に係合する。この実施例において、無端
コンベヤ４５０、４６０は適正な回転タイミングを確保
し、全てのシリンダ２００及び全てのシリンダ３００が
単位時間当たり等しい回転数にて回転するような寸法と
する。全ての第２のシリンダ３００の穴３６０と同様
に、全ての第１のシリンダ２００の穴２６０は平行であ
る。このことは、全てのシリンダ２００、３００が等し
い回転速度であることと相俟って、シリンダ２００、３
００の回転毎に放射線パルス１７が各放射線源１２から
穴２６０、３６０を同時に透過し、常に、同一位置に向
けられる。別の実施例において、モータをシャフト４１
５に接続することに代えて、空気タービン技術を採用す
る手段を接続するようにしてもよい。複数のフィンを備
えシャフト４１５に接続し、これらフィンに高速空気を
当てる圧縮空気源を有するだけで、シャフト４１５は上
述のように回転する。コンベヤ４５０、４６０は、同様
に、シリンダ２００、３００の回転を制御するタイミン
グベルトとして機能する。

【００４７】図１４ａ及び図１４ｂには、空気タービン
技術を採用する上記とは別の実施例が示してある。図１
４ａにおいて、フィン５００がシリンダ２００のスプロ
ケット付きでない端部に追加されており、圧縮空気はノ
ズル６００を通じてフィン５００に供給され、シリンダ
２００を回転させる。適用例いかんにより、スプロケッ
ト２４０は上述のようにコンベヤに係合し、複数のシリ
ンダが適正なタイミングで回転するようにする。図１４
ｂには、穴２６０から出る放射線を妨害しないように位
置決めされたシリンダ２００の外面に沿ってら旋状に巻
き付くフィン５１０を備えている。上述のように、シリ
ンダ２００をシリンダ３００内に配置し、シリンダ２０
０の外面とシリンダ３００の内面との間で空気が噴出さ
れるようにノズル６００を配置することにより、シリン
ダ２００は回転する。同様に、複数のシリンダを使用す
る場合、スプロケット２４０を使用し、適正なタイミン
グを確保することが可能である。

【００４８】図１０に関して説明したように、シリンダ
３００と同軸状に整合させたシリンダ２００を使用する
適用例の場合、当業者は、図１４ａのフィン５００をシ
リンダ２００、３００上の双方に配置し、空気を導入し
てシリンダ２００、３００を反対方向に回転させる方法
を容易に理解することが出来る。又、図１４ｂのフィン
５１０の場合、シリンダ２００のフィン５１０及びシリ
ンダ３００のフィン５１０は、そのそれぞれのシリンダ
の外面に沿って反対方向にら旋を形成し、その結果、空
気はシリンダを反対方向に回転させる。この形態におい
て、外側シリンダに沿った少なくとも中間に外側シース
を配置し、空気をこの外側シリンダの外側に沿って導入
し、該シリンダを回転させることが必要である。該外側
シリンダは、内側シリンダに対してこの「シース」機能
を果たす。

【００４９】実施例 II：ストロボスコープパルスの発
生。

【００５０】ストロボスコープ閃光管を利用する電子パ
ルス発生装置１０Ｄが図３Ａ及び図３Ｂに示してある。
図３Ａにおいて、該パルス発生装置１０Ｄは、ランプト
リガに連結され、接続部５４を介してフラッシュランプ
５６のタイミングパルス、又は、閃光を提供する電源５
０と共に提供される。これらパルスの持続時間及び周波
数は、信号処理タイミング手段５８及び信号検出器手段
５９により制御される。フラッシュランプ装置（閃光管
と呼ばれることがある）は、本発明に関係しない適用分
野のものが公知であり、例えば、米国、マサチューセッ
ツ州、サーレムのＥＧ＆ＧインコーポレーテッドのＥＧ
＆Ｇ電子光学素子部門から販売されているものがある。
ＥＧ＆Ｇ社は、このフラッシュランプ用の幾つかの技術
文献及び操作説明書を発行している（例えば、短アーク
キセノンフラッシュランプ及び電源については、データ
シートＦ１０２２Ｂ−１［３／８８］；フラッシュラン
プ操作説明書［４／８８］）があり、これら開示内容は
引用して本明細書に含める）。機械的パルス発生装置用
の連続的なＵＶランプは、米国、コネチカット州、ハム
デンのサウザン・ニューイングランド・ウルトラ・バイ
オレット・カンパニー（Southern New England Ultravi
olet Co.,）からそのモデルＮｏ.ＲＰＲ３５００（３５
０ｎｍ付近でピーク、１／６ピーク＝３２０ｎｍ；４.
５ワット）及びＲＰＲ３０００Ａ（３００ｎｍ付近でピ
ーク、１／６ピーク＝２７０ｎｍ；１５ワット）のよう
なものを購入することが出来る。

【００５１】図３Ａの装置において、フラッシュランプ
５６の型式（例えば、キセノンフラッシュランプ）及び
フラッシュランプ５６を囲繞するガラス外被体６０を選
択することにより、フラッシュランプ５６のスペクトル
出力６２を制御し、選択した波長の放射線パルスを提供
することが可能である（例えば、キセノン閃光管は、照
射されるその殆どが約２５０−３００ｎｍの波長の１つ
の一般的なスペクトルのＵＶ放射線放出を提供する一
方、クリプトンフラッシュランプから放出される放射線
は異なるスペクトルを示す）。更に、フラッシュランプ
５６を囲繞するガラス外被体６０の選択は放射線出力６
２のスペクトル放出に影響を及ぼす。ＥＧ＆Ｇは、所望
のスペクトル特性を実現し得るように選択可能である幾
つかの異なる型式のフラッシュランプ及びガラス外被体
を提供する。更に詳細については、上記のＥＧ＆Ｇの刊
行物を参照のこと。

【００５２】フラッシュランプのパルス出力６２は、典
型的に（但し、常にそうであるとは限らないが）例え
ば、アルミ被覆した反射器のような反射器面６４の上に
付与され、該面６４は照射すべき対象物６８に向けてパ
ルス６６を反射する。例えば、ＵＶＴプラスチックから
成る透過フィルタ７０を反射器６４と標的位置６８との
間に介在させ、照射パルスを更にろ過し、より精密に選
択した波長にすることが出来る。例えば、１０ｎｍ帯域
幅のフィルタに結合させたＥＧ＆Ｇキセノンストロボ又
はフラッシュランプ［ＵＶガラスコーニング９８２３］
は、１０乃至１００マイクロ秒の範囲のパルス持続時間
の２８５−２９５ｎｍの光を選択的に提供することが出
来る。所望であれば、透過フィルタ７０は、図３Ｂに示
すように、フラッシュランプ５６により近接させて配置
することが出来る。

【００５３】人間の皮膚の最大の日焼けは、約２８０乃
至３００ｎｍ、望ましくは、約２９０ｎｍのＵＶ放射線
波長にて生じると考えられる。フラッシュランプ５８、
ガラス外被体６０、反射器面６４及び透過フィルタ７０
を適当に組み合わせて利用することにより、結果として
ＵＶ放射線のろ過パルスをその選択した波長に制御する
ことが出来る。同様に、最大のＤＮＡ治療は、３７５ｎ
ｍ以上、望ましくは、４８０乃至５００ｎｍの間、最適
には、約４９０ｎｍの波長にて生じると考えられる。フ
ラッシュランプ５６、ガラス外被体６０、反射器６４及
び透過フィルタ７０の第２の適当な組み合わせを選択す
ることにより、この第２の所望の周波数のパルス放射線
を発生させ、最適なＤＮＡ治療を行うことが出来る。所
望であれば、フラッシュランプは、単一の装置で日焼け
を促進させる第１の波長及びＤＮＡ治療を促進させる第
２の波長という２つの選択された波長の放射線を提供す
るような方法にて配列することが出来る。

【００５４】図３Ｂに図示する装置１０Ｅにおいて、多
数のフラッシュランプ５６を配列し、より広い面積に亙
って選択した周波数のパルス放射線を提供することが出
来ることが理解される。図６において、多数のフラッシ
ュランプ５６は標準的な日焼けブース１０Ｆ内に配列し
た状態で示してあり、該フラッシュランプは、大人の日
焼け（又はＤＮＡの治療）を促進させる選択された波長
のパルス放射線にて十分に広い標的位置６８を照射する
ことが出来る。

【００５５】次に、図８を参照すると、電子的に又はス
トロボスコープを利用して提供されるパルスの波形は、
機械的に発生されるパルス（図７）の波形と異なること
が理解される。典型的に、各エネルギサイクルｑ内に
て、短いバースト時間ｘだけ持続する急激ではあるが瞬
間的ではない励起がピーク出力又は強度ｙに向けて行わ
れる。次に、パルス波形は、零エネルギ状態に向け急速
に減衰する。時間軸線は極めて不均衡であるため、電子
的に発生されるパルスの特性を正確に把握することは困
難である。例えば、全サイクル時間ｑ（例えば、１秒）
の場合、ＥＧ＆Ｇから市販されている典型的なキセノン
フラッシュランプは、約５０マイクロ秒の全パルス持続
時間を提供し、９９９，９５０マイクロ秒の暗部分を残
す。この比は、均一な時間軸線上に示すことは不可能で
ある。更に、その５０マイクロ秒の一部分（「ｘ」）の
みがピーク出力（「ｙ」）であり、フラッシュランプを
急速にピーク（「ｐ」）まで励起させ、次に無視し得る
値（「ｄ」）まで急速に減衰させるのに利用される時間
と釣り合う。

【００５６】図８Ｂ−図８Ｅを参照すると、機械的パル
ス発生装置と同様に、電子的に発生される広種類のサイ
クルが利用可能である。図８Ｂには、第１のパルスが第
２のパルスよりも大きい出力である２つのパルスを含む
サイクルが示してある。図８Ｃには、ピーク時の時間が
より長い波長が示してある。図８Ｄには、長い暗時間の
後に発生される単一のパルスが示してある。図８Ｅに
は、３つの均一なバーストを含み、その後に長い暗時間
が続き、第４のパルスの発生で終了するサイクルが示し
てある。サイクルの型式及び波形の可能な組み合わせは
実質的に無限である。勿論、実際の波形は極めて可変で
あり、より正確な説明については、ＥＧ＆Ｇの操作説明
書を参照すべきである。

【００５７】再度、図７及び図８を参照すると、本発明
の基本的特徴は、皮膚に付与されるエネルギが無視し得
る「暗時間」（「ｚ」）をエネルギ入力の各サイクル
（「ｑ」）内で提供することである。日焼けを生じさせ
る放射線（２８０−４００ｎｍ）用に選択された周波数
又はＤＮＡ治療放射線（３５０−６００ｎｍ）用に選択
された周波数の何れかの放射線への露呈は、図７及び図
８の各種の波形に示すように、全エネルギサイクル（ｑ
＝ｘ＋ｚ）の極めて短かい時間部分（「ｘ」）のみを占
める極めて短かい不連続パルス内でのみで行われる。例
えば、１秒のエネルギサイクルにおいて、本発明の電子
的実施例（例えば、図３Ａ／３Ｂに示しかつ説明した装
置）は、持続時間「ｘ」、例えば、５０マイクロ秒の
間、出力又は強さ「ｙ」のＵＶエネルギの秒当たり１パ
ルスを提供する。パルス持続時間が５０マイクロ秒の場
合、皮膚はエネルギサイクルの僅か０.００５％しかエ
ネルギに露呈されず、エネルギサイクルの９９.９９５
％は、エネルギ照射量の無視し得る「暗」時間である。

【００５８】図１に示すような機械的パルス発生装置
は、各１秒サイクル中に２つのミリ秒パルスを発生さ
せ、その結果、９９.８％が暗であり、全サイクル時間
の僅か０.２％しか励起されないエネルギサイクルとな
る。１ピコ秒（０.００００００００１秒）の範囲のパ
ルスを発生させる電子／ストロボスコープパルス発生装
置が市販されており、これは、単一の高出力のパルスに
より日焼け又はＤＮＡ治療の何れかを行い、エネルギサ
イクルの大部分を「暗」時間（即ち、９９．９９９９９
９９％暗）を残す、極めて高い出力レベルとすることが
出来る。暗時間の比率が極端な値であるとき、細胞の増
殖過程を向上させる最大の健康増進効果が得られるが、
何らかの事由がある場合、例えばサイクル時間の５乃至
１０％という短い暗時間とすれば所望の効果を生じさせ
るのに十分である。

【００５９】図７Ｃにおいて、４つの不連続パルスを有
するサイクルが示してある。全サイクル持続時間ｑが１
秒であり、これらパルスの各々の持続時間が５０マイク
ロ秒である場合、１秒サイクルの各々の全励起部分は２
００マイクロ秒、即ち、０.２ミリ秒となる。故に、か
かる４パルスサイクルに伴う全暗時間は９９.９８％で
あり、各サイクルは、その時間の０.０２％しか励起さ
れない。各パルスが１秒の全サイクル持続時間内で比較
的長く、２ミリ秒である場合でさえ、各サイクルにおけ
る全励起部分は０.２％にしか過ぎず、サイクル時間の
９９.８％は「暗」時間である。本発明の各実施例は、
全エネルギ時間の大部分が「暗」時間であり、これによ
り、累積的な全エネルギ照射量を著しく軽減する全エネ
ルギサイクルを発生させるものであることが明らかであ
る。現在技術の日焼け装置における連続的な励起と比べ
て、本発明は、エネルギ的に著しく小さいが、所望の効
果（日焼け又はＤＮＡ治療の何れか）を生じさせるエネ
ルギサイクルを発生させるものである。

【００６０】一例としての実施例に関して、本発明の原
理を説明したが、放射線源の多くの変形例が可能であり
（例えば、エキシマレーザは、各パルスがピコ秒程度の
持続時間を有するようにする秒当たり１０,０００とい
う多くの不連続パルスを発生させることが出来る）、当
該技術分野における機械（例えば、ベルト技術）、及び
ストロボスコープ用に使用されるガスの変形例が可能で
あり、これら変形例は全て本発明の範囲、従って、特許
請求の範囲に包含されるものである。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に従って日焼け又はＤＮＡの治療を行う
選択された波長のエネルギの不連続パルスを機械的に提
供する装置の図である。

【図２】図１に示した装置の変形例の更に詳細を示す、
図１の線２−２に沿った断面図である。

【図３】図３Ａは、選択された波長のエネルギの不連続
パルスを電子的に発生させる装置の概略図である。図３
Ｂは、広い面積に亙って均一なパルス放射線を発生させ
る多数の電子パルス発生装置を備える図３の装置の図で
ある。

【図４】選択された波長のエネルギの不連続パルスを機
械的に発生させる別の実施例の図である。

【図５】選択された波長のエネルギの不連続パルスを機
械的に発生させる別の実施例の図である。

【図６】従来の日焼けブース内で具体化した本発明の電
子的機構の実施例の図である。

【図７】図７Ａは、機械的パルス発生装置により発生さ
れた不連続パルスの典型的な波形を示す図である。図７
Ｂは、機械的パルス発生装置により発生された不連続パ
ルスの典型的な波形を示す図である。図７Ｃは、機械的
パルス発生装置により発生された不連続パルスの典型的
な波形を示す図である。図７Ｄは、機械的パルス発生装
置により発生された不連続パルスの典型的な波形を示す
図である。図７Ｅは、機械的パルス発生装置により発生
された不連続パルスの典型的な波形を示す図である。

【図８】図８Ａは、電子パルス発生装置により発生され
た不連続パルスの典型的な波形の図である。図８Ｂは、
電子パルス発生装置により発生された不連続パルスの典
型的な波形の図である。図８Ｃは、電子パルス発生装置
により発生された不連続パルスの典型的な波形の図であ
る。図８Ｄは、電子パルス発生装置により発生された不
連続パルスの典型的な波形の図である。図８Ｅは、電子
パルス発生装置により発生された不連続パルスの典型的
な波形の図である。

【図９】本発明の一実施例における穴を有する中空シリ
ンダ内の放射線源の斜視図である。

【図１０】本発明の別の実施例における穴を有する一対
の中空シリンダ内の放射線源の斜視図である。

【図１１】図９及び図１０に示した装置の選択された放
射線パターンを示す図である。

【図１２】複数の放射線源を備える本発明の一実施例の
平面図及び底面図である。

【図１３】複数の単一シリンダを軸方向に回転させる１
つの手段及び複数の内側及び外側シリンダを軸方向に反
対方向に回転させる別の手段を備え、これら２つの手段
が本発明に使用可能であるモータを採用する状態を示す
図である。

【図１４】空気タービン技術を使用してシリンダを軸方
向に回転させる別の手段を示す図である。

【符号の説明】

１０ パルス放射線発生装置 １２ 放射線
源 １４ 放射線 １６ 透過フ
ィルタ １７ 放射線 １８ 放射線 ２０ シリンダ ２２ 端部 ２３ 接続手段 ２４ スプロ
ケット ２５ チェーン手段 ２６ スリッ
ト ２８ フィルタブロック ３０ スロッ
ト ３２ ブラインダ ３６ 平坦な
板 ３８ ローラ ４０ 穴 ４１ 薄板 ４２ フィル
タ ４４ 放射線 ４６ 透過フ
ィルタ ５０ 電源 ５４ 接続部 ５６ フラッシュランプ ５８ 信号処
理調時手段 ５９ 信号検出器手段 ６０ ガラス
外被体 ６２ 放射線出力 ６４ 反射器
面 ６６ パルス ６８ 標的位
置 ７０ 透過フィルタ

Claims (18)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 皮膚を日焼けさせ又は紫外線に起因する
   皮膚の損傷を治療する装置にして、 （ａ）日焼け又は治療のために皮膚を位置決めすべき位
   置を画成する手段と、 （ｂ）電磁放射線の不連続パルスを前記位置画成手段に
   向ける少なくとも１つの電磁パルス発生手段であって、
   前記位置画成手段に向けた経路内で電磁放射線を連続的
   に放出する連続的な電磁発生手段と、連続的に放出され
   る電磁放射線の経路を周期的に妨害し、電磁放射線の不
   連続パルスを得る経路妨害手段とを有する電磁パルス発
   生手段とを備えることを特徴とする装置。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の装置にして、前記経路
   妨害手段が、前記位置画成手段と前記連続的な電磁発生
   手段との間に配置された複数の平行な回転薄板を備え、
   前記複数の平行な回転薄板の各々が所定の回転位置にて
   連続的に放出された電磁放射線の透過を許容する貫通穴
   を有することを特徴とする装置。
3. 【請求項３】 請求項１に記載の装置にして、前記経路
   妨害手段が、前記位置画成手段と前記連続的な電磁発生
   手段との間に配置された１又は２以上の回転シリンダを
   備え、前記シリンダの各々が、所定の回転位置にて連続
   的に放出された電磁放射線の透過を許容する貫通穴を有
   することを特徴とする装置。
4. 【請求項４】 請求項１に記載の装置にして、前記経路
   妨害手段が、前記連続的な電磁発生手段の周囲に配置さ
   れた回転する１又は２以上の中空シリンダを備え、前記
   中空シリンダの各々が所定の回転位置にて連続的に放出
   された電磁放射線が前記位置画成手段に向けて透過する
   のを許容する少なくとも１つの貫通穴を有することを特
   徴とする装置。
5. 【請求項５】 請求項１に記載の装置にして、前記経路
   妨害手段が、複数の平行な回転可能部材と、前記複数の
   平行な回転可能部材を回転させる手段とを備え、前記複
   数の回転可能部材の各々が、少なくとも１つの反射面を
   有し、前記回転可能部材を回転させたとき、連続的に放
   出された電磁放射線を前記位置画成手段に向けて周期的
   に反射させることを特徴とする装置。
6. 【請求項６】 皮膚を日焼けさせ又は紫外線に起因する
   皮膚の損傷を治療する装置にして、 （ａ）日焼け又は治療のために皮膚を位置決めすべき位
   置を画成する手段と、 （ｂ）電磁放射線の不連続パルスを前記位置画成手段に
   向ける少なくとも１つの電磁パルス発生手段であって、
   電磁放射線を間欠的に発生させる少なくとも１つのスト
   ロボ灯を有する電磁パルス発生手段を備えることを特徴
   とする装置。
7. 【請求項７】 請求項６に記載の装置にして、前記電磁
   パルス発生手段が、前記少なくとも１つのストロボ灯と
   前記位置画成手段との間に配置され、選択された１又は
   ２以上の波長帯域の間欠的な電磁放射線の透過を許容す
   るフィルタ手段を更に備えることを特徴とする装置。
8. 【請求項８】 請求項１乃至７の何れかに記載の装置に
   して、前記電磁パルス発生手段が、前記第１の選択され
   た波長の電磁放射線を放出し、日焼けを生じさせる第１
   の手段と、前記第２の選択された波長の電磁放射線を放
   出し、紫外線放射線に起因する皮膚細胞内のＤＮＡの損
   傷を治療する第２の手段とを備えることを特徴とする装
   置。
9. 【請求項９】 請求項１乃至８の何れかに記載の装置に
   して、電磁放射線の不連続パルスを前記位置画成手段に
   向ける前記少なくとも１つの電磁パルス発生手段が少な
   くとも２つの電磁パルス発生手段を備え、前記位置画成
   手段に向けられた前記不連続パルスを同期させることを
   特徴とする装置。
10. 【請求項１０】 請求項１乃至９の何れかに記載の装置
    にして、前記電磁パルス発生手段と前記皮膚位置画成手
    段との間の位置に配置された少なくとも１つのフィルタ
    手段を更に備え、これにより、１又は２以上の所望の波
    長の電磁放射線のみが透過されるようにすることを特徴
    とする装置。
11. 【請求項１１】 請求項１乃至１０の何れかに記載の装
    置にして、前記少なくとも１つの電磁パルス発生手段
    が、予め選択された１又は２以上の所望の波長の電磁放
    射線を発生させることを特徴とする装置。
12. 【請求項１２】 請求項１乃至１１の何れかに記載の装
    置にして、放射線の不連続パルスの各々が約１ピコ秒乃
    至約２０ミリ秒のパルス持続時間を有することを特徴と
    する装置。
13. 【請求項１３】 請求項１乃至１２の何れかに記載の装
    置にして、日焼け用の放射線の不連続パルスが約２５０
    乃至４００ナノメータの波長を有することを特徴とする
    装置。
14. 【請求項１４】 請求項１乃至１３の何れかに記載の装
    置にして、紫外線放射線に起因する皮膚細胞内のＤＮＡ
    の損傷を治療する放射線の不連続パルスが約３２０乃至
    ６００ナノメータの波長を有することを特徴とする装
    置。
15. 【請求項１５】 請求項１乃至１４の何れかに記載の装
    置にして、日焼け用の放射線の不連続パルスが約２８０
    乃至３００ナノメータの波長を有することを特徴とする
    装置。
16. 【請求項１６】 請求項１乃至１５の何れかに記載の装
    置にして、日焼け用の放射線の不連続パルスが約２９０
    ナノメータの波長を有することを特徴とする装置。
17. 【請求項１７】 請求項１乃至１６の何れかに記載の装
    置にして、紫外線放射線に起因する皮膚細胞内のＤＮＡ
    の損傷を治療する放射線の不連続パルスが約４６０乃至
    ５００ナノメータの波長を有することを特徴とする装
    置。
18. 【請求項１８】 請求項１乃至１７の何れかに記載の装
    置にして、紫外線放射線に起因する皮膚細胞内のＤＮＡ
    の損傷を治療する放射線の不連続パルスが約４８０ナノ
    メータの波長を有することを特徴とする装置。