JP2011078750A - 腫瘍細胞の選択的な殺傷方法およびそのための装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】腫瘍細胞に、少なくとも230〜270nmにわたる連続的な発光スペクトルを有するパルス光(UVパルスフラッシュ)を腫瘍細胞に照射するステップを含むことを特徴とする、腫瘍細胞の選択的な殺傷方法を提供する。上記UVパルスフラッシュは、たとえば積算出力90または180〜7100または14200Jの光源から8cmの距離における積算単位面積照射量を有するもの、換言すれば、UVCの波長に由来するエネルギーとして、6または12〜480または960J/cm2の積算単位面積照射量を有するものが好ましい。上記UVパルスフラッシュを照射するステップは、たとえば1分以内が好ましい。上記UVパルスフラッシュはキセノンフラッシュランプから発せられるものであることが好ましい。
【選択図】図1
Description
本発明は一側面において、以下に述べるような態様により腫瘍細胞にUVパルスフラッシュを照射するステップを含む、腫瘍細胞の選択的な殺傷方法を提供する。
本発明は一側面において、本発明の方法を実施することのできる医療用装置、より具体的には腫瘍組織治療用の装置を提供する。
材料・方法
UVパルスフラッシュ光源(キセノンフラッシュランプ使用):BHX-200(コメット株式会社)
共焦点レーザースキャン顕微鏡:LSM510-META (Carl Zeiss MicroImaging, Jena Germany)
腫瘍細胞:
1. MCF-7(ヒト乳がん由来細胞株)
2. BT474(ヒト乳がん由来細胞株)
3. Hella(ヒト子宮頸がん由来細胞株)
非腫瘍細胞:
1. Cos7(アフリカミドリザル腎由来細胞株)
2. MDCK(イヌ腎臓尿細管上皮細胞由来細胞株)
LSM510-META のFinger Printing 法による自家蛍光観察及び、Azami-Green 蛍光観察(図3参照)の結果、実験を行ったすべての細胞で細胞萎縮は1 回照射から観察された。56 回照射では、細胞表面の膜構造の変化とみられる形態を呈し、細胞萎縮は顕著であった。走査電顕観察(図2参照)でも同様に細胞萎縮、細胞膜構造の変化を認めた。
今回のUV−Cを除去したパルス光照射の結果から、可視光、近赤外光は本現象には関与せず、UV−Cの関与が強く示唆された。UVパルスフラッシュ照射により、腫瘍細胞は短時間のうちに明らかな細胞形態の変化(萎縮)、細胞膜の破壊をきたし、細胞質内物質が細胞外へ放出され、細胞死を迎え、即死を免れた腫瘍細胞もDNA ピリミジン二量体の形成によりアポトーシスを誘発し細胞死に至ったと推測される。
腫瘍細胞株
4. ヒト白血病細胞株 MOLT/S
5. ヒト白血病細胞株 MOLT/TMQ 200(トリメトレキサートTrimetrexate (TMQ)抗がん剤200倍耐性株)
6. ヒト白血病細胞株 K562/S1
7. ヒト白血病細胞株 K562/S2
8. ヒト白血病細胞株 K562/ARA-C(Cytarabine抗がん剤耐性株)
上記各細胞についてpropidium iodaide(PI)を添加し、実施例1と同様に最初に細胞の自家蛍光を活用して形態情報を取得、5%CO2, 37 ℃環境下、LSM510-METAで3次元画像を取得したのち、BHX-200 を細胞直上8cmの位置に設置、UVパルスフラッシュ(UV-Pulse Flash)の0, 14, 56, 560, 2240 回の照射を行ったのち、再度3次元画像を取得した。PI反応にて細胞の生死を確認した。また、UVパルスフラッシュ照射後24時間継続培養し、再度観察、生死の比率を求めた。その後、フローサイトメトリーにより解析(FACS Aria, 日本ベクトン・ディッキンソン株式会社。細胞数=5x105個、n=3)より細胞の生死の比率を求めた。結果を図6に示す。
加うるに、MOLT/TMQ 200およびK562/ARA-Cはともに抗がん剤耐性で、抗がん剤治療効果が期待できない癌であるが、本発明の作用機序は薬理的損傷ではなく物理的損傷であるため、それらの癌に対しても他の癌に対してと同様に絶大なる効果を発揮することが分かる。すなわち、治療困難な癌に対しても新たな作用機序による本法はその効果は期待でき、患者にとり福音となりうるとの期待が持てる。
腫瘍細胞株
9.ヒト線維肉腫細胞株 HT-1080
10.ヒト前立腺癌細胞株 DU145
11.ヒト前立腺癌細胞株 PC3
12.ヒト悪性絨毛上皮腫細胞株 BeWo
上記各細胞についてpropidium iodaideを添加し、実施例1と同様に最初に細胞の自家蛍光を活用して形態情報を取得、5%CO2, 37 ℃環境下、LSM510-METAで3次元画像を取得したのち、BHX-200 を細胞直上8cmの位置に設置、UVパルスフラッシュ(UV-Pulse Flash)の0, 14, 56, 560, 2240 回の照射を行ったのち、再度3次元画像を取得した。PI反応にて細胞の生死を確認した。また、UVパルスフラッシュ照射後24時間継続培養し、再度観察、生死の比率を求めた。その後、フローサイトメトリーにより解析(FACS Aria, 日本ベクトン・ディッキンソン株式会社。細胞数=5x105個、n=3)より細胞の生死の比率を求めた。結果を図8に示す。
腫瘍細胞株
13.マウスリンパ腫 EL-4
14.マウスリンパ腫 A20
15.マウスリンパ腫 RL male 1
上記各細胞についてpropidium iodaideを添加し、実施例1と同様に最初に細胞の自家蛍光を活用して形態情報を取得、5%CO2, 37 ℃環境下、LSM510-METAで3次元画像を取得したのち、BHX-200 を細胞直上8cmの位置に設置、UVパルスフラッシュ(UV-Pulse Flash)の0, 14, 56, 560, 2240 回の照射を行ったのち、再度3次元画像を取得した。PI反応にて細胞の生死を確認した。また、UVパルスフラッシュ照射後24時間継続培養し、再度観察、生死の比率を求めた。その後、フローサイトメトリーにより解析(FACS Aria, 日本ベクトン・ディッキンソン株式会社。細胞数=5x105個、n=3)より細胞の生死の比率を求めた。結果を図9に示す。
ヒト白血病細胞同様、マウスリンパ腫細胞にについても同様な結果が得られたことは、ヒトのみならず他の動物における液性癌についても適応の可能性が示唆された。
体表腫瘍組織照射装置
図10に示す体表腫瘍組織照射装置10を作製した。UVパルス光源1(QSO-7016UVSP、BHX-200に使用されているUVC発振管)からのUVパルスフラッシュ光を石英レンズ2(前側焦点距離26mm、後側焦点距離25mm)にて採光・集光し、その焦点面に直径1.0mm φ石英ファイバー3の採光口を設置、長さ1200mmの石英ファイバー3でプローブ4の先端まで導き照射できる。プローブ4の先端には1.5 mmのサファイアボール5を埋め込み、照射角75度を確保した。
BALB/cA-nu/nu ♀。生後6週間よりACHN(ヒト腎癌細胞株)を皮下移植して担癌を開始した。
上記担癌マウスの腫瘍径が20から30mmに腫大後、上記体表腫瘍組織照射装置による照射実験を開始した。0, 6, 18, 29および33日目に、それぞれ120秒間、癌部にプローブの先端を当接させてUVパルスフラッシュを照射した(図11参照)。併せて対象として、非腫瘍部皮膚に同被曝量の照射を行った。担癌マウスの腫瘍容積の推移を図12に示す。矢印は照射日を指す。図11に示すごとく、担癌の腫瘍サイズは942mm3,1308.33mm3とかなり大きな腫瘍塊で、体重は25.8gであった。容積は照射後1日から減少し、4日後に最初の低値を記録、翌日から増加傾向移行したため、第6日に第2回照射を実施した。容積の推移を確認しながら第5回照射まで行い、手術により腫瘍塊(残骸)を摘出した。併せてホルマリンパラフィン標本、電子顕微鏡標本を作製し、形態学的考察を加えた。その結果、腫瘍細胞は、壊死・融解・消失しており、その周りを取り囲むように、線維組織が取り巻いていた。容積比で約80%減で横ばいとなった原因は、腫瘍細胞が消滅し、その代わりに、修復過程で現れる線維組織に置き換わったためと想定される。線維組織は、正常細胞であるため、UVパルスフラシュ照射を受けても影響は受けない。加うるに、体重の変化は殆どなく当初の体重を維持したことは、腫瘍細胞が死滅したために、腫瘍に搾取される養分が本来の、生体維持に回されたと解釈でき、体重を維持したと考えられる。対象としての正常皮膚照射群では、形態へ変化は確認できなかった。
照射量測定条件
[1] パルス光源 QSO−70106UVSP (BHX-200)
ストロボ電源部 HD-200相当機
[2] 集光レンズ
[3] 1200mm長、1mmφ石英ファイバー
[4] サファイアボール
[20] 測定器 受光部 浜松ホトニクス製 UVモジュールH8496-11 φ8mm
計測部 京立電機製 DEF-2100
光学ベンチ X型 1000mm長
2:石英レンズ
3:石英ファイバー
4:プローブ
5:サファイアボール
6:フィルターガイド
10:体表腫瘍組織照射装置
20:照射量測定器
Claims (12)
- ヒトもしくはヒト以外の動物の生体外またはヒト以外の動物の生体内において、腫瘍細胞に、少なくとも230〜270nmにわたる連続的な発光スペクトルを有するパルス光(以下「UVパルスフラッシュ」という。)を照射するステップを含むことを特徴とする、腫瘍細胞を選択的に殺傷する方法。
- 前記UVパルスフラッシュが、積算出力90〜7100Jの光源から8cmの距離における積算単位面積照射量を有するものである、請求項1に記載の方法。
- 前記UVパルスフラッシュが、積算出力90〜14200Jの光源から8cmの距離における積算単位面積照射量を有するものである、請求項1に記載の方法。
- 前記UVパルスフラッシュが、積算出力180〜14200Jの光源から8cmの距離における積算単位面積照射量を有するものである、請求項1に記載の方法。
- 前記UVパルスフラッシュが、UVCの波長に由来するエネルギーとして、6〜480J/cm2の積算単位面積照射量を有するものである、請求項1に記載の方法。
- 前記UVパルスフラッシュが、UVCの波長に由来するエネルギーとして、6〜960J/cm2の積算単位面積照射量を有するものである、請求項1に記載の方法。
- 前記UVパルスフラッシュが、UVCの波長に由来するエネルギーとして、12〜960J/cm2の積算単位面積照射量を有するものである、請求項1に記載の方法。
- 前記UVパルスフラッシュを照射するステップが1分以内である、請求項1〜7のいずれかに記載の方法。
- 前記UVパルスフラッシュがキセノンフラッシュランプから発せられるものである、請求項1〜8のいずれかに記載の方法。
- 少なくとも230〜270nmにわたる連続的な発光スペクトルを有するパルス光(UVパルスフラッシュ)の光源を備えることを特徴とする、腫瘍組織治療用の装置。
- 前記装置が内視鏡、レーザ顕微鏡または体表腫瘍組織照射装置である、請求項10に記載の装置。
- 前記光源がキセノンフラッシュランプである、請求項10または11に記載の装置。
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