JPH052186A - Liquid crystal display device - Google Patents
Liquid crystal display deviceInfo
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- JPH052186A JPH052186A JP3154825A JP15482591A JPH052186A JP H052186 A JPH052186 A JP H052186A JP 3154825 A JP3154825 A JP 3154825A JP 15482591 A JP15482591 A JP 15482591A JP H052186 A JPH052186 A JP H052186A
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- line
- auxiliary capacitance
- gate
- electrode
- lines
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、液晶プロジェクタに関
し、特にカラーにおいて画像のボケを防止した液晶プロ
ジェクタに関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal projector, and more particularly to a liquid crystal projector which prevents image blurring in color.
【０００２】[0002]
【従来の技術】近年、ＡＶメディアの普及、多様化に伴
い、高画質・大画面が指向されている。特にクリアビジ
ョン、ハイビジョンの実験放送が始まり、液晶パネルを
３枚用いたプロジェクタが注目されている。2. Description of the Related Art In recent years, with the spread and diversification of AV media, high image quality and large screen have been aimed. In particular, experimental broadcasts for clear vision and high vision have begun, and projectors using three liquid crystal panels have been receiving attention.
【０００３】文献としては、例えばテレビジョン学会誌
Ｖｏｌ．４５，Ｎｏ．２（１９９１）「液晶投写型ディ
スプレイ」等にこれらの技術が詳述されている。The literature includes, for example, Journal of Television Society Vol. 45, No. 2 (1991) “Liquid Crystal Projection Display” and the like, which describe these techniques in detail.
【０００４】図５に３板ミラー方式光学系の概略を示
す。メタルハライドランプ等の光源（５０）からの光
は、反射ミラー（５１）を介して、熱線、紫外線カット
フィルター（５２）を通過し、ダイクロックミラー（５
３）に到達する。ここでこのダイクロックミラー（５
３）は、特定波長域の光を反射または透過する働きを有
し、青（Ｂ）の光のみが９０°方向を変え反射され、他
の光は透過される。透過した光は、ダイクロックミラー
（５４）に入射され、緑（Ｇ）の光のみが反射され、透
過光は赤（Ｒ）となる。このようにＢ．Ｇ．Ｒの順に分
光された各光は、専用の液晶パネル（５５），（５
６），（５７）に入射される。各パネル（５５），（５
６），（５７）は、各色に対応した映像が再生されてお
り、入射光は各色ごとに変調を受けた後、合成される。FIG. 5 schematically shows a three-plate mirror type optical system. Light from a light source (50) such as a metal halide lamp passes through a reflection mirror (51), a heat ray, an ultraviolet ray cut filter (52), and a dichroic mirror (5).
Reach 3). This dichroic mirror (5
3) has a function of reflecting or transmitting light in a specific wavelength range, only blue (B) light changes its direction by 90 ° and is reflected, and other light is transmitted. The transmitted light is incident on the dichroic mirror (54), only the green (G) light is reflected, and the transmitted light becomes red (R). Thus, B. G. Each light dispersed in the order of R is supplied to a dedicated liquid crystal panel (55), (5
6) and (57). Each panel (55), (5
6) and (57), the video corresponding to each color is reproduced, and the incident light is combined for each color after being modulated.
【０００５】ダイクロックミラー（５８）では、Ｇ光が
反射され、透過して来たＢの光と合成され、ダイクロッ
クミラー（５９）でＲの光と合成される。合成された光
は、投写レンズ（６０）によりスクリーン上へ投影され
る。ここで（６１）は、コンデンサレンズで、投写レン
ズ（６０）への光の絞り込みを行うものである。また
（６１）は反射ミラーである。The dichroic mirror (58) reflects the G light and combines it with the transmitted B light, and the dichroic mirror (59) combines it with the R light. The combined light is projected onto the screen by the projection lens (60). Here, (61) is a condenser lens for narrowing the light to the projection lens (60). Further, (61) is a reflection mirror.
【０００６】一方、液晶パネルは、２枚のガラス基板間
に液晶が注入されたものであり、一方の基板には、図６
の如きセルがマトリックス状に配置された図７の如きパ
ターンが設けられている。On the other hand, the liquid crystal panel is one in which liquid crystal is injected between two glass substrates, and one of the substrates is shown in FIG.
7 is provided in which cells like the above are arranged in a matrix.
【０００７】先ずガラス基板上には、一点鎖線で示すゲ
ートライン（７１）が左右に複数本設けられ、このライ
ン（７１）と一体でゲート（７２）が設けられている。
また後述する表示電極（７３）と一部を重畳して補助容
量と成る補助容量ライン（７４）が左右に延在されてい
る。これらの上層には、ゲート絶縁膜を介して、ａ−Ｓ
ｉ．Ｎ+型ａ−ＳｉおよびＩＴＯが形成されている。こ
こでは、ＴＦＴ（７５）が２つ有るため、前記ゲート
（７２）上に、２ケ所ａ−Ｓｉ層（７６）が設けられ、
実線で示す半導体保護膜（７７）を介して、更に、点線
で示すＮ+型ａ−Ｓｉ層（７８）が設けられている。ま
た２点鎖線で示す表示電極（７３）は、ゲートライン
（７１）、ドレインライン（７９）および補助容量ライ
ン（７４）で囲まれて設けられている。この表示電極
（７３）は、前記ＴＦＴ（７５）のソース領域に対応す
るＮ+型ａ−Ｓｉ層（７８）上から延在されるソース電
極（８０）と電気的に接続されている。一方、前記ＴＦ
Ｔ（７５）のドレイン領域に対応するＮ+型ａ−Ｓｉ層
（７８）にドレイン電極（８１）が設けられ、このドレ
イン電極（８１）と一体で成るドレインライン（７９）
が設けられている。更には、パッシベーション膜を介し
て、破線で囲まれた領域のみが残るように遮光膜（８
２）が設けられ、更に配向膜が設けられている。First, on the glass substrate, a plurality of gate lines (71) indicated by the alternate long and short dash line are provided on the left and right, and the gate (72) is provided integrally with the lines (71).
Further, an auxiliary capacitance line (74), which partially overlaps with a display electrode (73) described later and serves as an auxiliary capacitance, extends left and right. On top of these, aS
i. N + type a-Si and ITO are formed. Here, since there are two TFTs (75), two a-Si layers (76) are provided on the gate (72),
An N + type a-Si layer (78) shown by a dotted line is further provided via a semiconductor protective film (77) shown by a solid line. The display electrode (73) indicated by the chain double-dashed line is provided so as to be surrounded by the gate line (71), the drain line (79) and the auxiliary capacitance line (74). The display electrode (73) is electrically connected to the source electrode (80) extending from the N + type a-Si layer (78) corresponding to the source region of the TFT (75). On the other hand, the TF
A drain electrode (81) is provided on the N + type a-Si layer (78) corresponding to the drain region of T (75), and a drain line (79) integrated with the drain electrode (81).
Is provided. Furthermore, the light-shielding film (8) is formed so that only the region surrounded by the broken line remains through the passivation film.
2) is provided, and an alignment film is further provided.
【０００８】一方、対向基板上には、対向電極および配
向膜が設けられ、両基板間に液晶が注入されて液晶パネ
ルと成る。ここで前記遮光膜（８２）は、対向基板上に
設けられても良い。On the other hand, a counter electrode and an alignment film are provided on the counter substrate, and liquid crystal is injected between the two substrates to form a liquid crystal panel. Here, the light shielding film (82) may be provided on the counter substrate.
【０００９】[0009]
【発明が解決しようとする課題】前述の如き構成である
ため、遮光膜で囲れた領域、表示を行う領域は、例えば
図７の如く凸凹を有する。ここで、この凸凹形状は、あ
たかもＦの字の形状に類似しているので、パターンの説
明等でＦとして使用してゆく。このパターンは実際は図
８の如くＦがマトリックス状に配置されている。次に図
１１を用いてパネルに写し出される映像とパターンＦの
関係を説明してゆく。ＢおよびＲの光学系に用いるパネ
ルを図１２に示す。表示領域のパターンＦは、図の小文
字のＦの向きに配列され、映像は図の大文字Ｆが映し出
される。またＧの光学系のパネルを図１３に示す。表示
領域のパターンは同じであるが、映像は駆動回路によっ
て上下反転されている。尚、Ｓは表面を示し、表面側に
はＴＦＴが設けられている基板が有り、裏側には対向基
板が有り、これに遮光膜が設けられている。Because of the above-described structure, the region surrounded by the light-shielding film and the region for displaying have irregularities as shown in FIG. 7, for example. Here, since this uneven shape is similar to the shape of the letter F, it will be used as F in the description of the pattern and the like. In this pattern, Fs are actually arranged in a matrix as shown in FIG. Next, the relationship between the image displayed on the panel and the pattern F will be described with reference to FIG. A panel used for the B and R optical systems is shown in FIG. The pattern F of the display area is arranged in the direction of the lower case F in the figure, and the image shows the upper case F in the figure. A panel of the G optical system is shown in FIG. The pattern of the display area is the same, but the image is vertically inverted by the drive circuit. It should be noted that S indicates a surface, and there is a substrate on the front surface side of which a TFT is provided, and on the back side thereof is an opposite substrate on which a light shielding film is provided.
【００１０】このパネルを図１１の如く設けると、先ず
Ｂの透過光は、一度も反身されないために、図８のパタ
ーンがそのまま状態で合成され、投写レンズ（６０）へ
入射される。Ｒの透過光は、反射ミラー（６１）とダイ
クロックミラー（５９）で９０°の方向転換を二度行う
ため、Ｂの透過光と同様に、図８のパターンがそのまま
の状態で合成されて投写レンズ（６０）へ入射される。
更には、Ｇの透過光は、ダイクロックミラー（５８）で
９０°の方向転換を一度だけ行うため、上下が反転され
て投写レンズ（６０）へ入射される。そのため映像は一
致するが、表示領域Ｆは上下が反転される。When this panel is provided as shown in FIG. 11, first, the transmitted light of B is never reflected, so that the pattern of FIG. 8 is combined as it is and is incident on the projection lens (60). Since the transmitted light of R is changed in direction by 90 ° twice by the reflection mirror (61) and the dichroic mirror (59), the pattern of FIG. 8 is synthesized as it is like the transmitted light of B. It is incident on the projection lens (60).
Furthermore, the transmitted light of G is turned upside down by 90 ° by the dichroic mirror (58) only once, so that it is turned upside down and is incident on the projection lens (60). Therefore, the images match, but the display area F is inverted upside down.
【００１１】一方、図１４を用いてパネルに映し出され
る映像とパターンＦの関係を説明してゆく。ＢおよびＲ
の光学系のパネルは、図１１と同様であり、Ｇの光学系
は図１５に示すパネルを使う。表示領域Ｆは同じ向きに
設けられるが、映像は駆動回路によって左右が反転され
ている。このパネルを図１４の如く設けて用いると、映
像は一致するが、表示領域Ｆのパターンは、左右が反転
される。従って例えば図１１のパネル配置では図９に示
すように、ＲとＢの光は、Ｆの形状で一致するが、Ｇの
光は、一致せず斜線で示す領域は、３つの光が合成され
ず、上の斜線で示す領域は、ＲとＢの２つの光、下の斜
線で示す領域は、Ｇの光のみとなる。On the other hand, the relationship between the image displayed on the panel and the pattern F will be described with reference to FIG. B and R
The panel of the optical system of is the same as that of FIG. 11, and the panel of the optical system of G uses the panel shown in FIG. The display area F is provided in the same direction, but the image is horizontally reversed by the drive circuit. When this panel is provided and used as shown in FIG. 14, the images match each other, but the pattern of the display area F is reversed left and right. Therefore, for example, in the panel arrangement of FIG. 11, as shown in FIG. 9, the R and B lights match in the shape of F, but the G light does not match and the three shaded regions are combined into three lights. On the other hand, the upper hatched area has two lights of R and B, and the lower hatched area has only G light.
【００１２】つまり、３原色分離ミラー方式プロジェク
ションは、１色だけミラー反転回数が奇数（または偶
数）と異なり、通常の画素配列ＬＣＤでは、色ボケを生
じる問題があった。That is, in the projection of the three primary color separation mirror system, the number of mirror inversions for one color is different from an odd number (or even number), and there is a problem that a normal pixel array LCD causes color blur.
【００１３】[0013]
【課題を解決するための手段】本発明は前述の課題に鑑
みて成され、透明な絶縁性基板（１）の中央に設けられ
た１本または２本の補助容量ライン（７４）と、この補
助容量ライン（７４）を中心にして、所定の間隔で平行
配置された複数本のゲートライン（７１）およびこれと
一組でなる複数本の補助容量ライン（７４）と、このゲ
ートライン（７１）と直行する複数本のドレインライン
（７９）と、前記補助容量ライン（７４）、ゲートライ
ン（７１）およびドレインライン（７９）で囲まれた素
子領域に設けられた表示電極（７３）およびスイッチン
グ素子とを備え、前記表示電極（７３）およびスイッチ
ング素子を、前記１本または２本の補助容量ライン（７
４）の中心線に対して線対称とすることで解決するもの
である。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and one or two auxiliary capacitance lines (74) provided in the center of a transparent insulating substrate (1), A plurality of gate lines (71) arranged in parallel around the auxiliary capacitance line (74) at a predetermined interval, a plurality of auxiliary capacitance lines (74) paired with the gate line (71), and the gate line (71). ) And a plurality of drain lines (79), display electrodes (73) and switching provided in an element region surrounded by the auxiliary capacitance line (74), the gate line (71) and the drain line (79). An element, and the display electrode (73) and the switching element are connected to the one or two auxiliary capacitance lines (7
The solution is to be line-symmetric with respect to the center line of 4).
【００１４】更には、透明な絶縁性基板（１）上に２本
一組が隣接して平行配置され、この一組が所定の間隔を
有して設けられた複数本のゲートライン（７１）と、こ
のゲートライン（７１）と直行する複数本のドレインラ
イン（７９）と、前記一組のゲートライン（７１）およ
び前記ドレインライン（７９）で囲まれる領域の中央
に、前記ゲートライン（７１）と平行に設けられた１本
または２本の補助容量ライン（７４）と、前記補助容量
ライン（７４）、ゲートライン（７１）およびドレイン
ライン（７９）で囲まれた素子領域に設けられた表示電
極（７３）およびスイッチング素子とを備え、前記表示
電極（７３）およびスイッチング素子を、前記１本また
は２本の補助容量ライン（７４）の中心線に対して線対
称とすることで解決するものである。Further, a set of two is arranged adjacently in parallel on the transparent insulating substrate (1), and the set is provided with a plurality of gate lines (71) provided at a predetermined interval. A plurality of drain lines (79) orthogonal to the gate line (71), and the gate line (71) in the center of a region surrounded by the pair of gate lines (71) and the drain line (79). ) And one or two auxiliary capacitance lines (74) provided in parallel with each other, and an element region surrounded by the auxiliary capacitance line (74), the gate line (71) and the drain line (79). A display electrode (73) and a switching element are provided, and it is solved by making the display electrode (73) and the switching element line-symmetric with respect to the center line of the one or two auxiliary capacitance lines (74). Is shall.
【００１５】[0015]
【作用】図５に示す如く、ミラーにより９０°方向を転
換する中心軸に対し、表示領域の形状を上下対称とすれ
ば、ミラー反転回数が異なっても、Ｒ．ＧおよびＢの表
示領域は一致して合成できる。図１および図２は、前記
中心軸をＡ−Ａ線とし、上下に反転する時のパターンで
ある。この形状にすることで、全てのパターンＦは、Ａ
−Ａ線で一致し、このパターンをＲ．ＧおよびＢのパネ
ルに使用すれば、図９の如きパターンＦの一部に不一致
が生ずることなく、色ボケの無い良好なカラー表示を行
なえる。As shown in FIG. 5, if the shape of the display area is vertically symmetrical with respect to the central axis that changes the 90 ° direction by the mirror, the R.P. The display areas of G and B can be combined so as to match. 1 and 2 show patterns when the central axis is taken along the line AA and is inverted up and down. With this shape, all patterns F are A
-A line matches, and this pattern is When used for the G and B panels, a good color display without color blur can be performed without causing a mismatch in a part of the pattern F as shown in FIG.
【００１６】[0016]
【実施例】以下に本発明の実施例を説明する。本発明
は、液晶パネルから透過したＲ．ＧおよびＢの光が、ミ
ラーにより奇数回あるいは偶数回９０°反転するもので
あり、ここでは一例として、従来例と同様に３板ミラー
方式の光学系（図５）で説明してゆく。EXAMPLES Examples of the present invention will be described below. The present invention relates to the R.P. The G and B lights are inverted by 90 ° by a mirror for an odd number of times or an even number of times. Here, as an example, a three-plate mirror type optical system (FIG. 5) will be described as in the conventional example.
【００１７】先ずメタルハライドランプ等の光源（５
０）からの光は、反射ミラー（５１）を介して、熱線、
紫外線カットフィルター（５２）を通過し、ダイクロッ
クミラー（５３）に到達する。ここでは、Ｂの光のみが
９０°方向を変えて反射され、反射ミラー（６１）で更
に９０°方向を変えて反射し、Ｂ専用の液晶パネル（５
５）へ入射される。ダイクロックミラー（５３）で透過
した光は、次のダイクロックミラー（５４）に入射さ
れ、Ｇのみが９０°方向を変えて反射されてＧ専用の液
晶パネル（５７）へ入射される。更には、ダイクロック
ミラー（５４）で透過した光は、Ｒ専用の液晶パネル
（５６）へ入射される。ここで液晶パネルは、後述する
パターン（図１、および図２）を有するものが装着され
る。First, a light source such as a metal halide lamp (5
The light from (0) is transmitted through the reflection mirror (51) to the heat ray,
It passes through the ultraviolet cut filter (52) and reaches the dichroic mirror (53). Here, only the light of B is changed in the direction of 90 ° and reflected, and is further changed in the direction of 90 ° by the reflection mirror (61) to be reflected, and the liquid crystal panel (5) dedicated to B is used.
5). The light transmitted by the dichroic mirror (53) enters the next dichroic mirror (54), and only G changes its direction by 90 ° and is reflected to enter the liquid crystal panel (57) dedicated to G. Further, the light transmitted by the dichroic mirror (54) is incident on the R-dedicated liquid crystal panel (56). Here, a liquid crystal panel having a pattern (FIGS. 1 and 2) described later is mounted.
【００１８】Ｇ専用の液晶パネル（５７）を透過した光
は、ダイクロックミラー（５８）で９０°方向転換さ
れ、ダイクロックミラー（５９）を通過する。Ｒ専用の
液晶パネル（５６）を透過した光は、反射ミラー（６
１）で９０°方向転換され、更にダイクロックミラー
（５９）で９０°方向転換される。Ｂ専用の液晶パネル
（５５）を透過した光は、２つのダイクロックミラー
（５８），（５９）を透過する。合成された光は、投写
レンズ（６０）によりスクリーン上へ投影される。The light transmitted through the G-dedicated liquid crystal panel (57) is redirected by 90 ° by the dichroic mirror (58) and passes through the dichroic mirror (59). The light transmitted through the R-dedicated liquid crystal panel (56) is reflected by the reflection mirror (6
It is turned by 90 ° in step 1) and then turned by 90 ° by the dichroic mirror (59). The light transmitted through the liquid crystal panel (55) dedicated to B transmits through the two dichroic mirrors (58) and (59). The combined light is projected onto the screen by the projection lens (60).
【００１９】ここで、本発明の特徴となる点は、液晶パ
ネルの表示領域のパターンにある。つまり液晶パネルの
光学系の反転軸に対して、線対称に表示領域を形成する
ことにある。The feature of the present invention lies in the pattern of the display area of the liquid crystal panel. That is, the display area is formed in line symmetry with respect to the inversion axis of the optical system of the liquid crystal panel.
【００２０】図１および図２は、Ｇの光学系において上
下に反転する場合で、左右に延びた中心軸Ａ−Ａ線に対
して、表示領域Ｆは全て線対称となっている。またここ
で言う中心軸は、最終的には光軸と一致する。FIGS. 1 and 2 show the case where the G optical system is turned upside down, and the display area F is all line-symmetric with respect to the central axis AA line extending horizontally. Further, the central axis referred to here finally coincides with the optical axis.
【００２１】従って３原色が合成されても、表示領域Ｆ
は常に一致するので色ボケを防止できる。Therefore, even if the three primary colors are combined, the display area F
Since they always match, color blur can be prevented.
【００２２】次に図３の具体的パターンを図１および図
１０を使って説明する。図１には、全体のパターンを示
したため、細部が図示できず、その代り、細部を示した
１セルを図６に示した。Next, the specific pattern of FIG. 3 will be described with reference to FIGS. 1 and 10. Since the whole pattern is shown in FIG. 1, details cannot be shown. Instead, one cell showing details is shown in FIG.
【００２３】先ず透明な絶縁性基板（１）上に形成され
た複数のゲート（７２）、このゲート（７２）と一体の
複数のゲートライン（７１）、複数の補助容量電極
（２）およびこの補助容量電極（２）と一体の複数の補
助容量ライン（７４）と、前記ゲート（７２）、ゲート
ライン（７１）、補助容量電極 （２）および補助容量
ライン（７４）を覆う絶縁層（３）とがある。First, a plurality of gates (72) formed on a transparent insulating substrate (1), a plurality of gate lines (71) integrated with the gates (72), a plurality of auxiliary capacitance electrodes (2), and a plurality of auxiliary capacitance electrodes (2). A plurality of auxiliary capacitance lines (74) integrated with the auxiliary capacitance electrode (2), and an insulating layer (3) covering the gate (72), the gate line (71), the auxiliary capacitance electrode (2) and the auxiliary capacitance line (74). ) There is.
【００２４】ゲートライン（７１）およびゲート（７
２）は、一点鎖線で示され、約１５００ÅのＣｒで構成
されている。ゲートライン（７１）は、左右に延在し、
１本目のゲートライン（７１）は、下方にゲート（７
２）が一体で設けられ、２本目のゲートライン（７１）
は、上方にゲート（７２）が一体で設けられ、以上の構
成が繰り返されている。補助容量ライン（７４）は、左
右に一点鎖線で示され、約１５００ÅのＣｒまたはＩＴ
Ｏより成っている。また１本目のゲートライン（７１）
と２本目のゲートライン（７１）との中心に１本または
２本の補助容量ライン（７４）が設けられ、この中心に
前記中心軸Ａ−Ａ線が設けられる。この中心軸に対して
対称となる様に他の補助容量ラインが複数本設けられ、
Ａ−Ａ線に対し上方向の補助容量ライン（７４）は、上
方向に突出部（２）が設けられ、Ａ−Ａ線に対し下方向
の補助容量ライン（７４）は、下方向に突出部（２）が
設けられている。この突出部（２）および表示電極（７
３）と一部を重畳する補助容量ライン（７４）とがここ
で言う補助容量電極となる。更には基板全面を覆うＳｉ
Ｎｘより成る絶縁層（４）が設けられている。The gate line (71) and the gate (7
2) is indicated by a one-dot chain line and is composed of about 1500ÅCr. The gate line (71) extends left and right,
The first gate line (71) has the gate (7
2) is integrally provided, and the second gate line (71)
The gate (72) is integrally provided above and the above-described configuration is repeated. The auxiliary capacitance line (74) is indicated by a one-dot chain line on the left and right, and is approximately 1500Å Cr or IT.
Made of O. The first gate line (71)
One or two auxiliary capacitance lines (74) are provided at the centers of the second gate line (71) and the center axis AA line. A plurality of other auxiliary capacitance lines are provided so as to be symmetrical with respect to this central axis,
The auxiliary capacitance line (74) which is upward with respect to the line AA is provided with a protrusion (2) in the upward direction, and the auxiliary capacitance line (74) which is downward with respect to the line AA is downwardly projected. A section (2) is provided. The protrusion (2) and the display electrode (7
3) and the auxiliary capacitance line (74) that partially overlaps with each other serves as the auxiliary capacitance electrode here. Furthermore, Si covering the entire surface of the substrate
An insulating layer (4) of Nx is provided.
【００２５】また前記ゲート（７２）に対応する前記絶
縁層（４）上に積層された不純物がドープされていない
非単結晶シリコン膜（７６）と、前記ゲート（７２）を
一構成とするスイッチング素子（ＴＦＴ）のソース領域
およびドレイン領域に対応する非単結晶シリコン膜（７
６）上に形成された不純物がドープされた非単結晶シリ
コン膜（７８）と、前記非単結晶シリコン膜（７８）に
近接して設けられ、前記補助容量電極（２），（７４）
と少なくとも一部が重畳された表示電極（７３）とがあ
る。Further, the non-single-crystal silicon film (76), which is laminated on the insulating layer (4) corresponding to the gate (72) and is not doped with impurities, and the gate (72) constitute a switching circuit. Non-single-crystal silicon film (7) corresponding to the source region and drain region of the device (TFT)
6) Impurity-doped non-single-crystal silicon film (78) and the non-single-crystal silicon film (78) are provided in the vicinity of the non-single-crystal silicon film (78), and the auxiliary capacitance electrodes (2) and (74) are provided.
And a display electrode (73) at least partially overlapped.
【００２６】ここで不純物がドープされていない非単結
晶シリコン膜（７６）は、ゲート（７２）上に活性層と
して設けられ、図６に示す様にゲート（７２）よりも幅
広く点線の四角形で示された領域に、約１０００Åの厚
さのａ−Ｓｉが設けられて成している。ここではリダン
ダンシーとしてＴＦＴを２つ設けている。また実線で示
すＳｉＮｘより成る半導体保護膜（７７）は、約２５０
０Åの厚さで形成され、ＴＦＴの特性劣化を防止してい
る。またこの半導体保護膜（７７）上に一部が重畳さ
れ、前記活性層（７６）と重畳する不純物がドープされ
た非単結晶シリコン膜（７８）が設けられ、ここでは約
５００ÅのＮ+型のａ−Ｓｉが設けられている。また表
示電極（７３）は、２点鎖線で示され、約１０００Åの
ＩＴＯより成っている。本発明は、前記Ａ−Ａ線に対し
対称となっているため、Ａ−Ａ線よりも上方の表示電極
（７３）は、上下が反転したＦの字に形成されている。Here, the non-single-crystal silicon film (76) not doped with impurities is provided as an active layer on the gate (72), and as shown in FIG. The indicated region is formed by providing a-Si with a thickness of about 1000Å. Here, two TFTs are provided as redundancy. Further, the semiconductor protective film (77) made of SiNx shown by the solid line has a thickness of about 250.
It is formed with a thickness of 0Å to prevent deterioration of TFT characteristics. Further, a non-single-crystal silicon film (78), which is partially overlapped with the active layer (76) and is doped with impurities, is provided on the semiconductor protective film (77). Here, an N + -type of about 500 Å is provided. A-Si is provided. The display electrode (73) is indicated by a chain double-dashed line and is made of ITO having a thickness of about 1000Å. Since the present invention is symmetric with respect to the line AA, the display electrode (73) above the line AA is formed in an inverted F shape.
【００２７】最後に、ソース領域に対応する不純物がド
ープされた非単結晶シリコン膜（７８）と前記表示電極
（７３）を電気的に接続するソース電極（８０）と、前
記ドレイン領域に対応する不純物がドープされた非単結
晶シリコン膜（７８）と電気的に接続されたドレイン電
極（８１）およびこのドレイン電極（８１）と一体のド
レインライン（７９）とがある。Finally, a source electrode (80) electrically connecting the non-single crystal silicon film (78) doped with impurities corresponding to the source region and the display electrode (73), and the drain region. There is a drain electrode (81) electrically connected to the impurity-doped non-single-crystal silicon film (78) and a drain line (79) integrated with the drain electrode (81).
【００２８】ソース電極（８０）、ドレイン電極（８
１）およびドレインライン（７９）は、実線で示されて
おり、約１０００ÅのＭｏと約７０００ÅのＡｌの積層
体で成っている。またソース電極（８０）は、×印で示
したコンタクト孔（５）で、ＩＴＯと接続しており、ド
レインライン（７９）は、ドレイン電極（８１）と一体
で上下に延在されている。更には、全面にパシベイショ
ン層を介して配向膜が設けられている。Source electrode (80), drain electrode (8
1) and the drain line (79) are shown in solid lines and consist of a stack of about 1000Å Mo and about 7000Å Al. Further, the source electrode (80) is connected to the ITO through the contact hole (5) shown by X, and the drain line (79) is vertically extended integrally with the drain electrode (81). Further, an alignment film is provided on the entire surface with a passivation layer interposed.
【００２９】一方、前記透明な絶縁性基板と対向する透
明な絶縁性基板上には、対向電極および配向膜が設けら
れている。また遮光膜（８２）は、点線で囲まれた領域
を露出する様に設けられ、ＴＦＴが形成される絶縁性基
板上に設けるのであれば、配向膜の下層、またはゲート
の下層に設けられ、対向する絶縁性基板上に設けるので
あれば、配向膜よりも上層に設けられる。ここでは表示
電極（７３）の周辺が重畳されて遮光膜（８２）が設け
られており、この点線で囲まれた領域が表示領域とな
る。On the other hand, a counter electrode and an alignment film are provided on the transparent insulating substrate which faces the transparent insulating substrate. The light-shielding film (82) is provided so as to expose a region surrounded by a dotted line. If it is provided on the insulating substrate on which the TFT is formed, it is provided below the alignment film or below the gate. If it is provided on the opposing insulative substrate, it is provided above the alignment film. Here, the periphery of the display electrode (73) is overlapped and a light shielding film (82) is provided, and the region surrounded by the dotted line becomes the display region.
【００３０】本構成は、中心線であるＡ−Ａ線で線対称
となっているため、前記表示領域もＡ−Ａ線で線対称と
なっている。従ってＡ−Ａ線で上下が反転する光学系を
有するプロジェクターであっても、Ｒ．ＧおよびＢの全
ての表示領域が一致するので色ボケを生ずることがな
い。In this structure, since the center line AA is line-symmetrical, the display area is line-symmetrical along the line AA. Therefore, even if the projector has an optical system that is vertically inverted by the line AA, the R.Y. Since all the display areas of G and B are the same, no color blur occurs.
【００３１】次に図４の具体的パターンを図２を使って
説明する。図１も図２も、１セルの断面図は、実質的に
同じであるので、ここでは異なる平面的構成だけを説明
してゆく。Next, the specific pattern of FIG. 4 will be described with reference to FIG. 1 and 2, the sectional views of one cell are substantially the same, so only different planar configurations will be described here.
【００３２】図１と同様に、Ａ−Ａ線上に１本または２
本の補助容量ラインが設けられ、これを中心軸として全
てが対称に設けられている。図２では幅の広い１本の補
助容量ライン（７４ａ）が設けられ、このライン（７
４）より所定間隔で、上下に２本一組のゲートライン
（７１）が設けられている。この一組のゲートライン
（７１）の内、上側のゲートライン（７１）には上方に
突出したゲート（７２）が所定の間隔で設けられ、下側
のゲートライン（７１）には、下方に突出したゲート
（７２）が所定の間隔で設けられている。また前記幅の
広い１本の補助容量ライン（７４ａ）から下方および上
方に設けられる補助容量ライン（７４ｂ）は、２本一組
で設けられている。しかしこの２本一組の補助容量ライ
ン（７４ｂ）は、１本の補助容量ラインに置き変えても
良い。また幅の広い１本の補助容量ライン（７４ａ）
は、２本一組で形成されても良い。Similar to FIG. 1, one or two on the line AA.
Book auxiliary capacitance lines are provided, and all are provided symmetrically about the center axis. In FIG. 2, one wide auxiliary capacitance line (74a) is provided.
According to 4), a set of two gate lines (71) is provided on the upper and lower sides at a predetermined interval. Of the set of gate lines (71), the upper gate line (71) is provided with upwardly projecting gates (72) at a predetermined interval, and the lower gate line (71) is provided with a downward direction. Protruding gates (72) are provided at predetermined intervals. Further, the auxiliary capacitance lines (74b) provided below and above the wide auxiliary capacitance line (74a) are provided in pairs. However, the set of two auxiliary capacitance lines (74b) may be replaced with one auxiliary capacitance line. Also, one wide auxiliary capacitance line (74a)
May be formed in pairs.
【００３３】ここで１本の補助容量ライン（７４ａ）
は、本発明の特徴とする所であり、開口率の向上に寄与
するものである。つまり図４の如く、Ａ−Ａ線を境にし
て、上にも下にも、上下が反転した２種類の表示電極が
それぞれ設けられているので、この２種類の表示電極間
には隣接した２本の補助容量ラインが設けられる。また
全ての補助容量ライン（７４）は、一定電位に印加され
るので、この隣接した２本の補助容量ライン（７４ｂ）
は、１本に置き換えられる。従ってこの１本の補助容量
ライン（７４ａ）は、２本一組の補助容量ライン（７４
ｂ）の占める幅よりも小さく形成でき、その分表示電極
（７３）を大きくできるため、開口率が向上する。Here, one auxiliary capacitance line (74a)
Is a feature of the present invention and contributes to the improvement of the aperture ratio. That is, as shown in FIG. 4, two types of vertically inverted display electrodes are provided above and below the line A-A as a boundary, so that these two types of display electrodes are adjacent to each other. Two auxiliary capacitance lines are provided. Further, since all the auxiliary capacitance lines (74) are applied with a constant potential, the two adjacent auxiliary capacitance lines (74b) are
Is replaced with one. Therefore, this one auxiliary capacitance line (74a) is a set of two auxiliary capacitance lines (74a).
The width can be formed smaller than the width occupied by b), and the display electrode (73) can be increased by that amount, so that the aperture ratio is improved.
【００３４】尚、この特徴は、図１のＡ−Ａ線の補助容
量ラインにおいても同様の事が云える。It can be said that this feature is the same as in the auxiliary capacitance line AA of FIG.
【００３５】前述した如く、Ａ−Ａ線より上は、図１で
は全て下向きのゲートが設けられているのに対して、図
２では、下向きおよび上向きのゲートが交互に設けられ
ている。Ａ−Ａ線より下は、図１では全て上向きのゲー
トが設けられているのに対し、図２では、上向きおよび
下向きのゲートが設けられている。従ってＴＦＴの位置
および表示電極（７３）のＦパターンが若干異なる。例
えば図２の一番下の列は、図１と上下が反転しており、
この２つのパターンが交互に設けられている。As described above, above the line AA, all the downward gates are provided in FIG. 1, whereas the downward and upward gates are alternately provided in FIG. Below the line AA, all the gates facing upward are provided in FIG. 1, whereas the gates facing upward and downward are provided in FIG. Therefore, the position of the TFT and the F pattern of the display electrode (73) are slightly different. For example, the bottom row of Figure 2 is upside down from Figure 1,
These two patterns are provided alternately.
【００３６】本構成も図１と同様に、中心軸のＡ−Ａ線
で線対称となっているため、表示領域もＡ−Ａ線で線対
称となっている。従って上下が反転する光学系を有する
プロジェクタであっても、Ｒ．ＧおよびＢの全ての表示
領域が一致するので色ボケを生ずることがない。As in the case of FIG. 1, this structure is also line-symmetrical with respect to the central axis line AA, and therefore the display area is also line-symmetrical with respect to the line AA. Therefore, even if the projector has an optical system that is vertically inverted, the Since all the display areas of G and B are the same, no color blur occurs.
【００３７】[0037]
【発明の効果】以上の説明からも明らかな如く、上下対
称に表示領域を設けた液晶パネルを使用すれば、ミラー
反転回数が異なっても、Ｒ．ＧおよびＢの表示領域は、
全て合成面で一致する。従って色のボケを防止できる。As is apparent from the above description, if a liquid crystal panel having vertically symmetrical display areas is used, even if the number of mirror inversions is different, R.I. The display areas of G and B are
All match in terms of composition. Therefore, color blurring can be prevented.
【００３８】また以上の構成であれば、反転する液晶パ
ネルも他の２つの液晶パネルと同じもので対応できる。
従って量産性やコストの面で優れる。With the above structure, the liquid crystal panel to be reversed can be the same as the other two liquid crystal panels.
Therefore, it is excellent in mass productivity and cost.
【００３９】また、従来例において表示領域が対称とな
るように遮光膜を設ければ、色ボケは無くなるが、開口
率が犠牲になる。しかし本願構成は、表示電極の周囲の
みを遮光するだけで、開口率を大きく犠牲にすることな
く形成できる。更には、少くなくとも中心軸上に設けら
れる補助容量ラインは、２本一組のものを１本に置き換
えられるので、この補助容量ラインの幅を２本一組の占
める補助容量ラインの幅よりも小さくできる。そのため
表示電極を大きく形成でき、その分開口率を向上でき
る。特に図２に於いては、全ての補助容量ラインを２本
一組から１本に置き換えられるので、更に開口率は向上
できる。Further, in the conventional example, if the light-shielding film is provided so that the display region is symmetrical, the color blur is eliminated, but the aperture ratio is sacrificed. However, the structure of the present application can be formed without only sacrificing the aperture ratio by only shielding the light around the display electrodes. Furthermore, since at least at least the auxiliary capacitance lines provided on the central axis can be replaced by one set of two, the width of this auxiliary capacitance line can be made smaller than the width of the auxiliary capacitance line occupied by two sets. Can be smaller. Therefore, the display electrode can be formed large and the aperture ratio can be improved accordingly. In particular, in FIG. 2, since all the auxiliary capacitance lines can be replaced with one set from two sets, the aperture ratio can be further improved.
【００４０】以上述べた如く、カラー表示を良好とし、
しかも量産性が優れ、低コストの液晶プロジェクタが提
供できる。As described above, the color display is made good,
Moreover, it is possible to provide a low-cost liquid crystal projector with excellent mass productivity.
【図１】本発明の一実施例を示す液晶表示装置の平面図
である。FIG. 1 is a plan view of a liquid crystal display device showing an embodiment of the present invention.
【図２】本発明の一実施例を示す液晶表示装置の平面図
である。FIG. 2 is a plan view of a liquid crystal display device showing an embodiment of the present invention.
【図３】表示領域の上下対称を示すパターン図である。FIG. 3 is a pattern diagram showing vertical symmetry of a display area.
【図４】表示領域の上下対称を示すパターン図である。FIG. 4 is a pattern diagram showing vertical symmetry of a display area.
【図５】液晶プロジェクタの概略図である。FIG. 5 is a schematic view of a liquid crystal projector.
【図６】液晶表示装置の１セルを示した平面図である。FIG. 6 is a plan view showing one cell of a liquid crystal display device.
【図７】従来の液晶表示装置の平面図である。FIG. 7 is a plan view of a conventional liquid crystal display device.
【図８】従来の表示領域のパターン図である。FIG. 8 is a pattern diagram of a conventional display area.
【図９】従来の液晶プロジェクタでＲ．ＧおよびＢを合
成した時の表示領域のパターン図である。FIG. 9 shows a conventional liquid crystal projector with an R.O. It is a pattern diagram of a display area when G and B are combined.
【図１０】液晶表示装置の断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view of a liquid crystal display device.
【図１１】液晶プロジェクタに装着するパネルの配置図
である。FIG. 11 is a layout view of a panel mounted on the liquid crystal projector.
【図１２】ＲおよびＢの光学系に用いるパネルの映像と
表示領域Ｆの関係図である。FIG. 12 is a diagram showing a relationship between an image on a panel used in the R and B optical systems and a display area F.
【図１３】Ｇの光学系に用いるパネルの映像と表示領域
Ｆの関係図である。13 is a diagram showing the relationship between the image on the panel used in the G optical system and the display area F. FIG.
【図１４】液晶プロジェクタに装着するパネルの配置図
である。FIG. 14 is a layout view of a panel mounted on the liquid crystal projector.
【図１５】Ｇの光学系に用いるパネルの映像と表示領域
Ｆの関係図である。FIG. 15 is a diagram showing the relationship between the image on the panel used in the G optical system and the display area F.
５０： 光源 ５１，６１： 反射ミラー ５３，５４，５８，５９： ダイクロックミラー ５５，５６，５７： 液晶パネル ６０： 投写レンズ ７１： ゲートライン ７２： ゲート ７３： 表示電極 ７４： 補助容量ライン ７９： ドレインライン ８０： ソース電極 ８１： ドレイン電極 ８２： 遮光膜 50: Light source 51, 61: Reflective mirror 53, 54, 58, 59: dichroic mirror 55, 56, 57: Liquid crystal panel 60: Projection lens 71: Gate line 72: Gate 73: Display electrode 74: Auxiliary capacitance line 79: Drain line 80: Source electrode 81: Drain electrode 82: Light-shielding film
Claims (8)
本または２本の補助容量ラインと、この補助容量ライン
を中心にして、所定の間隔で平行配置された複数本のゲ
ートラインおよびこれと一組でなる複数本の補助容量ラ
インと、このゲートラインと直行する複数本のドレイン
ラインと、前記補助容量ライン、ゲートラインおよびド
レインラインで囲まれた素子領域に設けられた表示電極
およびスイッチング素子とを備え、前記表示電極および
スイッチング素子は、前記１本または２本の補助容量ラ
インの中心線に対して線対称に形成されることを特徴と
した液晶表示装置。1. A transparent insulating substrate provided in the center 1
Or two auxiliary capacitance lines, a plurality of gate lines arranged in parallel around the auxiliary capacitance line at a predetermined interval, and a plurality of auxiliary capacitance lines as a set thereof, and the gate line And a display electrode and a switching element provided in an element region surrounded by the auxiliary capacitance line, the gate line, and the drain line, the display electrode and the switching element being the one line. Alternatively, the liquid crystal display device is characterized by being formed line-symmetrically with respect to the center line of the two auxiliary capacitance lines.
形成される層よりも下層に形成され、一部が表示電極と
重畳し、前記表示電極の下層に形成される補助容量電極
と前記補助容量ラインの一部が電気的に接続される請求
項１記載の液晶表示装置。2. The auxiliary capacitance line is formed in a layer lower than a layer in which the display electrode is formed, and a part of the auxiliary capacitance line overlaps with the display electrode, and the auxiliary capacitance electrode and the auxiliary capacitance line are formed in a lower layer of the display electrode. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein a part of the capacitance line is electrically connected.
有して平行に設けられた複数本のゲートラインと、前記
所定のスペースの中心に向かって所定の間隔で突出し、
このスペースの中心で線対称となるゲートと、このゲー
トにそれぞれ隣接して設けられた補助容量電極と、この
補助容量電極と一体で、実質的に前記線対称となる中心
線で対称となる複数本の補助容量ラインと、前記ゲー
ト、ゲートライン、補助容量電極および補助容量ライン
を覆う絶縁層と、前記ゲートに対応する前記絶縁層上に
積層された不純物がドープされていない非単結晶シリコ
ン膜と、前記ゲートを一構成とするスイッチング素子の
ソース領域およびドレイン領域に対応する非単結晶シリ
コン膜上に形成された不純物がドープされた非単結晶シ
リコン膜と、前記非単結晶シリコン膜に近接して設けら
れ、前記補助容量電極と少なくとも一部が重畳され、前
記中心線で対称となる表示電極と、前記ソース領域に対
応する不純物がドープされた非単結晶シリコン膜と前記
表示電極を電気的に接続するソース電極と、前記ドレイ
ン領域に対応する不純物がドープされた非単結晶シリコ
ン膜と電気的に接続されたドレイン電極およびこのドレ
イン電極と一体のドレインラインとを有することを特徴
とした液晶表示装置。3. A plurality of gate lines provided in parallel with a predetermined space on a transparent insulating substrate, and protruding at a predetermined interval toward the center of the predetermined space,
A gate having line symmetry at the center of this space, an auxiliary capacitance electrode provided adjacent to the gate, respectively, and a plurality of electrodes which are integrated with the auxiliary capacitance electrode and are substantially symmetrical with respect to the center line having the line symmetry. Book storage capacitance line, an insulating layer covering the gate, the gate line, the storage capacitance electrode and the storage capacitance line, and a non-single-crystal silicon film that is not doped with impurities and is stacked on the insulation layer corresponding to the gate An impurity-doped non-single-crystal silicon film formed on the non-single-crystal silicon film corresponding to the source region and the drain region of the switching element having the gate as one structure, and proximate to the non-single-crystal silicon film. And a display electrode which is at least partially overlapped with the auxiliary capacitance electrode and is symmetrical with respect to the center line, and impurities corresponding to the source region. Source electrode for electrically connecting the non-single-crystal silicon film and the display electrode, a drain electrode electrically connected to the non-single-crystal silicon film doped with impurities corresponding to the drain region, and the drain electrode And a drain line integrated with the liquid crystal display device.
する透明な絶縁性の対向基板との間に液晶が注入されて
構成される液晶パネルをプロジェクタに使用する請求項
１，２または３記載の液晶表示装置。4. A liquid crystal panel configured by injecting liquid crystal between the insulating substrate and a transparent insulating counter substrate facing the insulating substrate is used in a projector. The described liquid crystal display device.
て平行配置され、この一組が所定の間隔を有して設けら
れた複数本のゲートラインと、このゲートラインと直行
する複数本のドレインラインと、前記一組のゲートライ
ンおよび前記ドレインラインで囲まれる領域の中央に、
前記ゲートラインと平行に設けられた１本または２本の
補助容量ラインと、前記補助容量ライン、ゲートライン
およびドレインラインで囲まれた素子領域に設けられた
表示電極およびスイッチング素子とを備え、前記表示電
極およびスイッチング素子は、前記１本または２本の補
助容量ラインの中心線に対して線対称に形成されること
を特徴とした液晶表示装置。5. A set of two adjacent two are arranged in parallel on a transparent insulating substrate, and the set is provided with a plurality of gate lines provided at a predetermined interval, and the gate line is orthogonal to the gate line. A plurality of drain lines, and in the center of a region surrounded by the set of gate lines and the drain lines,
One or two auxiliary capacitance lines provided in parallel with the gate line, a display electrode and a switching element provided in an element region surrounded by the auxiliary capacitance line, the gate line and the drain line, and The liquid crystal display device, wherein the display electrode and the switching element are formed in line symmetry with respect to the center line of the one or two auxiliary capacitance lines.
形成される層よりも下層に形成され、一部が表示電極と
重畳し、前記表示電極の下層に形成される補助容量電極
と前記補助容量ラインの一部が電気的に接続される請求
項５記載の液晶表示装置。6. The auxiliary capacitance line is formed in a lower layer than a layer in which the display electrode is formed, and a part of the auxiliary capacitance line overlaps with the display electrode, and the auxiliary capacitance electrode and the auxiliary capacitance line formed in a lower layer of the display electrode. The liquid crystal display device according to claim 5, wherein a part of the capacitance line is electrically connected.
て平行配置され、この一組が所定のスペースを有して設
けられた複数本のゲートラインと、前記スペースと隣接
した２本のゲートラインの対向方向に所定の間隔で突出
し、このスペースの中心で線対称となるゲートと、この
ゲートにそれぞれ隣接して設けられた補助容量電極と、
この補助容量電極と一体で、実質的に前記線対称となる
中心線で対称となる複数本の補助容量ラインと、前記ゲ
ート、ゲートライン、補助容量電極および補助容量ライ
ンを覆う絶縁層と、前記ゲートに対応する前記絶縁層上
に積層された不純物がドープされていない非単結晶シリ
コン膜と、前記ゲートを一構成とするスイッチング素子
のソース領域およびドレイン領域に対応する非単結晶シ
リコン膜上に形成された不純物がドープされた非単結晶
シリコン膜と、前記非単結晶シリコン膜に近接して設け
られ、前記補助容量電極と少なくとも一部が重畳され、
前記中心線で対称となる表示電極と、前記ソース領域に
対応する不純物がドープされた非単結晶シリコン膜と前
記表示電極を電気的に接続するソース電極と、前記ドレ
イン領域に対応する不純物がドープされた非単結晶シリ
コン膜と電気的に接続されたドレイン電極およびこのド
レイン電極と一体のドレインラインとを有することを特
徴とした液晶表示装置。7. A set of two adjacently arranged in parallel on a transparent insulating substrate, the set being adjacent to a plurality of gate lines provided with a predetermined space. Gates that project at a predetermined interval in the direction in which the two gate lines face each other and are line-symmetrical at the center of this space; and auxiliary capacitance electrodes that are respectively provided adjacent to the gates.
A plurality of auxiliary capacitance lines that are integrated with the auxiliary capacitance electrode and are substantially symmetrical with respect to the center line that is substantially line-symmetrical; an insulating layer that covers the gate, the gate line, the auxiliary capacitance electrode, and the auxiliary capacitance line; On the non-single-crystal silicon film, which is stacked on the insulating layer corresponding to the gate and is not doped with impurities, and on the non-single-crystal silicon film corresponding to the source region and the drain region of the switching element including the gate The formed non-single-crystal silicon film doped with impurities and provided in proximity to the non-single-crystal silicon film, at least a portion of which overlaps with the auxiliary capacitance electrode,
A display electrode that is symmetrical with respect to the center line, a source electrode that electrically connects the non-single-crystal silicon film doped with impurities corresponding to the source region and the display electrode, and an impurity corresponding to the drain region are doped. And a drain electrode electrically connected to the formed non-single-crystal silicon film and a drain line integrated with the drain electrode.
する透明な絶縁性の対向基板との間に液晶が注入されて
構成される液晶パネルをプロジェクタに使用する請求項
５，６または７記載の液晶表示装置。8. A liquid crystal panel constructed by injecting liquid crystal between the insulating substrate and a transparent insulating counter substrate facing the insulating substrate is used in a projector. The described liquid crystal display device.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3154825A JPH052186A (en) | 1991-06-26 | 1991-06-26 | Liquid crystal display device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3154825A JPH052186A (en) | 1991-06-26 | 1991-06-26 | Liquid crystal display device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH052186A true JPH052186A (en) | 1993-01-08 |
Family
ID=15592704
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3154825A Pending JPH052186A (en) | 1991-06-26 | 1991-06-26 | Liquid crystal display device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH052186A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005055587A (en) * | 2003-08-01 | 2005-03-03 | Sony Corp | Semiconductor substrate, liquid crystal display device, and projector |
-
1991
- 1991-06-26 JP JP3154825A patent/JPH052186A/en active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005055587A (en) * | 2003-08-01 | 2005-03-03 | Sony Corp | Semiconductor substrate, liquid crystal display device, and projector |
| JP4590839B2 (en) * | 2003-08-01 | 2010-12-01 | ソニー株式会社 | Semiconductor substrate, liquid crystal display device and projector |
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