JPH05218171A - ガス中の有機物除去方法及びその有機物評価方法 - Google Patents
ガス中の有機物除去方法及びその有機物評価方法Info
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- JPH05218171A JPH05218171A JP4015563A JP1556392A JPH05218171A JP H05218171 A JPH05218171 A JP H05218171A JP 4015563 A JP4015563 A JP 4015563A JP 1556392 A JP1556392 A JP 1556392A JP H05218171 A JPH05218171 A JP H05218171A
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02C—CAPTURE, STORAGE, SEQUESTRATION OR DISPOSAL OF GREENHOUSE GASES [GHG]
- Y02C20/00—Capture or disposal of greenhouse gases
- Y02C20/30—Capture or disposal of greenhouse gases of perfluorocarbons [PFC], hydrofluorocarbons [HFC] or sulfur hexafluoride [SF6]
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
- Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product
Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は、ガス中の有機物除去方法及びその
有機物評価方法に関し、空気中の微量の有機物を容易に
除去することができるガス中の有機物除去方法を提供す
るとともに、空気中の微量の有機物を容易に測定するこ
とができるガス中の有機物評価方法を提供することを目
的とする。同時にガス中のバクテリア・カビのコントロ
ールも可能となる。 【構成】 ガス中に紫外線を照射した後、該ガス中の有
機物を吸着剤により吸着除去処理するように構成する。
有機物評価方法に関し、空気中の微量の有機物を容易に
除去することができるガス中の有機物除去方法を提供す
るとともに、空気中の微量の有機物を容易に測定するこ
とができるガス中の有機物評価方法を提供することを目
的とする。同時にガス中のバクテリア・カビのコントロ
ールも可能となる。 【構成】 ガス中に紫外線を照射した後、該ガス中の有
機物を吸着剤により吸着除去処理するように構成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ガス中の有機物除去方
法及びその有機物評価方法に係り、空気中の微量の有機
物を容易に除去することができるうえ、空気中の微量の
有機物を容易に測定することができるガス中の有機物除
去方法及びその有機物評価方法に関する。
法及びその有機物評価方法に係り、空気中の微量の有機
物を容易に除去することができるうえ、空気中の微量の
有機物を容易に測定することができるガス中の有機物除
去方法及びその有機物評価方法に関する。
【０００２】近年、半導体産業に利用される雰囲気は色
々な測定が行われており、ＴＯＣ（Total Organic Cabo
n ）等による測定が行われている。しかしながら、空気
中の有機物の微量分析においては、測定が非常に困難で
あった。一方、有機物の除去方法には水洗または濾過又
は吸着方法が知られている。しかしながら、空気中の有
機物の除去方法においては、ＫＭｎＯ4 、活性炭、ゼオ
ライト等の吸着剤で処理していたため、有機物が微量で
あればある程、有機物を除去するのが非常に困難であっ
た。
々な測定が行われており、ＴＯＣ（Total Organic Cabo
n ）等による測定が行われている。しかしながら、空気
中の有機物の微量分析においては、測定が非常に困難で
あった。一方、有機物の除去方法には水洗または濾過又
は吸着方法が知られている。しかしながら、空気中の有
機物の除去方法においては、ＫＭｎＯ4 、活性炭、ゼオ
ライト等の吸着剤で処理していたため、有機物が微量で
あればある程、有機物を除去するのが非常に困難であっ
た。
【０００３】また、半導体材料ガス等の精製方法には、
深冷分離・膜分離・吸着等による処理が知られている
が、濃度の低い状態での空気やその他のガスの精製は面
倒であり、高精度の精製は非常に困難であった。
深冷分離・膜分離・吸着等による処理が知られている
が、濃度の低い状態での空気やその他のガスの精製は面
倒であり、高精度の精製は非常に困難であった。
【０００４】
【従来の技術】従来の空気中の有機物除去は、ＫＭｎＯ
4 、活性炭、ゼオライトによる吸着剤による処理が行わ
れていた。そして、空気中の有機物の評価は、バブリン
グによるＴＯＣによる測定が行われていた。
4 、活性炭、ゼオライトによる吸着剤による処理が行わ
れていた。そして、空気中の有機物の評価は、バブリン
グによるＴＯＣによる測定が行われていた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た従来の空気中の有機物除去方法では、単に吸着剤で空
気中の有機物を除去していたため、微量の有機物を除去
するには非常に困難であるという問題があった。また、
上記した従来の空気中の有機物評価方法では、単にバブ
リングによるＴＯＣで空気中の有機物を測定していたた
め、微量の有機物を測定するには非常に困難であるとい
う問題があった。
た従来の空気中の有機物除去方法では、単に吸着剤で空
気中の有機物を除去していたため、微量の有機物を除去
するには非常に困難であるという問題があった。また、
上記した従来の空気中の有機物評価方法では、単にバブ
リングによるＴＯＣで空気中の有機物を測定していたた
め、微量の有機物を測定するには非常に困難であるとい
う問題があった。
【０００６】そこで本発明は、空気中の微量の有機物を
容易に除去することができるガス中の有機物除去方法を
提供するとともに、空気中の微量の有機物を容易に測定
することができるガス中の有機物評価方法を提供するこ
とを目的としている。
容易に除去することができるガス中の有機物除去方法を
提供するとともに、空気中の微量の有機物を容易に測定
することができるガス中の有機物評価方法を提供するこ
とを目的としている。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明によるガス中の有
機物除去方法は上記目的達成のため、ガス中に紫外線を
照射した後、該ガス中の有機物を吸着剤により吸着除去
処理するものである。本発明に係るガスには、空気や半
導体製造用に使用されるＣＦ4 ガス、ＳｉＨ 4 ガス、不
活性ガス等の特殊ガス等が挙げられる。この中で特に、
空気中の有機物除去には有効に適用させることができ
る。
機物除去方法は上記目的達成のため、ガス中に紫外線を
照射した後、該ガス中の有機物を吸着剤により吸着除去
処理するものである。本発明に係るガスには、空気や半
導体製造用に使用されるＣＦ4 ガス、ＳｉＨ 4 ガス、不
活性ガス等の特殊ガス等が挙げられる。この中で特に、
空気中の有機物除去には有効に適用させることができ
る。
【０００８】本発明においては、前記ガス中に紫外線を
処理する際、オゾンを添加する場合であってもよく、こ
の場合、紫外線のみで照射する場合よりも紫外線の酸化
力を高めることができるため、有機物除去を更に向上さ
せることができ好ましい。本発明に係る吸着剤処理に
は、ＫＭｎＯ4 処理、活性炭処理、ゼオライト処理等が
挙げられる。例えば半導体関係で使用する際は、アルカ
リ金属のＫを含有している点で好ましくないＫＭｎＯ4
処理をするのではなく、吸着能力の大きい活性炭処理や
孔径の小さいゼオライト処理するのが吸着剤によるアル
カリ金属汚染を生じないようにすることができ好まし
い。特に、活性炭処理とゼオライト処理の２段で除去処
理するのがＫＭｎＯ4 を用いた場合と略同等の良好な吸
着能力を得ることができるうえ、アルカリ金属汚染を防
ぐことができ好ましい。
処理する際、オゾンを添加する場合であってもよく、こ
の場合、紫外線のみで照射する場合よりも紫外線の酸化
力を高めることができるため、有機物除去を更に向上さ
せることができ好ましい。本発明に係る吸着剤処理に
は、ＫＭｎＯ4 処理、活性炭処理、ゼオライト処理等が
挙げられる。例えば半導体関係で使用する際は、アルカ
リ金属のＫを含有している点で好ましくないＫＭｎＯ4
処理をするのではなく、吸着能力の大きい活性炭処理や
孔径の小さいゼオライト処理するのが吸着剤によるアル
カリ金属汚染を生じないようにすることができ好まし
い。特に、活性炭処理とゼオライト処理の２段で除去処
理するのがＫＭｎＯ4 を用いた場合と略同等の良好な吸
着能力を得ることができるうえ、アルカリ金属汚染を防
ぐことができ好ましい。
【０００９】本発明によるガス中の有機物評価方法は、
上記目的達成のため、ガス中に紫外線を照射した後、該
ガス中の有機物の測定を行うものである。本発明に係る
測定方法には、バブリングによるＴＯＣ、イオンクロマ
ト分析、電気伝導度、原子吸光等の分析、電解液を利用
した定電位電解法等のガス検知、ガスクロ分析による測
定方法が挙げられる。この内、有機物測定はＴＯＣで行
う。具体的には、紫外線が照射されていないガスと紫外
線が照射されたガスとを比較して行う。
上記目的達成のため、ガス中に紫外線を照射した後、該
ガス中の有機物の測定を行うものである。本発明に係る
測定方法には、バブリングによるＴＯＣ、イオンクロマ
ト分析、電気伝導度、原子吸光等の分析、電解液を利用
した定電位電解法等のガス検知、ガスクロ分析による測
定方法が挙げられる。この内、有機物測定はＴＯＣで行
う。具体的には、紫外線が照射されていないガスと紫外
線が照射されたガスとを比較して行う。
【００１０】
【作用】図１は本発明の原理説明図である。この図１に
示す如く、本発明では、空気等のガス中に紫外線を照射
した後、ガス中の有機物を活性炭、ゼオライト等の吸着
剤により除去処理するようにしたため、ガス中に含まれ
る吸着剤で吸着し難い無極性の微量ガスを吸着剤で吸着
し易い極性を有するガスに変換させることができる。こ
れについては、紫外線照射してバブリングしたガスと紫
外線照射せずにそのままバブリングしたガスとの比抵抗
を測定し、紫外線照射したガスの方が比抵抗が大きくな
っていることから判断した。このように、本発明では、
ガスをイオン化処理し吸着し易い状態にして吸着剤で処
理するようにしたため、従来の紫外線処理せずに吸着剤
で処理する場合よりもガス中の微量の有機物を容易に除
去することができる。
示す如く、本発明では、空気等のガス中に紫外線を照射
した後、ガス中の有機物を活性炭、ゼオライト等の吸着
剤により除去処理するようにしたため、ガス中に含まれ
る吸着剤で吸着し難い無極性の微量ガスを吸着剤で吸着
し易い極性を有するガスに変換させることができる。こ
れについては、紫外線照射してバブリングしたガスと紫
外線照射せずにそのままバブリングしたガスとの比抵抗
を測定し、紫外線照射したガスの方が比抵抗が大きくな
っていることから判断した。このように、本発明では、
ガスをイオン化処理し吸着し易い状態にして吸着剤で処
理するようにしたため、従来の紫外線処理せずに吸着剤
で処理する場合よりもガス中の微量の有機物を容易に除
去することができる。
【００１１】また、本発明では、図１に示す如く、空気
等のガス中に紫外線を照射した後、バブリングによるＴ
ＯＣ等によりガス中の有機物測定を行うようにしたた
め、上記同様ガスをイオン状態にすることができる。こ
のため、従来の紫外線照射せずに単にバブリングによる
ＴＯＣによる測定の場合よりも水等の溶媒中にガスを溶
け易くすることができる。従って、従来よりも空気中の
微量の有機物を容易に測定することができる。
等のガス中に紫外線を照射した後、バブリングによるＴ
ＯＣ等によりガス中の有機物測定を行うようにしたた
め、上記同様ガスをイオン状態にすることができる。こ
のため、従来の紫外線照射せずに単にバブリングによる
ＴＯＣによる測定の場合よりも水等の溶媒中にガスを溶
け易くすることができる。従って、従来よりも空気中の
微量の有機物を容易に測定することができる。
【００１２】なお、図１では、ＵＶ照射、活性炭、ゼオ
ライト、フィルターを各々通過した点でガスを測定する
のを示しており、ここでは、各部材が正常に動作してい
るか否かをチェックすることができることを示してい
る。
ライト、フィルターを各々通過した点でガスを測定する
のを示しており、ここでは、各部材が正常に動作してい
るか否かをチェックすることができることを示してい
る。
【００１３】
【実施例】以下、本発明を図面に基づいて説明する。図
２は本発明の一実施例に則した測定装置の構成を示す概
略図である。図２において、１〜４は各々ＵＶ照射装
置、バブリング容器、ポンプ、積算流量計である。
２は本発明の一実施例に則した測定装置の構成を示す概
略図である。図２において、１〜４は各々ＵＶ照射装
置、バブリング容器、ポンプ、積算流量計である。
【００１４】ここでのＵＶ照射装置１には、内部の空間
容量が約48ｌ、紫外線ランプ波長が約 254nm（主波長）
であるものを用い、バブリング容器２には、材質が沸っ
素樹脂製、内部容量が１ｌ、純水使用量が約 500ml、流
量が約1l／分であるものを用いた。まず、図２（ａ）に
示す如く、ＵＶ照射装置１のランプをＯＮにした時（本
発明）と、ＯＦＦにした時（比較例）に各々通過した空
気を、約24時間バブリング容器２で純水バブリングを行
って補集し、水中のＴＯＣ濃度を測定した。このＴＯＣ
濃度はバブリング前後で測定した。一方、図２（ｂ）に
示す如く、別に空気をバブリング容器２で純水バブリン
グして補集したものをブランクとしてＴＯＣ濃度を測定
した。このＴＯＣ濃度は上記同様バブリング前後で測定
した。
容量が約48ｌ、紫外線ランプ波長が約 254nm（主波長）
であるものを用い、バブリング容器２には、材質が沸っ
素樹脂製、内部容量が１ｌ、純水使用量が約 500ml、流
量が約1l／分であるものを用いた。まず、図２（ａ）に
示す如く、ＵＶ照射装置１のランプをＯＮにした時（本
発明）と、ＯＦＦにした時（比較例）に各々通過した空
気を、約24時間バブリング容器２で純水バブリングを行
って補集し、水中のＴＯＣ濃度を測定した。このＴＯＣ
濃度はバブリング前後で測定した。一方、図２（ｂ）に
示す如く、別に空気をバブリング容器２で純水バブリン
グして補集したものをブランクとしてＴＯＣ濃度を測定
した。このＴＯＣ濃度は上記同様バブリング前後で測定
した。
【００１５】その結果、図３に示すように、比較例の紫
外線ランプをＯＦＦにした場合にも各測定室Ａ〜Ｃにお
けるＴＯＣの増加は見られたが、このＴＯＣ増加量は本
発明の紫外線ランプをＯＮした場合の方が高くなってい
ることが判った。このＴＯＣ増加量が高くなっているの
は、紫外線照射により空気中の有機物の一部が溶解し易
い形態に変化しているためと推定される。このため、従
来の紫外線照射せずに測定する場合よりも、水中に空気
中の有機物を溶け易くすることができるため、従来より
も空気中の微量の有機物を容易に除去することができ
る。
外線ランプをＯＦＦにした場合にも各測定室Ａ〜Ｃにお
けるＴＯＣの増加は見られたが、このＴＯＣ増加量は本
発明の紫外線ランプをＯＮした場合の方が高くなってい
ることが判った。このＴＯＣ増加量が高くなっているの
は、紫外線照射により空気中の有機物の一部が溶解し易
い形態に変化しているためと推定される。このため、従
来の紫外線照射せずに測定する場合よりも、水中に空気
中の有機物を溶け易くすることができるため、従来より
も空気中の微量の有機物を容易に除去することができ
る。
【００１６】次に、本発明においては、空気等のガス中
に紫外線を照射した後、ガス中の有機物を活性炭、ゼオ
ライト等の吸着剤又は水洗等により除去処理するように
すれば、ガス中に含まれる吸着剤で吸着し難い無極性の
微量ガスを、吸着剤で吸着し易い極性を有するガスに変
換させることができる。これについては、紫外線照射し
てバブリングしたガスと紫外線照射せずにそのままバブ
リングしたガスとの比抵抗を測定し、紫外線照射したガ
スの方が比抵抗が大きくなっていることから判断した。
このように、本発明では、ガスをイオン化処理して吸着
し易い状態にして吸着剤で処理するようにしたため、従
来の紫外線処理せずに吸着剤で処理する場合よりもガス
中の微量の有機物を容易に除去することができる。
に紫外線を照射した後、ガス中の有機物を活性炭、ゼオ
ライト等の吸着剤又は水洗等により除去処理するように
すれば、ガス中に含まれる吸着剤で吸着し難い無極性の
微量ガスを、吸着剤で吸着し易い極性を有するガスに変
換させることができる。これについては、紫外線照射し
てバブリングしたガスと紫外線照射せずにそのままバブ
リングしたガスとの比抵抗を測定し、紫外線照射したガ
スの方が比抵抗が大きくなっていることから判断した。
このように、本発明では、ガスをイオン化処理して吸着
し易い状態にして吸着剤で処理するようにしたため、従
来の紫外線処理せずに吸着剤で処理する場合よりもガス
中の微量の有機物を容易に除去することができる。
【００１７】
【発明の効果】本発明によれば、空気中の微量の有機物
を容易に除去することができるうえ、空気中の微量の有
機物を容易に測定することができるという効果がある。
又同時にバクテリア・カビのコントロールも可能とな
る。
を容易に除去することができるうえ、空気中の微量の有
機物を容易に測定することができるという効果がある。
又同時にバクテリア・カビのコントロールも可能とな
る。
【図１】本発明の原理説明図である。
【図２】本発明の一実施例に則した測定装置の構成を示
す概略図である。
す概略図である。
【図３】比較例と本発明に則した各測定室における空気
中のＴＯＣ増加量を示す図である。
中のＴＯＣ増加量を示す図である。
１ ＵＶ照射装置 ２ バブリング容器 ３ ポンプ ４ 積算流量計
Claims (4)
- 【請求項１】 ガス中に紫外線を照射した後、該ガス中
の有機物を吸着剤により吸着除去処理又は水洗処理する
ことを特徴とするガス中の有機物除去方法。 - 【請求項２】 前記ガス中に紫外線を処理する際、オゾ
ンを添加することを特徴とする請求項１記載のガス中の
有機物除去方法。 - 【請求項３】 前記吸着剤処理は、活性炭処理とゼオラ
イト処理の２段処理であることを特徴とする請求項１乃
至２記載のガス中の有機物除去方法。 - 【請求項４】 ガス中に紫外線を照射した後、該ガス中
の有機物の測定を行うことを特徴とするガス中の有機物
評価方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4015563A JPH05218171A (ja) | 1992-01-30 | 1992-01-30 | ガス中の有機物除去方法及びその有機物評価方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4015563A JPH05218171A (ja) | 1992-01-30 | 1992-01-30 | ガス中の有機物除去方法及びその有機物評価方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05218171A true JPH05218171A (ja) | 1993-08-27 |
Family
ID=11892223
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4015563A Pending JPH05218171A (ja) | 1992-01-30 | 1992-01-30 | ガス中の有機物除去方法及びその有機物評価方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05218171A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002044696A1 (fr) * | 2000-12-01 | 2002-06-06 | Advantest Corporation | Procede et appareil de surveillance de l'environnement et appareil de production de semi-conducteur |
-
1992
- 1992-01-30 JP JP4015563A patent/JPH05218171A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002044696A1 (fr) * | 2000-12-01 | 2002-06-06 | Advantest Corporation | Procede et appareil de surveillance de l'environnement et appareil de production de semi-conducteur |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20010821 |