JPH05217216A - 光テープ - Google Patents
光テープInfo
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- JPH05217216A JPH05217216A JP4021418A JP2141892A JPH05217216A JP H05217216 A JPH05217216 A JP H05217216A JP 4021418 A JP4021418 A JP 4021418A JP 2141892 A JP2141892 A JP 2141892A JP H05217216 A JPH05217216 A JP H05217216A
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- JP
- Japan
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- film
- layer
- roughness
- polyester film
- center line
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- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Shaping By String And By Release Of Stress In Plastics And The Like (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 記録特性の優れた光テープを提供する。
【構成】 表面粗度およびＦ5 値が下記式〜を同時
に満足する、多層が共押出しにより積層、延伸配向され
てなるポリエステルフィルムの高粗面度面側に、表面粗
度が下記式およびを同時に満足するバックコート層
が設けられ、低粗面度側に記録層が設けられてなる光テ
ープ。 ＲａA ≦０．００５ … ０．００５≦ＲａB ≦０．０３０ … ０．００５≦ＲａB −ＲａA ≦０．０２６… ９≦Ｆ5 ≦３０ … ０．０１２≦ＲａC ≦０．０４０ … ０．００３≦ＲａC −ＲａB ≦０．０３５… 上記式中、ＲａA はポリエステルフィルムの低粗面度面
の中心線平均粗さ（μｍ）、ＲａB はポリエステルフィ
ルムの高粗面度面の中心線平均粗さ（μｍ）、ＲａC は
バックコート層表面の中心線平均粗さ（μｍ）、Ｆ5 は
ポリエステルフィルムの縦方向のＦ5 値（ｋｇ／ｍ
ｍ2 ）を示す。
に満足する、多層が共押出しにより積層、延伸配向され
てなるポリエステルフィルムの高粗面度面側に、表面粗
度が下記式およびを同時に満足するバックコート層
が設けられ、低粗面度側に記録層が設けられてなる光テ
ープ。 ＲａA ≦０．００５ … ０．００５≦ＲａB ≦０．０３０ … ０．００５≦ＲａB −ＲａA ≦０．０２６… ９≦Ｆ5 ≦３０ … ０．０１２≦ＲａC ≦０．０４０ … ０．００３≦ＲａC −ＲａB ≦０．０３５… 上記式中、ＲａA はポリエステルフィルムの低粗面度面
の中心線平均粗さ（μｍ）、ＲａB はポリエステルフィ
ルムの高粗面度面の中心線平均粗さ（μｍ）、ＲａC は
バックコート層表面の中心線平均粗さ（μｍ）、Ｆ5 は
ポリエステルフィルムの縦方向のＦ5 値（ｋｇ／ｍ
ｍ2 ）を示す。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は光の照射により、情報の
記録・再生が可能である光テープに関するものである。
特に本発明は、記録情報の記録再生特性が著しく改善さ
れた光テープに関するものである。
記録・再生が可能である光テープに関するものである。
特に本発明は、記録情報の記録再生特性が著しく改善さ
れた光テープに関するものである。
【０００２】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】従
来、情報記録テープとしては、磁気記録媒体が一般に用
いられてきたが、近年、情報記録密度の向上の要求が高
まり、それに対応するものとして光学式記録再生システ
ムを利用した方式、例えば、プラスチックベースフィル
ム上にＴｅ−Ａｓ−Ｓｅの金属膜を設けたもの（特開昭
５７−３３４４７号公報）、ポリイミド系のテープ基板
上にＴｅ−Ｓｅ系、Ｓｅ−Ｉｎ−Ｓｂ系およびＡｇ−Ｚ
ｎ系合金をＲＦ−マグネトロンスパッタリングにより形
成し、さらにその上に保護層を形成したもの（特開昭６
２−１３２２５１号公報）等の光テープが報告されてい
る。
来、情報記録テープとしては、磁気記録媒体が一般に用
いられてきたが、近年、情報記録密度の向上の要求が高
まり、それに対応するものとして光学式記録再生システ
ムを利用した方式、例えば、プラスチックベースフィル
ム上にＴｅ−Ａｓ−Ｓｅの金属膜を設けたもの（特開昭
５７−３３４４７号公報）、ポリイミド系のテープ基板
上にＴｅ−Ｓｅ系、Ｓｅ−Ｉｎ−Ｓｂ系およびＡｇ−Ｚ
ｎ系合金をＲＦ−マグネトロンスパッタリングにより形
成し、さらにその上に保護層を形成したもの（特開昭６
２−１３２２５１号公報）等の光テープが報告されてい
る。
【０００３】このような蒸着、スパッタ又はイオンプレ
ーティング等の薄膜形成手法によって形成される記録層
は、その膜厚さが薄く、支持体の表面状態（表面凹凸）
がそのまま、磁性膜の凹凸として発現し、それが記録再
生特性低下の原因となることが欠点とされていた。この
ため記録再生特性の観点からは、支持体の表面状態が、
できるだけ平滑であることが好ましい。
ーティング等の薄膜形成手法によって形成される記録層
は、その膜厚さが薄く、支持体の表面状態（表面凹凸）
がそのまま、磁性膜の凹凸として発現し、それが記録再
生特性低下の原因となることが欠点とされていた。この
ため記録再生特性の観点からは、支持体の表面状態が、
できるだけ平滑であることが好ましい。
【０００４】しかしながら、支持体フィルムの表面が平
滑になると、フィルムの滑り性が劣るため、円滑なテー
プ走行性が得られない。また、フィルム製造時の取扱い
性も悪く、延伸ロール通過時にフィルムにスリ傷等の欠
陥が生じやすいという問題点があった。
滑になると、フィルムの滑り性が劣るため、円滑なテー
プ走行性が得られない。また、フィルム製造時の取扱い
性も悪く、延伸ロール通過時にフィルムにスリ傷等の欠
陥が生じやすいという問題点があった。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
に鑑み、鋭意検討した結果、ある特定の層構成を有する
光テープが優れた特性を有することを見いだし、本発明
を完成するに至った。すなわち、本発明の要旨は、表面
粗度およびＦ5 値が下記式〜を同時に満足する、多
層が共押出により積層、延伸配向されてなるポリエステ
ルフィルムの高粗面度面側に、表面粗度が下記式およ
びを同時に満足するバックコート層が設けられ、低粗
面度面側に記録層が設けられてなる光テープに存する。
に鑑み、鋭意検討した結果、ある特定の層構成を有する
光テープが優れた特性を有することを見いだし、本発明
を完成するに至った。すなわち、本発明の要旨は、表面
粗度およびＦ5 値が下記式〜を同時に満足する、多
層が共押出により積層、延伸配向されてなるポリエステ
ルフィルムの高粗面度面側に、表面粗度が下記式およ
びを同時に満足するバックコート層が設けられ、低粗
面度面側に記録層が設けられてなる光テープに存する。
【０００６】 ＲａA ≦０．００５ … ０．００５≦ＲａB ≦０．０３０ … ０．００５≦ＲａB −ＲａA ≦０．０２６… ９≦Ｆ5 ≦３０ … ０．０１２≦ＲａC ≦０．０４０ … ０．００３≦ＲａC −ＲａB ≦０．０３５… 上記式中、ＲａA はポリエステルフィルムの低粗面度面
の中心線平均粗さ（μｍ）、ＲａB はポリエステルフィ
ルムの高粗面度面の中心線平均粗さ（μｍ）、ＲａC は
バックコート層表面の中心線平均粗さ（μｍ）、Ｆ5 は
ポリエステルフィルムの縦方向のＦ5 値（ｋｇ／ｍ
ｍ2 ）を示す。
の中心線平均粗さ（μｍ）、ＲａB はポリエステルフィ
ルムの高粗面度面の中心線平均粗さ（μｍ）、ＲａC は
バックコート層表面の中心線平均粗さ（μｍ）、Ｆ5 は
ポリエステルフィルムの縦方向のＦ5 値（ｋｇ／ｍ
ｍ2 ）を示す。
【０００７】以下、本発明を詳細に説明する。本発明に
いうポリエステルとは、テレフタル酸、ナフタレン−
２，６−ジカルボン酸等のような芳香族ジカルボン酸
と、エチレングリコール、ジエチレングリコール、テト
ラメチレングリコール、ネオペンチルグリコール等のよ
うな脂肪族グリコールとを重縮合させて得られるポリマ
ーである。かかるポリマーの代表的なものとしては、ポ
リエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）やポリエチレン−
２，６−ナフタレンジカルボキシレート（ＰＥＮ）等が
例示される。また、ホモポリマー以外に、結晶性を低下
させない程度、つまり１０モル％以下の他の芳香族およ
び脂肪族のジカルボン酸、ジオール等を共重合して得ら
れるポリマーでもよい。
いうポリエステルとは、テレフタル酸、ナフタレン−
２，６−ジカルボン酸等のような芳香族ジカルボン酸
と、エチレングリコール、ジエチレングリコール、テト
ラメチレングリコール、ネオペンチルグリコール等のよ
うな脂肪族グリコールとを重縮合させて得られるポリマ
ーである。かかるポリマーの代表的なものとしては、ポ
リエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）やポリエチレン−
２，６−ナフタレンジカルボキシレート（ＰＥＮ）等が
例示される。また、ホモポリマー以外に、結晶性を低下
させない程度、つまり１０モル％以下の他の芳香族およ
び脂肪族のジカルボン酸、ジオール等を共重合して得ら
れるポリマーでもよい。
【０００８】また、他の重合体、例えばポリアミド、ポ
リオレフィン、ポリカーボネート等を１０重量％以下ブ
レンドすることも可能である。ただし、結晶性を極端に
低下させたり、ブレンドにより表面粗度が極端に凹凸化
する重合体は好ましくない。また、異なる種類のポリマ
ーを組み合わせて積層することも好ましく、例えばＰＥ
ＴとＰＥＮその他のポリマーとの組み合わせでもよい
し、同じポリマーでも、共重合比の異なるもの、固有粘
度の異なるものの組み合わせ等、目的に応じて選択する
ことができる。前記ポリエステル中には、エステル交換
触媒、重合触媒以外にリン酸、亜リン酸およびそれらの
エステル等の安定剤、紫外線吸収剤、二酸化チタン、微
粒子状シリカ、カオリン、炭酸カルシウム等の艶消剤、
滑剤など必要に応じて含まれていてもよい。
リオレフィン、ポリカーボネート等を１０重量％以下ブ
レンドすることも可能である。ただし、結晶性を極端に
低下させたり、ブレンドにより表面粗度が極端に凹凸化
する重合体は好ましくない。また、異なる種類のポリマ
ーを組み合わせて積層することも好ましく、例えばＰＥ
ＴとＰＥＮその他のポリマーとの組み合わせでもよい
し、同じポリマーでも、共重合比の異なるもの、固有粘
度の異なるものの組み合わせ等、目的に応じて選択する
ことができる。前記ポリエステル中には、エステル交換
触媒、重合触媒以外にリン酸、亜リン酸およびそれらの
エステル等の安定剤、紫外線吸収剤、二酸化チタン、微
粒子状シリカ、カオリン、炭酸カルシウム等の艶消剤、
滑剤など必要に応じて含まれていてもよい。
【０００９】本発明で用いるポリエステルフィルムの露
出する一方の面（低粗面面、Ａ面）は光記録層を設ける
面であり、延伸、熱固定後のフィルムＡ面の中心線平均
粗さ（ＲａA ）は小さいほど良い。本発明においては、
ＲａA は０．００５μｍ以下である必要があり、さらに
好ましくは０．００３μｍ以下である。ＲａA が０．０
０５μｍを超えると、光記録特性が低下する。
出する一方の面（低粗面面、Ａ面）は光記録層を設ける
面であり、延伸、熱固定後のフィルムＡ面の中心線平均
粗さ（ＲａA ）は小さいほど良い。本発明においては、
ＲａA は０．００５μｍ以下である必要があり、さらに
好ましくは０．００３μｍ以下である。ＲａA が０．０
０５μｍを超えると、光記録特性が低下する。
【００１０】このようなフィルム表面特性を付与するた
めに、ポリエステル中に添加粒子、析出粒子、その他の
触媒残渣を含有していてもよいが、実質的に粒子を含有
しないポリエステルを用いることがもっとも好ましい。
ここでいう実質的とは、粒子含有量が０．０５重量％以
下程度のことを指す。粒子を実質的に含有しないポリエ
ステル樹脂としては、例えばマグネシウム化合物、マン
ガン化合物、亜鉛化合物等のエステル交換触媒を用い、
燐化合物によって触媒残渣の析出を防いで得られるポリ
エステル、あるいはエステル化触媒を用いないで製造さ
れた、直重法によるポリエステル等が好適に用いられ
る。重合触媒としては、アンチモン化合物、ゲルマニウ
ム化合物、チタン化合物、スズ化合物等が用いられ、特
に制限はないが、アンチモン量を減らして重合した低触
媒レジンを用いることが特に好ましい。
めに、ポリエステル中に添加粒子、析出粒子、その他の
触媒残渣を含有していてもよいが、実質的に粒子を含有
しないポリエステルを用いることがもっとも好ましい。
ここでいう実質的とは、粒子含有量が０．０５重量％以
下程度のことを指す。粒子を実質的に含有しないポリエ
ステル樹脂としては、例えばマグネシウム化合物、マン
ガン化合物、亜鉛化合物等のエステル交換触媒を用い、
燐化合物によって触媒残渣の析出を防いで得られるポリ
エステル、あるいはエステル化触媒を用いないで製造さ
れた、直重法によるポリエステル等が好適に用いられ
る。重合触媒としては、アンチモン化合物、ゲルマニウ
ム化合物、チタン化合物、スズ化合物等が用いられ、特
に制限はないが、アンチモン量を減らして重合した低触
媒レジンを用いることが特に好ましい。
【００１１】Ａ面には、光記録層との接着性を高める目
的あるいは平坦性をさらに高める目的で塗布層を設けて
もよい。本発明で用いるフィルムのもう一方の露出する
面（高粗面面、Ｂ面）は、延伸・熱固定後のフィルムの
中心線平均表面粗さ（ＲａB ）が０．００５〜０．０３
０μｍの易滑面を与えるような微細な粒子を包含するポ
リエステル層からなるもので、融液状で各層を口金また
は口金以前で複合して積層される。ＲａB が０．００５
μｍ未満では、走行性が劣り不適当である。また、Ｒａ
B が０．０３０μｍを超えると、走行性がそれ以上改良
されないだけでなく、蒸着時等に、冷却ドラムとの密着
性に劣り好ましくない。
的あるいは平坦性をさらに高める目的で塗布層を設けて
もよい。本発明で用いるフィルムのもう一方の露出する
面（高粗面面、Ｂ面）は、延伸・熱固定後のフィルムの
中心線平均表面粗さ（ＲａB ）が０．００５〜０．０３
０μｍの易滑面を与えるような微細な粒子を包含するポ
リエステル層からなるもので、融液状で各層を口金また
は口金以前で複合して積層される。ＲａB が０．００５
μｍ未満では、走行性が劣り不適当である。また、Ｒａ
B が０．０３０μｍを超えると、走行性がそれ以上改良
されないだけでなく、蒸着時等に、冷却ドラムとの密着
性に劣り好ましくない。
【００１２】Ｂ層としては通常、添加粒子または析出粒
子を含有するポリエステルを用いる。Ｂ層に用いる粒子
としては、既知のものが採用できるが、フィルムのスリ
傷等、延伸製膜時の欠陥の形成を低減する目的で高硬度
微粒子、例えば酸化アルミニウムの微粒子を添加するこ
とが特に好ましい。Ａ面およびＢ面を構成する層の厚み
の比率およびそれらの表面粗度の選択によっては、Ｂ面
を構成する層（Ｂ層）の突起がＡ面を構成する層（Ａ
層）の平滑面に影響を及ぼし、Ａ面の表面粗度が単独で
製膜したときよりも、長周期の凹凸もしくはうねりが生
じてＲａが大きくなる場合、また、熱処理や、弛緩、延
伸条件、キャスティング条件など種々選んで微小凹凸を
形成する場合でも光テープの基体フィルムの両面が先に
述べた条件を満足していれば良い。ただし、このような
長周期のうねりはない方が好ましく、うねりを生じさせ
ないためには、Ｂ層の厚みを全体厚みに対して、通常１
／２以下、好ましくは１／３以下、さらに好ましくは１
／４以下とする。
子を含有するポリエステルを用いる。Ｂ層に用いる粒子
としては、既知のものが採用できるが、フィルムのスリ
傷等、延伸製膜時の欠陥の形成を低減する目的で高硬度
微粒子、例えば酸化アルミニウムの微粒子を添加するこ
とが特に好ましい。Ａ面およびＢ面を構成する層の厚み
の比率およびそれらの表面粗度の選択によっては、Ｂ面
を構成する層（Ｂ層）の突起がＡ面を構成する層（Ａ
層）の平滑面に影響を及ぼし、Ａ面の表面粗度が単独で
製膜したときよりも、長周期の凹凸もしくはうねりが生
じてＲａが大きくなる場合、また、熱処理や、弛緩、延
伸条件、キャスティング条件など種々選んで微小凹凸を
形成する場合でも光テープの基体フィルムの両面が先に
述べた条件を満足していれば良い。ただし、このような
長周期のうねりはない方が好ましく、うねりを生じさせ
ないためには、Ｂ層の厚みを全体厚みに対して、通常１
／２以下、好ましくは１／３以下、さらに好ましくは１
／４以下とする。
【００１３】本発明で用いるポリエステルフィルムのＡ
面とＢ面の表面粗度の差（ＲａB −ＲａA ）は０．００
５〜０．０２６μｍの範囲である。両者の差が０．００
５μｍ未満では、フィルムの走行性が維持されないため
好ましくない。一方、Ｒａの差が０．０２６μｍを超え
るものでは、フィルム巻取後、Ｂ面からＡ面への表面形
状の裏写り現象が起きるので、フィルムの平面性が劣り
好ましくない。Ｒａの差は、好ましくは０．００７〜
０．０２０μｍの範囲である。
面とＢ面の表面粗度の差（ＲａB −ＲａA ）は０．００
５〜０．０２６μｍの範囲である。両者の差が０．００
５μｍ未満では、フィルムの走行性が維持されないため
好ましくない。一方、Ｒａの差が０．０２６μｍを超え
るものでは、フィルム巻取後、Ｂ面からＡ面への表面形
状の裏写り現象が起きるので、フィルムの平面性が劣り
好ましくない。Ｒａの差は、好ましくは０．００７〜
０．０２０μｍの範囲である。
【００１４】Ｂ面の表面形状のＡ面への裏写りを防止す
るため、例えば、延伸条件を適切に選択してＢ面の突起
を核として、その周辺に窪みを有するような突起を形成
させ、粒子が窪みの中に埋れるように存在させる手段は
好ましい方法である。以上のように、本発明で用いるフ
ィルムは、裏表異なる表面粗度を有し、その差がある特
定範囲であるフィルムでなければならないが、それと同
時に縦方向の５％伸長時の引張り強度（Ｆ5 値）は９〜
３０ｋｇ／ｍｍ2 の範囲であり、好ましくは１４〜３０
ｋｇ／ｍｍ2 、さらに好ましくは１８〜３０ｋｇ／ｍｍ
2 の範囲である。
るため、例えば、延伸条件を適切に選択してＢ面の突起
を核として、その周辺に窪みを有するような突起を形成
させ、粒子が窪みの中に埋れるように存在させる手段は
好ましい方法である。以上のように、本発明で用いるフ
ィルムは、裏表異なる表面粗度を有し、その差がある特
定範囲であるフィルムでなければならないが、それと同
時に縦方向の５％伸長時の引張り強度（Ｆ5 値）は９〜
３０ｋｇ／ｍｍ2 の範囲であり、好ましくは１４〜３０
ｋｇ／ｍｍ2 、さらに好ましくは１８〜３０ｋｇ／ｍｍ
2 の範囲である。
【００１５】ベースフィルムの縦方向のＦ5 値が９ｋｇ
／ｍｍ2 未満の場合、光テープの耐久性が劣り、好まし
くない。一方、Ｆ5 値が３０ｋｇ／ｍｍ2 を超えるフィ
ルムはフィルム製造工程での連続性に劣るので、実用的
でない。上述のベースフィルム上に形成される記録層と
しては、記録が一回のみ可能な追記型のものおよび記
録、消去が何回でも可能な書き換え型のいずれも採用す
ることができる。書き換え可能なものとしては、光磁気
効果を利用した光磁気記録媒体や、可逆的な結晶状態の
変化を利用した相変化媒体が挙げられる。これらの書換
え可能な記録媒体は、ベースフィルム側からレーザビー
ムを照射して情報の記録再生を行う場合には、一般に、
ベースフィルム−誘電体層−記録層−誘電体層−反射層
の層構成をとり、また、記録層側からレーザビームを照
射する場合には、一般にベースフィルム−反射層−誘電
体層−記録層−誘電体層の層構成をとる。
／ｍｍ2 未満の場合、光テープの耐久性が劣り、好まし
くない。一方、Ｆ5 値が３０ｋｇ／ｍｍ2 を超えるフィ
ルムはフィルム製造工程での連続性に劣るので、実用的
でない。上述のベースフィルム上に形成される記録層と
しては、記録が一回のみ可能な追記型のものおよび記
録、消去が何回でも可能な書き換え型のいずれも採用す
ることができる。書き換え可能なものとしては、光磁気
効果を利用した光磁気記録媒体や、可逆的な結晶状態の
変化を利用した相変化媒体が挙げられる。これらの書換
え可能な記録媒体は、ベースフィルム側からレーザビー
ムを照射して情報の記録再生を行う場合には、一般に、
ベースフィルム−誘電体層−記録層−誘電体層−反射層
の層構成をとり、また、記録層側からレーザビームを照
射する場合には、一般にベースフィルム−反射層−誘電
体層−記録層−誘電体層の層構成をとる。
【００１６】誘電体層は、酸化されやすい記録層を、水
分や酸素から保護する目的および記録層の変形防止の目
的で用いられ、通常、透明で耐熱性が高い金属酸化物、
金属窒化物、金属硫化物、無機炭化物などが用いられ
る。金属酸化物としては、Ａｌ2 Ｏ3 ，Ｔａ2 Ｏ5 ，Ｓ
ｉＯ，ＳｉＯ2 の金属酸化物単独またはこれらの混合物
あるいはＡｌ−Ｔａ−Ｏ等の複合酸化物が挙げられる。
また、これらの化合物に他の元素、例えばＴｉ，Ｚｒ，
Ｍｏ，Ｙ等が酸化物の形で単独あるいはＡｌ，Ｔａと複
合して酸化物を形成していてもよい。これらの金属酸化
物は緻密な構造であるので、外部からの水分や酸素の浸
入を防ぎ、耐蝕性が高く、光磁気記録層や相変化記録層
との反応性も低く、樹脂との密着性も優れ好ましい。
分や酸素から保護する目的および記録層の変形防止の目
的で用いられ、通常、透明で耐熱性が高い金属酸化物、
金属窒化物、金属硫化物、無機炭化物などが用いられ
る。金属酸化物としては、Ａｌ2 Ｏ3 ，Ｔａ2 Ｏ5 ，Ｓ
ｉＯ，ＳｉＯ2 の金属酸化物単独またはこれらの混合物
あるいはＡｌ−Ｔａ−Ｏ等の複合酸化物が挙げられる。
また、これらの化合物に他の元素、例えばＴｉ，Ｚｒ，
Ｍｏ，Ｙ等が酸化物の形で単独あるいはＡｌ，Ｔａと複
合して酸化物を形成していてもよい。これらの金属酸化
物は緻密な構造であるので、外部からの水分や酸素の浸
入を防ぎ、耐蝕性が高く、光磁気記録層や相変化記録層
との反応性も低く、樹脂との密着性も優れ好ましい。
【００１７】金属窒化物としては、具体的にＳｉ，Ａ
ｌ，Ｇｅ等の金属の窒化物あるいはこれら２種以上の複
合窒化物またはこれらとＮｂ，Ｔａとの複合窒化物（例
えば、ＳｉＮｂＮ，ＳｉＴａＮ等）が挙げられる。これ
らの中でもＳｉを含有する窒化物が良好な効果を奏す
る。金属窒化物は緻密で外部からの水分や酸素の浸入を
防ぎ、それ自身の耐蝕性も高い。
ｌ，Ｇｅ等の金属の窒化物あるいはこれら２種以上の複
合窒化物またはこれらとＮｂ，Ｔａとの複合窒化物（例
えば、ＳｉＮｂＮ，ＳｉＴａＮ等）が挙げられる。これ
らの中でもＳｉを含有する窒化物が良好な効果を奏す
る。金属窒化物は緻密で外部からの水分や酸素の浸入を
防ぎ、それ自身の耐蝕性も高い。
【００１８】金属硫化物としては、ＺｎＳ等が挙げら
れ、単独でも用いられるが、これと前記の金属酸化物あ
るいは金属窒化物との混合物として用いられることも多
い。無機炭化物としてはＳｉＣ等が挙げられる。本発明
では特に酸化タンタル（Ｔａ2 Ｏ5 ）、硫化亜鉛（Ｚｎ
Ｓ）が内部応力が小さく、クラックの発生が少ないので
好適に用いられる。
れ、単独でも用いられるが、これと前記の金属酸化物あ
るいは金属窒化物との混合物として用いられることも多
い。無機炭化物としてはＳｉＣ等が挙げられる。本発明
では特に酸化タンタル（Ｔａ2 Ｏ5 ）、硫化亜鉛（Ｚｎ
Ｓ）が内部応力が小さく、クラックの発生が少ないので
好適に用いられる。
【００１９】これら誘電体層の膜厚としては、レーザー
光を照射する側の誘電体層が５００〜３０００Å、反射
層側が１００〜３０００Å程度が好ましい。記録層とし
ては、希土類と還移金属との合金、例えばＴｂＦｅＣ
ｏ，ＧｄＴｂＦｅ，ＧｄＴｂＦｅＣｏ，ＧｄＤｙＦｅＣ
ｏ，ＮｄＤｙＦｅＣｏ等の光磁気記録材料またはＧｅ−
Ｔｅ系、Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ系、Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ系等の
相変化記録材料が用いられる。
光を照射する側の誘電体層が５００〜３０００Å、反射
層側が１００〜３０００Å程度が好ましい。記録層とし
ては、希土類と還移金属との合金、例えばＴｂＦｅＣ
ｏ，ＧｄＴｂＦｅ，ＧｄＴｂＦｅＣｏ，ＧｄＤｙＦｅＣ
ｏ，ＮｄＤｙＦｅＣｏ等の光磁気記録材料またはＧｅ−
Ｔｅ系、Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ系、Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ系等の
相変化記録材料が用いられる。
【００２０】記録層の膜厚は、１００〜２０００Åの範
囲が好ましい。なお、記録層および誘電体層の膜厚は、
多層構成に伴なう干渉効果も考慮して、レーザー光の吸
収効率が良く、記録信号の振幅すなわち記録状態と未記
録状態のコントラストが大きくなるように選ばれる。反
射層としては、通常、反射率の高いＡｌ，Ａｕ，Ａｇ，
Ｎｉ等の金属薄膜が用いられる。なお、反射層は記録層
が吸収した熱エネルギーの拡散を促進する効果もある。
反射層の膜厚は、２００〜３０００Åの範囲が好まし
い。また、反射層の上に紫外線硬化樹脂などの樹脂保護
層が設けてあってもよい。
囲が好ましい。なお、記録層および誘電体層の膜厚は、
多層構成に伴なう干渉効果も考慮して、レーザー光の吸
収効率が良く、記録信号の振幅すなわち記録状態と未記
録状態のコントラストが大きくなるように選ばれる。反
射層としては、通常、反射率の高いＡｌ，Ａｕ，Ａｇ，
Ｎｉ等の金属薄膜が用いられる。なお、反射層は記録層
が吸収した熱エネルギーの拡散を促進する効果もある。
反射層の膜厚は、２００〜３０００Åの範囲が好まし
い。また、反射層の上に紫外線硬化樹脂などの樹脂保護
層が設けてあってもよい。
【００２１】記録層、誘電体層、反射層は公知の真空中
での薄膜形成法、例えば真空蒸着法、イオンプレーティ
ング法、スパッタリング法等により形成される。組成、
膜厚コントロールの容易さ等から、特にスパッタリング
法が推奨される。形成する記録層等の厚さの制御は、公
知の技術である水晶振動子などの膜厚計によりモニタリ
ングすることで行える。
での薄膜形成法、例えば真空蒸着法、イオンプレーティ
ング法、スパッタリング法等により形成される。組成、
膜厚コントロールの容易さ等から、特にスパッタリング
法が推奨される。形成する記録層等の厚さの制御は、公
知の技術である水晶振動子などの膜厚計によりモニタリ
ングすることで行える。
【００２２】得られた光記録媒体の蒸着面の反対面に公
知の手段でバックコート層が設けられる。バックコート
層の形成は光記録層の形成前に行ってもよいが、光記録
層を形成した後に行うことがより好ましい。バックコー
ト層表面の中心線平均粗さＲａC は０．０１２〜０．０
４０μｍの範囲であり、好ましくは、０．０１５〜０．
０３５μｍ、さらに好ましくは０．０２０〜０．０３５
μｍの範囲である。ＲａC が０．０１２μｍ未満では、
光テープとしての走行性が不足し不適当である。一方、
ＲａC が０．０４０μｍを超えるものでは、バックコー
ト層の均一性に劣り不適当である。
知の手段でバックコート層が設けられる。バックコート
層の形成は光記録層の形成前に行ってもよいが、光記録
層を形成した後に行うことがより好ましい。バックコー
ト層表面の中心線平均粗さＲａC は０．０１２〜０．０
４０μｍの範囲であり、好ましくは、０．０１５〜０．
０３５μｍ、さらに好ましくは０．０２０〜０．０３５
μｍの範囲である。ＲａC が０．０１２μｍ未満では、
光テープとしての走行性が不足し不適当である。一方、
ＲａC が０．０４０μｍを超えるものでは、バックコー
ト層の均一性に劣り不適当である。
【００２３】かくして得られたバックコート層のＲａC
とＢ面のＲａB との差（ＲａC −ＲａB ）は、０．００
３〜０．０３５μｍの範囲であり、好ましくは、０．０
０８〜０．０３５μｍの範囲である。かかるＲａの差が
０．００３μｍ未満では、フィルムのＢ面の粗さがバッ
クコート層の粗さに影響し、突起の均一性が損なわれ、
走行性に悪影響を及ぼすため不適当である。一方、Ｒａ
の差が０．０３５μｍを超えるものでは、バックコート
面の突起が不均一となり耐久走行性が悪化するため不適
当である。
とＢ面のＲａB との差（ＲａC −ＲａB ）は、０．００
３〜０．０３５μｍの範囲であり、好ましくは、０．０
０８〜０．０３５μｍの範囲である。かかるＲａの差が
０．００３μｍ未満では、フィルムのＢ面の粗さがバッ
クコート層の粗さに影響し、突起の均一性が損なわれ、
走行性に悪影響を及ぼすため不適当である。一方、Ｒａ
の差が０．０３５μｍを超えるものでは、バックコート
面の突起が不均一となり耐久走行性が悪化するため不適
当である。
【００２４】
【実施例】以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説
明するが、本発明はその要旨を越えない限り、以下の実
施例に限定されるものではない。なお、フィルムおよび
光テープの特性評価は以下の方法により行った。
明するが、本発明はその要旨を越えない限り、以下の実
施例に限定されるものではない。なお、フィルムおよび
光テープの特性評価は以下の方法により行った。
【００２５】（１）平均表面粗さ（Ｒａ） 小坂研究所（株）表面粗さ測定器（ＳＥ−３ＦＫ）によ
って次のように求めた。触針の先端半径は２μｍ、荷重
は３０ｍｇとして測定したフィルム断面曲線からその中
心線の方向に基準長さＬ（２．５ｍｍ）の部分を抜き取
り、この抜き取り部分の中心線をＸ軸、縦倍率の方向を
Ｙ軸として、粗さ曲線ｙ＝ｆ（ｘ）で表わしたとき、次
の式で与えられた値をμｍで表した。ただし、カットオ
フ値は８０μｍとした。Ｒａは縦方向に５点、横方向に
５点の計１０点の平均値を求めた。
って次のように求めた。触針の先端半径は２μｍ、荷重
は３０ｍｇとして測定したフィルム断面曲線からその中
心線の方向に基準長さＬ（２．５ｍｍ）の部分を抜き取
り、この抜き取り部分の中心線をＸ軸、縦倍率の方向を
Ｙ軸として、粗さ曲線ｙ＝ｆ（ｘ）で表わしたとき、次
の式で与えられた値をμｍで表した。ただし、カットオ
フ値は８０μｍとした。Ｒａは縦方向に５点、横方向に
５点の計１０点の平均値を求めた。
【００２６】
【数１】
【００２７】（２）引張試験（Ｆ5 値） （株）インテスコ製、引張試験機インテスコモデル２０
０１型を用いて、温度２３℃、湿度５０％ＲＨに調節さ
れた室内において長さ５０ｍｍ、幅１５ｍｍの試料フィ
ルムを５０ｍｍ／ｍｉｎの速度で引張り、５％伸張時の
強度をＦ5 値とした。
０１型を用いて、温度２３℃、湿度５０％ＲＨに調節さ
れた室内において長さ５０ｍｍ、幅１５ｍｍの試料フィ
ルムを５０ｍｍ／ｍｉｎの速度で引張り、５％伸張時の
強度をＦ5 値とした。
【００２８】実施例１ 内部に粒子を含有しないポリエチレンテレフタレート原
料を層Ａ1 の原料とし、δ−Ａｌ2 Ｏ3 粒子を０．３ｗ
ｔ％と０．６μｍの合成炭酸カルシウム粒子０．０８ｗ
ｔ％とを含有するポリエチレンテレフタレート原料を層
Ｂ1 の原料として、Ａ1 層とＢ1 層の厚み比を１：５の
割合となるようにシート状に共押出しし、このシートを
８５〜９０℃の温度で縦方向に３．３倍延伸し、次いで
テンターに導いて横方向に９５〜１００℃の温度で３．
５倍延伸した後、２１５℃で熱固定して１５μｍのフィ
ルムを得た。得られたフィルムの特性を下記表１に示
す。
料を層Ａ1 の原料とし、δ−Ａｌ2 Ｏ3 粒子を０．３ｗ
ｔ％と０．６μｍの合成炭酸カルシウム粒子０．０８ｗ
ｔ％とを含有するポリエチレンテレフタレート原料を層
Ｂ1 の原料として、Ａ1 層とＢ1 層の厚み比を１：５の
割合となるようにシート状に共押出しし、このシートを
８５〜９０℃の温度で縦方向に３．３倍延伸し、次いで
テンターに導いて横方向に９５〜１００℃の温度で３．
５倍延伸した後、２１５℃で熱固定して１５μｍのフィ
ルムを得た。得られたフィルムの特性を下記表１に示
す。
【００２９】得られたフィルムの滑り性は良好でブロッ
キングも発生せず、良好に巻き取ることができた。ま
た、フィルム表面にスリ傷等の欠陥も生じていなかっ
た。このポリエステルフィルム表面Ａ1 にスパッタリン
グ法によりＡｌ反射層を１０００Å、Ｔａ2 Ｏ5 誘電体
層を１５００Å、Ｇｅ22Ｓｂ28Ｔｅ50（原子％）記録層
を７００Å、Ｔａ2 Ｏ5 誘電体層１１００Åを同一チャ
ンバー内で真空下順次形成し、次いで反対面Ｂ1 にバッ
クコート層を設けて、相変化記録媒体を作成した。得ら
れた相変化記録媒体を４ｍ／ｓの線速度で走行させ、記
録層側から半導体レーザー光を照射し、１ＭＨｚの信号
を記録したところ、５０ｄＢ以上の良好なＣ／Ｎが得ら
れ、かつオーバーライトも可能であった。
キングも発生せず、良好に巻き取ることができた。ま
た、フィルム表面にスリ傷等の欠陥も生じていなかっ
た。このポリエステルフィルム表面Ａ1 にスパッタリン
グ法によりＡｌ反射層を１０００Å、Ｔａ2 Ｏ5 誘電体
層を１５００Å、Ｇｅ22Ｓｂ28Ｔｅ50（原子％）記録層
を７００Å、Ｔａ2 Ｏ5 誘電体層１１００Åを同一チャ
ンバー内で真空下順次形成し、次いで反対面Ｂ1 にバッ
クコート層を設けて、相変化記録媒体を作成した。得ら
れた相変化記録媒体を４ｍ／ｓの線速度で走行させ、記
録層側から半導体レーザー光を照射し、１ＭＨｚの信号
を記録したところ、５０ｄＢ以上の良好なＣ／Ｎが得ら
れ、かつオーバーライトも可能であった。
【００３０】実施例２ 実施例１で得られたポリエステルフィルムのＡ1 面上
に、スパッタリング法によりＡｌ反射層を１０００Å、
Ｔａ2 Ｏ5 誘電体層を９００Å、Ｔｂ22Ｆｅ70Ｃｏ
8 （原子％）記録層を４００Å、Ｔａ2 Ｏ5 誘電体層７
５０Åを同一チャンバー内で真空下順次形成し、次いで
反対面Ｂ1 にバックコート層を設けて、光磁気記録媒体
を作成した。
に、スパッタリング法によりＡｌ反射層を１０００Å、
Ｔａ2 Ｏ5 誘電体層を９００Å、Ｔｂ22Ｆｅ70Ｃｏ
8 （原子％）記録層を４００Å、Ｔａ2 Ｏ5 誘電体層７
５０Åを同一チャンバー内で真空下順次形成し、次いで
反対面Ｂ1 にバックコート層を設けて、光磁気記録媒体
を作成した。
【００３１】得られた光磁気記録媒体を、電磁石で一括
消去した後、４ｍ／ｓの線速度で走行させながら、記録
層側から半導体レーザー光を照射し、２００Ｏｅのバイ
アス磁界をかけ、１ＭＨｚの信号を記録したところ、５
０ｄＢ以上の良好なＣ／Ｎが得られた。
消去した後、４ｍ／ｓの線速度で走行させながら、記録
層側から半導体レーザー光を照射し、２００Ｏｅのバイ
アス磁界をかけ、１ＭＨｚの信号を記録したところ、５
０ｄＢ以上の良好なＣ／Ｎが得られた。
【００３２】比較例１ 表裏共に実施例１のＡ1 面と同等の粗度となるように単
層にする以外は実施例１と同様に製膜したところ、巻き
取りが困難で、かつ、傷の発生頻度が高く、歩留まりが
極端に悪いため、工業的な生産は不可能であった。
層にする以外は実施例１と同様に製膜したところ、巻き
取りが困難で、かつ、傷の発生頻度が高く、歩留まりが
極端に悪いため、工業的な生産は不可能であった。
【００３３】比較例２ 実施例１において、縦延伸後横延伸前にインラインで塗
布処理を施し、バックコート層を設けない外は実施例１
と同様にして光記録媒体を得、実機で走行させたとこ
ろ、走行を多数回繰り返すと塗布層が損傷を受け、走行
性が悪化した。
布処理を施し、バックコート層を設けない外は実施例１
と同様にして光記録媒体を得、実機で走行させたとこ
ろ、走行を多数回繰り返すと塗布層が損傷を受け、走行
性が悪化した。
【００３４】実施例３ 実施例１において、ポリエチレンテレフタレートをポリ
エチレン−２，６−ナフタレートフィルムとする外は実
施例１と同様にして未延伸フィルムを得た。得られた未
延伸フィルムを縦方向に１３５℃で４．５倍、延伸し、
次いで１５０℃で４．３倍、横方向に延伸した後、さら
に縦方向に１４０℃で１．２倍再縦延伸を行い、２００
℃で１．１５倍、再横延伸後、２２５℃で熱固定し１０
μｍのフィルムを得た。得られたフィルムの物性を下記
表１に示す。得られたフィルムの平坦面上に実施例１と
同様にして光記録層を形成し、バックコート層を設けて
相変化記録媒体を作成した。
エチレン−２，６−ナフタレートフィルムとする外は実
施例１と同様にして未延伸フィルムを得た。得られた未
延伸フィルムを縦方向に１３５℃で４．５倍、延伸し、
次いで１５０℃で４．３倍、横方向に延伸した後、さら
に縦方向に１４０℃で１．２倍再縦延伸を行い、２００
℃で１．１５倍、再横延伸後、２２５℃で熱固定し１０
μｍのフィルムを得た。得られたフィルムの物性を下記
表１に示す。得られたフィルムの平坦面上に実施例１と
同様にして光記録層を形成し、バックコート層を設けて
相変化記録媒体を作成した。
【００３５】得られた相変化記録媒体を４ｍ／ｓの線速
度で走行させ、記録層側から半導体レーザー光を照射
し、１ＭＨｚの信号を記録したところ、５０ｄＢ以上の
良好なＣ／Ｎが得られ、かつオーバーライトも可能であ
った。
度で走行させ、記録層側から半導体レーザー光を照射
し、１ＭＨｚの信号を記録したところ、５０ｄＢ以上の
良好なＣ／Ｎが得られ、かつオーバーライトも可能であ
った。
【００３６】
【表１】
【００３７】
【発明の効果】本発明の光テープは、優れた記録再生特
性を有するものであり、その工業的価値は高い。
性を有するものであり、その工業的価値は高い。
フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ２９Ｌ 7:00 4Ｆ (72)発明者 吉田 秀実 神奈川県横浜市緑区鴨志田町1000番地 三 菱化成株式会社総合研究所内
Claims (1)
- 【請求項１】 表面粗度およびＦ5 値が下記式〜を
同時に満足する、多層が共押出しにより積層、延伸配向
されてなるポリエステルフィルムの高粗面度面側に、表
面粗度が下記式およびを同時に満足するバックコー
ト層が設けられ、低粗面度面側に記録層が設けられてな
る光テープ。 ＲａA ≦０．００５ … ０．００５≦ＲａB ≦０．０３０ … ０．００５≦ＲａB −ＲａA ≦０．０２６… ９≦Ｆ5 ≦３０ … ０．０１２≦ＲａC ≦０．０４０ … ０．００３≦ＲａC −ＲａB ≦０．０３５… 上記式中、ＲａA はポリエステルフィルムの低粗面度面
の中心線平均粗さ（μｍ）、ＲａB はポリエステルフィ
ルムの高粗面度面の中心線平均粗さ（μｍ）、ＲａC は
バックコート層表面の中心線平均粗さ（μｍ）、Ｆ5 は
ポリエステルフィルムの縦方向のＦ5 値（ｋｇ／ｍ
ｍ2 ）を示す。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4021418A JPH05217216A (ja) | 1992-02-06 | 1992-02-06 | 光テープ |
| DE69222104T DE69222104D1 (de) | 1991-06-24 | 1992-06-17 | Optisches Band |
| EP92110301A EP0528134B1 (en) | 1991-06-24 | 1992-06-17 | Optical tape |
| CA002071689A CA2071689A1 (en) | 1991-06-24 | 1992-06-19 | Optical tape |
| MX9203044A MX9203044A (es) | 1991-06-24 | 1992-06-19 | Cinta optica. |
| KR1019920010827A KR930001157A (ko) | 1991-06-24 | 1992-06-20 | 광학 테이프 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4021418A JPH05217216A (ja) | 1992-02-06 | 1992-02-06 | 光テープ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05217216A true JPH05217216A (ja) | 1993-08-27 |
Family
ID=12054463
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4021418A Pending JPH05217216A (ja) | 1991-06-24 | 1992-02-06 | 光テープ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05217216A (ja) |
-
1992
- 1992-02-06 JP JP4021418A patent/JPH05217216A/ja active Pending
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