JPH05215472A - 不活性ガス雰囲気炉 - Google Patents

不活性ガス雰囲気炉

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Publication number
JPH05215472A
JPH05215472A JP4008912A JP891292A JPH05215472A JP H05215472 A JPH05215472 A JP H05215472A JP 4008912 A JP4008912 A JP 4008912A JP 891292 A JP891292 A JP 891292A JP H05215472 A JPH05215472 A JP H05215472A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
inert gas
atmosphere furnace
gas atmosphere
substance
oxygen
Prior art date
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Pending
Application number
JP4008912A
Other languages
English (en)
Inventor
Koichi Tsurumi
浩一 鶴見
Shinji Shimazaki
新二 島崎
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 残存酸素を除去し、不活性ガスの消費量を大
幅に削減できる不活性ガス雰囲気炉を提供する。 【構成】 被処理物を不活性ガス炉内に搬送する機構4
およびその被処理物を加熱する機構2等を有する不活性
ガス雰囲気炉において、酸化反応を生じさせる物質を利
用して炉内の残存酸素を除去する酸素除去部1を有する
構成よりなる。上記酸化反応を生じさせる物質には、炭
素系材料、鉄系材料、半田材料等がある。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、厚膜導体を形成したプ
リント基板の焼成に用いる雰囲気焼成炉や半田付けに用
いる雰囲気半田付け炉等の不活性ガス雰囲気炉に関す
る。
【0002】
【従来の技術】従来から基板上に電子回路を形成する方
法として厚膜導体ペーストを基板上に印刷法などで形成
し、これを窒素などの不活性ガス下で焼成する方法が一
般的に用いられている。また、半田付けにおいては加熱
工程を不活性雰囲気にすることにより、基板や半田、部
品の酸化を防止することが一般的に行なわれている。用
いられる不活性雰囲気は窒素が一般的であるが、アルゴ
ンも稀に用いられる。不活性雰囲気下に残存する酸素は
工程中の酸化を促進するためできるだけ低減することが
望まれる。一般的には残存酸素濃度を数ppmから数百
ppmに抑える必要がある。適正な残存酸素濃度は用い
る導体材料や半田材料および基板の材質によってほぼ決
定される。適正な酸素濃度に炉内を保持するためには一
般的には大量の不活性ガスを必要とする。適正なガス供
給量は雰囲気炉の大きさや所望の酸素濃度によって異な
る。ガスの消費量が多くなればなるほど製造される製品
の製造単価を押し上げる要因となっており、できるだけ
ガス消費量は少ないことが望まれている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】雰囲気炉内の酸素濃度
を適正値に保つためには炉外から侵入するガスを抑止す
るため大量のガスを必要とする。大量のガス使用は製造
コストを増加させるという欠点があった。
【0004】本発明は上記課題を解決するもので、残存
酸素を除去し、不活性ガスの消費量を大幅に削減できる
不活性ガス雰囲気炉を提供することを目的としている。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明の不活性ガス雰囲気炉は、炉内に酸化反応を生
じさせる物質を利用して残存酸素を除去する酸素除去部
を有する構成よりなり、その酸化反応を生じさせる物質
は、炭素系材料、鉄系材料または半田材料によって構成
される。
【0006】
【作用】上記構成により、雰囲気炉内の酸素を除去し、
不活性ガスの消費量を大幅に削減することが可能にな
る。
【0007】
【実施例】以下本発明の一実施例について図面を参照し
ながら説明する。
【0008】図1は本発明に基づく雰囲気炉の内部構造
の一例を示している。1は酸素除去装置、2はガス加熱
用ヒータ、3はガス循環用ファン、4は搬送コンベアで
ある。不活性ガスが循環する部分に酸素を除去する機能
を持った酸素除去装置1を設ける。この酸素除去装置1
の酸化反応を生じさせる物質として、炭素系材料で構成
される場合、その炭素系材料の温度を700〜800℃
にする必要がある。高温に加熱されたその炭素系材料は
700〜800℃で炉内の酸化反応を起こし二酸化炭素
を発生する。酸化反応を生じさせる物質として鉄系材料
を用いた場合は上記相当温度が500〜700℃とな
る。また同じく半田材料を用いた場合はその材料の融点
以上の温度で用いることができる。酸化反応を生じさせ
る物質を加熱する機構は雰囲気炉既存の加熱装置を用い
てもよいし、別に加熱する機構を設けてもよい。図2は
酸素除去装置1の一例を示すもので、5は反射板、6は
赤外線ヒータ、7は黒鉛棒で酸化反応を生じさせる物質
である。
【0009】
【発明の効果】以上の実施例から明らかなように本発明
は、酸化反応を生じさせる物質を利用して炉内の残存酸
素を除去する酸素除去部を有する構成よりなるので炉内
の残存酸素を除去し、不活性ガスの消費量を大幅に削減
することができる不活性ガス雰囲気炉を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例における不活性ガス雰囲気炉
の概略構成図
【図2】図1の不活性ガス雰囲気炉の酸素除去装置の一
例を示す構成図
【符号の説明】
1 酸素除去装置(酸素除去部) 2 ガス加熱用ヒータ(加熱する機構) 3 ガス循環用ファン 4 搬送コンベア(搬送する機構) 5 反射板 6 赤外線ヒータ 7 黒鉛棒(酸化反応を生じさせる物質)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H05K 3/34 T 9154−4E // H05K 3/12 B 7511−4E B23K 101:42

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】被処理物を不活性ガス炉内に搬送する機構
    および被処理物を加熱する機構等を有する不活性ガス雰
    囲気炉において、酸化反応を生じさせる物質を利用して
    前記不活性ガス雰囲気炉内の残存酸素を除去する酸素除
    去部を有することを特徴とする不活性ガス雰囲気炉。
  2. 【請求項2】酸素除去部の酸化反応を生じさせる物質が
    炭素系材料からなることを特徴とする請求項1記載の不
    活性ガス雰囲気炉。
  3. 【請求項3】酸素除去部の酸化反応を生じさせる物質が
    鉄系材料からなることを特徴とする請求項1記載の不活
    性ガス雰囲気炉。
  4. 【請求項4】酸素除去部の酸化反応を生じさせる物質が
    半田材料からなることを特徴とする請求項1記載の不活
    性ガス雰囲気炉。
  5. 【請求項5】酸素除去部の酸化反応を生じさせる物質を
    加熱する機構を付加したことを特徴とする請求項1,
    2,3または4記載の不活性ガス雰囲気炉。
JP4008912A 1992-01-22 1992-01-22 不活性ガス雰囲気炉 Pending JPH05215472A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004009279A1 (ja) * 2002-07-19 2004-01-29 Kanto Yakin Kogyo Kabushiki Kaisha アルミニウム製品のろう付け方法とその炉

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004009279A1 (ja) * 2002-07-19 2004-01-29 Kanto Yakin Kogyo Kabushiki Kaisha アルミニウム製品のろう付け方法とその炉
US7377418B2 (en) 2002-07-19 2008-05-27 Kanto Yakin Kogyo Kabushiki Kaisha Method of brazing aluminum products and furnace therefor

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