JPH0520892A - Ccd element - Google Patents
Ccd elementInfo
- Publication number
- JPH0520892A JPH0520892A JP3172633A JP17263391A JPH0520892A JP H0520892 A JPH0520892 A JP H0520892A JP 3172633 A JP3172633 A JP 3172633A JP 17263391 A JP17263391 A JP 17263391A JP H0520892 A JPH0520892 A JP H0520892A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reset
- gate
- floating diffusion
- output
- diffusion region
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、CCDエリアセンサ、
CCDリニアセンサ等のCCD撮像素子およびCCDを
利用した他の素子等のCCD素子に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to a CCD area sensor,
The present invention relates to a CCD image sensor such as a CCD linear sensor and a CCD device such as another device using a CCD.
【0002】[0002]
【従来の技術】図4は、従来のCCD撮像素子の水平転
送レジスタの終段部分及びその出力部の構成を示す。同
図において、1は水平転送レジスタを示す。水平転送レ
ジスタ1は、半導体基板2の主面上に絶縁膜を介して転
送電極即ち、ストレージ電極3S及びトランスフア電極
3Tを有してなる転送部4が複数配列され、2相の駆動
パルスφH1 及びφH2 (図5A,B参照)により信号
電荷を水平方向に転送するように形成される。水平転送
レジスタ1の最終段の転送部4が、固定のゲート電圧V
HOG が印加される水平出力ゲート部5を介してフローテ
ィング・ディフージョン領域7に接続され、水平転送レ
ジスタ1よりの信号電荷がフローティング・ディフージ
ョン領域7に転送され、電荷−電圧変換され出力アンプ
8を通じて出力されるようになされる。この出力部9に
おいては、フローティング・ディフージョン領域7に転
送された信号電荷を所定電圧VRDが与えられたリセット
ドレイン領域10に掃出すために両領域7及び10間に
リセットパルスφRG(図5C参照)が印加されるリセ
ットゲート部11が形成される。2. Description of the Related Art FIG. 4 shows a configuration of a final stage portion of a horizontal transfer register of a conventional CCD image pickup device and its output portion. In the figure, 1 indicates a horizontal transfer register. In the horizontal transfer register 1, a plurality of transfer electrodes 4 each having a transfer electrode, that is, a storage electrode 3S and a transfer electrode 3T are arranged on the main surface of the semiconductor substrate 2 via an insulating film, and a two-phase drive pulse φH is provided. 1 and φH 2 (see FIGS. 5A and 5B) are formed so as to transfer the signal charge in the horizontal direction. The transfer unit 4 at the final stage of the horizontal transfer register 1 has a fixed gate voltage V
It is connected to the floating diffusion region 7 through the horizontal output gate unit 5 to which the HOG is applied, and the signal charges from the horizontal transfer register 1 are transferred to the floating diffusion region 7, and the charge-voltage conversion is performed on the output amplifier 8. Will be output through. In the output section 9, in order to sweep out the signal charges transferred to the floating diffusion region 7 to the reset drain region 10 to which the predetermined voltage V RD is applied, a reset pulse φRG (FIG. 5C) is provided between the regions 7 and 10. The reset gate portion 11 to which the reference voltage is applied is formed.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】図4の出力部9におい
ては、図5Dにフローティング・ディフージョン領域7
の電位波形を示すように、リセットゲート部11をオン
したとき(リセットパルスφRGの高レベルのとき)、
フローティング・ディフージョン領域7の電位V FDはリ
セットドレイン領域10の電位VRDと等しくなるも(即
ちVFD=VRD)、フローティング・ディフージョン領域
7とリセットゲート部11との間に寄生容量C1 が存在
するために、リセットゲート部11がオフしたあとフロ
ーティング・ディフージョン領域7の電位VFDは寄生容
量C1 の容量結合によってリセットドレイン領域10の
電位VRDにならず、之より低くなる(即ちVFD<
VRD)。これを図5EのCCD出力波形でみれば、リセ
ットゲート部11がオフした後、基準電位(即ちリセッ
ト電位)aより低い電位(即ちフィードスルー電位)b
になる。この基準電位aとフィードスルー電位bの差が
寄生容量C1 に起因する所謂カップリング量A1 とな
る。In the output section 9 of FIG.
As shown in FIG. 5D, the floating diffusion area 7
As shown in the potential waveform of
When (when the reset pulse φRG is at a high level),
Floating diffusion region 7 potential V FDIs
Set drain region 10 potential VRDIs equal to (immediately
Chi VFD= VRD), Floating diffusion area
7 and the reset gate 11 between the parasitic capacitance C1exist
In order to do so, after the reset gate unit 11 is turned off,
Potential of the contact diffusion region 7FDIs parasitic
Quantity C1Of the reset drain region 10 by capacitive coupling of
Potential VRDNot lower than that (ie VFD<
VRD). Looking at this with the CCD output waveform of FIG. 5E, the reset
After the gate 11 is turned off, the reference potential (that is, reset
Potential lower than (a) (that is, feedthrough potential) b
become. The difference between this reference potential a and the feedthrough potential b
Parasitic capacitance C1So-called coupling amount A due to1Tona
It
【0004】CCD撮像素子の高感度化につれて、フロ
ーティング・ディフージョン領域7に関する容量に比例
して容量C1 も減少すればよいが、減少しないときには
カップリング量A1 が相対的に大きくなり、信号成分の
ダイナミックレンジが減少する。即ち、図6のポテンシ
ャル図で示すようにリセットゲート部11をオフした後
のフローティング・ディフージョン領域7のポテンシャ
ルはVRD(破線位置)より浅くなり(実線位置)、FD
部への転送を困難にしたり、また取り扱い電荷量を減少
させている。図6のポテンシャル差B1 がCCD出力波
形でのカップリング量A1 に対応する。As the sensitivity of the CCD image pickup device increases, the capacitance C 1 may be reduced in proportion to the capacitance related to the floating diffusion region 7. However, if it does not decrease, the coupling amount A 1 becomes relatively large, and the signal A 1 The dynamic range of the components is reduced. That is, as shown in the potential diagram of FIG. 6, the potential of the floating diffusion region 7 after turning off the reset gate portion 11 becomes shallower than V RD (broken line position) (solid line position), and FD
It makes transfer to other parts difficult and reduces the amount of charge handled. The potential difference B 1 in FIG. 6 corresponds to the coupling amount A 1 in the CCD output waveform.
【0005】本発明は、上述の点に鑑み、リセットゲー
ト部とフローティング・ディフージョン領域間の容量C
1 によるカップリング量A1 を低減することが目的であ
る。In view of the above points, the present invention has a capacitance C between the reset gate portion and the floating diffusion region.
The purpose is to reduce the coupling amount A 1 due to 1 .
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明は、CCD構造の
電荷転送レジスタ1の終段に出力ゲート部5を介してフ
ローティング・ディフージョン領域7が接続され、フロ
ーティング・ディフージョン領域7とリセットドレイン
領域10間にリセットゲート部11が設けられてなるC
CD素子において、出力ゲート部5に、リセットゲート
部11に印加するリセットパルスφRGとは逆相の出力
ゲートパルスφHOGを印加するようになす。According to the present invention, a floating diffusion region 7 is connected to a final stage of a charge transfer register 1 having a CCD structure via an output gate unit 5, and the floating diffusion region 7 and a reset drain are connected to each other. C in which the reset gate portion 11 is provided between the regions 10
In the CD element, an output gate pulse φHOG having a phase opposite to that of the reset pulse φRG applied to the reset gate unit 11 is applied to the output gate unit 5.
【0007】[0007]
【作用】本発明においては、出力ゲート部5にリセット
パルスφRGと逆相の出力ゲートパルスφHOGを印加
する。従って、リセットゲート部11をオフした後の、
フローティング・ディフージョン領域7の電位VFDは、
リセットゲート部11とフローティング・ディフージョ
ン領域7間の寄生容量C1の容量結合によってリセット
ドレイン領域10の電位VRDより下げられるも、逆にフ
ローティング・ディフージョン領域7と出力ゲート部5
との間にも寄生容量C2 が存在するのでこの寄生容量C
2 の容量結合によって引き上げられる。この結果、寄生
容量C1 に起因するカップリング量が抑えられカップリ
ング量Aが減少する。In the present invention, the output gate section 5 is supplied with the output gate pulse φHOG having a phase opposite to that of the reset pulse φRG. Therefore, after turning off the reset gate unit 11,
The potential V FD of the floating diffusion region 7 is
Although the potential V RD of the reset drain region 10 can be lowered by the capacitive coupling of the parasitic capacitance C 1 between the reset gate region 11 and the floating diffusion region 7, conversely, the floating diffusion region 7 and the output gate region 5 are reversed.
Since the parasitic capacitance C 2 also exists between and, the parasitic capacitance C 2
It is pulled up by capacitive coupling of 2 . As a result, the coupling amount due to the parasitic capacitance C 1 is suppressed and the coupling amount A is reduced.
【0008】[0008]
【実施例】以下、図面を参照して本発明によるCCD素
子の実施例を説明する。Embodiments of the CCD device according to the present invention will be described below with reference to the drawings.
【0009】図1は本実施例に係るCCD素子の水平転
送レジスタ終段部分及びその出力部の構成図で、前述の
図4と対応する部分には同一符号を付して示す。本例に
おいても、図4と同様に半導体基板2の主面に絶縁膜を
介してストレージ電極3S及びトランスファ電極3Tを
有する転送部4が複数配列され、2相の駆動パルスφH
1 及びφH2 にて信号電荷を水平方向に順次転送するC
CD構造の水平転送レジスタ1と、水平転送レジスタ1
の最終段の転送部4に接続された水平出力ゲート部5及
びフローティング・ディフージョン領域7と、フローテ
ィング・ディフージョン領域7に接続された出力アンプ
8と、リセットドレイン領域10と、フローティング・
ディフージョン領域7に転送された信号電荷をリセット
ドレイン領域10に掃出すためのリセットゲート部11
とを有してなる。リセットドレイン領域10には所定電
圧VRDが、リセットゲート部11にはリセットパルスφ
RGが夫々印加される。FIG. 1 is a configuration diagram of the final stage portion of the horizontal transfer register of the CCD device according to the present embodiment and its output portion, and the portions corresponding to those in FIG. Also in this example, as in the case of FIG. 4, a plurality of transfer portions 4 having storage electrodes 3S and transfer electrodes 3T are arranged on the main surface of the semiconductor substrate 2 with an insulating film interposed therebetween, and a two-phase drive pulse φH is generated.
C which sequentially transfers the signal charges in the horizontal direction at 1 and φH 2
CD structure horizontal transfer register 1 and horizontal transfer register 1
The horizontal output gate unit 5 and the floating diffusion region 7 connected to the transfer unit 4 at the final stage, the output amplifier 8 connected to the floating diffusion region 7, the reset drain region 10, and the floating drain region 7.
Reset gate unit 11 for sweeping out signal charges transferred to diffusion region 7 to reset drain region 10
And have. A predetermined voltage V RD is applied to the reset drain region 10, and a reset pulse φ is applied to the reset gate unit 11.
RG is applied respectively.
【0010】しかして、本例においては、図1及び図2
に示すように水平出力ゲート部5に、従来の固定電位に
代えてリセットパルスφRGと逆相の出力ゲートパルス
φHOGを印加するようになす。In this example, however, FIGS.
As shown in, the horizontal output gate section 5 is applied with an output gate pulse φHOG having a phase opposite to that of the reset pulse φRG instead of the conventional fixed potential.
【0011】フローティング・ディフージョン領域7と
リセットゲート部11との間に寄生容量C1 が存在する
と同時に、フローティング・ディフージョン領域7と水
平出力ゲート部5との間にも寄生容量C2 が存在してい
るので、水平出力ゲート部5にリセットパルスφRGと
逆相の出力ゲートパルスφHOGを印加することによ
り、リセットゲート部11をオフした後のフローティン
グ・ディフージョン領域7での電位低下を抑制すること
ができ、所謂CCD出力波形におけるカップリング量A
2 を抑えることができる。A parasitic capacitance C 1 exists between the floating diffusion region 7 and the reset gate portion 11, and at the same time, a parasitic capacitance C 2 exists between the floating diffusion region 7 and the horizontal output gate portion 5. Therefore, by applying an output gate pulse φHOG having a phase opposite to that of the reset pulse φRG to the horizontal output gate unit 5, the potential drop in the floating diffusion region 7 after turning off the reset gate unit 11 is suppressed. The coupling amount A in the so-called CCD output waveform can be
2 can be suppressed.
【0012】即ち、リセットゲート部11にリセットパ
ルスφRGの高レベル(例えば5V)が与えられてリセ
ットゲート部11がオンしたとき、フローティング・デ
ィフージョン領域7の電位VFDはリセットドレイン領域
10の電位VRDと等しくなる。このとき、水平出力ゲー
ト部5には出力ゲートパルスφHOGの低レベル(例え
ば0V)が与えられる。次に、リセットパルスφRGの
低レベル(例えば0V)が与えられてリセットゲート部
11がオフした後の、フローティング・ディフージョン
領域7の電位VFDは、寄生容量C1 の容量結合によって
引き下げられるも、これと同時に、水平出力ゲート部5
では出力ゲートパルスφHOGの高レベル(例えば5
V)が印加されるために、寄生容量C2 の容量結合によ
ってフローティング・ディフージョン領域7の電位が引
き上げられる。この結果、リセットゲート部11をオフ
した後のフローティング・ディフージョン領域の電位低
下が抑えられ、図2EのCCD出力波形でのカップリン
グ量A2 が減少する。That is, when a high level (eg, 5 V) of the reset pulse φRG is applied to the reset gate section 11 and the reset gate section 11 is turned on, the potential V FD of the floating diffusion region 7 is the potential of the reset drain region 10. It becomes equal to V RD . At this time, a low level (for example, 0V) of the output gate pulse φHOG is applied to the horizontal output gate unit 5. Next, the potential V FD of the floating diffusion region 7 after the low level (for example, 0 V) of the reset pulse φRG is applied and the reset gate unit 11 is turned off is lowered by the capacitive coupling of the parasitic capacitance C 1. At the same time, the horizontal output gate unit 5
Then, the high level of the output gate pulse φHOG (for example, 5
V) is applied, the potential of the floating diffusion region 7 is raised by the capacitive coupling of the parasitic capacitance C 2 . As a result, the potential drop in the floating diffusion region after turning off the reset gate unit 11 is suppressed, and the coupling amount A 2 in the CCD output waveform of FIG. 2E is reduced.
【0013】ここで、寄生容量C1 と寄生容量C2 が全
く同じ値で(C1 =C2 )、リセットパルスφRGと出
力ゲートパルスφHOGが全く逆相であれば、図2Eの
カップリング量がOとなり鎖線で示すCCD出力波形P
1 となる。また、寄生容量C 1 と寄生容量C2 が等しく
なくてもカップリング量を減少することができるもの
で、例えばC1 >C2 てあれば、図2Eのカップリング
量A2 の実線で示すCCD出力波形P2 となる。図示せ
ざるもC1 <C2 の場合もありうる。P3 は比較のため
に示したもので図4で得られる従来のCCD出力波形で
ある。また、上例では出力ゲートパルスφHOGとリセ
ットパルスφRGの振幅を等しくしたが、出力ゲートパ
ルスφHOGの振幅を変えてさらにカップリング量A2
を抑制することも可能である。Here, the parasitic capacitance C1And parasitic capacitance C2Is all
The same value (C1= C2), Reset pulse φRG
If the force gate pulse φHOG is in the opposite phase,
Coupling amount becomes O and CCD output waveform P shown by the chain line
1Becomes Also, the parasitic capacitance C 1And parasitic capacitance C2Are equal
What can reduce the amount of coupling without
And, for example, C1> C2If present, the coupling of Figure 2E
Quantity A2CCD output waveform P shown by the solid line2Becomes Illustrated
Colander C1<C2In some cases, P3Is for comparison
The conventional CCD output waveform shown in Fig. 4
is there. In the above example, the output gate pulse φHOG and reset
Although the output pulses φRG have the same amplitude,
Coupling amount A by changing the amplitude of loose φHOG2
Can be suppressed.
【0014】次に、図2A〜図2Dの印加パルス波形と
図3のポテンシャル図を用いて上記実施例における電荷
の転送を説明する。図2に示すタイミングで水平転送レ
ジスタ1の転送部4に2相の駆動パルスφH1 及びφH
2が、水平出力ゲート部5に出力ゲートパルスφHOG
が、リセットゲート部11にリセットパルスφRGが夫
々印加される。Next, charge transfer in the above embodiment will be described with reference to the applied pulse waveforms of FIGS. 2A to 2D and the potential diagram of FIG. Two-phase drive pulses φH 1 and φH are sent to the transfer unit 4 of the horizontal transfer register 1 at the timing shown in FIG.
2 output gate pulse φHOG to the horizontal output gate unit 5
However, the reset pulse φRG is applied to the reset gate unit 11, respectively.
【0015】そして、リセットゲート部11をオンした
時点t1 では、各部のポテンシャルは図3Aに示す状態
となり、フローティング・ディフージョン領域7の信号
電荷e1 はリセットドレイン領域10に掃出され、次の
信号電荷e2 が最終段の転送部4のストレージ電極3S
下に転送される。At time t 1 when the reset gate portion 11 is turned on, the potential of each portion becomes the state shown in FIG. 3A, the signal charge e 1 of the floating diffusion region 7 is swept out to the reset drain region 10, and Of the signal charge e 2 of the storage electrode 3S of the transfer unit 4 at the final stage.
Transferred to below.
【0016】次に、リセットゲート部11がオフした時
点t2 では駆動パルスφH1 が高レベルで、出力ゲート
パルスφHOGが高レベルとなり、図3Bに示すポテン
シャル状態となって、信号電荷e2 は最終段の転送部4
のストレージ電極3S下にとどまっている。Next, the drive pulse .phi.H 1 At time t 2 the reset gate portion 11 is turned off is high, the output gate pulse φHOG goes high, become potential state shown in FIG. 3B, the signal charges e 2 is Transfer unit 4 at the final stage
Remains below the storage electrode 3S.
【0017】次に、時点t3 では駆動パルスφH1 が低
レベルとなり、図3Cに示すポテンシャル状態となり、
転送部4の信号電荷e2 がフローティング・ディフージ
ョン領域7に転送され、出力アンプ8を通して信号成分
が出力される。Next, at time t 3 , the driving pulse φH 1 becomes low level, and the potential state shown in FIG.
The signal charge e 2 of the transfer section 4 is transferred to the floating diffusion region 7, and the signal component is output through the output amplifier 8.
【0018】次に、時点t4 では駆動パルスφH1 が高
レベルとなることによって、図3Dのポテンシャル状態
となり、次の信号電荷e3 が最終段の転送部4のストレ
ージ電極3S下に転送される。このようにして、順次電
荷がフローティング・ディフージョン領域7に転送さ
れ、出力される。Next, at the time point t 4 , the driving pulse φH 1 becomes high level, and the potential state of FIG. 3D is brought about, and the next signal charge e 3 is transferred to below the storage electrode 3S of the transfer section 4 at the final stage. It In this way, the charges are sequentially transferred to the floating diffusion region 7 and output.
【0019】上述の実施例によれば、水平転送レジスタ
1の次段の水平出力ゲート部5に、リセットパルスφR
Gと逆相の出力ゲートパルスφHOGを印加することに
より、リセットゲート部11とフローティング・ディフ
ージョン領域7間の寄生容量C1 の影響を低減しカップ
リングを低減することができる。これによって、CCD
エリアセンサ、CCDリニアセンサ等のCCD撮像素子
の高感度化によって増大したカップリング量によるフロ
ーティング・ディフージョン領域7の取扱い電荷量減
少、フローティング・ディフージョン領域7への転送電
界減少を打破することができる。According to the above-described embodiment, the reset pulse φR is applied to the horizontal output gate section 5 at the next stage of the horizontal transfer register 1.
By applying the output gate pulse φHOG having a phase opposite to that of G, the influence of the parasitic capacitance C 1 between the reset gate portion 11 and the floating diffusion region 7 can be reduced and the coupling can be reduced. This allows the CCD
It is possible to overcome the reduction in the amount of charge handled in the floating diffusion region 7 and the reduction in the electric field transferred to the floating diffusion region 7 due to the increased coupling amount due to the increased sensitivity of CCD image pickup devices such as area sensors and CCD linear sensors. it can.
【0020】[0020]
【発明の効果】本発明によれば、フローティング・ディ
フージョン領域とリセットゲート部間の寄生容量の影響
を抑え出力波形における基準電位とフィードスルー電位
間のカップリング量を減少することができ、フローティ
ング・ディフージョン領域における取扱い電荷量を確保
することができる。従って、CCDエリアセンサ、CC
Dリニアセンサ等のCCD撮像素子の高感度化を促進す
ることができる。According to the present invention, the influence of the parasitic capacitance between the floating diffusion region and the reset gate portion can be suppressed, and the amount of coupling between the reference potential and the feedthrough potential in the output waveform can be reduced. -The amount of charges handled in the diffusion region can be secured. Therefore, CCD area sensor, CC
It is possible to promote higher sensitivity of a CCD image sensor such as a D linear sensor.
【図1】本発明のCCD素子の要部の構成図である。FIG. 1 is a configuration diagram of a main part of a CCD device of the present invention.
【図2】本発明に係る印加パルス波形及びCCD出力波
形を示す波形図である。FIG. 2 is a waveform diagram showing an applied pulse waveform and a CCD output waveform according to the present invention.
【図3】本発明に係る電荷転送時のポテンシャル図であ
る。FIG. 3 is a potential diagram during charge transfer according to the present invention.
【図4】従来のCCD素子の要部の構成図である。FIG. 4 is a configuration diagram of a main part of a conventional CCD device.
【図5】従来に係る印加パルス波形及びCCD出力波形
を示す波形図である。FIG. 5 is a waveform diagram showing a conventional applied pulse waveform and a CCD output waveform.
【図6】従来に係る出力部のポテンシャル図である。FIG. 6 is a potential diagram of a conventional output unit.
1 水平転送レジスタ 2 半導体基板 3S,3T 転送電極 4 転送部 5 水平出力ゲート部 7 フローティング・ディフージョン領域 8 出力アンプ 9 出力部 10 リセットドレイン領域 11 リセットゲート部 1 Horizontal Transfer Register 2 Semiconductor Substrate 3S, 3T Transfer Electrode 4 Transfer Section 5 Horizontal Output Gate Section 7 Floating Diffusion Area 8 Output Amplifier 9 Output Section 10 Reset Drain Area 11 Reset Gate Section
Claims (1)
出力ゲート部を介してフローティング・ディフージョン
領域が接続され、該フローティング・ディフージョン領
域とリセットドレイン領域間にリセットゲート部が設け
られてなるCCD素子において、 上記出力ゲート部に、上記リセットゲート部に印加する
リセットパルスと逆相の出力ゲートパルスを印加するこ
とを特徴とするCCD素子。Claim: What is claimed is: 1. A floating diffusion region is connected to the final stage of a charge transfer register having a CCD structure via an output gate portion, and a reset gate is provided between the floating diffusion region and the reset drain region. A CCD device having a section, wherein an output gate pulse having a phase opposite to that of a reset pulse applied to the reset gate unit is applied to the output gate unit.
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3172633A JPH0520892A (en) | 1991-07-12 | 1991-07-12 | Ccd element |
DE69223864T DE69223864T2 (en) | 1991-07-12 | 1992-07-09 | Charge transfer arrangement |
EP96119886A EP0766455B1 (en) | 1991-07-12 | 1992-07-09 | Method of driving a charge transfer device |
EP92111682A EP0522552B1 (en) | 1991-07-12 | 1992-07-09 | Charge transfer device |
DE69228838T DE69228838T2 (en) | 1991-07-12 | 1992-07-09 | Method for controlling a charge transfer circuit |
US07/911,936 US5199053A (en) | 1991-07-12 | 1992-07-10 | Charge transfer device output |
KR1019920012334A KR100247827B1 (en) | 1991-07-12 | 1992-07-11 | Charge transmitting device and linear image pick-up device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3172633A JPH0520892A (en) | 1991-07-12 | 1991-07-12 | Ccd element |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0520892A true JPH0520892A (en) | 1993-01-29 |
Family
ID=15945499
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3172633A Pending JPH0520892A (en) | 1991-07-12 | 1991-07-12 | Ccd element |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0520892A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003244553A (en) * | 2002-02-21 | 2003-08-29 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Driving method for charge transfer apparatus |
JP2009182834A (en) * | 2008-01-31 | 2009-08-13 | Nec Electronics Corp | Ccd device and driving method |
-
1991
- 1991-07-12 JP JP3172633A patent/JPH0520892A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003244553A (en) * | 2002-02-21 | 2003-08-29 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Driving method for charge transfer apparatus |
JP2009182834A (en) * | 2008-01-31 | 2009-08-13 | Nec Electronics Corp | Ccd device and driving method |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5199053A (en) | Charge transfer device output | |
JPS6338865B2 (en) | ||
JPH0520892A (en) | Ccd element | |
JP3259573B2 (en) | Charge transfer device and driving method thereof | |
JP3208791B2 (en) | CCD image sensor and driving method thereof | |
JPH0682693B2 (en) | Charge transfer device | |
JP3008655B2 (en) | Solid-state imaging device | |
JP3137808B2 (en) | Charge detection device | |
JP3036250B2 (en) | CCD element | |
JPH06268923A (en) | Drive method for solid-state image pickup device | |
JP3349202B2 (en) | Charge transfer element | |
JP3393239B2 (en) | Solid-state imaging device | |
JP2818193B2 (en) | Driving method of CCD solid-state imaging device | |
JP2508638B2 (en) | Solid-state imaging device | |
JP3277621B2 (en) | Solid-state imaging device | |
JP2616672B2 (en) | Imaging device | |
JPH02161879A (en) | Driving method for solid-state image pickup device | |
JPS6313280B2 (en) | ||
JPH05292406A (en) | Charge transfer device | |
JPH06245144A (en) | Method for driving solid-state image pickup device | |
JPH09163234A (en) | Drive method for amplifier type solid-state image pickup element | |
JPS63234677A (en) | Drive method of charge coupling element | |
JPS60251781A (en) | Drive method of charge transfer image pickup device | |
JPH03181284A (en) | Charge coupling device and solid-state image pickup device using its device | |
JPH088665B2 (en) | Driving method for solid-state imaging device |