JPH05198519A - Cvd装置の回転軸冷却装置 - Google Patents

Cvd装置の回転軸冷却装置

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JPH05198519A
JPH05198519A JP3135592A JP3135592A JPH05198519A JP H05198519 A JPH05198519 A JP H05198519A JP 3135592 A JP3135592 A JP 3135592A JP 3135592 A JP3135592 A JP 3135592A JP H05198519 A JPH05198519 A JP H05198519A
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JP
Japan
Prior art keywords
rotary shaft
cooling water
cooling
rotary
rotating shaft
Prior art date
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Pending
Application number
JP3135592A
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English (en)
Inventor
Megumi Takatsu
恵 高津
Sadao Tanaka
貞雄 田中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
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Abstract

(57)【要約】 【目的】低コストで容易に作製でき、しかも回転軸の高
速回転時、回転軸に異常振動や異常回転が発生すること
を防止し得るCVD装置の回転軸冷却装置を提供する。 【構成】中空部分14を有する回転軸12と、該回転軸
を封止するための磁気流体16とを具備するCVD装置
には、(イ)回転軸12の中空部分14に挿入され、冷
却水排出口26を備えそして一端が冷却水供給部に連結
された固定冷却管20と、(ロ)固定冷却管の冷却水排
出口から排出されて回転軸を冷却した冷却水を受ける受
け容器28とから成り、そして、如何なる部品も回転軸
に取り付けられていないことを特徴とする回転軸冷却装
置が備えられている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、CVD装置の回転軸を
冷却するための冷却装置に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体装置の製造において、半導体基板
等の上に薄膜や粒子等を堆積させるために、各種CVD
装置が使用されている。半導体基板は、CVD装置内に
配設されたサセプター上に置かれ、この半導体基板に対
して原料ガスを供給する。半導体基板上の成膜速度を均
一にするためには、サセプターを回転させることが極め
て効果的である。
【0003】CVD装置の内部は高温、高真空に保持さ
れている。また、サセプターは回転軸に取り付けられ高
速で回転させられる。従って、回転軸は高温雰囲気下に
ある。しかも、回転軸の一部分はCVD装置の外部に延
在しているので、回転軸を大気に対して封止して、CV
D装置の内部を高真空に保持する必要がある。通常、回
転軸を封止するために磁性粒子から成る磁気流体が使用
されている。かかる磁気流体の封止性を保持するため
に、磁気流体を冷却することが必要である。
【0004】従来、回転軸を冷却することによって磁気
流体を冷却している。回転軸を冷却するための従来の機
構を、図2の断面図を参照して以下説明する。
【0005】CVD装置には真空チャンバ10、及び中
空部分14を有する回転軸12が備えられている。真空
チャンバ10と回転軸との間の封止のために、回転軸1
2の周囲には磁気流体16が具備されている。回転軸1
2は図示していない公知の回転装置によって高速で回転
させられ得る。回転軸12の端部には、ロータリーユニ
オン回転部30がねじ込まれている。ロータリーユニオ
ン回転部30はボールベアリング32を介してロータリ
ーユニオン34に取り付けられている。従って、回転軸
12及びロータリーユニオン回転部30は、固定された
ロータリーユニオン34に対して自在に回転可能であ
る。
【0006】ロータリーユニオン34には、取付具36
を介して冷却管20が固定されている。冷却管20は、
回転軸12の中空部分14内に延在している。冷却管2
0の一端22は冷却水供給部(図2には図示せず)に連
結され、他端24には冷却水排出口26が設けられてい
る。ロータリーユニオン34には冷却水排出ポート38
が設けられている。尚、ロータリーユニオン34とロー
タリーユニオン回転部30との間には、各種のシールが
設けられているが、図2にはその内の1つのシール40
を図示し、その他の図示は省略した。
【0007】冷却水は、冷却水供給部から冷却管の一端
22から冷却管20内を流れ、冷却管の他端24に設け
られた冷却水排出口26から排出され、回転軸12の中
空部分14に流れ込む。回転軸12の中空部分14を流
下する冷却水は回転軸12を冷却する。これによって、
磁気流体16が冷却される。中空部分14を流下した冷
却水は、冷却管20とロータリーユニオン回転部30と
の間隙を流下し、ロータリーユニオン34に設けられた
冷却水排出ポート38から排出される。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】回転軸12は高速で回
転させられる。回転軸12にねじ込まれたロータリーユ
ニオン回転部30も同時に高速で回転する。回転軸12
は、作製時、そのアンバランス量を調整することができ
るので、回転軸12単体を高速で回転させても、回転軸
に異常振動や異常回転が生じることを防止できる。しか
しながら、ロータリーユニオン回転部30のアンバラン
ス量を調整することは極めて困難である。また、ロータ
リーユニオン回転部30のアンバランス量の調整不備、
ボールベアリング32の芯出しが正確でない場合や正し
い嵌合状態にない場合、回転軸12の高速回転時、回転
軸12に異常振動や異常回転が発生する。ロータリーユ
ニオン回転部30を精密加工し、高級なボールベアリン
グを使用しても、これらの問題の抜本的な解決にはなら
ない。
【0009】従って、本発明の目的は、低コストで容易
に作製でき、しかも回転軸の高速回転時、回転軸に異常
振動や異常回転が発生することを防止し得るCVD装置
の回転軸冷却装置を提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】この目的は、中空部分を
有する回転軸と、該回転軸を封止するための磁気流体と
を具備するCVD装置に、下記の本発明の回転軸冷却装
置を備えることによって達成することができる。即ち、
本発明の回転軸冷却装置は、(イ)回転軸の中空部分に
挿入され、冷却水排出口を備えそして一端が冷却水供給
部に連結された固定冷却管と、(ロ)固定冷却管の冷却
水排出口から排出されて回転軸を冷却した冷却水を受け
る受け容器とから成り、そして、如何なる部品も回転軸
に取り付けられていないことを特徴とする。
【0011】
【作用】本発明の回転軸冷却装置においては、如何なる
部品も回転軸に取り付けられていない。従って、回転軸
と共に回転する回転軸冷却装置部品が存在せず、回転軸
の異常振動や異常回転といった従来の冷却装置での問題
は一切発生することがない。
【0012】
【実施例】本発明の回転軸冷却装置を、図1の断面図を
参照して、好ましい実施例に基づき、以下説明する。
【0013】CVD装置には真空チャンバ10、及び中
空部分14を有する回転軸12が備えられている。回転
軸12は図示していない公知の回転手段によって高速で
回転させられ得る。真空チャンバ10と回転軸との間の
封止のために、回転軸12の周囲には磁気流体16が具
備されている。
【0014】本発明の回転軸冷却装置は、CVD装置の
外部に固定された冷却管20、及び受け容器28から成
る。回転軸冷却装置の如何なる部品も回転軸12に取り
付けられていない。冷却管20及び受け容器28は、例
えばステンレススチールから作製することができる。
【0015】冷却管20は、回転軸12の中空部分14
内に延在している。冷却管20の一端22は冷却水供給
部(図1には図示せず)に連結され、他端24には冷却
水排出口26が設けられている。尚、冷却水排出口26
を、冷却管12の側面に複数個設けてもよい。回転軸1
2の中空部分14の端部は受け容器28内に開口してい
る。回転軸12と受け容器28との間に、公知のシール
手段を設けてもよい。受け容器は、円筒形、直方体等、
如何なる形状にすることもできる。
【0016】冷却水は、冷却水供給部から冷却管の一端
22から冷却管20内を流れ、冷却管の他端24等に設
けられた冷却水排出口26から排出され、回転軸12の
中空部分14に流れ込む。回転軸12の中空部分14を
流下する冷却水は回転軸12を冷却する。これによっ
て、磁気流体16が冷却される。中空部分14を流下し
た冷却水は、中空部分の解放端部から受け容器28に流
れ込み、受け容器排出口28Aから回転軸冷却装置の系
外に排出される。
【0017】
【発明の効果】本発明の回転軸冷却装置は、冷却管と受
け容器から成り、極めて簡素な構造である。そして、如
何なる部品も回転軸に取り付けられていない。従って、
回転軸と共に回転する回転軸冷却装置部品が存在せず、
回転軸冷却装置に起因した回転軸の異常振動や異常回転
といった従来の冷却装置での問題は一切発生することが
ない。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の回転軸冷却装置を示す断面図である。
【図2】従来の回転軸冷却装置を示す断面図である。
【符号の説明】
10 真空チャンバ 12 回転軸 14 中空部分 16 磁気流体 20 冷却管 22,24 冷却管の端部 26 冷却水排出口 28 受け容器 30 ロータリーユニオン回転部 32 ボールベアリング 34 ロータリーユニオン 38 冷却水排出ポート 40 シール

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】中空部分を有する回転軸と、該回転軸を封
    止するための磁気流体とを具備するCVD装置におい
    て、 回転軸の中空部分に挿入され、冷却水排出口を備えそし
    て一端が冷却水供給部に連結された固定冷却管と、 固定冷却管の冷却水排出口から排出されて回転軸を冷却
    した冷却水を受ける受け容器とから成り、 如何なる部品も回転軸に取り付けられていないことを特
    徴とするCVD装置の回転軸冷却装置。
JP3135592A 1992-01-23 1992-01-23 Cvd装置の回転軸冷却装置 Pending JPH05198519A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3135592A JPH05198519A (ja) 1992-01-23 1992-01-23 Cvd装置の回転軸冷却装置

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3135592A JPH05198519A (ja) 1992-01-23 1992-01-23 Cvd装置の回転軸冷却装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH05198519A true JPH05198519A (ja) 1993-08-06

Family

ID=12328927

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3135592A Pending JPH05198519A (ja) 1992-01-23 1992-01-23 Cvd装置の回転軸冷却装置

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JP (1) JPH05198519A (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008034492A (ja) * 2006-07-26 2008-02-14 Tera Semicon Corp 半導体製造装置及び半導体製造方法
JPWO2007114051A1 (ja) * 2006-03-31 2009-08-13 イーグル工業株式会社 磁性流体シール装置
JP2010072343A (ja) * 2008-09-18 2010-04-02 Konica Minolta Business Technologies Inc 駆動伝達機構及び画像形成装置
WO2023074200A1 (ja) * 2021-10-27 2023-05-04 パナソニックホールディングス株式会社 Iii族窒化物結晶の製造装置及び製造方法

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