JPH05193903A - 水蒸気改質反応器 - Google Patents
水蒸気改質反応器Info
- Publication number
- JPH05193903A JPH05193903A JP4008158A JP815892A JPH05193903A JP H05193903 A JPH05193903 A JP H05193903A JP 4008158 A JP4008158 A JP 4008158A JP 815892 A JP815892 A JP 815892A JP H05193903 A JPH05193903 A JP H05193903A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hydrogen
- membrane
- steam reforming
- reaction
- catalyst layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B3/00—Hydrogen; Gaseous mixtures containing hydrogen; Separation of hydrogen from mixtures containing it; Purification of hydrogen
- C01B3/50—Separation of hydrogen or hydrogen containing gases from gaseous mixtures, e.g. purification
- C01B3/501—Separation of hydrogen or hydrogen containing gases from gaseous mixtures, e.g. purification by diffusion
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B3/00—Hydrogen; Gaseous mixtures containing hydrogen; Separation of hydrogen from mixtures containing it; Purification of hydrogen
- C01B3/02—Production of hydrogen or of gaseous mixtures containing a substantial proportion of hydrogen
- C01B3/32—Production of hydrogen or of gaseous mixtures containing a substantial proportion of hydrogen by reaction of gaseous or liquid organic compounds with gasifying agents, e.g. water, carbon dioxide, air
- C01B3/34—Production of hydrogen or of gaseous mixtures containing a substantial proportion of hydrogen by reaction of gaseous or liquid organic compounds with gasifying agents, e.g. water, carbon dioxide, air by reaction of hydrocarbons with gasifying agents
- C01B3/38—Production of hydrogen or of gaseous mixtures containing a substantial proportion of hydrogen by reaction of gaseous or liquid organic compounds with gasifying agents, e.g. water, carbon dioxide, air by reaction of hydrocarbons with gasifying agents using catalysts
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B2203/00—Integrated processes for the production of hydrogen or synthesis gas
- C01B2203/04—Integrated processes for the production of hydrogen or synthesis gas containing a purification step for the hydrogen or the synthesis gas
- C01B2203/0405—Purification by membrane separation
- C01B2203/041—In-situ membrane purification during hydrogen production
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B2203/00—Integrated processes for the production of hydrogen or synthesis gas
- C01B2203/04—Integrated processes for the production of hydrogen or synthesis gas containing a purification step for the hydrogen or the synthesis gas
- C01B2203/0465—Composition of the impurity
- C01B2203/0475—Composition of the impurity the impurity being carbon dioxide
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Separation Of Gases By Adsorption (AREA)
- Hydrogen, Water And Hydrids (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 水素分離型水蒸気改質反応器に関する。
【構成】 炭化水素や含酸素炭化水素が原料として供給
され、水蒸気改質反応によって水素を製造する反応器で
あって、水素分離膜を水蒸気改質反応触媒層内に内蔵
し、圧力差によって水素を選択的に分離しながら反応を
進行させる水素分離型の水蒸気改質反応器において、該
触媒層の上流側に該水素分離膜を内蔵しない領域を設
け、該領域より下流側の領域に前記水素分離膜を内蔵さ
せてなる水素分離型水蒸気改質反応器。
され、水蒸気改質反応によって水素を製造する反応器で
あって、水素分離膜を水蒸気改質反応触媒層内に内蔵
し、圧力差によって水素を選択的に分離しながら反応を
進行させる水素分離型の水蒸気改質反応器において、該
触媒層の上流側に該水素分離膜を内蔵しない領域を設
け、該領域より下流側の領域に前記水素分離膜を内蔵さ
せてなる水素分離型水蒸気改質反応器。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は水素分離型水蒸気改質反
応器に関する。
応器に関する。
【０００２】
【従来の技術】水蒸気改質反応器では触媒を用いてメタ
ンやメタノール等の炭化水素や含酸素炭化水素からなる
原料ガスを、水蒸気改質反応とＣＯシフト反応によって
水素、一酸化炭素及び二酸化炭素に分解する。例えば、
メタン等の炭化水素からなる原料ガスはスチームと混合
後、触媒層に導入され下記反応で水素、一酸化炭素及び
二酸化炭素に分解される。 ＣｎＨｍ＋ ｎＨ2 Ｏ＝ ｎＣＯ ＋（ ｎ＋ｍ／２）Ｈ2 （１） ＣｎＨｍ＋２ｎＨ2 Ｏ＝ ｎＣＯ2 ＋（２ｎ＋ｍ／２）Ｈ2 （２） ＣｎＨｍ＋ ｎＣＯ2 ＝２ｎＣＯ ＋ ｍ／２ Ｈ2 （３）
ンやメタノール等の炭化水素や含酸素炭化水素からなる
原料ガスを、水蒸気改質反応とＣＯシフト反応によって
水素、一酸化炭素及び二酸化炭素に分解する。例えば、
メタン等の炭化水素からなる原料ガスはスチームと混合
後、触媒層に導入され下記反応で水素、一酸化炭素及び
二酸化炭素に分解される。 ＣｎＨｍ＋ ｎＨ2 Ｏ＝ ｎＣＯ ＋（ ｎ＋ｍ／２）Ｈ2 （１） ＣｎＨｍ＋２ｎＨ2 Ｏ＝ ｎＣＯ2 ＋（２ｎ＋ｍ／２）Ｈ2 （２） ＣｎＨｍ＋ ｎＣＯ2 ＝２ｎＣＯ ＋ ｍ／２ Ｈ2 （３）
【０００３】これら原料ガスの水蒸気改質反応は吸熱を
伴う平衡反応であり高温ほど反応が進む。また、その反
応量や反応速度は原料ガス濃度、反応生成物である水素
や一酸化炭素の濃度及び反応温度、圧力に影響される。
例えば、原料ガスの反応量を向上させるためには、原料
ガス濃度を上げ反応生成物濃度を下げ、低圧かつ高温で
反応させる必要がある。そこで、従来の水蒸気改質反応
器では主に反応温度を高く設定することによって原料ガ
スの反応量を確保していた。例えば、メタンの水蒸気改
質反応器では出口温度が約８００℃に設定される。この
ため、このような反応器では反応器材料として高温に耐
えられるものが必要であり高価になる問題があった。
伴う平衡反応であり高温ほど反応が進む。また、その反
応量や反応速度は原料ガス濃度、反応生成物である水素
や一酸化炭素の濃度及び反応温度、圧力に影響される。
例えば、原料ガスの反応量を向上させるためには、原料
ガス濃度を上げ反応生成物濃度を下げ、低圧かつ高温で
反応させる必要がある。そこで、従来の水蒸気改質反応
器では主に反応温度を高く設定することによって原料ガ
スの反応量を確保していた。例えば、メタンの水蒸気改
質反応器では出口温度が約８００℃に設定される。この
ため、このような反応器では反応器材料として高温に耐
えられるものが必要であり高価になる問題があった。
【０００４】そこで、従来の反応器に比べ低温で反応さ
せるために、反応平衡を崩しながら原料ガスの分解を進
めるタイプの反応器、すなわち水素分離型水蒸気改質反
応器が提案されている。この反応器は反応器の触媒層内
に水素を選択的に分離する膜を内蔵したものであり、前
記水蒸気改質反応（１）〜（３）が進行した結果発生す
る水素を、内蔵した水素分離膜を通して選択的に反応系
外へ分離する機能を有する。このため、低温であっても
水素が分離される限り反応が平衡に達することなく進行
することになる。
せるために、反応平衡を崩しながら原料ガスの分解を進
めるタイプの反応器、すなわち水素分離型水蒸気改質反
応器が提案されている。この反応器は反応器の触媒層内
に水素を選択的に分離する膜を内蔵したものであり、前
記水蒸気改質反応（１）〜（３）が進行した結果発生す
る水素を、内蔵した水素分離膜を通して選択的に反応系
外へ分離する機能を有する。このため、低温であっても
水素が分離される限り反応が平衡に達することなく進行
することになる。
【０００５】水素分離膜はパラジウム単独、パラジウム
銀合金など、あるいはこれら金属をセラミックスのよう
な多孔質無機材料へコーティングしたもの、または焼結
金属のような金属材料からなる多孔質体へコーティング
したものが用いられる。これらの水素分離膜では、透過
側と非透過側との水素分圧差によって水素が膜内を移動
する現象を利用して水素を分離しているもので反応側と
透過側とに圧力差をつける必要がある。
銀合金など、あるいはこれら金属をセラミックスのよう
な多孔質無機材料へコーティングしたもの、または焼結
金属のような金属材料からなる多孔質体へコーティング
したものが用いられる。これらの水素分離膜では、透過
側と非透過側との水素分圧差によって水素が膜内を移動
する現象を利用して水素を分離しているもので反応側と
透過側とに圧力差をつける必要がある。
【０００６】水素分離型水蒸気反応器の従来例を図６〜
図８によって説明する。図６は従来の水素分離型水蒸気
改質反応器の一態様の説明図、図７は図６に設定される
水素分離膜の一態様の説明図、図８は他の水素分離型水
蒸気改質反応器の一態様の説明図である。
図８によって説明する。図６は従来の水素分離型水蒸気
改質反応器の一態様の説明図、図７は図６に設定される
水素分離膜の一態様の説明図、図８は他の水素分離型水
蒸気改質反応器の一態様の説明図である。
【０００７】以下では、メタンの水蒸気改質反応を例
に、該反応器の構造と機能を説明する。１はシェル＆チ
ューブ型の水素分離型水蒸気改質反応器であり複数本の
触媒管２（図７参照）と胴部２２から構成される。該触
媒管２は改質触媒層４とほぼ中央に水素分離膜３を有
し、胴部２２へ管板２０、２０′によって固定されてい
る。水素分離膜３は管状であり触媒層４から外の領域は
素管３′で構成され管板２１によって胴部２２へ固定さ
れている。メタンとスチームとの混合ガス５は反応ガス
入口ノズル６から該反応器１の上部空間１９へ供給さ
れ、分散後、分散混合ガス５′として改質触媒層４へ導
入される。該触媒層４では前記改質反応（１）〜（３）
が進行し主に水素と二酸化炭素が生成する。このうちの
水素だけが水素分離膜３を介して該分離膜３の透過側７
へ分離される。反応後の未反応ガス９は触媒層４から流
出し、空間２３に集まり、反応ガス出口ノズル１０より
未反応ガス９′として反応器１外へ排出される。
に、該反応器の構造と機能を説明する。１はシェル＆チ
ューブ型の水素分離型水蒸気改質反応器であり複数本の
触媒管２（図７参照）と胴部２２から構成される。該触
媒管２は改質触媒層４とほぼ中央に水素分離膜３を有
し、胴部２２へ管板２０、２０′によって固定されてい
る。水素分離膜３は管状であり触媒層４から外の領域は
素管３′で構成され管板２１によって胴部２２へ固定さ
れている。メタンとスチームとの混合ガス５は反応ガス
入口ノズル６から該反応器１の上部空間１９へ供給さ
れ、分散後、分散混合ガス５′として改質触媒層４へ導
入される。該触媒層４では前記改質反応（１）〜（３）
が進行し主に水素と二酸化炭素が生成する。このうちの
水素だけが水素分離膜３を介して該分離膜３の透過側７
へ分離される。反応後の未反応ガス９は触媒層４から流
出し、空間２３に集まり、反応ガス出口ノズル１０より
未反応ガス９′として反応器１外へ排出される。
【０００８】一方、分離された水素は透過側７から流出
し、分離水素８として該反応器１の管板２１で区切られ
た下部空間１８を経て水素出口ノズル１７より分離水素
８′として排出される。この際、透過側７は触媒層４よ
り圧力を低く保たれ、触媒層４側より水素分圧が低くな
るように運転される。
し、分離水素８として該反応器１の管板２１で区切られ
た下部空間１８を経て水素出口ノズル１７より分離水素
８′として排出される。この際、透過側７は触媒層４よ
り圧力を低く保たれ、触媒層４側より水素分圧が低くな
るように運転される。
【０００９】水蒸気改質反応は前記のごとく多量の反応
熱を伴う吸熱反応であり触媒管２を管外から加熱するこ
とによって反応熱を供給する必要がある。このため、こ
こでは高温の燃焼排ガス１１を加熱ガス入口ノズル１２
より反応器１の胴側１３へ導入することで反応熱を供給
している。胴側１３へ供給された燃焼ガス１１′は該胴
内に配設されたバッフル１４によってその流路が触媒管
２にほぼ垂直となるように制御され流れる。これによっ
て、該燃焼排ガス１１′と触媒管２との伝熱が促進し効
率よく触媒管２を加熱することができる。燃焼ガス１
１′は触媒管２を加熱後、燃焼ガス出口ノズル１５より
排ガス１６として排出される。
熱を伴う吸熱反応であり触媒管２を管外から加熱するこ
とによって反応熱を供給する必要がある。このため、こ
こでは高温の燃焼排ガス１１を加熱ガス入口ノズル１２
より反応器１の胴側１３へ導入することで反応熱を供給
している。胴側１３へ供給された燃焼ガス１１′は該胴
内に配設されたバッフル１４によってその流路が触媒管
２にほぼ垂直となるように制御され流れる。これによっ
て、該燃焼排ガス１１′と触媒管２との伝熱が促進し効
率よく触媒管２を加熱することができる。燃焼ガス１
１′は触媒管２を加熱後、燃焼ガス出口ノズル１５より
排ガス１６として排出される。
【００１０】図８の態様例では、水素分離膜３で透過側
７へ分離した水素を払出すのに不活性ガス２４を用いる
場合を示す。ここでは、不活性ガス２４を供給するため
に胴部２２に不活性ガス入口ノズル２５を設け、不活性
ガス供給管２６を管状の水素分離膜３内に設けている。
他の構造及び機能は前記図７、図８の態様に同じであ
る。
７へ分離した水素を払出すのに不活性ガス２４を用いる
場合を示す。ここでは、不活性ガス２４を供給するため
に胴部２２に不活性ガス入口ノズル２５を設け、不活性
ガス供給管２６を管状の水素分離膜３内に設けている。
他の構造及び機能は前記図７、図８の態様に同じであ
る。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】図９、図１０に触媒層
内と水素分離膜の透過側における水素分圧を示す。図９
は図７、図８における水素分圧の変化、また、図１０は
図８における変化である。両ケースともに触媒層側は次
第に水素分圧が増加するが、水素分離膜からの水素透過
速度と触媒層における水素の生成速度とが釣りあった位
置で水素分圧は頭打ちとなる。これ以降は原料ガスの多
くが分解し、反応平衡に近くなるため水素が透過する量
だけ反応が進行することになり水素分圧は徐々に低下す
るもののほぼ一定値となる。一方、透過側は触媒層入口
部が水素分圧が高く、出口側が低く、入口側では触媒層
側の方が透過側よりも水素分圧が低くなっている。この
ことから次の問題点が生じる。
内と水素分離膜の透過側における水素分圧を示す。図９
は図７、図８における水素分圧の変化、また、図１０は
図８における変化である。両ケースともに触媒層側は次
第に水素分圧が増加するが、水素分離膜からの水素透過
速度と触媒層における水素の生成速度とが釣りあった位
置で水素分圧は頭打ちとなる。これ以降は原料ガスの多
くが分解し、反応平衡に近くなるため水素が透過する量
だけ反応が進行することになり水素分圧は徐々に低下す
るもののほぼ一定値となる。一方、透過側は触媒層入口
部が水素分圧が高く、出口側が低く、入口側では触媒層
側の方が透過側よりも水素分圧が低くなっている。この
ことから次の問題点が生じる。
【００１２】（１）触媒層の入口側では水素分圧が透過
側より小さくなり、透過側から触媒層側への水素の逆流
が生ずるため、触媒層での反応速度が小さくなる。 （２）また、逆流した量だけ回収水素量が少なくなり水
素分離膜の効率を下げている。
側より小さくなり、透過側から触媒層側への水素の逆流
が生ずるため、触媒層での反応速度が小さくなる。 （２）また、逆流した量だけ回収水素量が少なくなり水
素分離膜の効率を下げている。
【００１３】
【課題を解決するための手段】本発明は炭化水素や含酸
素炭化水素が原料として供給され、水蒸気改質反応によ
って水素を製造する反応器であって、水素分離膜を水蒸
気改質反応触媒層内に内蔵し、圧力差によって水素を選
択的に分離しながら反応を進行させる水素分離型の水蒸
気改質反応器において、該触媒層の上流側に該水素分離
膜を内蔵しない領域を設け、該領域より下流側の領域に
前記水素分離膜を内蔵させてなることを特徴とする水蒸
気改質反応器である。
素炭化水素が原料として供給され、水蒸気改質反応によ
って水素を製造する反応器であって、水素分離膜を水蒸
気改質反応触媒層内に内蔵し、圧力差によって水素を選
択的に分離しながら反応を進行させる水素分離型の水蒸
気改質反応器において、該触媒層の上流側に該水素分離
膜を内蔵しない領域を設け、該領域より下流側の領域に
前記水素分離膜を内蔵させてなることを特徴とする水蒸
気改質反応器である。
【００１４】すなわち、本発明の水蒸気改質反応器は触
媒層入口部に水素分離膜のない伝熱部を設け、水素分離
膜は伝熱部以降に設定するようにしたものである。
媒層入口部に水素分離膜のない伝熱部を設け、水素分離
膜は伝熱部以降に設定するようにしたものである。
【００１５】
【作用】このように水素分離膜を配置することによっ
て、前記触媒層入口部での水素分圧逆転部がなくなり、
水素の逆流を妨げるため触媒層での反応速度の低下、膜
の分離効率低下も防ぐことができる。
て、前記触媒層入口部での水素分圧逆転部がなくなり、
水素の逆流を妨げるため触媒層での反応速度の低下、膜
の分離効率低下も防ぐことができる。
【００１６】
（実施例１）本発明の一実施例を図１、図２により説明
する。図１は本発明の一実施例の装置の説明図、図２は
図１に設置される水素分離膜の一実施例の説明図であ
り、基本的には従来技術として説明した図６、図７の構
造と同じであるので、以下では本発明に係る構造の相違
とその作用を主に説明する。
する。図１は本発明の一実施例の装置の説明図、図２は
図１に設置される水素分離膜の一実施例の説明図であ
り、基本的には従来技術として説明した図６、図７の構
造と同じであるので、以下では本発明に係る構造の相違
とその作用を主に説明する。
【００１７】原料ガスとなるメタンとスチームとの混合
ガス５は原料ガス入口ノズル６より反応器１へ導入され
触媒層４へ供給される。触媒層４の入口部には水素分離
膜３が設置されていない領域、すなわち伝熱部４ａが設
けられ、原料ガスとスチームが前記水蒸気改質反応
（１）〜（３）によって主に水素と二酸化炭素に分解さ
れる。この領域には水素分離膜３がないため、水素が水
素分離膜３の透過側７より逆流し触媒層４の水素分圧を
上げ反応速度を低下させることはない。
ガス５は原料ガス入口ノズル６より反応器１へ導入され
触媒層４へ供給される。触媒層４の入口部には水素分離
膜３が設置されていない領域、すなわち伝熱部４ａが設
けられ、原料ガスとスチームが前記水蒸気改質反応
（１）〜（３）によって主に水素と二酸化炭素に分解さ
れる。この領域には水素分離膜３がないため、水素が水
素分離膜３の透過側７より逆流し触媒層４の水素分圧を
上げ反応速度を低下させることはない。
【００１８】伝熱部４ａを通過後の水素分圧は透過側７
の水素分圧より高くなっており、伝熱部４ａの下流に設
置された水素分離膜３を介して水素は効率よく触媒層４
より透過側７へ透過する。
の水素分圧より高くなっており、伝熱部４ａの下流に設
置された水素分離膜３を介して水素は効率よく触媒層４
より透過側７へ透過する。
【００１９】以上の通り、本発明に係る実施例によれ
ば、触媒層の入口部に水素分離膜のない伝熱部を設けた
ことによって、水素の透過側から触媒層側への逆流を防
ぎ、水蒸気改質反応の促進と水素分離の効率を向上させ
ることができる。
ば、触媒層の入口部に水素分離膜のない伝熱部を設けた
ことによって、水素の透過側から触媒層側への逆流を防
ぎ、水蒸気改質反応の促進と水素分離の効率を向上させ
ることができる。
【００２０】（実施例２）次に、図３によって他の実施
例を説明する。この実施例は、図８に示した従来例を改
良したものである。その構造、機能は、基本的には従来
例と同じであるため詳細説明は省き、主に本発明に係る
構造の相違と作用の説明をする。
例を説明する。この実施例は、図８に示した従来例を改
良したものである。その構造、機能は、基本的には従来
例と同じであるため詳細説明は省き、主に本発明に係る
構造の相違と作用の説明をする。
【００２１】この実施例では触媒層２の入口部に水素分
離膜３のない触媒層だけの伝熱部４ａを設けてあるた
め、実施例１と同様に、水素の逆流による触媒層４での
水素分圧とそれに伴う反応速度の低下はない。このた
め、水蒸気改質反応の促進と水素分離の向上につなが
る。
離膜３のない触媒層だけの伝熱部４ａを設けてあるた
め、実施例１と同様に、水素の逆流による触媒層４での
水素分圧とそれに伴う反応速度の低下はない。このた
め、水蒸気改質反応の促進と水素分離の向上につなが
る。
【００２２】図４（実施例１）及び図５（実施例２）に
水素分圧変化を示すが、従来例に示したような触媒層入
口部での触媒層と透過側との水素分圧の逆転はない。
水素分圧変化を示すが、従来例に示したような触媒層入
口部での触媒層と透過側との水素分圧の逆転はない。
【００２３】
【発明の効果】触媒層入口部に水素分離膜のない伝熱部
を設け、水素分離膜を伝熱部以降に設定する。このよう
に水素分離膜を配置することによって、触媒層入口部で
の水素分圧逆転することがなく、水素の逆流もないため
触媒層での反応速度の低下、膜の分離効率低下も防ぐこ
とができる。従って、装置の性能向上につながり、反応
器のコンパクト化の一助となる。
を設け、水素分離膜を伝熱部以降に設定する。このよう
に水素分離膜を配置することによって、触媒層入口部で
の水素分圧逆転することがなく、水素の逆流もないため
触媒層での反応速度の低下、膜の分離効率低下も防ぐこ
とができる。従って、装置の性能向上につながり、反応
器のコンパクト化の一助となる。
【図１】本発明の水蒸気改質反応器の実施例１の説明
図。
図。
【図２】本発明の水素分離膜の一実施例の説明図。
【図３】本発明の水蒸気改質反応器の実施例２の説明
図。
図。
【図４】本発明の実施例１の作用・効果の説明図表。
【図５】本発明の実施例２の作用・効果の説明図表。
【図６】従来の水蒸気改質反応器の一態様の説明図。
【図７】従来の水素分離膜の一実施例の説明図。
【図８】従来の水蒸気改質反応器の他の態様の説明図。
【図９】図６の水蒸気改質反応器の作用の説明図表。
【図１０】図８の水蒸気改質反応器の作用の説明図。
Claims (1)
- 【請求項１】 炭化水素や含酸素炭化水素が原料として
供給され、水蒸気改質反応によって水素を製造する反応
器であって、水素分離膜を水蒸気改質反応触媒層内に内
蔵し、圧力差によって水素を選択的に分離しながら反応
を進行させる水素分離型の水蒸気改質反応器において、
該触媒層の上流側に該水素分離膜を内蔵しない領域を設
け、該領域より下流側の領域に前記水素分離膜を内蔵さ
せてなることを特徴とする水蒸気改質反応器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04008158A JP3082796B2 (ja) | 1992-01-21 | 1992-01-21 | 水蒸気改質反応器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04008158A JP3082796B2 (ja) | 1992-01-21 | 1992-01-21 | 水蒸気改質反応器 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05193903A true JPH05193903A (ja) | 1993-08-03 |
| JP3082796B2 JP3082796B2 (ja) | 2000-08-28 |
Family
ID=11685528
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP04008158A Expired - Lifetime JP3082796B2 (ja) | 1992-01-21 | 1992-01-21 | 水蒸気改質反応器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3082796B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001118594A (ja) * | 1999-10-19 | 2001-04-27 | Ngk Insulators Ltd | 水素分離膜を用いた燃料電池システム及びその制御方法 |
| US6324844B1 (en) * | 1998-02-27 | 2001-12-04 | Robert Bosch Gmbh | Hydro-mechanical force-transmission device |
| JP2011526237A (ja) * | 2008-07-01 | 2011-10-06 | リンデ アクチエンゲゼルシヤフト | 水素生成方法及び装置 |
| JP2014515693A (ja) * | 2011-02-18 | 2014-07-03 | シュティヒティン・エネルギーオンデルツォイク・セントラム・ネーデルランド | 膜反応器及びこのような反応器によるガス状物体の製造の為のプロセス |
-
1992
- 1992-01-21 JP JP04008158A patent/JP3082796B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6324844B1 (en) * | 1998-02-27 | 2001-12-04 | Robert Bosch Gmbh | Hydro-mechanical force-transmission device |
| JP2001118594A (ja) * | 1999-10-19 | 2001-04-27 | Ngk Insulators Ltd | 水素分離膜を用いた燃料電池システム及びその制御方法 |
| JP4519225B2 (ja) * | 1999-10-19 | 2010-08-04 | 日本碍子株式会社 | 燃料電池システム及びその制御方法 |
| JP2011526237A (ja) * | 2008-07-01 | 2011-10-06 | リンデ アクチエンゲゼルシヤフト | 水素生成方法及び装置 |
| JP2014515693A (ja) * | 2011-02-18 | 2014-07-03 | シュティヒティン・エネルギーオンデルツォイク・セントラム・ネーデルランド | 膜反応器及びこのような反応器によるガス状物体の製造の為のプロセス |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3082796B2 (ja) | 2000-08-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7255840B2 (en) | Autothermal reactor and method for production of synthesis gas | |
| US6214066B1 (en) | Synthesis gas production by ion transport membranes | |
| EP1601615B1 (en) | Pressure swing reforming for fuel cell systems | |
| US4981676A (en) | Catalytic ceramic membrane steam/hydrocarbon reformer | |
| RU2248931C2 (ru) | Способ получения газа, обогащенного водородом и/или оксидом углерода | |
| JP5015638B2 (ja) | 選択透過膜型反応器及び水素製造方法 | |
| US3198604A (en) | Hydrogen generating system | |
| US20010000380A1 (en) | Hydrogen generator | |
| US20060204415A1 (en) | Monolith based catalytic partial oxidation process for syngas production | |
| KR101044621B1 (ko) | 합성가스의 제조 방법 및 장치 | |
| US6923944B2 (en) | Membrane reactor for gas extraction | |
| US6881394B2 (en) | Steam reformer for methane with internal hydrogen separation and combustion | |
| EP0866030B1 (en) | Method for operation of membrane reactor, and membrane reactor used therein | |
| WO1990006282A1 (en) | Production of methanol from hydrocarbonaceous feedstock | |
| WO1990006281A1 (en) | Production of ammonia from hydrocarbonaceous feedstock | |
| US7267804B2 (en) | Membrane reactor for gas extraction | |
| JPH0640703A (ja) | 水蒸気改質反応器 | |
| JPH04331703A (ja) | アンモニア合成ガス製造方法 | |
| JP3082796B2 (ja) | 水蒸気改質反応器 | |
| EP1441981B1 (en) | Reactor for reformation of natural gas and simultaneous production of hydrogen | |
| JP3051564B2 (ja) | 水蒸気改質反応器 | |
| JPH0640701A (ja) | 水素分離型水蒸気改質反応器 | |
| US20060168887A1 (en) | Method for producing a fuel gas containing hydrogen for electrochemical cells and associated device | |
| JP4278984B2 (ja) | ガス抽出用メンブレン反応器 | |
| US20040136883A1 (en) | Membrane reactor for gas extraction |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20000523 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090630 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100630 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100630 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110630 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110630 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120630 Year of fee payment: 12 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120630 Year of fee payment: 12 |