JPH0519117A - カラーフイルタ - Google Patents
カラーフイルタInfo
- Publication number
- JPH0519117A JPH0519117A JP3176616A JP17661691A JPH0519117A JP H0519117 A JPH0519117 A JP H0519117A JP 3176616 A JP3176616 A JP 3176616A JP 17661691 A JP17661691 A JP 17661691A JP H0519117 A JPH0519117 A JP H0519117A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- color filter
- resist
- light
- pixel
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 液晶ディスプレイ等に使用されるカラ−フィ
ルタに関するもので、視野角を広くするカラ−フィルタ
を提供することを目的とする。 【構成】 画素３の形成部に対応する面を凹形状とした
基板８を用いる構成とする。 【効果】 上記構成により、カラ−フィルタに入射した
光は、画素形成部に対応する面を凹形状とした基板８に
入射するとき放射状に広げられ、基板から出ていくた
め、視野角の広い、高品質な大面積のフラットディスプ
レイを実現できる。
ルタに関するもので、視野角を広くするカラ−フィルタ
を提供することを目的とする。 【構成】 画素３の形成部に対応する面を凹形状とした
基板８を用いる構成とする。 【効果】 上記構成により、カラ−フィルタに入射した
光は、画素形成部に対応する面を凹形状とした基板８に
入射するとき放射状に広げられ、基板から出ていくた
め、視野角の広い、高品質な大面積のフラットディスプ
レイを実現できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は液晶ディスプレイ等に使
用されるカラ−フィルタに関するものである。
用されるカラ−フィルタに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、液晶ディスプレイはフラットディ
スプレイの主力として開発が盛んであり、その液晶ディ
スプレイに使用するカラ−フィルタの開発も活発であ
る。
スプレイの主力として開発が盛んであり、その液晶ディ
スプレイに使用するカラ−フィルタの開発も活発であ
る。
【０００３】従来、液晶ディスプレイ等のフラットディ
スプレイ用カラ−フィルタとしては特開昭６２−１３６
２号などが出願されている。一例としてカラ−フィルタ
の概略構成図を図７に示す。以下図面を参照しながら、
従来のカラ−フィルタの一例について説明する。
スプレイ用カラ−フィルタとしては特開昭６２−１３６
２号などが出願されている。一例としてカラ−フィルタ
の概略構成図を図７に示す。以下図面を参照しながら、
従来のカラ−フィルタの一例について説明する。
【０００４】図７に示すようにカラ−フィルタはガラス
基板１上にクロム膜等からなる遮光部２、着色レジスト
からなる画素３、画素３を保護するための高分子樹脂等
からなる保護膜４、そして液晶に電圧を印加するための
透明導電膜５からなっている。
基板１上にクロム膜等からなる遮光部２、着色レジスト
からなる画素３、画素３を保護するための高分子樹脂等
からなる保護膜４、そして液晶に電圧を印加するための
透明導電膜５からなっている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記のよ
うなカラ−フィルタを使用したディスプレイには次のよ
うな課題があった。
うなカラ−フィルタを使用したディスプレイには次のよ
うな課題があった。
【０００６】従来のカラ−フィルタを用いたディスプレ
イの一例として、液晶ディスプレイを考える。その概略
構成図を図８に示す。液晶ディスプレイはカラ−フィル
タ基板Ａと対向する画素電極６が形成されている基板Ｂ
の間に液晶層Ｃを挟み、その背後からバックライト７に
より光を照射している。
イの一例として、液晶ディスプレイを考える。その概略
構成図を図８に示す。液晶ディスプレイはカラ−フィル
タ基板Ａと対向する画素電極６が形成されている基板Ｂ
の間に液晶層Ｃを挟み、その背後からバックライト７に
より光を照射している。
【０００７】光が液晶層Ｃを通過するため、液晶分子の
配列変化に起因する視野角位存性が発生する。通常ＴＮ
液晶では良好な表示が可能な視野角は上下±２０度、左
右±４０度の範囲と視野角が狭く、見にくいという欠点
があり、高品質なディスプレイを作製するのが困難であ
った。
配列変化に起因する視野角位存性が発生する。通常ＴＮ
液晶では良好な表示が可能な視野角は上下±２０度、左
右±４０度の範囲と視野角が狭く、見にくいという欠点
があり、高品質なディスプレイを作製するのが困難であ
った。
【０００８】本発明は上記問題点に鑑み、視野角の大き
い、高品質なフラットディスプレイを実現するためのカ
ラ−フィルタの形成方法を提供することを目的とする。
い、高品質なフラットディスプレイを実現するためのカ
ラ−フィルタの形成方法を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記問題点を解決するた
めに本発明のカラ−フィルタは、以下のような構成を備
えたものである。
めに本発明のカラ−フィルタは、以下のような構成を備
えたものである。
【００１０】即ち、ガラス等の基板の画素形成部を凹形
状とするものである。あるいは、ガラス等の基板の画素
を形成する面と異なる他方の面の、画素形成部に対応す
る位置の基板面を凸形状とするものである。
状とするものである。あるいは、ガラス等の基板の画素
を形成する面と異なる他方の面の、画素形成部に対応す
る位置の基板面を凸形状とするものである。
【００１１】あるいは、画素の形状を凹形状とするもの
である。
である。
【００１２】
【作用】本発明は上記した構成によってカラ−フィルタ
基板を通過する光を放射状に広げ、視野角を大きくする
こととなる。
基板を通過する光を放射状に広げ、視野角を大きくする
こととなる。
【００１３】即ち、上記第１の手段によれば、液晶層を
通過してきた光はカラ−フィルタ基板の透明導電膜、保
護膜、画素を通過し、ガラス等の基板に入射するとき、
画素形成部に対応する基板面を凹形状としているため、
入射した光は放射状に広げられ、基板より出ていく。よ
って、視野角が広くなる。
通過してきた光はカラ−フィルタ基板の透明導電膜、保
護膜、画素を通過し、ガラス等の基板に入射するとき、
画素形成部に対応する基板面を凹形状としているため、
入射した光は放射状に広げられ、基板より出ていく。よ
って、視野角が広くなる。
【００１４】また、上記第２の手段によれば、液晶層を
通過してきた光はカラ−フィルタ基板の透明導電膜、保
護膜、画素を通過し、ガラス等の基板に入射し、光が基
板から出るとき基板面を凸形状としているため、基板か
らでる光は放射状に広げられ、基板より出ていく。よっ
て、視野角が広くなる。
通過してきた光はカラ−フィルタ基板の透明導電膜、保
護膜、画素を通過し、ガラス等の基板に入射し、光が基
板から出るとき基板面を凸形状としているため、基板か
らでる光は放射状に広げられ、基板より出ていく。よっ
て、視野角が広くなる。
【００１５】また、上記第３の手段によれば、液晶層を
通過してきた光はカラ−フィルタ基板の透明導電膜、保
護膜を通過し、画素に入射するとき、画素を凹形状とし
ているため、画素に入射した光は放射状に広げられ、基
板より出ていく。よって、視野角が広くなる。
通過してきた光はカラ−フィルタ基板の透明導電膜、保
護膜を通過し、画素に入射するとき、画素を凹形状とし
ているため、画素に入射した光は放射状に広げられ、基
板より出ていく。よって、視野角が広くなる。
【００１６】
【実施例】以下、本発明のカラ−フィルタの実施例のに
ついて、図面を参照しながら説明する。
ついて、図面を参照しながら説明する。
【００１７】図１は本発明の実施例におけるカラ−フィ
ルタの構成図を示すものである。なお、図７で説明した
従来例の構成要素と同一の構成要素については同一番号
をつけて説明を省略する。
ルタの構成図を示すものである。なお、図７で説明した
従来例の構成要素と同一の構成要素については同一番号
をつけて説明を省略する。
【００１８】８は画素形成部に対応する面を凹形状とし
た基板である。液晶層を通過してきた光はカラ−フィル
タ基板の透明導電膜５、保護膜４、画素３を通過し、凹
形状の基板８に入射するとき光は放射状に広げられ、基
板から出ていく。よって、視野角が広くなる。
た基板である。液晶層を通過してきた光はカラ−フィル
タ基板の透明導電膜５、保護膜４、画素３を通過し、凹
形状の基板８に入射するとき光は放射状に広げられ、基
板から出ていく。よって、視野角が広くなる。
【００１９】このカラ−フィルタの形成方法の工程図を
図２に示す。その形成方法を以下に述べる。 （ａ）ガラス基板１上にスパッタリング法等を用いてク
ロム膜等を製膜する。その後、レジストを塗布し、フォ
トリソグラッフィ−法を用いてパタ−ニングし、ウエッ
トエッチングをおこない遮光部２を形成する。ウエット
エッチングに使用したレジスト９は剥離しない。（図２
（ａ）） （ｂ）レジスト９と遮光部２をマスクとして四塩化炭素
を主成分とするガスでドライエッチングをおこない、画
素形成部に対応する面を凹形状としたガラス基板８を作
製する（図２（ｂ）） （ｃ）レジスト９を剥離する。（図２（ｃ）） （ｄ）基板上に着色レジストを塗布し、フォトリソグラ
フィ−法によりパタ−ニングを行い画素３を形成する。
（図２（ｄ）） （ｅ）保護膜４を塗布し、硬化した後、スパッタリング
法等により透明導電膜５を形成する。（図２（ｅ）） このカラ−フィルタを用いることにより光が基板に入射
するとき、光が入射する画素形成部に対応する基板面を
凹形状としているため、入射した光は放射状に広げら
れ、基板から出ていく。よって、視野角が広くなり、高
品質なフラットディスプレイを実現することができる。
図２に示す。その形成方法を以下に述べる。 （ａ）ガラス基板１上にスパッタリング法等を用いてク
ロム膜等を製膜する。その後、レジストを塗布し、フォ
トリソグラッフィ−法を用いてパタ−ニングし、ウエッ
トエッチングをおこない遮光部２を形成する。ウエット
エッチングに使用したレジスト９は剥離しない。（図２
（ａ）） （ｂ）レジスト９と遮光部２をマスクとして四塩化炭素
を主成分とするガスでドライエッチングをおこない、画
素形成部に対応する面を凹形状としたガラス基板８を作
製する（図２（ｂ）） （ｃ）レジスト９を剥離する。（図２（ｃ）） （ｄ）基板上に着色レジストを塗布し、フォトリソグラ
フィ−法によりパタ−ニングを行い画素３を形成する。
（図２（ｄ）） （ｅ）保護膜４を塗布し、硬化した後、スパッタリング
法等により透明導電膜５を形成する。（図２（ｅ）） このカラ−フィルタを用いることにより光が基板に入射
するとき、光が入射する画素形成部に対応する基板面を
凹形状としているため、入射した光は放射状に広げら
れ、基板から出ていく。よって、視野角が広くなり、高
品質なフラットディスプレイを実現することができる。
【００２０】次に、発明の他の実施例について、図面を
参照しながら説明する。図３は同実施例であるカラ−フ
ィルタの構成図を示すものである。なお、図７で説明し
た従来例の構成要素と同一の構成要素については同一番
号をつけて説明を省略する。
参照しながら説明する。図３は同実施例であるカラ−フ
ィルタの構成図を示すものである。なお、図７で説明し
た従来例の構成要素と同一の構成要素については同一番
号をつけて説明を省略する。
【００２１】１０は画素３を形成する面と異なる他方の
面の、画素形成部に対応する位置の面を凸形状とした基
板である。液晶層を通過してきた光はカラ−フィルタ基
板の透明導電膜５、保護膜４、画素３を通過し、画素３
を形成する面と異なる他方の面の、画素形成部に対応す
る位置の面を凸形状とした基板１０に入射し、この基板
１０からでるとき光は放射状に広げられ、基板から出て
いく。よって、視野角が広くなる。
面の、画素形成部に対応する位置の面を凸形状とした基
板である。液晶層を通過してきた光はカラ−フィルタ基
板の透明導電膜５、保護膜４、画素３を通過し、画素３
を形成する面と異なる他方の面の、画素形成部に対応す
る位置の面を凸形状とした基板１０に入射し、この基板
１０からでるとき光は放射状に広げられ、基板から出て
いく。よって、視野角が広くなる。
【００２２】このカラ−フィルタの形成方法は前記実施
例において基板を加工したのと同様な手法を用いればよ
い。
例において基板を加工したのと同様な手法を用いればよ
い。
【００２３】このカラ−フィルタを用いることにより基
板よりでる光は放射状に広げられるため、視野角が広く
なり、高品質なフラットディスプレイを実現することが
できる。
板よりでる光は放射状に広げられるため、視野角が広く
なり、高品質なフラットディスプレイを実現することが
できる。
【００２４】次に、本発明の更に他の実施例について、
図面を参照しながら説明する。図４は同実施例であるカ
ラ−フィルタの構成図を示すものである。なお、図７で
説明した従来例の構成要素と同一の構成要素については
同一番号をつけて説明を省略する。
図面を参照しながら説明する。図４は同実施例であるカ
ラ−フィルタの構成図を示すものである。なお、図７で
説明した従来例の構成要素と同一の構成要素については
同一番号をつけて説明を省略する。
【００２５】１１は凹形状の画素である。液晶層を通過
してきた光はカラ−フィルタ基板の透明導電膜５、保護
膜４を通過し、凹形状の画素１１に入射するとき放射状
に広げられ、基板より出ていく。よって、視野角が広く
なる。
してきた光はカラ−フィルタ基板の透明導電膜５、保護
膜４を通過し、凹形状の画素１１に入射するとき放射状
に広げられ、基板より出ていく。よって、視野角が広く
なる。
【００２６】このカラ−フィルタの形成方法の工程図を
図５、図６に示す。その形成方法を以下に述べる。 （ａ）ガラス基板１上にスパッタリング法等を用いてク
ロム膜等を製膜する。その後、レジスト１２を塗布し、
フォトリソグラフィ−法を用いてパタ−ニングし、そし
てウエットエッチングをおこない遮光部２を形成する。
（図５（ａ）） （ｂ）レジスト１２を剥離する。（図５（ｂ）） （ｃ）ガラス基板１上に着色レジストを塗布し、フォト
リソグラフィ−法を用いてパタ−ニングし、画素１３を
形成する。（図５（ｃ）） （ｄ）引続き、ガラス基板１上にレジストを塗布し、フ
ォトリソグラフィ−法を用いてパタ−ニングし、画素１
３間にレジスト１４を形成する。（図６（ａ）） （ｅ）引続き酸素を主成分とするガスによりドライエッ
チングをおこない画素１３を凹形状に作製する。（図６
（ｂ）） （ｆ）そののち保護膜４を塗布し、硬化した後、スパッ
タリング法等により透明導電膜５を形成する。（図６
（ｃ）） このカラ−フィルタを用いることにより凹形状の画素１
３に入射するとき、入射した光は放射状に広げられ、基
板から出ていく。よって、視野角が広くなり、高品質な
フラットディスプレイを実現することができる。
図５、図６に示す。その形成方法を以下に述べる。 （ａ）ガラス基板１上にスパッタリング法等を用いてク
ロム膜等を製膜する。その後、レジスト１２を塗布し、
フォトリソグラフィ−法を用いてパタ−ニングし、そし
てウエットエッチングをおこない遮光部２を形成する。
（図５（ａ）） （ｂ）レジスト１２を剥離する。（図５（ｂ）） （ｃ）ガラス基板１上に着色レジストを塗布し、フォト
リソグラフィ−法を用いてパタ−ニングし、画素１３を
形成する。（図５（ｃ）） （ｄ）引続き、ガラス基板１上にレジストを塗布し、フ
ォトリソグラフィ−法を用いてパタ−ニングし、画素１
３間にレジスト１４を形成する。（図６（ａ）） （ｅ）引続き酸素を主成分とするガスによりドライエッ
チングをおこない画素１３を凹形状に作製する。（図６
（ｂ）） （ｆ）そののち保護膜４を塗布し、硬化した後、スパッ
タリング法等により透明導電膜５を形成する。（図６
（ｃ）） このカラ−フィルタを用いることにより凹形状の画素１
３に入射するとき、入射した光は放射状に広げられ、基
板から出ていく。よって、視野角が広くなり、高品質な
フラットディスプレイを実現することができる。
【００２７】なお、上記実施例においてレジスト、画素
の形成方法はフォトリソグラフィ−法を用いているが、
印刷法、電着法など、他の方法により作製としてもよ
い。
の形成方法はフォトリソグラフィ−法を用いているが、
印刷法、電着法など、他の方法により作製としてもよ
い。
【００２８】また、上記実施例において基板および着色
レジストの加工にドライエッチングを用いたが、ウエッ
トエッチング等の他の方法により作製してもよい。
レジストの加工にドライエッチングを用いたが、ウエッ
トエッチング等の他の方法により作製してもよい。
【００２９】
【発明の効果】本発明のカラ−フィルタによれば液晶層
を通過してきた光を放射状に広げ、基板よりだすこと
で、視野角を広くすることができるため良好な表示性能
を有する高品質なディスプレイを作製することができ、
実用上多大な効果を有する。
を通過してきた光を放射状に広げ、基板よりだすこと
で、視野角を広くすることができるため良好な表示性能
を有する高品質なディスプレイを作製することができ、
実用上多大な効果を有する。
【図１】本発明のカラ−フィルタの一実施例の構成を示
す断面図
す断面図
【図２】（ａ）は、同実施例のカラ−フィルタ形成にお
ける遮光部の形成工程図 （ｂ）は、同実施例のカラ−フィルタ形成における基板
の凹部形成工程図 （ｃ）は、同実施例のカラ−フィルタ形成におけるレジ
スト剥離工程図 （ｄ）は、同実施例のカラ−フィルタ形成における画素
形成工程図 （ｅ）は、同実施例のカラ−フィルタ形成における透明
導電膜形成工程図
ける遮光部の形成工程図 （ｂ）は、同実施例のカラ−フィルタ形成における基板
の凹部形成工程図 （ｃ）は、同実施例のカラ−フィルタ形成におけるレジ
スト剥離工程図 （ｄ）は、同実施例のカラ−フィルタ形成における画素
形成工程図 （ｅ）は、同実施例のカラ−フィルタ形成における透明
導電膜形成工程図
【図３】本発明のカラーフィルタの他の実施例の構成を
示す断面図
示す断面図
【図４】本発明のカラ−フィルタの更に他の実施例の構
成を示す断面図
成を示す断面図
【図５】（ａ）は、図４の実施例のカラーフィルタの形
成における遮光部の形成工程図 （ｂ）は、同実施例のカラーフィルタの形成におけるレ
ジスト剥離工程図 （ｃ）は、同実施例のカラーフィルタの形成における画
素形成工程図
成における遮光部の形成工程図 （ｂ）は、同実施例のカラーフィルタの形成におけるレ
ジスト剥離工程図 （ｃ）は、同実施例のカラーフィルタの形成における画
素形成工程図
【図６】（ａ）は、同実施例のカラーフィルタ形成にお
いて、図５（ｃ）に引続き実施される、画素間のレジス
ト形成工程図 （ｂ）は、図６（ａ）に引続き実施される、凹状画素の
形成工程図 （ｃ）は、図６（ｂ）に引続き実施される、透明導電膜
の形成工程図
いて、図５（ｃ）に引続き実施される、画素間のレジス
ト形成工程図 （ｂ）は、図６（ａ）に引続き実施される、凹状画素の
形成工程図 （ｃ）は、図６（ｂ）に引続き実施される、透明導電膜
の形成工程図
【図７】従来のカラ−フィルタの構成を示す断面図
【図８】従来のカラ−フィルタを用いた液晶ディスプレ
イの構成を示す断面図
イの構成を示す断面図
【符号の説明】
１ ガラス基板
２ 遮光部
３ 画素
４ 保護膜
５ 透明導電膜
６ 画素電極
７ バックライト
８ 凹形状基板
９ レジスト
１０ 凸形状基板
１１ 凹形状画素
１２ レジスト
１３ 画素
１４ レジスト
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 芥川 竜太郎
大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器
産業株式会社内
Claims (3)
- 【請求項１】ガラス等の基板上に画素を形成してなるカ
ラーフィルタであって、前記基板の画素形成部を凹形状
としたことを特徴とするカラ−フィルタ。 - 【請求項２】ガラス等の基板の画素を形成する面と異な
る他方の面の、前記画素形成部に対応する位置の前記基
板面を凸形状としたことを特徴とするカラ−フィルタ。 - 【請求項３】ガラス等の基板上に画素を形成してなるカ
ラーフィルタであって、前記画素の形状を凹形状とした
ことを特徴とするカラ−フィルタ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3176616A JPH0519117A (ja) | 1991-07-17 | 1991-07-17 | カラーフイルタ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3176616A JPH0519117A (ja) | 1991-07-17 | 1991-07-17 | カラーフイルタ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0519117A true JPH0519117A (ja) | 1993-01-29 |
Family
ID=16016688
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3176616A Pending JPH0519117A (ja) | 1991-07-17 | 1991-07-17 | カラーフイルタ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0519117A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5689318A (en) * | 1994-04-06 | 1997-11-18 | Hitachi, Ltd. | Color liquid crystal display device composed of color filter with a layer of three primary color array patterns fabricated by thermal dye transfer technology |
| JP2006058711A (ja) * | 2004-08-20 | 2006-03-02 | Seiko Epson Corp | カラーフィルタ基板、カラーフィルタ基板の製造方法、電気光学装置および電子機器 |
| US11621305B2 (en) | 2019-09-11 | 2023-04-04 | Samsung Display Co., Ltd. | Display device |
-
1991
- 1991-07-17 JP JP3176616A patent/JPH0519117A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5689318A (en) * | 1994-04-06 | 1997-11-18 | Hitachi, Ltd. | Color liquid crystal display device composed of color filter with a layer of three primary color array patterns fabricated by thermal dye transfer technology |
| JP2006058711A (ja) * | 2004-08-20 | 2006-03-02 | Seiko Epson Corp | カラーフィルタ基板、カラーフィルタ基板の製造方法、電気光学装置および電子機器 |
| US11621305B2 (en) | 2019-09-11 | 2023-04-04 | Samsung Display Co., Ltd. | Display device |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH05203987A (ja) | アクティブマトリクス基板の製造方法および液晶表示装置 | |
| JPH09143677A (ja) | 透明導電膜の形成方法 | |
| KR970062776A (ko) | 액티브 매트릭스 액정표시 장치의 블랙 매트릭스 제조 방법 | |
| JP2008197484A (ja) | 液晶パネルおよび投射型液晶表示装置 | |
| JPH086005A (ja) | 液晶表示装置およびその製造方法 | |
| JPH0519117A (ja) | カラーフイルタ | |
| JP2944854B2 (ja) | 液晶素子の製造方法 | |
| JPH08179113A (ja) | カラーフィルタの製造方法、該方法により得られたカラーフィルタ及び該カラーフィルタを配して構成した液晶表示パネル | |
| JP2002350833A (ja) | 液晶表示装置およびその製造方法 | |
| JP2002350886A (ja) | 液晶表示装置の製造方法および液晶表示装置 | |
| JP2001330826A (ja) | 反射型ｌｃｄおよびその製造方法 | |
| JP2002350887A (ja) | 液晶表示装置の製造方法および液晶表示装置 | |
| JP4361979B2 (ja) | カラーフィルタ | |
| JPH06250163A (ja) | 表示装置用遮光膜 | |
| KR960024574A (ko) | 다색액정표시장치의 제조방법 | |
| KR20020053575A (ko) | 액정표시장치와 그 제조방법 | |
| JPH05241013A (ja) | カラーフィルタの製造方法 | |
| KR950015843A (ko) | 액정표시장치와 그 제조방법 | |
| JP2008129324A (ja) | カラーフィルタ及び液晶表示装置 | |
| JPH07325300A (ja) | カラー液晶表示パネル | |
| KR20030058721A (ko) | 액정표시장치의 칼라필터 | |
| JPH06138455A (ja) | カラーフィルタの形成方法 | |
| JPH05181124A (ja) | カラー液晶表示素子の製造方法 | |
| JP2753465B2 (ja) | 液晶表示素子の製造方法 | |
| JP2948171B2 (ja) | 液晶表示素子 |