JPH0519117A - カラーフイルタ - Google Patents
カラーフイルタInfo
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- JPH0519117A JPH0519117A JP3176616A JP17661691A JPH0519117A JP H0519117 A JPH0519117 A JP H0519117A JP 3176616 A JP3176616 A JP 3176616A JP 17661691 A JP17661691 A JP 17661691A JP H0519117 A JPH0519117 A JP H0519117A
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- color filter
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 液晶ディスプレイ等に使用されるカラ−フィ
ルタに関するもので、視野角を広くするカラ−フィルタ
を提供することを目的とする。 【構成】 画素3の形成部に対応する面を凹形状とした
基板8を用いる構成とする。 【効果】 上記構成により、カラ−フィルタに入射した
光は、画素形成部に対応する面を凹形状とした基板8に
入射するとき放射状に広げられ、基板から出ていくた
め、視野角の広い、高品質な大面積のフラットディスプ
レイを実現できる。
ルタに関するもので、視野角を広くするカラ−フィルタ
を提供することを目的とする。 【構成】 画素3の形成部に対応する面を凹形状とした
基板8を用いる構成とする。 【効果】 上記構成により、カラ−フィルタに入射した
光は、画素形成部に対応する面を凹形状とした基板8に
入射するとき放射状に広げられ、基板から出ていくた
め、視野角の広い、高品質な大面積のフラットディスプ
レイを実現できる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は液晶ディスプレイ等に使
用されるカラ−フィルタに関するものである。
用されるカラ−フィルタに関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、液晶ディスプレイはフラットディ
スプレイの主力として開発が盛んであり、その液晶ディ
スプレイに使用するカラ−フィルタの開発も活発であ
る。
スプレイの主力として開発が盛んであり、その液晶ディ
スプレイに使用するカラ−フィルタの開発も活発であ
る。
【0003】従来、液晶ディスプレイ等のフラットディ
スプレイ用カラ−フィルタとしては特開昭62−136
2号などが出願されている。一例としてカラ−フィルタ
の概略構成図を図7に示す。以下図面を参照しながら、
従来のカラ−フィルタの一例について説明する。
スプレイ用カラ−フィルタとしては特開昭62−136
2号などが出願されている。一例としてカラ−フィルタ
の概略構成図を図7に示す。以下図面を参照しながら、
従来のカラ−フィルタの一例について説明する。
【0004】図7に示すようにカラ−フィルタはガラス
基板1上にクロム膜等からなる遮光部2、着色レジスト
からなる画素3、画素3を保護するための高分子樹脂等
からなる保護膜4、そして液晶に電圧を印加するための
透明導電膜5からなっている。
基板1上にクロム膜等からなる遮光部2、着色レジスト
からなる画素3、画素3を保護するための高分子樹脂等
からなる保護膜4、そして液晶に電圧を印加するための
透明導電膜5からなっている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記のよ
うなカラ−フィルタを使用したディスプレイには次のよ
うな課題があった。
うなカラ−フィルタを使用したディスプレイには次のよ
うな課題があった。
【0006】従来のカラ−フィルタを用いたディスプレ
イの一例として、液晶ディスプレイを考える。その概略
構成図を図8に示す。液晶ディスプレイはカラ−フィル
タ基板Aと対向する画素電極6が形成されている基板B
の間に液晶層Cを挟み、その背後からバックライト7に
より光を照射している。
イの一例として、液晶ディスプレイを考える。その概略
構成図を図8に示す。液晶ディスプレイはカラ−フィル
タ基板Aと対向する画素電極6が形成されている基板B
の間に液晶層Cを挟み、その背後からバックライト7に
より光を照射している。
【0007】光が液晶層Cを通過するため、液晶分子の
配列変化に起因する視野角位存性が発生する。通常TN
液晶では良好な表示が可能な視野角は上下±20度、左
右±40度の範囲と視野角が狭く、見にくいという欠点
があり、高品質なディスプレイを作製するのが困難であ
った。
配列変化に起因する視野角位存性が発生する。通常TN
液晶では良好な表示が可能な視野角は上下±20度、左
右±40度の範囲と視野角が狭く、見にくいという欠点
があり、高品質なディスプレイを作製するのが困難であ
った。
【0008】本発明は上記問題点に鑑み、視野角の大き
い、高品質なフラットディスプレイを実現するためのカ
ラ−フィルタの形成方法を提供することを目的とする。
い、高品質なフラットディスプレイを実現するためのカ
ラ−フィルタの形成方法を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記問題点を解決するた
めに本発明のカラ−フィルタは、以下のような構成を備
えたものである。
めに本発明のカラ−フィルタは、以下のような構成を備
えたものである。
【0010】即ち、ガラス等の基板の画素形成部を凹形
状とするものである。あるいは、ガラス等の基板の画素
を形成する面と異なる他方の面の、画素形成部に対応す
る位置の基板面を凸形状とするものである。
状とするものである。あるいは、ガラス等の基板の画素
を形成する面と異なる他方の面の、画素形成部に対応す
る位置の基板面を凸形状とするものである。
【0011】あるいは、画素の形状を凹形状とするもの
である。
である。
【0012】
【作用】本発明は上記した構成によってカラ−フィルタ
基板を通過する光を放射状に広げ、視野角を大きくする
こととなる。
基板を通過する光を放射状に広げ、視野角を大きくする
こととなる。
【0013】即ち、上記第1の手段によれば、液晶層を
通過してきた光はカラ−フィルタ基板の透明導電膜、保
護膜、画素を通過し、ガラス等の基板に入射するとき、
画素形成部に対応する基板面を凹形状としているため、
入射した光は放射状に広げられ、基板より出ていく。よ
って、視野角が広くなる。
通過してきた光はカラ−フィルタ基板の透明導電膜、保
護膜、画素を通過し、ガラス等の基板に入射するとき、
画素形成部に対応する基板面を凹形状としているため、
入射した光は放射状に広げられ、基板より出ていく。よ
って、視野角が広くなる。
【0014】また、上記第2の手段によれば、液晶層を
通過してきた光はカラ−フィルタ基板の透明導電膜、保
護膜、画素を通過し、ガラス等の基板に入射し、光が基
板から出るとき基板面を凸形状としているため、基板か
らでる光は放射状に広げられ、基板より出ていく。よっ
て、視野角が広くなる。
通過してきた光はカラ−フィルタ基板の透明導電膜、保
護膜、画素を通過し、ガラス等の基板に入射し、光が基
板から出るとき基板面を凸形状としているため、基板か
らでる光は放射状に広げられ、基板より出ていく。よっ
て、視野角が広くなる。
【0015】また、上記第3の手段によれば、液晶層を
通過してきた光はカラ−フィルタ基板の透明導電膜、保
護膜を通過し、画素に入射するとき、画素を凹形状とし
ているため、画素に入射した光は放射状に広げられ、基
板より出ていく。よって、視野角が広くなる。
通過してきた光はカラ−フィルタ基板の透明導電膜、保
護膜を通過し、画素に入射するとき、画素を凹形状とし
ているため、画素に入射した光は放射状に広げられ、基
板より出ていく。よって、視野角が広くなる。
【0016】
【実施例】以下、本発明のカラ−フィルタの実施例のに
ついて、図面を参照しながら説明する。
ついて、図面を参照しながら説明する。
【0017】図1は本発明の実施例におけるカラ−フィ
ルタの構成図を示すものである。なお、図7で説明した
従来例の構成要素と同一の構成要素については同一番号
をつけて説明を省略する。
ルタの構成図を示すものである。なお、図7で説明した
従来例の構成要素と同一の構成要素については同一番号
をつけて説明を省略する。
【0018】8は画素形成部に対応する面を凹形状とし
た基板である。液晶層を通過してきた光はカラ−フィル
タ基板の透明導電膜5、保護膜4、画素3を通過し、凹
形状の基板8に入射するとき光は放射状に広げられ、基
板から出ていく。よって、視野角が広くなる。
た基板である。液晶層を通過してきた光はカラ−フィル
タ基板の透明導電膜5、保護膜4、画素3を通過し、凹
形状の基板8に入射するとき光は放射状に広げられ、基
板から出ていく。よって、視野角が広くなる。
【0019】このカラ−フィルタの形成方法の工程図を
図2に示す。その形成方法を以下に述べる。 (a)ガラス基板1上にスパッタリング法等を用いてク
ロム膜等を製膜する。その後、レジストを塗布し、フォ
トリソグラッフィ−法を用いてパタ−ニングし、ウエッ
トエッチングをおこない遮光部2を形成する。ウエット
エッチングに使用したレジスト9は剥離しない。(図2
(a)) (b)レジスト9と遮光部2をマスクとして四塩化炭素
を主成分とするガスでドライエッチングをおこない、画
素形成部に対応する面を凹形状としたガラス基板8を作
製する(図2(b)) (c)レジスト9を剥離する。(図2(c)) (d)基板上に着色レジストを塗布し、フォトリソグラ
フィ−法によりパタ−ニングを行い画素3を形成する。
(図2(d)) (e)保護膜4を塗布し、硬化した後、スパッタリング
法等により透明導電膜5を形成する。(図2(e)) このカラ−フィルタを用いることにより光が基板に入射
するとき、光が入射する画素形成部に対応する基板面を
凹形状としているため、入射した光は放射状に広げら
れ、基板から出ていく。よって、視野角が広くなり、高
品質なフラットディスプレイを実現することができる。
図2に示す。その形成方法を以下に述べる。 (a)ガラス基板1上にスパッタリング法等を用いてク
ロム膜等を製膜する。その後、レジストを塗布し、フォ
トリソグラッフィ−法を用いてパタ−ニングし、ウエッ
トエッチングをおこない遮光部2を形成する。ウエット
エッチングに使用したレジスト9は剥離しない。(図2
(a)) (b)レジスト9と遮光部2をマスクとして四塩化炭素
を主成分とするガスでドライエッチングをおこない、画
素形成部に対応する面を凹形状としたガラス基板8を作
製する(図2(b)) (c)レジスト9を剥離する。(図2(c)) (d)基板上に着色レジストを塗布し、フォトリソグラ
フィ−法によりパタ−ニングを行い画素3を形成する。
(図2(d)) (e)保護膜4を塗布し、硬化した後、スパッタリング
法等により透明導電膜5を形成する。(図2(e)) このカラ−フィルタを用いることにより光が基板に入射
するとき、光が入射する画素形成部に対応する基板面を
凹形状としているため、入射した光は放射状に広げら
れ、基板から出ていく。よって、視野角が広くなり、高
品質なフラットディスプレイを実現することができる。
【0020】次に、発明の他の実施例について、図面を
参照しながら説明する。図3は同実施例であるカラ−フ
ィルタの構成図を示すものである。なお、図7で説明し
た従来例の構成要素と同一の構成要素については同一番
号をつけて説明を省略する。
参照しながら説明する。図3は同実施例であるカラ−フ
ィルタの構成図を示すものである。なお、図7で説明し
た従来例の構成要素と同一の構成要素については同一番
号をつけて説明を省略する。
【0021】10は画素3を形成する面と異なる他方の
面の、画素形成部に対応する位置の面を凸形状とした基
板である。液晶層を通過してきた光はカラ−フィルタ基
板の透明導電膜5、保護膜4、画素3を通過し、画素3
を形成する面と異なる他方の面の、画素形成部に対応す
る位置の面を凸形状とした基板10に入射し、この基板
10からでるとき光は放射状に広げられ、基板から出て
いく。よって、視野角が広くなる。
面の、画素形成部に対応する位置の面を凸形状とした基
板である。液晶層を通過してきた光はカラ−フィルタ基
板の透明導電膜5、保護膜4、画素3を通過し、画素3
を形成する面と異なる他方の面の、画素形成部に対応す
る位置の面を凸形状とした基板10に入射し、この基板
10からでるとき光は放射状に広げられ、基板から出て
いく。よって、視野角が広くなる。
【0022】このカラ−フィルタの形成方法は前記実施
例において基板を加工したのと同様な手法を用いればよ
い。
例において基板を加工したのと同様な手法を用いればよ
い。
【0023】このカラ−フィルタを用いることにより基
板よりでる光は放射状に広げられるため、視野角が広く
なり、高品質なフラットディスプレイを実現することが
できる。
板よりでる光は放射状に広げられるため、視野角が広く
なり、高品質なフラットディスプレイを実現することが
できる。
【0024】次に、本発明の更に他の実施例について、
図面を参照しながら説明する。図4は同実施例であるカ
ラ−フィルタの構成図を示すものである。なお、図7で
説明した従来例の構成要素と同一の構成要素については
同一番号をつけて説明を省略する。
図面を参照しながら説明する。図4は同実施例であるカ
ラ−フィルタの構成図を示すものである。なお、図7で
説明した従来例の構成要素と同一の構成要素については
同一番号をつけて説明を省略する。
【0025】11は凹形状の画素である。液晶層を通過
してきた光はカラ−フィルタ基板の透明導電膜5、保護
膜4を通過し、凹形状の画素11に入射するとき放射状
に広げられ、基板より出ていく。よって、視野角が広く
なる。
してきた光はカラ−フィルタ基板の透明導電膜5、保護
膜4を通過し、凹形状の画素11に入射するとき放射状
に広げられ、基板より出ていく。よって、視野角が広く
なる。
【0026】このカラ−フィルタの形成方法の工程図を
図5、図6に示す。その形成方法を以下に述べる。 (a)ガラス基板1上にスパッタリング法等を用いてク
ロム膜等を製膜する。その後、レジスト12を塗布し、
フォトリソグラフィ−法を用いてパタ−ニングし、そし
てウエットエッチングをおこない遮光部2を形成する。
(図5(a)) (b)レジスト12を剥離する。(図5(b)) (c)ガラス基板1上に着色レジストを塗布し、フォト
リソグラフィ−法を用いてパタ−ニングし、画素13を
形成する。(図5(c)) (d)引続き、ガラス基板1上にレジストを塗布し、フ
ォトリソグラフィ−法を用いてパタ−ニングし、画素1
3間にレジスト14を形成する。(図6(a)) (e)引続き酸素を主成分とするガスによりドライエッ
チングをおこない画素13を凹形状に作製する。(図6
(b)) (f)そののち保護膜4を塗布し、硬化した後、スパッ
タリング法等により透明導電膜5を形成する。(図6
(c)) このカラ−フィルタを用いることにより凹形状の画素1
3に入射するとき、入射した光は放射状に広げられ、基
板から出ていく。よって、視野角が広くなり、高品質な
フラットディスプレイを実現することができる。
図5、図6に示す。その形成方法を以下に述べる。 (a)ガラス基板1上にスパッタリング法等を用いてク
ロム膜等を製膜する。その後、レジスト12を塗布し、
フォトリソグラフィ−法を用いてパタ−ニングし、そし
てウエットエッチングをおこない遮光部2を形成する。
(図5(a)) (b)レジスト12を剥離する。(図5(b)) (c)ガラス基板1上に着色レジストを塗布し、フォト
リソグラフィ−法を用いてパタ−ニングし、画素13を
形成する。(図5(c)) (d)引続き、ガラス基板1上にレジストを塗布し、フ
ォトリソグラフィ−法を用いてパタ−ニングし、画素1
3間にレジスト14を形成する。(図6(a)) (e)引続き酸素を主成分とするガスによりドライエッ
チングをおこない画素13を凹形状に作製する。(図6
(b)) (f)そののち保護膜4を塗布し、硬化した後、スパッ
タリング法等により透明導電膜5を形成する。(図6
(c)) このカラ−フィルタを用いることにより凹形状の画素1
3に入射するとき、入射した光は放射状に広げられ、基
板から出ていく。よって、視野角が広くなり、高品質な
フラットディスプレイを実現することができる。
【0027】なお、上記実施例においてレジスト、画素
の形成方法はフォトリソグラフィ−法を用いているが、
印刷法、電着法など、他の方法により作製としてもよ
い。
の形成方法はフォトリソグラフィ−法を用いているが、
印刷法、電着法など、他の方法により作製としてもよ
い。
【0028】また、上記実施例において基板および着色
レジストの加工にドライエッチングを用いたが、ウエッ
トエッチング等の他の方法により作製してもよい。
レジストの加工にドライエッチングを用いたが、ウエッ
トエッチング等の他の方法により作製してもよい。
【0029】
【発明の効果】本発明のカラ−フィルタによれば液晶層
を通過してきた光を放射状に広げ、基板よりだすこと
で、視野角を広くすることができるため良好な表示性能
を有する高品質なディスプレイを作製することができ、
実用上多大な効果を有する。
を通過してきた光を放射状に広げ、基板よりだすこと
で、視野角を広くすることができるため良好な表示性能
を有する高品質なディスプレイを作製することができ、
実用上多大な効果を有する。
【図1】本発明のカラ−フィルタの一実施例の構成を示
す断面図
す断面図
【図2】(a)は、同実施例のカラ−フィルタ形成にお
ける遮光部の形成工程図 (b)は、同実施例のカラ−フィルタ形成における基板
の凹部形成工程図 (c)は、同実施例のカラ−フィルタ形成におけるレジ
スト剥離工程図 (d)は、同実施例のカラ−フィルタ形成における画素
形成工程図 (e)は、同実施例のカラ−フィルタ形成における透明
導電膜形成工程図
ける遮光部の形成工程図 (b)は、同実施例のカラ−フィルタ形成における基板
の凹部形成工程図 (c)は、同実施例のカラ−フィルタ形成におけるレジ
スト剥離工程図 (d)は、同実施例のカラ−フィルタ形成における画素
形成工程図 (e)は、同実施例のカラ−フィルタ形成における透明
導電膜形成工程図
【図3】本発明のカラーフィルタの他の実施例の構成を
示す断面図
示す断面図
【図4】本発明のカラ−フィルタの更に他の実施例の構
成を示す断面図
成を示す断面図
【図5】(a)は、図4の実施例のカラーフィルタの形
成における遮光部の形成工程図 (b)は、同実施例のカラーフィルタの形成におけるレ
ジスト剥離工程図 (c)は、同実施例のカラーフィルタの形成における画
素形成工程図
成における遮光部の形成工程図 (b)は、同実施例のカラーフィルタの形成におけるレ
ジスト剥離工程図 (c)は、同実施例のカラーフィルタの形成における画
素形成工程図
【図6】(a)は、同実施例のカラーフィルタ形成にお
いて、図5(c)に引続き実施される、画素間のレジス
ト形成工程図 (b)は、図6(a)に引続き実施される、凹状画素の
形成工程図 (c)は、図6(b)に引続き実施される、透明導電膜
の形成工程図
いて、図5(c)に引続き実施される、画素間のレジス
ト形成工程図 (b)は、図6(a)に引続き実施される、凹状画素の
形成工程図 (c)は、図6(b)に引続き実施される、透明導電膜
の形成工程図
【図7】従来のカラ−フィルタの構成を示す断面図
【図8】従来のカラ−フィルタを用いた液晶ディスプレ
イの構成を示す断面図
イの構成を示す断面図
【符号の説明】
1 ガラス基板
2 遮光部
3 画素
4 保護膜
5 透明導電膜
6 画素電極
7 バックライト
8 凹形状基板
9 レジスト
10 凸形状基板
11 凹形状画素
12 レジスト
13 画素
14 レジスト
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 芥川 竜太郎
大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器
産業株式会社内
Claims (3)
- 【請求項1】ガラス等の基板上に画素を形成してなるカ
ラーフィルタであって、前記基板の画素形成部を凹形状
としたことを特徴とするカラ−フィルタ。 - 【請求項2】ガラス等の基板の画素を形成する面と異な
る他方の面の、前記画素形成部に対応する位置の前記基
板面を凸形状としたことを特徴とするカラ−フィルタ。 - 【請求項3】ガラス等の基板上に画素を形成してなるカ
ラーフィルタであって、前記画素の形状を凹形状とした
ことを特徴とするカラ−フィルタ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3176616A JPH0519117A (ja) | 1991-07-17 | 1991-07-17 | カラーフイルタ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3176616A JPH0519117A (ja) | 1991-07-17 | 1991-07-17 | カラーフイルタ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0519117A true JPH0519117A (ja) | 1993-01-29 |
Family
ID=16016688
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3176616A Pending JPH0519117A (ja) | 1991-07-17 | 1991-07-17 | カラーフイルタ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0519117A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5689318A (en) * | 1994-04-06 | 1997-11-18 | Hitachi, Ltd. | Color liquid crystal display device composed of color filter with a layer of three primary color array patterns fabricated by thermal dye transfer technology |
JP2006058711A (ja) * | 2004-08-20 | 2006-03-02 | Seiko Epson Corp | カラーフィルタ基板、カラーフィルタ基板の製造方法、電気光学装置および電子機器 |
US11621305B2 (en) | 2019-09-11 | 2023-04-04 | Samsung Display Co., Ltd. | Display device |
-
1991
- 1991-07-17 JP JP3176616A patent/JPH0519117A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5689318A (en) * | 1994-04-06 | 1997-11-18 | Hitachi, Ltd. | Color liquid crystal display device composed of color filter with a layer of three primary color array patterns fabricated by thermal dye transfer technology |
JP2006058711A (ja) * | 2004-08-20 | 2006-03-02 | Seiko Epson Corp | カラーフィルタ基板、カラーフィルタ基板の製造方法、電気光学装置および電子機器 |
US11621305B2 (en) | 2019-09-11 | 2023-04-04 | Samsung Display Co., Ltd. | Display device |
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