JPH05190294A - プラズマを励起するためにマイクロ波エネルギーを分布させるための装置 - Google Patents
プラズマを励起するためにマイクロ波エネルギーを分布させるための装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 この発明は例えば表面処理等に適用でき、電
子サイクロトロン共鳴領域の全てに亙って最小の損失で
マイクロ波エネルギーを分布及び伝播できるようにした
プラズマ生成装置を提供することにある。 【構成】 本発明はプラズマの生成に関し、容器（１）
内でプラズマを励起するためにマイクロ波エネルギーを
分布させる装置であって、１つ或いは複数のアプリケー
タ（８）を備え、各アプリケータは、内部磁石ゾーン
（１１）の内側で、かつ閉じ込め表面（６）と容器の壁
との間に間隔を置いて位置付けられ、その表面（７）の
外側で壁とアプリケータとの間のマイクロ波エネルギー
の閉じ込め及び伝播を確実にするように、一定の磁場を
有し、電子サイクロトロン共鳴に対応した強度を有する
表面の外側に位置付けられている。
子サイクロトロン共鳴領域の全てに亙って最小の損失で
マイクロ波エネルギーを分布及び伝播できるようにした
プラズマ生成装置を提供することにある。 【構成】 本発明はプラズマの生成に関し、容器（１）
内でプラズマを励起するためにマイクロ波エネルギーを
分布させる装置であって、１つ或いは複数のアプリケー
タ（８）を備え、各アプリケータは、内部磁石ゾーン
（１１）の内側で、かつ閉じ込め表面（６）と容器の壁
との間に間隔を置いて位置付けられ、その表面（７）の
外側で壁とアプリケータとの間のマイクロ波エネルギー
の閉じ込め及び伝播を確実にするように、一定の磁場を
有し、電子サイクロトロン共鳴に対応した強度を有する
表面の外側に位置付けられている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、表面処理やイオンビー
ムの生成のように、種々の多くの応用例に適用でき、ガ
ス状の媒体からプラズマを生成する技術分野に関するも
ので、より詳しくはマイクロ波によるプラズマの励起、
特に電子サイクロトロン共鳴におけるプラズマの励起に
関するものである。
ムの生成のように、種々の多くの応用例に適用でき、ガ
ス状の媒体からプラズマを生成する技術分野に関するも
ので、より詳しくはマイクロ波によるプラズマの励起、
特に電子サイクロトロン共鳴におけるプラズマの励起に
関するものである。
【０００２】
【従来の技術】フランス国特許出願８５−０８８３６
（２ ５８３ ２５０）は、電子サイクロトロン共鳴に
よりプラズマを励起する技術を記載している。そのよう
な共鳴は、下式により関係付けられた磁場Ｂと励起周波
数ｆに対して求められる。
（２ ５８３ ２５０）は、電子サイクロトロン共鳴に
よりプラズマを励起する技術を記載している。そのよう
な共鳴は、下式により関係付けられた磁場Ｂと励起周波
数ｆに対して求められる。
【０００３】Ｂ＝２πｍｆ／ｅ ここで、ｍとｅのそれぞれは電子の質量と電荷を示して
いる。例えば、２．４５ＧＨｚの励起周波数に対して、
共鳴を得るための磁場Ｂは０．０８７５テスラである。
いる。例えば、２．４５ＧＨｚの励起周波数に対して、
共鳴を得るための磁場Ｂは０．０８７５テスラである。
【０００４】このフランス特許出願に記述された技術
は、永久磁石を必要とし、その永久磁石の各１つは、そ
の極の近くに、電子サイクロトロン共鳴に対応した強度
を有し、一定の磁場を有する少なくとも１つの表面を形
成する。電磁エネルギーは、各１つがワイヤエレメント
のような金属で構成されたアンテナ或いはプラズマ励起
子を介して共鳴ゾーンのレベルまで到達する。各励起子
は、容器の壁に取付けられた永久磁石に垂直方向に置か
れている。
は、永久磁石を必要とし、その永久磁石の各１つは、そ
の極の近くに、電子サイクロトロン共鳴に対応した強度
を有し、一定の磁場を有する少なくとも１つの表面を形
成する。電磁エネルギーは、各１つがワイヤエレメント
のような金属で構成されたアンテナ或いはプラズマ励起
子を介して共鳴ゾーンのレベルまで到達する。各励起子
は、容器の壁に取付けられた永久磁石に垂直方向に置か
れている。
【０００５】共鳴を与える値に等しい強度の磁場と電磁
場は共に、１つの励起子と磁石に面して位置付けられた
容器の壁の部分との間に存在する空間に位置付けられ
て、閉じ込められる。圧力が減少されたガス状の媒体の
存在により、電子は共鳴ゾーンで加速され、プラズマを
閉じ込めるための表面を規定する磁場の磁力線方向に沿
って曲げられる。その磁力線はスカラップ形状であり、
１つの磁石の極と、その反対の極、或いは次の磁石の反
対の極とを接続する。その磁力線通路に沿って、電子が
分離し、それと衝突する分子や原子をイオン化する。そ
れから、スカラップ状の磁場に形成されたプラズマは、
活性化された電子から垂直方向に自由な冷たいプラズマ
を形成するために、その磁力線より拡散する。これらの
残りはスカラップの中にたまる。
場は共に、１つの励起子と磁石に面して位置付けられた
容器の壁の部分との間に存在する空間に位置付けられ
て、閉じ込められる。圧力が減少されたガス状の媒体の
存在により、電子は共鳴ゾーンで加速され、プラズマを
閉じ込めるための表面を規定する磁場の磁力線方向に沿
って曲げられる。その磁力線はスカラップ形状であり、
１つの磁石の極と、その反対の極、或いは次の磁石の反
対の極とを接続する。その磁力線通路に沿って、電子が
分離し、それと衝突する分子や原子をイオン化する。そ
れから、スカラップ状の磁場に形成されたプラズマは、
活性化された電子から垂直方向に自由な冷たいプラズマ
を形成するために、その磁力線より拡散する。これらの
残りはスカラップの中にたまる。
【０００６】容器内にガスがないと、マイクロ波エネル
ギーは損失なく励起子に沿って伝搬される。この励起子
は永久磁石の極の近くに位置付けられたワイヤ・アプリ
ケータによって構成されている。容器内にイオン化され
るガスが存在するときは、プラズマは電子サイクロトロ
ン共鳴で励起され、マイクロ波が伝播するときに損失が
発生し、そして適用されるマイクロ波パワーが、その励
起子に沿ってマイクロ波源から徐々に減少される。この
マイクロ波パワーと同時にプラズマ密度も減少すること
がわかる。
ギーは損失なく励起子に沿って伝搬される。この励起子
は永久磁石の極の近くに位置付けられたワイヤ・アプリ
ケータによって構成されている。容器内にイオン化され
るガスが存在するときは、プラズマは電子サイクロトロ
ン共鳴で励起され、マイクロ波が伝播するときに損失が
発生し、そして適用されるマイクロ波パワーが、その励
起子に沿ってマイクロ波源から徐々に減少される。この
マイクロ波パワーと同時にプラズマ密度も減少すること
がわかる。
【０００７】上述した技術の他の欠点は、マイクロ波エ
ネルギーはワイヤ励起子の端部の１つに適用されるだけ
であるという事実にある。その結果、マイクロ波エネル
ギーは、円形のアンテナのようなループ状のアンテナに
応用できない。
ネルギーはワイヤ励起子の端部の１つに適用されるだけ
であるという事実にある。その結果、マイクロ波エネル
ギーは、円形のアンテナのようなループ状のアンテナに
応用できない。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記従来例に
鑑みてなされたもので、最小の損失で、電子サイクロト
ロン共鳴ゾーンの全長に亙って、垂直方向に一定のプラ
ズマ密度を与えて最大のマイクロ波パワー得ることがで
きるように、確実にマイクロ波エネルギーの伝播や分配
を行うことができる装置を提供することを目的とする。
鑑みてなされたもので、最小の損失で、電子サイクロト
ロン共鳴ゾーンの全長に亙って、垂直方向に一定のプラ
ズマ密度を与えて最大のマイクロ波パワー得ることがで
きるように、確実にマイクロ波エネルギーの伝播や分配
を行うことができる装置を提供することを目的とする。
【０００９】本発明の他の目的は、マイクロ波エネルギ
ーをプラズマの励起条件、特に電子サイクロトロン共鳴
における励起条件が満足しない集中された領域における
マイクロ波エネルギーの伝播を確実にすることにある。
電子サイクロトロン共鳴の外側に置かれた内部磁石ゾー
ンにおけるマイクロ波エネルギーの伝播は、重大な損失
なく実行される。
ーをプラズマの励起条件、特に電子サイクロトロン共鳴
における励起条件が満足しない集中された領域における
マイクロ波エネルギーの伝播を確実にすることにある。
電子サイクロトロン共鳴の外側に置かれた内部磁石ゾー
ンにおけるマイクロ波エネルギーの伝播は、重大な損失
なく実行される。
【００１０】
【課題を解決するための手段】及び
【作用】上記目的を達成するために本発明の容器内でプ
ラズマを励起するためにマイクロ波エネルギーを分布さ
せるための装置は以下のような構成を備える。即ち、マ
イクロ波タイプのエネルギーに向けられた少なくとも１
つのアプリケータを一方に、他方に少なくとも１対の永
久磁石を設け、各磁石は、一定の磁場を有し、電子サイ
クロトロン共鳴に対応した強度を有する表面を形成し
て、これら反対に磁化された磁石は、容器の壁の部分と
内部の磁石ゾーンの境界を定めるプラズマ閉じ込め表面
を規定するように間を空けて置かれている。
ラズマを励起するためにマイクロ波エネルギーを分布さ
せるための装置は以下のような構成を備える。即ち、マ
イクロ波タイプのエネルギーに向けられた少なくとも１
つのアプリケータを一方に、他方に少なくとも１対の永
久磁石を設け、各磁石は、一定の磁場を有し、電子サイ
クロトロン共鳴に対応した強度を有する表面を形成し
て、これら反対に磁化された磁石は、容器の壁の部分と
内部の磁石ゾーンの境界を定めるプラズマ閉じ込め表面
を規定するように間を空けて置かれている。
【００１１】また本発明によれば、１つのアプリケータ
或いは複数のアプリケータは、それぞれが内部磁石ゾー
ン内に置かれ、閉じ込め表面と離れて、容器の壁に向っ
て伸びている。また、その表面の外側で、その壁とアプ
リケータとの間でマイクロ波エネルギーを確実に閉じ込
めて伝播するために、一定の磁場と電子サイクロトロン
共鳴に対応した強度を有する表面の外側に位置付けられ
ている。
或いは複数のアプリケータは、それぞれが内部磁石ゾー
ン内に置かれ、閉じ込め表面と離れて、容器の壁に向っ
て伸びている。また、その表面の外側で、その壁とアプ
リケータとの間でマイクロ波エネルギーを確実に閉じ込
めて伝播するために、一定の磁場と電子サイクロトロン
共鳴に対応した強度を有する表面の外側に位置付けられ
ている。
【００１２】
【実施例】以下、添付図面を参照して本発明の好適な実
施例を詳細に説明する。
施例を詳細に説明する。
【００１３】例示するための図１を参照すると、表面処
理やイオンビームの生成のような種々の応用例に使用さ
れる機器であって、ガス状の媒体よりプラズマを生成す
るための機器が示されている。この機器は、磁化されて
いない隙間のない容器１と、その容器１に取付けられた
ガス注入部２、イオン化されるべきガスの圧力を所望の
値の範囲、即ち１０-2〜数パスカルの間に保つガスポン
プ装置３を備える。この機器はまた、電子サイクロトロ
ン共鳴でプラズマを励起させるためにマイクロ波エネル
ギーを分布させるための本発明に係る装置を備えてい
る。これにより、この装置は少なくとも２つの磁石、例
えば中央のゾーン５にプラズマを閉じ込める１組の永久
磁石４によって構成された多極の磁石構造を有してい
る。プラズマはゾーン５を用いて、サンプルホルダＢの
上に置かれたサンプルＡの表面処理を実行し、ジェネレ
ータＣによりプラズマ・ポテンシャルに関連して極性が
与えられている。
理やイオンビームの生成のような種々の応用例に使用さ
れる機器であって、ガス状の媒体よりプラズマを生成す
るための機器が示されている。この機器は、磁化されて
いない隙間のない容器１と、その容器１に取付けられた
ガス注入部２、イオン化されるべきガスの圧力を所望の
値の範囲、即ち１０-2〜数パスカルの間に保つガスポン
プ装置３を備える。この機器はまた、電子サイクロトロ
ン共鳴でプラズマを励起させるためにマイクロ波エネル
ギーを分布させるための本発明に係る装置を備えてい
る。これにより、この装置は少なくとも２つの磁石、例
えば中央のゾーン５にプラズマを閉じ込める１組の永久
磁石４によって構成された多極の磁石構造を有してい
る。プラズマはゾーン５を用いて、サンプルホルダＢの
上に置かれたサンプルＡの表面処理を実行し、ジェネレ
ータＣによりプラズマ・ポテンシャルに関連して極性が
与えられている。
【００１４】ほぼ平行に伸びる永久磁石４は、プラズマ
に対して順次その極性を切換えて、スカラップ形状の磁
力線で磁気表面６を構成している。磁場のスカラップ形
状の磁力線は、１つの磁石の極をその反対の極、あるい
は次の磁石の反対の極に接続するように、磁石４が配置
されていることに注目されたい。このようにして、磁場
６のスカラップ・ラインの内側のゾーン５にプラズマが
閉じ込められる。このような多極磁石構造は、電子サイ
クロトロン共鳴を確実にするのに十分な強度の磁場が局
部的に得られるように形成されている。図２により詳し
く示したように、各磁石４は、一定の磁場で、電子サイ
クロトロン共鳴に対応した強度を有する表面７を作成す
ることができる。この表面７は、図２の点線で示された
ように磁石の極を取り囲んでいる。例えば、２．４５Ｇ
Ｈｚの励起周波数に対して、磁場は０．０８７５テスラ
で、５．８ＧＨｚの励起周波数に対しては、磁場の強度
は０．２０７テスラとなる。
に対して順次その極性を切換えて、スカラップ形状の磁
力線で磁気表面６を構成している。磁場のスカラップ形
状の磁力線は、１つの磁石の極をその反対の極、あるい
は次の磁石の反対の極に接続するように、磁石４が配置
されていることに注目されたい。このようにして、磁場
６のスカラップ・ラインの内側のゾーン５にプラズマが
閉じ込められる。このような多極磁石構造は、電子サイ
クロトロン共鳴を確実にするのに十分な強度の磁場が局
部的に得られるように形成されている。図２により詳し
く示したように、各磁石４は、一定の磁場で、電子サイ
クロトロン共鳴に対応した強度を有する表面７を作成す
ることができる。この表面７は、図２の点線で示された
ように磁石の極を取り囲んでいる。例えば、２．４５Ｇ
Ｈｚの励起周波数に対して、磁場は０．０８７５テスラ
で、５．８ＧＨｚの励起周波数に対しては、磁場の強度
は０．２０７テスラとなる。
【００１５】本発明に係る分布装置は更に、例示したよ
うに、少なくとも１つの組のアプリケータ８を備える。
これらアプリケータ８は、マイクロ波タイプのエネルギ
ーに適用され、与えられた局部領域に位置付けられてい
る。このようなアプリケータ８は、適当な手段によっ
て、インピーダンス・アダプタ１０を介してマイクロ波
エネルギー発生器９に接続されている。本発明によれ
ば、磁石４の各組に対して、関連するアプリケータ８が
ゾーン１１内に位置付けられている。このゾーン１１
は、２つの連続した磁石の間に形成され、対向する関係
にある容器１の壁の部分とプラズマ閉じ込め表面６によ
って規定されている。こうして磁石の間のゾーン１１
は、閉じ込め表面６と容器１の壁との間を、プラズマ閉
じ込めゾーン５の向こう側にまで伸びている。図面に示
したように、磁石４は容器１の壁の外側にあるのが望ま
しい。
うに、少なくとも１つの組のアプリケータ８を備える。
これらアプリケータ８は、マイクロ波タイプのエネルギ
ーに適用され、与えられた局部領域に位置付けられてい
る。このようなアプリケータ８は、適当な手段によっ
て、インピーダンス・アダプタ１０を介してマイクロ波
エネルギー発生器９に接続されている。本発明によれ
ば、磁石４の各組に対して、関連するアプリケータ８が
ゾーン１１内に位置付けられている。このゾーン１１
は、２つの連続した磁石の間に形成され、対向する関係
にある容器１の壁の部分とプラズマ閉じ込め表面６によ
って規定されている。こうして磁石の間のゾーン１１
は、閉じ込め表面６と容器１の壁との間を、プラズマ閉
じ込めゾーン５の向こう側にまで伸びている。図面に示
したように、磁石４は容器１の壁の外側にあるのが望ま
しい。
【００１６】本発明によれば、アプリケータ８は、閉じ
込め表面６と容器１の壁とから離れて置かれ、一定の磁
場を有し、サイクロトロン共鳴に対応した強度を有する
表面７の外側に置かれている。
込め表面６と容器１の壁とから離れて置かれ、一定の磁
場を有し、サイクロトロン共鳴に対応した強度を有する
表面７の外側に置かれている。
【００１７】そのようなアプリケータ８の配置により、
アプリケータ８と容器１の対応する壁との間で、最小の
損失でマイクロ波エネルギーの閉じ込め及び伝播が可能
になる。実際、閉じ込め表面６内に形成された密集した
プラズマは、伝導体として動作し、マイクロ波エネルギ
ーは内部のスカラップゾーン１１に閉じ込められたまま
となる。このプラズマは、一定の磁場を有し電子サイク
ロトロン共鳴に対応した強度を有する表面７より励起さ
れる。
アプリケータ８と容器１の対応する壁との間で、最小の
損失でマイクロ波エネルギーの閉じ込め及び伝播が可能
になる。実際、閉じ込め表面６内に形成された密集した
プラズマは、伝導体として動作し、マイクロ波エネルギ
ーは内部のスカラップゾーン１１に閉じ込められたまま
となる。このプラズマは、一定の磁場を有し電子サイク
ロトロン共鳴に対応した強度を有する表面７より励起さ
れる。
【００１８】磁場を強くして、一定の磁場を有し共鳴に
相当する強度を有する表面領域７を大きくすればするほ
ど、磁気閉じ込めとマイクロ波エネルギーの結合がより
良くなるという事実が考慮されるべきである。よって、
本発明の目的は、その強度が大きい磁場を作成する磁石
を用いて達成されるが、いずれの場合も、その強度は少
なくとも電子サイクロトロン共鳴に対応した強度に等し
いものである。
相当する強度を有する表面領域７を大きくすればするほ
ど、磁気閉じ込めとマイクロ波エネルギーの結合がより
良くなるという事実が考慮されるべきである。よって、
本発明の目的は、その強度が大きい磁場を作成する磁石
を用いて達成されるが、いずれの場合も、その強度は少
なくとも電子サイクロトロン共鳴に対応した強度に等し
いものである。
【００１９】アプリケータ８は、それに面している壁１
から所定の距離（約１ｃｍ）を置いて位置付けられ、電
子サイクロトロン共鳴で励起されたプラズマの通常の動
作圧力（ガスの特性により、１０-2〜数パスカルの間）
で、容器１の壁とアプリケータ８との間にプラズマのア
ークが形成されないようにしている。更に、アプリケー
タ８は、閉じ込み表面６を切断しないようにゾーン１１
内に置かれ、そこでプラズマが励起される。
から所定の距離（約１ｃｍ）を置いて位置付けられ、電
子サイクロトロン共鳴で励起されたプラズマの通常の動
作圧力（ガスの特性により、１０-2〜数パスカルの間）
で、容器１の壁とアプリケータ８との間にプラズマのア
ークが形成されないようにしている。更に、アプリケー
タ８は、閉じ込み表面６を切断しないようにゾーン１１
内に置かれ、そこでプラズマが励起される。
【００２０】本発明の対象である実施例によれば、ワイ
ヤアンテナあるいはアプリケータ１２は、一定の磁場を
有し、その強度が電子サイクロトロン共鳴の強度である
（図２）表面７の少なくとも近くに位置するように、磁
石４に関連してどのように配置されてもよい。好ましく
は、マイクロ波エネルギー源に接続されていないアンテ
ナ１２は、それぞれが磁石の中央の平面と表面７の間の
交点に置かれていればよい。アンテナ１２を使用するこ
とにより、アプリケータ８により伝播されたマイクロ波
エネルギーを、最終的に横方向に接続することができ
る。こうして、一方ではアプリケータ８により実行され
るマイクロ波エネルギーの伝播機能を分断し、他方では
アンテナ１２によって実行された電子サイクロトロン共
鳴でのプラズマ励起機能を分断することも可能である。
こうして、アンテナ１２に沿って一定のプラズマ密度が
得られることになる。
ヤアンテナあるいはアプリケータ１２は、一定の磁場を
有し、その強度が電子サイクロトロン共鳴の強度である
（図２）表面７の少なくとも近くに位置するように、磁
石４に関連してどのように配置されてもよい。好ましく
は、マイクロ波エネルギー源に接続されていないアンテ
ナ１２は、それぞれが磁石の中央の平面と表面７の間の
交点に置かれていればよい。アンテナ１２を使用するこ
とにより、アプリケータ８により伝播されたマイクロ波
エネルギーを、最終的に横方向に接続することができ
る。こうして、一方ではアプリケータ８により実行され
るマイクロ波エネルギーの伝播機能を分断し、他方では
アンテナ１２によって実行された電子サイクロトロン共
鳴でのプラズマ励起機能を分断することも可能である。
こうして、アンテナ１２に沿って一定のプラズマ密度が
得られることになる。
【００２１】図３〜５に、より正確に示したように、ア
プリケータ８は、少なくとも及び好ましくは、磁石４お
よび容器１の壁全体の長さに亙って平行に伸びている。
このアプリケータ８は、液体の流れによって冷却されて
いても良く、またプラズマに対して計画された応用に応
じて磁気及び／或いは誘電体によってコートされていて
もよい。種々の異なるアプリケータ８は、他のものより
分離されていてもよく、ワイヤ要素（図１及び図２）の
ように種々の形式を取り得る。例えば、図３〜５に示し
たように、容器１の壁と同心である管１３の一部を形成
しているバーの形状に、各アプリケータ８を作成するこ
とも可能である。この容器１は、磁石４を外側に設けた
シリンダ形状であり、これら磁石４は通常他の磁石との
間に空間を有して角のある形状となっている。管１３は
細長い開口部１４を有し、前述したように、それぞれが
内部の磁気ゾーン１１に伸びるように位置付けられたア
プリケータバー８を規定している。この管１３には、図
５に詳しく示すように、同軸構造１５を介して、マイク
ロ波エネルギーが供給されている。
プリケータ８は、少なくとも及び好ましくは、磁石４お
よび容器１の壁全体の長さに亙って平行に伸びている。
このアプリケータ８は、液体の流れによって冷却されて
いても良く、またプラズマに対して計画された応用に応
じて磁気及び／或いは誘電体によってコートされていて
もよい。種々の異なるアプリケータ８は、他のものより
分離されていてもよく、ワイヤ要素（図１及び図２）の
ように種々の形式を取り得る。例えば、図３〜５に示し
たように、容器１の壁と同心である管１３の一部を形成
しているバーの形状に、各アプリケータ８を作成するこ
とも可能である。この容器１は、磁石４を外側に設けた
シリンダ形状であり、これら磁石４は通常他の磁石との
間に空間を有して角のある形状となっている。管１３は
細長い開口部１４を有し、前述したように、それぞれが
内部の磁気ゾーン１１に伸びるように位置付けられたア
プリケータバー８を規定している。この管１３には、図
５に詳しく示すように、同軸構造１５を介して、マイク
ロ波エネルギーが供給されている。
【００２２】図６は本実施例にかかるマイクロ波エネル
ギーの分布装置の他の実施例を示し、それぞれが磁石４
に平行に伸びているループ形状のアプリケータ８を備
え、磁石４のそれぞれは、容器１の壁に放射状に適用さ
れたリング形状である。詳しく前述したように、これら
磁石は、閉じ込め領域に対向して、順次に異なる極性の
面を提供している。各ループを形成しているアプリケー
タ８は、上述規定された内部の磁石ゾーン１１の内側に
位置付けられる。各アプリケータ８には、例えば壁１に
設けられた開口部１７を通して適用される手段からマイ
クロ波エネルギーが供給される。
ギーの分布装置の他の実施例を示し、それぞれが磁石４
に平行に伸びているループ形状のアプリケータ８を備
え、磁石４のそれぞれは、容器１の壁に放射状に適用さ
れたリング形状である。詳しく前述したように、これら
磁石は、閉じ込め領域に対向して、順次に異なる極性の
面を提供している。各ループを形成しているアプリケー
タ８は、上述規定された内部の磁石ゾーン１１の内側に
位置付けられる。各アプリケータ８には、例えば壁１に
設けられた開口部１７を通して適用される手段からマイ
クロ波エネルギーが供給される。
【００２３】図７は本発明に係る分布装置の他の実施例
を示す図である。ここでは、磁石４とアプリケータ８は
軸方向に挿入されたコイルの形状に作成され、本発明の
目的に関連して規定された位置に保持されている。アプ
リケータ８と磁石４に関する上述した実施例は本発明を
限定するものでなく、あくまでも一例として例示したも
のである。
を示す図である。ここでは、磁石４とアプリケータ８は
軸方向に挿入されたコイルの形状に作成され、本発明の
目的に関連して規定された位置に保持されている。アプ
リケータ８と磁石４に関する上述した実施例は本発明を
限定するものでなく、あくまでも一例として例示したも
のである。
【００２４】本発明に関するマイクロ波エネルギーの分
布装置は、長い距離に亙るプラズマの励起を得ることが
できる。加えて、このような装置によれば、マイクロ波
とプラズマとの向上された結合を確実なものとし、マイ
クロ波エネルギーをアプリケータのどこからでも射出で
きる。更に、そのような装置は、例えばリングや球体或
いは撚線のような、閉じたあるいは開かれた磁石構造の
励起を可能にしている。
布装置は、長い距離に亙るプラズマの励起を得ることが
できる。加えて、このような装置によれば、マイクロ波
とプラズマとの向上された結合を確実なものとし、マイ
クロ波エネルギーをアプリケータのどこからでも射出で
きる。更に、そのような装置は、例えばリングや球体或
いは撚線のような、閉じたあるいは開かれた磁石構造の
励起を可能にしている。
【００２５】本発明はここに記述され、例示された例に
限定されるものでなく、本発明の趣旨を逸脱することな
く種々の変形例が実現可能である。
限定されるものでなく、本発明の趣旨を逸脱することな
く種々の変形例が実現可能である。
【００２６】以上説明したように本実施例によれば、最
小の損失で、電子サイクロトロン共鳴ゾーンの全長に亙
って、垂直方向に一定のプラズマ密度を与えて最大のマ
イクロ波パワー得ることができるように、確実にマイク
ロ波エネルギーの伝播や分布を行うことができる。
小の損失で、電子サイクロトロン共鳴ゾーンの全長に亙
って、垂直方向に一定のプラズマ密度を与えて最大のマ
イクロ波パワー得ることができるように、確実にマイク
ロ波エネルギーの伝播や分布を行うことができる。
【００２７】また、マイクロ波エネルギーをプラズマの
励起条件、特に電子サイクロトロン共鳴における励起条
件が満足しない集中された領域におけるマイクロ波エネ
ルギーの伝播を確実にすることができる。こうして、電
子サイクロトロン共鳴の外側に置かれた内部磁石ゾーン
におけるマイクロ波エネルギーの伝播は、重大な損失な
く実行される。
励起条件、特に電子サイクロトロン共鳴における励起条
件が満足しない集中された領域におけるマイクロ波エネ
ルギーの伝播を確実にすることができる。こうして、電
子サイクロトロン共鳴の外側に置かれた内部磁石ゾーン
におけるマイクロ波エネルギーの伝播は、重大な損失な
く実行される。
【００２８】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、最
小の損失で、電子サイクロトロン共鳴ゾーンの全長に亙
って、垂直方向に一定のプラズマ密度を与えて最大のマ
イクロ波パワー得ることができるように、確実にマイク
ロ波エネルギーの伝播や分布を行うことができる効果が
ある。
小の損失で、電子サイクロトロン共鳴ゾーンの全長に亙
って、垂直方向に一定のプラズマ密度を与えて最大のマ
イクロ波パワー得ることができるように、確実にマイク
ロ波エネルギーの伝播や分布を行うことができる効果が
ある。
【図１】本発明のマイクロ波エネルギーを分布させる装
置を用いたプラズマ生成機器を図式的に示した図であ
る。
置を用いたプラズマ生成機器を図式的に示した図であ
る。
【図２】本発明に係る基本的な分布装置部分を示す図で
ある。
ある。
【図３】本発明の装置の他の実施例の図式的断面図であ
る。
る。
【図４】図３に係る装置の実施例を例示する斜視図であ
る。
る。
【図５】図４の線ＶーＶに沿った断面形状を示す断面図
である。
である。
【図６】本発明の他の実施例の装置の外観図である。
【図７】本発明の他の実施例の装置の一部断面を含む外
観図である。
観図である。
１ 容器 ２ ガス射出装置 ３ ガスポンプ装置 ４ 磁石 ５ ゾーン ６ 閉じ込め表面 ７ 表面 ８ アプリケータ １１ スカラップゾーン １２ アンテナ
Claims (10)
- 【請求項１】 容器内でプラズマを励起するためにマイ
クロ波エネルギーを分布させるための装置であって、マ
イクロ波タイプのエネルギーを適用させるための少なく
とも１つのアプリケータ（８）を一方に、他方に少なく
とも１対の永久磁石（４）であって、それぞれが一定の
磁場を有し、電子サイクロトロン共鳴に対応した強度を
有する表面（７）を形成し、これら磁石は反対方向に磁
化され、容器の壁の部分で内部磁石ゾーン（１１）の境
界を定めるプラズマ閉じ込め表面（６）を規定するよう
に、間を開けて置かれている磁石とを備える装置であっ
て、 少なくとも１つのアプリケータ（８）は、それぞ
れ内部磁石ゾーン（１１）の内側に置かれ、閉じ込め表
面（６）及び容器の壁より離されて伸びており、前記表
面（７）の外側で、前記壁とアプリケータとの間でマイ
クロ波エネルギーの閉じ込め及び伝播を確実にするため
に、一定の磁場を有し、電子サイクロトロン共鳴に対応
する強度を有する表面（７）の外側に位置付けられてい
ることを特徴とする装置。 - 【請求項２】 前記少なくとも１つのアプリケータ
（８）は、少なくとも前記磁石の長さ及び前記容器の壁
の長さ部分に亙って平行に伸びていることを特徴とする
請求項１に記載の装置。 - 【請求項３】 前記アプリケータ（８）のそれぞれは、
アプリケータと壁との間でプラズマのアークを発生を避
けるように、前記壁より所定の距離離れて伸びているこ
とを特徴とする請求項１あるいは２に記載の装置。 - 【請求項４】 前記アプリケータ（８）のそれぞれは、
容器と同心の管１３の一部を形成するバーで構成され、
それら各バーは内部の磁石ゾーン（１１）内で閉じ込み
領域に向かって連続する異なる極性の面を呈している磁
石にほぼ平行な方向に、閉じ込み領域に向かって伸びて
いることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に
記載の装置。 - 【請求項５】 前記アプリケータ（８）は内部磁石ゾー
ン（１１）内で、それぞれがリングを構成している磁石
に平行に伸びてループを形成していることを特徴とする
請求項１乃至３のいずれか１項に記載の装置。 - 【請求項６】 前記アプリケータ（８）のそれぞれはコ
イル形状であって、２つの同心のコイル形状の磁石によ
って規定された内部磁石ゾーン（１１）内で伸びている
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載
の装置。 - 【請求項７】 前記アプリケータ（８）は前記アプリケ
ータのどこからでもマイクロ波源に接続できることを特
徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の装置。 - 【請求項８】 前記アプリケータ（８）のそれぞれは、
容器（１）の外側に位置付けられた２つの磁石（４）で
規定された内部の磁石ゾーン（１１）の内側に置かれて
いることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に
記載の装置。 - 【請求項９】 前記装置は、一定の磁場を有し、かつ電
子サイクロトロン共鳴に対応する強度を有する前記表面
（７）にそれぞれが近接して位置付けられた複数のアン
テナ（１２）を有することを特徴とする請求項１乃至８
のいずれか１項に記載の装置。 - 【請求項１０】 容器内を所定の圧力に保持するために
ガスポンプ装置（３）とガス状の媒体の供給装置（２）
に接続された密封された容器（１）を有するプラズマ生
成装置であって、 前記装置は請求項１乃至９のいずれか１項に関連したマ
イクロ波エネルギーを分布させる装置を備えることを特
徴とするプラズマ生成装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR9100894A FR2671931A1 (fr) | 1991-01-22 | 1991-01-22 | Dispositif de repartition d'une energie micro-onde pour l'excitation d'un plasma. |
| FR9100894 | 1991-01-22 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05190294A true JPH05190294A (ja) | 1993-07-30 |
Family
ID=9409082
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4009196A Withdrawn JPH05190294A (ja) | 1991-01-22 | 1992-01-22 | プラズマを励起するためにマイクロ波エネルギーを分布させるための装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5216329A (ja) |
| EP (1) | EP0496681A1 (ja) |
| JP (1) | JPH05190294A (ja) |
| FR (1) | FR2671931A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100725105B1 (ko) * | 2006-07-12 | 2007-06-04 | 삼성전자주식회사 | 반도체 제조설비의 애플리케이터 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| IT1262897B (it) * | 1992-03-11 | 1996-07-22 | Proel Tecnologie Spa | Generatore di plasma perfezionato e relativo metodo di ionizzazione |
| US5231334A (en) * | 1992-04-15 | 1993-07-27 | Texas Instruments Incorporated | Plasma source and method of manufacturing |
| FR2702119B1 (fr) * | 1993-02-25 | 1995-07-13 | Metal Process | Dispositif d'excitation d'un plasma à la résonance cyclotronique électronique par l'intermédiaire d'un applicateur filaire d'un champ micro-onde et d'un champ magnétique statique. |
| US5466295A (en) * | 1993-10-25 | 1995-11-14 | Board Of Regents Acting For The Univ. Of Michigan | ECR plasma generation apparatus and methods |
| US5518547A (en) * | 1993-12-23 | 1996-05-21 | International Business Machines Corporation | Method and apparatus for reducing particulates in a plasma tool through steady state flows |
| FR2715019B1 (fr) * | 1994-01-13 | 1996-04-05 | Plasmion | Dispositif pour former un plasma par application de micro-ondes afin de produire un faisceau d'ions. |
| FR2726729B1 (fr) * | 1994-11-04 | 1997-01-31 | Metal Process | Dispositif de production d'un plasma permettant une dissociation entre les zones de propagation et d'absorption des micro-ondes |
| US5800619A (en) * | 1996-06-10 | 1998-09-01 | Lam Research Corporation | Vacuum plasma processor having coil with minimum magnetic field in its center |
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| DK2251453T3 (da) | 2009-05-13 | 2014-07-07 | Sio2 Medical Products Inc | Beholderholder |
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-
1991
- 1991-01-22 FR FR9100894A patent/FR2671931A1/fr active Granted
-
1992
- 1992-01-20 EP EP92420021A patent/EP0496681A1/fr not_active Withdrawn
- 1992-01-22 US US07/824,210 patent/US5216329A/en not_active Expired - Fee Related
- 1992-01-22 JP JP4009196A patent/JPH05190294A/ja not_active Withdrawn
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100725105B1 (ko) * | 2006-07-12 | 2007-06-04 | 삼성전자주식회사 | 반도체 제조설비의 애플리케이터 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| FR2671931B1 (ja) | 1997-02-21 |
| US5216329A (en) | 1993-06-01 |
| EP0496681A1 (fr) | 1992-07-29 |
| FR2671931A1 (fr) | 1992-07-24 |
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|---|---|---|---|
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