JPH05183032A - Aging method of semiconductor integrated circuit device - Google Patents

Aging method of semiconductor integrated circuit device

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JPH05183032A
JPH05183032A JP3359526A JP35952691A JPH05183032A JP H05183032 A JPH05183032 A JP H05183032A JP 3359526 A JP3359526 A JP 3359526A JP 35952691 A JP35952691 A JP 35952691A JP H05183032 A JPH05183032 A JP H05183032A
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Japan
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semiconductor integrated
aging
integrated circuit
circuit
integrated circuits
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Application number
JP3359526A
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Japanese (ja)
Inventor
Yozo Saiki
陽造 斉木
Hiromi Amatatsu
浩美 天辰
Yuichi Numata
祐一 沼田
Akio Hayasaka
昭夫 早坂
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To obtain an effective aging method by comprising an aging signal generating circuit within a semiconductor integrated circuit, forming a wiring for supply electrical power to the semiconductor integrated circuit on a wafer, supplying electrical power simultaneously to a plurality of semiconductor integrated circuits and also operating the aging signal generating circuit. CONSTITUTION:An aging signal generating circuit is comprised within a semiconductor integrated circuit formed on a semiconductor wafer and wirings are also formed to connect power supply terminals VCC and VSS of a plurality of semiconductor integrated circuits formed on such semiconductor wafer. Moreover, the electrical power is supplied to a plurality of semiconductor integrated circuit through such wirings and the aging signal generating circuit is also operated to simultaneously conduct the aging of a plurality of semiconductor integrated circuits on the semiconductor wafer. Thereby, the aging can immediately be done to the integrated circuits formed on the wafer without preparing for an aging board or the like and detection of initial fault can be realized in the initial stage.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、半導体集積回路装置
のエージング方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for aging a semiconductor integrated circuit device.

【0002】[0002]

【従来の技術】エージングは半導体集積回路における素
子の初期不良を洗い出す加速試験である。従来のエージ
ング方法は、エージング用のボードに半導体集積回路装
置を搭載して行うのが一般的である。
2. Description of the Related Art Aging is an accelerated test for identifying an initial failure of a device in a semiconductor integrated circuit. The conventional aging method is generally performed by mounting a semiconductor integrated circuit device on an aging board.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】従来のエージング方法
は、エージングボード上のICソケットに半導体集積回
路装置を挿入し、エージングが終了すると半導体集積回
路装置をICソケットから取り出して、次にエージング
を行うべき半導体集積回路装置を挿入するという煩わし
い作業を伴うものである。そこで、本願発明者は、エー
ジング工程の効率化を図るために半導体ウェハ上に完成
された複数の半導体集積回路、又はフィルムテープ(T
AB;ape utomated onding) 基板上のリードフ
レームに搭載された複数の半導体集積回路(半導体チッ
プ)を同時にエージングを行うことを考えた。この発明
の目的は、効率的な半導体集積回路装置のエージング方
法を提供することにある。この発明の前記ならびにその
ほかの目的と新規な特徴は、本明細書の記述および添付
図面から明らかになるであろう。
In the conventional aging method, the semiconductor integrated circuit device is inserted into the IC socket on the aging board, and when the aging is completed, the semiconductor integrated circuit device is taken out from the IC socket and then the aging is performed. This involves a troublesome work of inserting a semiconductor integrated circuit device to be used. Therefore, the inventor of the present application has proposed that a plurality of semiconductor integrated circuits completed on a semiconductor wafer or a film tape (T
AB; T ape A utomated B onding ) thought to be aged at the same time a plurality of semiconductor integrated circuit mounted on a lead frame substrate (semiconductor chip). An object of the present invention is to provide an efficient method for aging a semiconductor integrated circuit device. The above and other objects and novel features of the present invention will be apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、下
記の通りである。すなわち、半導体集積回路にエージン
グ信号発生回路を内蔵させるとともに、半導体ウェハ上
の半導体集積回路又はTAB基板上に搭載された半導体
集積回路に給電を行う配線を形成し、上記半導体ウェハ
上又はTAB基板上で複数の半導体集積回路に同時に給
電を行うとともにエージング信号発生回路を動作させ
る。
The outline of the representative one of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows. That is, the semiconductor integrated circuit has a built-in aging signal generating circuit, and wiring for supplying power to the semiconductor integrated circuit on the semiconductor wafer or the semiconductor integrated circuit mounted on the TAB substrate is formed, and on the semiconductor wafer or the TAB substrate. Simultaneously supplies power to a plurality of semiconductor integrated circuits and operates the aging signal generation circuit.

【0005】[0005]

【作用】上記した手段によれば、エージングボード等を
用意することなく、半導体ウェハ上に完成された半導体
集積回路に対して直ちにエージングを行わせることがで
き初期不良の洗い出しが初期の段階で行うことができ、
あるいはTAB基板上に搭載された複数の半導体集積回
路を同時にエージングを行うことができる。
According to the above means, the semiconductor integrated circuit completed on the semiconductor wafer can be immediately subjected to aging without preparing an aging board or the like, and the initial defects can be washed out at the initial stage. It is possible,
Alternatively, a plurality of semiconductor integrated circuits mounted on the TAB substrate can be simultaneously aged.

【0006】[0006]

【実施例】図1には、この発明に係る半導体集積回路装
置のエージング方法の一実施例を説明するための半導体
ウェハの平面図とその一部拡大図が示されている。ウェ
ハ上には、碁盤目状に半導体集積回路が形成される。各
半導体集積回路の境界部分はスクライブラインと呼ば
れ、ここはプロービング工程の後に切断されて、各半導
体集積回路が分離される。この実施例では、このスクラ
イブライン上を利用して、特に制限されないが、縦横に
3本ずつの配線が形成される。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 shows a plan view and a partially enlarged view of a semiconductor wafer for explaining an embodiment of an aging method for a semiconductor integrated circuit device according to the present invention. Semiconductor integrated circuits are formed in a grid pattern on the wafer. The boundary portion of each semiconductor integrated circuit is called a scribe line, which is cut after the probing process to separate each semiconductor integrated circuit. In this embodiment, by utilizing this scribe line, although not particularly limited, three lines are formed vertically and horizontally.

【0007】すなわち、同図の拡大図に示すように、半
導体集積回路の一対の電源端子VCCとVSSにはそれ
ぞれ1つの配線に接続される。端子VCCには、例えば
5Vのような電源電圧が供給され、VSSには回路の接
地電位が供給される。また、半導体集積回路はエージン
グ端子AGNを持ち、そのレベルを所定のレベルに設定
することにより、後述するようなエージング信号発生回
路によるエージング動作が実行される。
That is, as shown in the enlarged view of the figure, a pair of power supply terminals VCC and VSS of the semiconductor integrated circuit are respectively connected to one wiring. A power supply voltage such as 5 V is supplied to the terminal VCC, and the ground potential of the circuit is supplied to VSS. Further, the semiconductor integrated circuit has an aging terminal AGN, and by setting the level thereof to a predetermined level, an aging operation by the aging signal generating circuit as described later is executed.

【0008】なお、半導体ウェハ上のスクライブライン
に形成される配線は、ウェハ上に形成される全ての半導
体集積回路に同時に電源供給と、エージング制御信号が
供給されるようにするため、上記のように縦横に3本ず
つの配線を形成することが電源インピーダンスを小さく
抑える上では望ましい。しかし、配線のクロス部分で多
層構造にする必要があり製造が面倒になる。そこで、各
半導体集積回路を結ぶよう一筆書きのように3本の配線
を配置することが便利である。例えば、図1において、
右下から左方向に延び、左端で1チップ分上に延びてそ
こから逆に右方向に延びるようにして2行分のチップを
パラレルに接続することができる。そして、右端では1
チップ分上に延び、そこから上記同様に左方向に延びる
ようにする。以下、同様な配線の繰り返しによりウェハ
上の全チップをパラレルに接続することができる。
The wirings formed on the scribe lines on the semiconductor wafer are set as described above in order to supply power and aging control signals to all the semiconductor integrated circuits formed on the wafer at the same time. In order to suppress the power source impedance to be small, it is desirable to form three wirings vertically and horizontally. However, it is necessary to form a multilayer structure at the cross portion of the wiring, which makes manufacturing difficult. Therefore, it is convenient to arrange the three wirings so as to connect the respective semiconductor integrated circuits like a single stroke. For example, in FIG.
Two rows of chips can be connected in parallel by extending from the lower right to the left, extending one chip upward at the left end, and vice versa. And 1 at the right end
The tip is extended upward, and the tip is extended leftward from the tip. After that, all the chips on the wafer can be connected in parallel by repeating similar wiring.

【0009】特に制限されないが、ウェハ上での給電を
容易にするため、上記配線の端の半導体集積回路が形成
されない余分のエリアに比較的大きな電極を形成してお
いて、クリップ状の電極によって簡単に給電や制御信号
の入力が行われるようにするものであってもよい。
Although not particularly limited, in order to facilitate power supply on the wafer, a relatively large electrode is formed in an extra area where the semiconductor integrated circuit is not formed at the end of the wiring, and a clip-shaped electrode is used. It may be one that enables easy power supply and control signal input.

【0010】図2には、上記半導体集積回路の一実施例
のブロック図が示されている。この実施例では、TFT
(薄膜トランジスタ)液晶表示パネルの駆動回路を構成
する半導体集積回路に向けられている。例えば(株)日
立製作所から販売されている「HD66107T」のよ
うな160チャンネルの駆動信号を形成する半導体集積
回路に、次のようなエージング信号発生回路が内蔵され
る。
FIG. 2 shows a block diagram of an embodiment of the semiconductor integrated circuit. In this embodiment, the TFT
(Thin Film Transistor) This is directed to a semiconductor integrated circuit which constitutes a drive circuit of a liquid crystal display panel. For example, a semiconductor integrated circuit such as "HD66107T" sold by Hitachi, Ltd., which forms a drive signal of 160 channels, includes the following aging signal generation circuit.

【0011】発振回路OSCは、プルアップ用のMOS
FETQにより、電源電圧が供給されている状態では定
常的にハイレベルの制御信号が入力される。制御信号が
ハイレベルのときには発振動作を停止しており、その制
御信号によりマルチプレクサMPX2は外部端子から入
力されるクロックCKをクロック発生回路CPGに伝
え,マルチプレクサMPX1は外部端子から入力される
アドレス信号やデータ信号ADD/DATをTFTLC
Dドライバに伝える。すなわち、この状態では、エージ
ング信号発生回路が非動作状態となり、TFTLCDド
ライバは外部端子から入力される入力信号に従って通常
の動作を行う。
The oscillator circuit OSC is a pull-up MOS.
A high-level control signal is constantly input by the FET Q while the power supply voltage is being supplied. When the control signal is at the high level, the oscillation operation is stopped, the multiplexer MPX2 transmits the clock CK input from the external terminal to the clock generation circuit CPG by the control signal, and the multiplexer MPX1 outputs the address signal input from the external terminal. Data signal ADD / DAT is transferred to TFTLC
Tell the D driver. That is, in this state, the aging signal generation circuit is in a non-operating state, and the TFT LCD driver performs a normal operation according to the input signal input from the external terminal.

【0012】制御端子ANGからロウレベルの制御信号
を入力すると、発振回路OSCが発振動作を行うととも
に、マルチプレクサMPX2は発振出力を受ける分周回
路の出力信号をクロックパルス発生回路CPGに供給す
る。これにより、TFTLCDドライバの動作に必要な
内部クロックパルスは、発振回路OSCの発振出力を分
周したものにより形成されることになる。また、制御端
子ANGからのロウレベルの制御信号の入力に応じて、
マルチプレクサMPX1は上記クロック発生回路CPG
の出力信号を受けるカウンタ回路CNTの出力信号を上
記外部端子ADD/DATからの正規の信号に代えてエ
ージング用の入力信号としてTFTLCDドライバに入
力する。すなわち、この実施例の半導体集積回路は、給
電を行うとともに制御信号ANGをロウレベルにする
と、TFTLCDドライバの各回路が動作してエージン
グを実施できる。
When a low-level control signal is input from the control terminal ANG, the oscillation circuit OSC performs an oscillation operation, and the multiplexer MPX2 supplies the output signal of the frequency divider circuit that receives the oscillation output to the clock pulse generation circuit CPG. As a result, the internal clock pulse required for the operation of the TFTLCD driver is formed by dividing the oscillation output of the oscillation circuit OSC. In addition, in response to the input of a low level control signal from the control terminal ANG,
The multiplexer MPX1 is the clock generation circuit CPG.
The output signal of the counter circuit CNT which receives the output signal of the above is replaced with the regular signal from the external terminal ADD / DAT and is input to the TFT LCD driver as the input signal for aging. That is, in the semiconductor integrated circuit of this embodiment, when power is supplied and the control signal ANG is set to the low level, each circuit of the TFT LCD driver operates to perform aging.

【0013】図1のように、ウェハ上に碁盤目状に完成
された半導体集積回路に対しては、特に制限されない
が、高温度中においてエージング用のVCCとVSSに
給電を行うとともに、AGNに接地電位のようなロウレ
ベルを供給すると、全ての半導体集積回路が内蔵のエー
ジング信号発生回路の動作に従って動作を行う。この後
に、プロービングにより直流/交流試験を行ってエージ
ングによる初期不良となったものを含む不良チップの洗
い出しを行う。上記プロービングにおいて電源供給線が
全チップにおいて並列接続されていることが問題なら、
プロービングの前に上記配線をレーザー光線等によりス
クライブライン上の配線を問題にならないように分断さ
せればよい。なお、最終的にはスクライブラインの切断
により上記配線は個々の半導体集積回路毎に分割される
ものである。
As shown in FIG. 1, for a semiconductor integrated circuit completed in a grid pattern on a wafer, although not particularly limited, power is supplied to VCC and VSS for aging at a high temperature, and AGN is supplied. When a low level such as the ground potential is supplied, all semiconductor integrated circuits operate according to the operation of the built-in aging signal generation circuit. After this, a DC / AC test is performed by probing to wash out defective chips including those that have become initial defects due to aging. If the problem is that the power supply lines are connected in parallel on all chips in the above probing,
Prior to probing, the above wiring may be divided by a laser beam or the like so that the wiring on the scribe line does not pose a problem. Finally, the wiring is divided into individual semiconductor integrated circuits by cutting the scribe line.

【0014】図3には、この発明に係る半導体集積回路
装置のエージング方法の他の一実施例を説明するための
TAB基板の平面図が示されている。ポリミド樹脂から
なるフィルムテープ上に銅箔を張り付けられ、ホトエッ
チング技術によりリード状のパターンにリードフレーム
が形成される。このリード端部には錫メッキが施されて
いる。一方、半導体チップの接続電極上にバンプを付け
たものが用意されており、チップ上にフィルム状のリー
ドフレームを位置合わせしておいて、すべてのリード内
側端部とチップのバンプとを一括して熱圧着されてTA
B基板上に複数の半導体集積回路が形成される。
FIG. 3 is a plan view of a TAB substrate for explaining another embodiment of the aging method of the semiconductor integrated circuit device according to the present invention. A copper foil is attached to a film tape made of a polyimide resin, and a lead frame is formed in a lead-like pattern by a photoetching technique. The ends of the leads are tin-plated. On the other hand, bumps are provided on the connection electrodes of the semiconductor chip, and the film-shaped lead frame is aligned on the chip, and all the lead inner ends and the chip bumps are put together. Thermocompression bonded TA
A plurality of semiconductor integrated circuits are formed on the B substrate.

【0015】上記TAB基板には、上記のようなリード
パターンの他に給電用の2本の配線VCC,VSSと制
御用の1本の配線AGNが形成される。この配線は、各
半導体集積回路の対応する接続電極に対応したリードに
接続される。
On the TAB substrate, in addition to the lead pattern as described above, two wirings VCC and VSS for power supply and one wiring AGN for control are formed. This wiring is connected to the lead corresponding to the corresponding connection electrode of each semiconductor integrated circuit.

【0016】図3のように、TAB基板上に搭載(ボン
ディング)された半導体集積回路に対しては、特に制限
されないが、高温度中においてエージング用のVCCと
VSSに給電を行うとともに、AGNに接地電位のよう
なロウレベルを供給すると、前記同様に全ての半導体集
積回路が内蔵のエージング信号発生回路の動作に従って
動作を行う。この後に、特に制限されないが、セラミッ
ク基板上のリードパターンに合わせ、フィルムテープの
内側リードを接着完了したチップをマウントし、セラミ
ック基板上のリードパターンとフィルムテープの外側リ
ード端部とを一括して熱圧着することにより、すべての
ボンディングが完了する。
As shown in FIG. 3, the semiconductor integrated circuit mounted (bonded) on the TAB substrate is not particularly limited, but power is supplied to VCC and VSS for aging at a high temperature, and to AGN. When a low level such as the ground potential is supplied, all semiconductor integrated circuits operate in accordance with the operation of the built-in aging signal generating circuit, as described above. After this, although not particularly limited, the chip with the inner leads of the film tape bonded is mounted according to the lead pattern on the ceramic substrate, and the lead pattern on the ceramic substrate and the outer lead ends of the film tape are collectively packaged. All the bonding is completed by thermocompression bonding.

【0017】上記の実施例から得られる作用効果は、下
記の通りである。すなわち、 (1) 半導体集積回路にエージング信号発生回路を内
蔵させるとともに、半導体ウェハ上の半導体集積回路又
はTAB基板上に搭載された半導体集積回路に給電を行
う配線を形成し、上記半導体ウェハ上又はTAB基板上
で複数の半導体集積回路に同時に給電を行うとともにエ
ージング信号発生回路を動作させる。これにより、エー
ジングボード等を用意したり、ICソケットに逐一半導
体集積回路装置を挿入したり取り外したりすることもな
く、半導体ウェハ上に完成された半導体集積回路に対し
て直ちにエージングを行わせることができ初期不良の洗
い出しが初期の段階で行うことができ、あるいはTAB
基板上に搭載された複数の半導体集積回路を同時にエー
ジングを行うことができるという効果が得られる。 (2) 上記(1)により、プロービングの前にエージ
ングを行うことができるから初期不良の洗い出しがプロ
ービング工程で行うことができ、それ以後の組み立て工
程の合理化が可能になるという効果が得られる。
The operational effects obtained from the above embodiment are as follows. That is, (1) a wiring for supplying power to the semiconductor integrated circuit on the semiconductor wafer or the semiconductor integrated circuit mounted on the TAB substrate is formed while the aging signal generating circuit is built in the semiconductor integrated circuit, and A plurality of semiconductor integrated circuits are simultaneously supplied with power on the TAB substrate and the aging signal generating circuit is operated. This makes it possible to immediately perform aging on a semiconductor integrated circuit completed on a semiconductor wafer without preparing an aging board or inserting or removing the semiconductor integrated circuit device into or from the IC socket one by one. Yes, initial defects can be washed out at an early stage, or TAB
The effect that the plurality of semiconductor integrated circuits mounted on the substrate can be simultaneously aged is obtained. (2) According to the above (1), since aging can be performed before probing, initial defects can be washed out in the probing process, and the subsequent assembling process can be rationalized.

【0018】以上本発明者よりなされた発明を実施例に
基づき具体的に説明したが、本願発明は前記実施例に限
定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種
々変更可能であることはいうまでもない。例えば、半導
体ウェハ上に形成される半導体集積回路に同時に給電を
行う配線は、スクライブラインの外側、言い換えるなら
ば、半導体チップ側に一部が残るように形成されるもの
であってもよい。エージング信号発生回路は、発振回路
やカウンタ回路を用いるもの他、入力パターンをROM
等に記憶させておいてそれを繰り返し読み出すようにす
るもの等種々の実施形態を採ることができる。この発明
は、半導体集積回路のエージング方法として広く利用で
きる。
Although the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiments, the invention of the present application is not limited to the embodiments and various modifications can be made without departing from the scope of the invention. Needless to say. For example, the wiring for supplying power to the semiconductor integrated circuit formed on the semiconductor wafer at the same time may be formed so that a part thereof remains outside the scribe line, in other words, on the semiconductor chip side. The aging signal generation circuit uses an oscillation circuit and a counter circuit, and the input pattern is a ROM.
It is possible to adopt various embodiments such as storing in a memory or the like and repeatedly reading it. The present invention can be widely used as an aging method for semiconductor integrated circuits.

【0019】[0019]

【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記の通りである。すなわち、半導体集積回路にエージン
グ信号発生回路を内蔵させるとともに、半導体ウェハ上
の半導体集積回路又はTAB基板上に搭載された半導体
集積回路に給電を行う配線を形成し、上記半導体ウェハ
上又はTAB基板上で複数の半導体集積回路に同時に給
電を行うとともにエージング信号発生回路を動作させ
る。これにより、エージングボード等を用意したり、I
Cソケットに逐一半導体集積回路装置を挿入したり取り
外したりすることもなく、半導体ウェハ上に完成された
半導体集積回路に対して直ちにエージングを行わせるこ
とができ初期不良の洗い出しが初期の段階で行うことが
でき、あるいはTAB基板上に搭載された複数の半導体
集積回路を同時にエージングを行うことができる。
The effects obtained by the typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows. That is, the semiconductor integrated circuit has a built-in aging signal generating circuit, and wiring for supplying power to the semiconductor integrated circuit on the semiconductor wafer or the semiconductor integrated circuit mounted on the TAB substrate is formed, and on the semiconductor wafer or the TAB substrate. Simultaneously supplies power to a plurality of semiconductor integrated circuits and operates the aging signal generation circuit. This will prepare an aging board, etc.
The semiconductor integrated circuit completed on the semiconductor wafer can be immediately subjected to aging without inserting or removing the semiconductor integrated circuit device into or from the C socket one by one, and the initial defects can be washed out in the initial stage. Alternatively, a plurality of semiconductor integrated circuits mounted on the TAB substrate can be simultaneously aged.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明に係る半導体集積回路装置のエージン
グ方法の一実施例を説明するための半導体ウェハの平面
図とその一部拡大図である。
FIG. 1 is a plan view of a semiconductor wafer and a partially enlarged view thereof for explaining an embodiment of an aging method for a semiconductor integrated circuit device according to the present invention.

【図2】エージングが行われる半導体集積回路の一実施
例を示すブロック図である。
FIG. 2 is a block diagram showing an embodiment of a semiconductor integrated circuit in which aging is performed.

【図3】この発明に係る半導体集積回路装置のエージン
グ方法の他の一実施例を説明するためのTAB基板の平
面図である。
FIG. 3 is a plan view of a TAB substrate for explaining another embodiment of the aging method of the semiconductor integrated circuit device according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

MPX1,MPX2…マルチプレクサ、CNT…カウン
タ回路、CPG…クロックパルス発生回路、OSC…発
振回路。
MPX1, MPX2 ... Multiplexer, CNT ... Counter circuit, CPG ... Clock pulse generation circuit, OSC ... Oscillation circuit.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 早坂 昭夫 千葉県茂原市早野3300番地 株式会社日立 製作所茂原工場内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (72) Inventor Akio Hayasaka 3300 Hayano, Mobara-shi, Chiba Hitachi Ltd. Mobara factory

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体ウェハ上に形成される半導体集積
回路にエージング信号発生回路を内蔵させておいて、上
記半導体ウェハ上に形成される複数の半導体集積回路の
電源供給端子を接続する配線を形成し、この配線を通し
て複数の半導体集積回路に給電を行うとともにエージン
グ信号発生回路を動作させて半導体ウェハ上において複
数からなる半導体集積回路のエージングを同時に行うこ
とを特徴とする半導体集積回路装置のエージング方法。
1. A semiconductor integrated circuit formed on a semiconductor wafer has an aging signal generating circuit built therein, and a wiring for connecting power supply terminals of a plurality of semiconductor integrated circuits formed on the semiconductor wafer is formed. Then, power is supplied to the plurality of semiconductor integrated circuits through this wiring and the aging signal generating circuit is operated to simultaneously perform aging of the plurality of semiconductor integrated circuits on the semiconductor wafer. ..
【請求項2】 上記配線は、スクライブライン上に形成
されるものであることを特徴とする請求項1の半導体集
積回路装置のエージング方法。
2. The method for aging a semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein the wiring is formed on a scribe line.
【請求項3】 薄いフィルムテープ上に形成されたリー
ドフレームに搭載された複数の半導体集積回路にエージ
ング信号発生回路を内蔵させておいて、上記フィルムテ
ープ上に複数の半導体集積回路の電源供給端子を接続す
る配線を形成し、この配線を通して複数の半導体集積回
路に給電を行うとともにエージング信号発生回路を動作
させてフィルムテープ上において複数からなる半導体集
積回路のエージングを同時に行うことを特徴とする半導
体集積回路装置のエージング方法。
3. An aging signal generating circuit is built in a plurality of semiconductor integrated circuits mounted on a lead frame formed on a thin film tape, and power supply terminals of the plurality of semiconductor integrated circuits are provided on the film tape. Forming a wiring for connecting the plurality of semiconductor integrated circuits through the wiring and operating an aging signal generation circuit to simultaneously perform aging of the plurality of semiconductor integrated circuits on the film tape. Method of aging integrated circuit device.
【請求項4】 上記エージング信号発生回路は、発振回
路と、この発振回路の発振信号に基づいて形成されたパ
ルスを計数するカウンタ回路と、半導体集積回路に対し
てその入力端子から供給される信号に代えて上記パルス
又はカウンタ回路の出力信号を伝えるマルチプレクサと
を含むものであることを特徴とする請求項1又は請求項
2の半導体集積回路装置のエージング方法。
4. The aging signal generation circuit includes an oscillation circuit, a counter circuit that counts pulses formed based on the oscillation signal of the oscillation circuit, and a signal supplied to the semiconductor integrated circuit from its input terminal. 3. A aging method for a semiconductor integrated circuit device according to claim 1, further comprising a multiplexer for transmitting the pulse or the output signal of the counter circuit.
【請求項5】 上記発振回路の動作及びマルチプレクサ
の切り替えは、外部から所定の制御信号を供給すること
より行われるものであり、この制御信号を供給する配線
も給電用配線と同様に複数の半導体集積回路装置を結ぶ
よう形成されるものであることを特徴とする請求項1又
は請求項3の半導体集積回路装置のエージング方法。
5. The operation of the oscillating circuit and the switching of the multiplexer are performed by supplying a predetermined control signal from the outside, and the wiring for supplying the control signal includes a plurality of semiconductors like the power feeding wiring. The method for aging a semiconductor integrated circuit device according to claim 1 or 3, wherein the integrated circuit devices are formed so as to be connected to each other.
JP3359526A 1991-12-30 1991-12-30 Aging method of semiconductor integrated circuit device Pending JPH05183032A (en)

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