JPH05180799A - 残留塩素測定装置 - Google Patents
残留塩素測定装置Info
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- JPH05180799A JPH05180799A JP3359584A JP35958491A JPH05180799A JP H05180799 A JPH05180799 A JP H05180799A JP 3359584 A JP3359584 A JP 3359584A JP 35958491 A JP35958491 A JP 35958491A JP H05180799 A JPH05180799 A JP H05180799A
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- Japan
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- tank
- residual chlorine
- measuring
- water
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 残留塩素測定装置に関し、表示値の校正の確
実性を損なうことなく、校正作業を自動化した残留塩素
測定装置を提供することを目的とする。 【構成】 次亜塩素酸ソーダ原液Sを収容した原液槽1
と、脱塩処理された希釈水Wを一定量だけ収容する計量
槽2と、上記原液槽1の次亜塩素酸ソーダ原液Sを一定
量だけ計量する計量コック3と、上記計量コック3で計
量された所定量の次亜塩素酸ソーダ原液Sを、計量槽2
の希釈水Wで希釈し、所定値の次亜塩素酸ソーダ濃度と
した校正液Cを貯留する希釈槽4と、上記校正液Cの次
亜塩素酸ソーダ濃度を基準濃度として校正される残留塩
素計5とを備える構成とする。
実性を損なうことなく、校正作業を自動化した残留塩素
測定装置を提供することを目的とする。 【構成】 次亜塩素酸ソーダ原液Sを収容した原液槽1
と、脱塩処理された希釈水Wを一定量だけ収容する計量
槽2と、上記原液槽1の次亜塩素酸ソーダ原液Sを一定
量だけ計量する計量コック3と、上記計量コック3で計
量された所定量の次亜塩素酸ソーダ原液Sを、計量槽2
の希釈水Wで希釈し、所定値の次亜塩素酸ソーダ濃度と
した校正液Cを貯留する希釈槽4と、上記校正液Cの次
亜塩素酸ソーダ濃度を基準濃度として校正される残留塩
素計5とを備える構成とする。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、残留塩素測定装置に関
するものである。
するものである。
【0002】
【従来の技術】水道法は、上水道の供給事業体に対し、
水質基準に適合するかどうかを判断できる箇所から採取
した水について1日1回以上、上水道水の残留塩素濃
度、濁度、色度、pH、導電率、水温、及び採取箇所で
の水圧の各測定項目について検査を行い、かつ水道法施
行規則第4条で定められた水質基準をクリアすることを
義務づけている。そこで水道事業体では毎日1回巡回に
より末端給水栓で上記各項目の他、必要な多岐の項目に
わたる検査を手分析によって行ってきたが、測定ポイン
トの増加と範囲の拡大、24時間の連続水質監視の必要
性等の理由から、大幅な省力化を実現するために継続し
て上記検査を行う自動水質監視装置の開発が進められて
いる。
水質基準に適合するかどうかを判断できる箇所から採取
した水について1日1回以上、上水道水の残留塩素濃
度、濁度、色度、pH、導電率、水温、及び採取箇所で
の水圧の各測定項目について検査を行い、かつ水道法施
行規則第4条で定められた水質基準をクリアすることを
義務づけている。そこで水道事業体では毎日1回巡回に
より末端給水栓で上記各項目の他、必要な多岐の項目に
わたる検査を手分析によって行ってきたが、測定ポイン
トの増加と範囲の拡大、24時間の連続水質監視の必要
性等の理由から、大幅な省力化を実現するために継続し
て上記検査を行う自動水質監視装置の開発が進められて
いる。
【0003】図6はこのような自動水質監視装置の構成
を示すブロック図である。取水口70から採取された水
道水W0 は、該装置内に配設された水圧計80、水温計
81、濁度計82、色度計83、導電率計84、pH計
85、及び残留塩素計86によって各項目の測定データ
が収集され、排出口71より排出される。上記各測定器
で測定されたデータは分析アンプ90を介してデータ処
理部91にて演算処理が施され、テレメータ92で上記
各測定値を出力する構成である。
を示すブロック図である。取水口70から採取された水
道水W0 は、該装置内に配設された水圧計80、水温計
81、濁度計82、色度計83、導電率計84、pH計
85、及び残留塩素計86によって各項目の測定データ
が収集され、排出口71より排出される。上記各測定器
で測定されたデータは分析アンプ90を介してデータ処
理部91にて演算処理が施され、テレメータ92で上記
各測定値を出力する構成である。
【0004】ところでこのうち上記残留塩素濃度は、末
端給水栓より採取された上水道水にも塩素による殺菌効
果を残存させる必要から、例えば0.1mg/l以上とする
ことと定められており、残留塩素濃度を測定する残留塩
素計は、オルト・トリジンやDPD(ジエチル−p−フ
ェニレンジアミン)等の試薬を使用した吸光光度法や、
試薬を必要としない電気化学的なガルバニ電極法及びポ
ーラログラフ法等による測定方式が採用されている。特
に上記自動水質監視装置に搭載する残留塩素計は、上記
試薬の管理を不要とし、長期間にわたる継続的な測定に
適したポーラログラフ法による方式が注目されている。
端給水栓より採取された上水道水にも塩素による殺菌効
果を残存させる必要から、例えば0.1mg/l以上とする
ことと定められており、残留塩素濃度を測定する残留塩
素計は、オルト・トリジンやDPD(ジエチル−p−フ
ェニレンジアミン)等の試薬を使用した吸光光度法や、
試薬を必要としない電気化学的なガルバニ電極法及びポ
ーラログラフ法等による測定方式が採用されている。特
に上記自動水質監視装置に搭載する残留塩素計は、上記
試薬の管理を不要とし、長期間にわたる継続的な測定に
適したポーラログラフ法による方式が注目されている。
【0005】このポーラログラフ法による測定手順の概
要は以下の通りである。すなわち、試料水中に検出電極
(金電極)と対極(銀−塩化銀電極)とを対向して配設
し、両電極間に外部から電圧を印加すると、該電圧に応
じて該検出電極−対極間に流れる電流が、図7に示すよ
うな関係で描かれる電流−電圧曲線(ポーラログラム)
が得られる。この電流−電圧曲線(ポーラログラム)に
よれば、印加電圧を次第に下げていくと、ある値で検出
電極上の残留塩素濃度が一時的に零となり、上記両電極
間に流れる電解電流が残留塩素の拡散速度により支配さ
れるために、電圧の変化によらず一定の値となる現象が
起こる。従って、適当な電圧Vpでの電解電流の値は、
拡散速度に比例する値を示し、さらに該拡散速度に比例
する残留塩素濃度が算出できる。図示の例では、残留塩
素濃度が2.0mg/lの試料水の電解電流値IA(=2.
0μA)は、残留塩素濃度の1.0mg/lの試料水の電解
電流値IB(=1.0μA)の2倍となっている。
要は以下の通りである。すなわち、試料水中に検出電極
(金電極)と対極(銀−塩化銀電極)とを対向して配設
し、両電極間に外部から電圧を印加すると、該電圧に応
じて該検出電極−対極間に流れる電流が、図7に示すよ
うな関係で描かれる電流−電圧曲線(ポーラログラム)
が得られる。この電流−電圧曲線(ポーラログラム)に
よれば、印加電圧を次第に下げていくと、ある値で検出
電極上の残留塩素濃度が一時的に零となり、上記両電極
間に流れる電解電流が残留塩素の拡散速度により支配さ
れるために、電圧の変化によらず一定の値となる現象が
起こる。従って、適当な電圧Vpでの電解電流の値は、
拡散速度に比例する値を示し、さらに該拡散速度に比例
する残留塩素濃度が算出できる。図示の例では、残留塩
素濃度が2.0mg/lの試料水の電解電流値IA(=2.
0μA)は、残留塩素濃度の1.0mg/lの試料水の電解
電流値IB(=1.0μA)の2倍となっている。
【0006】しかしながら、このようなポーラログラフ
法によれば、上記検出電極の経時的、一時的な変質によ
り検出感度にばらつきが出て、上記電解電流の値と残留
塩素濃度の絶対的な値との間に誤差が生じるところか
ら、定期的に(例えば数日毎に)該表示値の校正作業を
行う必要がある。この校正作業には、塩素濃度がほぼ0
のゼロ校正用校正液と、例えば遊離塩素濃度0.01%
の次亜塩素酸ソーダ溶液を0.03mg/l以下の残留塩素
濃度の希釈水で希釈した校正液を用いて、校正液の残留
塩素濃度を例えばOT(オルト・トリジン)もしくはD
PDを試薬とした吸光光度測定法にて測定し、得られた
測定値をもとに残留塩素計の表示値を校正するようにし
ている。
法によれば、上記検出電極の経時的、一時的な変質によ
り検出感度にばらつきが出て、上記電解電流の値と残留
塩素濃度の絶対的な値との間に誤差が生じるところか
ら、定期的に(例えば数日毎に)該表示値の校正作業を
行う必要がある。この校正作業には、塩素濃度がほぼ0
のゼロ校正用校正液と、例えば遊離塩素濃度0.01%
の次亜塩素酸ソーダ溶液を0.03mg/l以下の残留塩素
濃度の希釈水で希釈した校正液を用いて、校正液の残留
塩素濃度を例えばOT(オルト・トリジン)もしくはD
PDを試薬とした吸光光度測定法にて測定し、得られた
測定値をもとに残留塩素計の表示値を校正するようにし
ている。
【0007】
【発明が解決すべき課題】ところでこのような校正液と
して使用される次亜塩素酸ソーダ溶液は、調製後から時
間が経つと、次第に空気中の二酸化炭素が溶解し、次亜
塩素酸ソーダを酸化し、下記の化学式(1) に示すように
遊離塩素濃度が低くなる。
して使用される次亜塩素酸ソーダ溶液は、調製後から時
間が経つと、次第に空気中の二酸化炭素が溶解し、次亜
塩素酸ソーダを酸化し、下記の化学式(1) に示すように
遊離塩素濃度が低くなる。
【0008】
【数1】
【0009】上記の反応速度は温度や保存形態に左右さ
れて一定ではなく、この結果、校正液を長期間にわたっ
て保存した場合では、確実な校正を行うことは困難であ
るところから、校正液の調製をその都度手作業によって
行われているのが実情である。
れて一定ではなく、この結果、校正液を長期間にわたっ
て保存した場合では、確実な校正を行うことは困難であ
るところから、校正液の調製をその都度手作業によって
行われているのが実情である。
【0010】また上記次亜塩素酸ソーダ原液に対して
も、時間の経過とともに反応が進行し次亜塩素酸ソーダ
濃度が低下する現象がみられる。さらに校正の確実性を
損なう要因として、装置内に滞留した水には雑菌等が繁
殖して、塩素要求量が大きくなるところから、上記次亜
塩素酸ソーダ原液の塩素分が消費されるケースがある。
も、時間の経過とともに反応が進行し次亜塩素酸ソーダ
濃度が低下する現象がみられる。さらに校正の確実性を
損なう要因として、装置内に滞留した水には雑菌等が繁
殖して、塩素要求量が大きくなるところから、上記次亜
塩素酸ソーダ原液の塩素分が消費されるケースがある。
【0011】このことから残留塩素計の校正作業だけは
手作業によらねばならず、特に上記自動水質監視装置の
完全自動化を実現する上でのネックとなっていた。本発
明は上記従来の事情に鑑みて提案されたものであって、
該校正の確実性を損なうことなく、校正作業を自動化し
た残留塩素測定装置を提供することを目的とするもので
ある。
手作業によらねばならず、特に上記自動水質監視装置の
完全自動化を実現する上でのネックとなっていた。本発
明は上記従来の事情に鑑みて提案されたものであって、
該校正の確実性を損なうことなく、校正作業を自動化し
た残留塩素測定装置を提供することを目的とするもので
ある。
【0012】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに本発明は以下の手段を採用する。すなわち、図1に
示すように、次亜塩素酸ソーダ原液Sを収容した原液槽
1と、脱塩処理された希釈水Wを一定量収容した計量槽
2と、上記原液槽1の次亜塩素酸ソーダ原液Sを所定量
だけ計量する計量コック3と、上記計量コック3で計量
された所定量の次亜塩素酸ソーダ原液Sを、計量槽2の
希釈水Wで希釈し、所定値の次亜塩素酸ソーダ濃度とし
た校正液Cを貯留する希釈槽4と、上記校正液Cの次亜
塩素酸ソーダ濃度を基準濃度として校正される残留塩素
計5とを備える残留塩素測定装置である。
めに本発明は以下の手段を採用する。すなわち、図1に
示すように、次亜塩素酸ソーダ原液Sを収容した原液槽
1と、脱塩処理された希釈水Wを一定量収容した計量槽
2と、上記原液槽1の次亜塩素酸ソーダ原液Sを所定量
だけ計量する計量コック3と、上記計量コック3で計量
された所定量の次亜塩素酸ソーダ原液Sを、計量槽2の
希釈水Wで希釈し、所定値の次亜塩素酸ソーダ濃度とし
た校正液Cを貯留する希釈槽4と、上記校正液Cの次亜
塩素酸ソーダ濃度を基準濃度として校正される残留塩素
計5とを備える残留塩素測定装置である。
【0013】また上記構成に加え、上記計量槽2にオー
バーフロー口21を設けたり、水道水W0 の塩素濃度を
所定値未満に調製する脱塩フィルタ6を、上記計量槽2
への給水経路P1に配設し、上記原液槽1の大気開放端
1aに酸性気体吸収物質を充填した酸化防止フィルタ9
を接続する等の構成を付加することができる。
バーフロー口21を設けたり、水道水W0 の塩素濃度を
所定値未満に調製する脱塩フィルタ6を、上記計量槽2
への給水経路P1に配設し、上記原液槽1の大気開放端
1aに酸性気体吸収物質を充填した酸化防止フィルタ9
を接続する等の構成を付加することができる。
【0014】特に脱塩フィルタ6を備える該測定装置に
は、上記脱塩フィルタ6に常時供給される水道水W0 を
排出するスローリーク弁7(図3)を、計量槽2側の給
水経路P1に配設したり、または脱塩フィルタ内に滞留
した雑菌の繁殖を細菌効果の大きい水道水W0 により消
失させるために上記脱塩フィルタ6の計量槽2側より水
道水W0 を逆流させる逆流洗浄機構8(図4)を備える
ようにすることが望ましい。
は、上記脱塩フィルタ6に常時供給される水道水W0 を
排出するスローリーク弁7(図3)を、計量槽2側の給
水経路P1に配設したり、または脱塩フィルタ内に滞留
した雑菌の繁殖を細菌効果の大きい水道水W0 により消
失させるために上記脱塩フィルタ6の計量槽2側より水
道水W0 を逆流させる逆流洗浄機構8(図4)を備える
ようにすることが望ましい。
【0015】
【作用】上記構成によれば、図1に示すように次亜塩素
酸ソーダ原液Sは計量コック3で、希釈水Wは計量槽2
で各々の配合量が規定され、希釈槽4内で任意の時期に
校正液として一時的に貯留された後、残留塩素計5に供
給され該校正液の次亜塩素酸ソーダ濃度を基準として校
正が該残留塩素計5内で行われる。
酸ソーダ原液Sは計量コック3で、希釈水Wは計量槽2
で各々の配合量が規定され、希釈槽4内で任意の時期に
校正液として一時的に貯留された後、残留塩素計5に供
給され該校正液の次亜塩素酸ソーダ濃度を基準として校
正が該残留塩素計5内で行われる。
【0016】このような装置で校正液を調製する直前
に、上記計量槽2にあらたな希釈水Wを供給してオーバ
ーフロー口21から、滞留時間の長い脱塩フィルタ内及
びP1配管内の希釈水Wを排出させるようにする。
に、上記計量槽2にあらたな希釈水Wを供給してオーバ
ーフロー口21から、滞留時間の長い脱塩フィルタ内及
びP1配管内の希釈水Wを排出させるようにする。
【0017】さらに該脱塩フィルタ6内での雑菌の繁殖
を抑制するために、脱塩フィルタ6に水道水W0 を常時
供給するとともに、該脱塩フィルタ6の計量槽2側の給
水経路P1に配設した定量リーク弁7から排出すること
ができる。またこの定量リーク弁7と同じ作用を持たせ
るために上記逆流洗浄機構8で脱塩フィルタ6に滞留し
た水道水W0 を洗浄して計量槽2への雑菌の侵入を防止
することができる。
を抑制するために、脱塩フィルタ6に水道水W0 を常時
供給するとともに、該脱塩フィルタ6の計量槽2側の給
水経路P1に配設した定量リーク弁7から排出すること
ができる。またこの定量リーク弁7と同じ作用を持たせ
るために上記逆流洗浄機構8で脱塩フィルタ6に滞留し
た水道水W0 を洗浄して計量槽2への雑菌の侵入を防止
することができる。
【0018】さらに上記原液槽1の大気開放端1aにC
aO含有物質を充填した酸化防止フィルタ9を接続する
ことで、大気中の二酸化炭素が次亜塩素酸ソーダ原液S
を酸化することを防止する。
aO含有物質を充填した酸化防止フィルタ9を接続する
ことで、大気中の二酸化炭素が次亜塩素酸ソーダ原液S
を酸化することを防止する。
【0019】
【実施例】以下、本発明に係る一実施例について詳細に
説明する。図1は本発明の一実施例の構成図であり、図
2は該実施例で使用する計量コックの動作説明図であ
り、図3は脱塩フィルターに接続するスローリーク弁の
概念図、図4は同じく逆流機構の概念図、図5は本発明
の一実施例の校正手順を示すタイミングフロー図であ
る。
説明する。図1は本発明の一実施例の構成図であり、図
2は該実施例で使用する計量コックの動作説明図であ
り、図3は脱塩フィルターに接続するスローリーク弁の
概念図、図4は同じく逆流機構の概念図、図5は本発明
の一実施例の校正手順を示すタイミングフロー図であ
る。
【0020】本発明に係る一実施例は、図1に示すよう
に、次亜塩素酸ソーダ原液Sを収容した原液槽1と、脱
塩処理された希釈水Wを一定量収容した計量槽2と、上
記原液槽1の次亜塩素酸ソーダ原液Sを所定量だけ計量
する計量コック3と、上記計量コック3で計量された所
定量の次亜塩素酸ソーダ原液Sを、計量槽2の希釈水W
で希釈し、所定値の次亜塩素酸ソーダ濃度とした校正液
Cを貯留する希釈槽4と、上記校正液Cの次亜塩素酸ソ
ーダ濃度を基準濃度として校正される残留塩素計5とを
備えている。
に、次亜塩素酸ソーダ原液Sを収容した原液槽1と、脱
塩処理された希釈水Wを一定量収容した計量槽2と、上
記原液槽1の次亜塩素酸ソーダ原液Sを所定量だけ計量
する計量コック3と、上記計量コック3で計量された所
定量の次亜塩素酸ソーダ原液Sを、計量槽2の希釈水W
で希釈し、所定値の次亜塩素酸ソーダ濃度とした校正液
Cを貯留する希釈槽4と、上記校正液Cの次亜塩素酸ソ
ーダ濃度を基準濃度として校正される残留塩素計5とを
備えている。
【0021】本実施例では上記原液槽1の上部に設けら
れた大気開放端1aは、例えば二酸化炭素のような酸性
気体を吸収するソーダライム(CaO)等の酸性気体吸
収物質を収容した酸化防止フィルタ9を介して排気導管
90に接続している。また上記計量槽2の上部にはオー
バーフロー口21が設けられ、上記排気導管90及び排
液管P5に接続している。
れた大気開放端1aは、例えば二酸化炭素のような酸性
気体を吸収するソーダライム(CaO)等の酸性気体吸
収物質を収容した酸化防止フィルタ9を介して排気導管
90に接続している。また上記計量槽2の上部にはオー
バーフロー口21が設けられ、上記排気導管90及び排
液管P5に接続している。
【0022】さらに上記計量コック3は、図2に示すよ
うに、外管33と、該外管33に内嵌するとともに、縦
断側面視においてほぼコの字状の貯留部32を洞設した
内管31とよりなる。該内管31は、モータ35によっ
てその縦軸心回りに外管33内で回転駆動され、図2
(b) に示す原液計量位置では外管33の側面に形成した
排出口34及び原液供給管P2に貯留部32の両端が一
致し、図2(c) に示す希釈水注入位置では外管33の側
面に形成した給水経路P1及び供給管P3に貯留部32
の両端が一致するようにしている。
うに、外管33と、該外管33に内嵌するとともに、縦
断側面視においてほぼコの字状の貯留部32を洞設した
内管31とよりなる。該内管31は、モータ35によっ
てその縦軸心回りに外管33内で回転駆動され、図2
(b) に示す原液計量位置では外管33の側面に形成した
排出口34及び原液供給管P2に貯留部32の両端が一
致し、図2(c) に示す希釈水注入位置では外管33の側
面に形成した給水経路P1及び供給管P3に貯留部32
の両端が一致するようにしている。
【0023】そして上記計量槽2に接続した給水経路P
1の他端側からは、水道水W0 を、残留塩素濃度0.0
3mg/l以下とするための脱塩フィルタ6を通じて、希釈
水Wが供給されている。この脱塩フィルタ6の脱塩手段
としては該脱塩フィルタ6内に充填された活性炭を使用
している。表1は、残留塩素濃度0.3〜0.5mg/l
(平均残留塩素濃度0.4mg/l)の水道水W0 を、上記
活性炭を使用した脱塩フィルタに一定水量で濾過して得
られた試料水の残留塩素濃度をDPD法で分析測定した
結果を示す。表1より2×104 lを超えた濾過量でも
試料水の残留塩素濃度は所期の0.02〜0.03mg/l
であり、充分な耐用性があることを示している。尚、上
記脱塩フィルタで濾過された試料水の色度及び濁度は零
を示していることを合わせて確認できた。
1の他端側からは、水道水W0 を、残留塩素濃度0.0
3mg/l以下とするための脱塩フィルタ6を通じて、希釈
水Wが供給されている。この脱塩フィルタ6の脱塩手段
としては該脱塩フィルタ6内に充填された活性炭を使用
している。表1は、残留塩素濃度0.3〜0.5mg/l
(平均残留塩素濃度0.4mg/l)の水道水W0 を、上記
活性炭を使用した脱塩フィルタに一定水量で濾過して得
られた試料水の残留塩素濃度をDPD法で分析測定した
結果を示す。表1より2×104 lを超えた濾過量でも
試料水の残留塩素濃度は所期の0.02〜0.03mg/l
であり、充分な耐用性があることを示している。尚、上
記脱塩フィルタで濾過された試料水の色度及び濁度は零
を示していることを合わせて確認できた。
【0024】
【表1】
【0025】上記のような構成の本実施例での残留塩素
計5の校正作業は、図5に示すように、校正液調製工程
と表示値校正工程が並行して行われる。校正液調製工程
では、まずモータ35によって計量コック3の内管31
は図2(a) に示す中間位置に設定された(Fa1)後、
バルブV1が開弁し脱塩フィルタ6によって脱塩処理が
なされ水道水W0 が希釈水Wとして、流量制御弁61で
流量制御がなされながら計量槽2に貯留される(Fa
2)。
計5の校正作業は、図5に示すように、校正液調製工程
と表示値校正工程が並行して行われる。校正液調製工程
では、まずモータ35によって計量コック3の内管31
は図2(a) に示す中間位置に設定された(Fa1)後、
バルブV1が開弁し脱塩フィルタ6によって脱塩処理が
なされ水道水W0 が希釈水Wとして、流量制御弁61で
流量制御がなされながら計量槽2に貯留される(Fa
2)。
【0026】次に所定時間を経て計量槽2が希釈水Wで
満たされた後、上記モータ35が再び駆動を開始し、計
量コック3の内管31は図2(b) の原液計量位置で一旦
停止し、原液供給管P2を通じて原液槽1より供給され
た次亜塩素酸ソーダ原液Sは、貯留部32を通じて排出
端34より排液管P5に排出される結果、貯留部32を
満たす(Fa3)。
満たされた後、上記モータ35が再び駆動を開始し、計
量コック3の内管31は図2(b) の原液計量位置で一旦
停止し、原液供給管P2を通じて原液槽1より供給され
た次亜塩素酸ソーダ原液Sは、貯留部32を通じて排出
端34より排液管P5に排出される結果、貯留部32を
満たす(Fa3)。
【0027】そしてさらに上記モータ35が駆動し、内
管31が図2(c) に示す希釈水注入位置に設定されると
同時に三方バルブV2が希釈槽4側に開弁する〔このと
きバルブV1は閉弁状態〕。そして給水経路P1を通じ
て計量槽2に貯留された希釈水Wが計量コック3に向け
て流入し、貯留部32の次亜塩素酸ソーダ原液Sととも
に供給管P3、三方バルブV2を経て希釈槽4に校正液
Cとして貯留される(Fa4→Fa5)。
管31が図2(c) に示す希釈水注入位置に設定されると
同時に三方バルブV2が希釈槽4側に開弁する〔このと
きバルブV1は閉弁状態〕。そして給水経路P1を通じ
て計量槽2に貯留された希釈水Wが計量コック3に向け
て流入し、貯留部32の次亜塩素酸ソーダ原液Sととも
に供給管P3、三方バルブV2を経て希釈槽4に校正液
Cとして貯留される(Fa4→Fa5)。
【0028】一方、表示値校正工程は、上記校正液調製
工程における計量槽2にへの希釈水Wの貯留が完了する
(Fa2)と同時に、バルブV4が開弁し、脱塩フィル
タ6で脱塩処理された水道水W0 (残留塩素濃度0.0
3mg/l以下の希釈水W)は供給管P6を通じて残留塩素
計5のゼロ校正用の被検液として測定管55に供給さ
れ、該残留塩素計5の表示値のゼロ校正がなされる(F
b1→Fb2)。
工程における計量槽2にへの希釈水Wの貯留が完了する
(Fa2)と同時に、バルブV4が開弁し、脱塩フィル
タ6で脱塩処理された水道水W0 (残留塩素濃度0.0
3mg/l以下の希釈水W)は供給管P6を通じて残留塩素
計5のゼロ校正用の被検液として測定管55に供給さ
れ、該残留塩素計5の表示値のゼロ校正がなされる(F
b1→Fb2)。
【0029】尚、本実施例では残留塩素計5の測定方式
は試薬を使用しないポーラログラフ法を採用し、測定管
55の底部には金よりなる検出電極51を配設するとと
もに、該測定管55内の被検液に浸漬されるように配設
した銀−塩化銀の対極52との間に所定の電圧Vpを印
加して該電極間に流れる電流値を測定する構成であり、
該測定中にはモータ54によって軸心回りに一定速度で
回転駆動される攪拌スクリュ53で被検液を攪拌するよ
うにしている。
は試薬を使用しないポーラログラフ法を採用し、測定管
55の底部には金よりなる検出電極51を配設するとと
もに、該測定管55内の被検液に浸漬されるように配設
した銀−塩化銀の対極52との間に所定の電圧Vpを印
加して該電極間に流れる電流値を測定する構成であり、
該測定中にはモータ54によって軸心回りに一定速度で
回転駆動される攪拌スクリュ53で被検液を攪拌するよ
うにしている。
【0030】上記ゼロ校正が完了すると、バルブV5が
開弁して水道水W0 が残留塩素計5に供給された後(F
b3)、三方バルブV2,V3が残留塩素計5側に開弁
し〔このときバルブV4,V5は閉弁状態となる〕、希
釈槽4の校正液Cが残留塩素計5に流入し、該校正液C
によって残留塩素濃度の表示値の校正が行われる(Fb
4→Fb5)。
開弁して水道水W0 が残留塩素計5に供給された後(F
b3)、三方バルブV2,V3が残留塩素計5側に開弁
し〔このときバルブV4,V5は閉弁状態となる〕、希
釈槽4の校正液Cが残留塩素計5に流入し、該校正液C
によって残留塩素濃度の表示値の校正が行われる(Fb
4→Fb5)。
【0031】このようにして校正作業が完了した残留塩
素計5には、開弁状態となったバルブV5から脱塩フィ
ルタ6を通過しない水道水W0 が試料水として所定時間
供給され、該測定管55内で安定するの待って残留塩素
濃度を測定するようにしている。
素計5には、開弁状態となったバルブV5から脱塩フィ
ルタ6を通過しない水道水W0 が試料水として所定時間
供給され、該測定管55内で安定するの待って残留塩素
濃度を測定するようにしている。
【0032】特に本発明では、脱塩フィルタ6内に滞留
した水道水W0 に雑菌が繁殖することによって希釈水W
の塩素要求量が高くなることを防止するための手段とし
て、図3に示すように、上記脱塩フィルタ6に常時水道
水W0 を供給するとともに、該脱塩フィルタ6の計量槽
2側の給水経路P1にスローリーク弁7を配設してい
る。
した水道水W0 に雑菌が繁殖することによって希釈水W
の塩素要求量が高くなることを防止するための手段とし
て、図3に示すように、上記脱塩フィルタ6に常時水道
水W0 を供給するとともに、該脱塩フィルタ6の計量槽
2側の給水経路P1にスローリーク弁7を配設してい
る。
【0033】表2は上記スローリーク弁から流出する希
釈水を18ml/min,23ml/min,25ml/min,34ml/m
inの4種類の流量に調整したときの校正液をDPD法で
分析測定した結果を示し、一旦脱塩フィルタに水道水を
通水することで新鮮な状態での校正液の残留塩素濃度を
測定した後、8時間の間隔をおいて再び測定するという
手順で2〜3回にわけて行った。この結果、流出流量を
18ml/minとした場合には校正液の残留塩素濃度の再現
性がやや悪いが、23ml/min以上とした場合には該残留
塩素濃度は安定することを示している。尚、各流量にお
いて使用した次亜塩素酸ソーダ原液は濃度が異なる。
釈水を18ml/min,23ml/min,25ml/min,34ml/m
inの4種類の流量に調整したときの校正液をDPD法で
分析測定した結果を示し、一旦脱塩フィルタに水道水を
通水することで新鮮な状態での校正液の残留塩素濃度を
測定した後、8時間の間隔をおいて再び測定するという
手順で2〜3回にわけて行った。この結果、流出流量を
18ml/minとした場合には校正液の残留塩素濃度の再現
性がやや悪いが、23ml/min以上とした場合には該残留
塩素濃度は安定することを示している。尚、各流量にお
いて使用した次亜塩素酸ソーダ原液は濃度が異なる。
【0034】
【表2】
【0035】また、上記図5に示すFa2でのバルブV
1の開弁時間をより長くとり、オーバーフロー口21よ
り溢出させて、該計量槽2内に長時間貯留した希釈水W
を新たに置換することでも、校正液の残留塩素濃度の安
定性を向上させることができる。
1の開弁時間をより長くとり、オーバーフロー口21よ
り溢出させて、該計量槽2内に長時間貯留した希釈水W
を新たに置換することでも、校正液の残留塩素濃度の安
定性を向上させることができる。
【0036】表3はこの実施例による校正液の残留塩素
濃度の測定結果を示し、一旦脱塩フィルタに水道水を通
水することで新鮮な状態にした後、所定時間(T)放置
し、計量槽2のオーバーフロー口21から希釈水Wが溢
出開始後、30分間上記バルブV1を開弁状態に保って
(このときのオーバーフロー流量は400ml/min)か
ら、計量槽2に貯留された希釈水Wで調製した校正液の
残留塩素濃度をDPD法により測定した結果を示す。表
3上欄はT=8時間、同じく下欄はT=24時間とした
場合であるが、いずれも校正液の残留塩素濃度の再現性
が高いことを示している。
濃度の測定結果を示し、一旦脱塩フィルタに水道水を通
水することで新鮮な状態にした後、所定時間(T)放置
し、計量槽2のオーバーフロー口21から希釈水Wが溢
出開始後、30分間上記バルブV1を開弁状態に保って
(このときのオーバーフロー流量は400ml/min)か
ら、計量槽2に貯留された希釈水Wで調製した校正液の
残留塩素濃度をDPD法により測定した結果を示す。表
3上欄はT=8時間、同じく下欄はT=24時間とした
場合であるが、いずれも校正液の残留塩素濃度の再現性
が高いことを示している。
【0037】
【表3】
【0038】さらに上記2例と同じく図4に示すよう
に、上記脱塩フィルタ6の計量槽2側より水道水W0 を
逆流させる逆流洗浄機構8を備えるようにしてもよい。
すなわち、計量槽2に希釈水Wを貯留させる場合(図
5、Fa2)には、給水経路P1aより供給される水道
水W0 は、脱塩フィルタ6側に開弁状態とした三方バル
ブV7及びV8によって、給水経路P1b,P1cを通
過して計量槽2に供給される。
に、上記脱塩フィルタ6の計量槽2側より水道水W0 を
逆流させる逆流洗浄機構8を備えるようにしてもよい。
すなわち、計量槽2に希釈水Wを貯留させる場合(図
5、Fa2)には、給水経路P1aより供給される水道
水W0 は、脱塩フィルタ6側に開弁状態とした三方バル
ブV7及びV8によって、給水経路P1b,P1cを通
過して計量槽2に供給される。
【0039】一方、脱塩フィルタ6の逆洗浄を行う場合
には、三方バルブV7を計量槽2側に閉弁状態とし、バ
ルブV1を開弁状態に、バルブV8を閉弁状態として水
道水W0 を給水経路V7→脱塩フィルタ6→バルブV8
と通過させて滞留した水とともに、排出端65から該洗
浄水を排出するようにする。
には、三方バルブV7を計量槽2側に閉弁状態とし、バ
ルブV1を開弁状態に、バルブV8を閉弁状態として水
道水W0 を給水経路V7→脱塩フィルタ6→バルブV8
と通過させて滞留した水とともに、排出端65から該洗
浄水を排出するようにする。
【0040】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、表示値の
校正作業を自動化できることに加え、該校正に使用する
校正液の残留塩素濃度を安定にすることができる。
校正作業を自動化できることに加え、該校正に使用する
校正液の残留塩素濃度を安定にすることができる。
【0041】特に水道水の水質を常時監視する監視装置
に適用することができ、一層の省力化を実現することが
できる。
に適用することができ、一層の省力化を実現することが
できる。
【図1】本発明の一実施例の構成図である。
【図2】該実施例で使用する計量コックの動作説明図で
ある。
ある。
【図3】脱塩フィルターに接続するスローリーク弁の概
念図である。
念図である。
【図4】同じく逆流機構の概念図である。
【図5】本発明の一実施例の校正手順を示すタイミング
フロー図である。
フロー図である。
【図6】本発明が適用される水質連続監視装置の概念を
示すブロック図である。
示すブロック図である。
【図7】ポーラログラフ法による残留塩素濃度の測定要
領を示すグラフである。
領を示すグラフである。
1 原液槽 1a 大気開放端 2 計量槽 3 計量コック 4 希釈槽 5 残留塩素計 6 脱塩フィルタ 7 スローリーク弁 8 逆流洗浄機構 9 酸化防止フィルタ 21 オーバーフロー口 C 校正液 P1 給水経路 S 次亜塩素酸ソーダ原液 W 希釈水 W0 水道水
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 安達 徹 大阪府枚方市中宮大池1丁目1番1号 株 式会社クボタ枚方製造所内 (72)発明者 桐石 喬 大阪府枚方市中宮大池1丁目1番1号 株 式会社クボタ枚方製造所内
Claims (6)
- 【請求項1】 次亜塩素酸ソーダ原液(S) を収容した原
液槽(1) と、 脱塩処理された希釈水(W) を一定量だけ収容する計量槽
(2) と、 上記原液槽(1) の次亜塩素酸ソーダ原液(S) を一定量だ
け計量する計量コック(3) と、 上記計量コック(3) で計量された所定量の次亜塩素酸ソ
ーダ原液(S) を、計量槽(2) の希釈水(W) で希釈し、所
定値の次亜塩素酸ソーダ濃度とした校正液(C)を貯留す
る希釈槽(4) と、 上記校正液(C) の次亜塩素酸ソーダ濃度を基準濃度とし
て校正される残留塩素計(5) とを備える残留塩素測定装
置。 - 【請求項2】 上記計量槽(2) にオーバーフロー口(21)
を設けた請求項1に記載の残留塩素測定装置。 - 【請求項3】 水道水(W0)の脱塩処理を行う脱塩フィル
タ(6) を、計量槽(2) への給水経路(20)に配設した請求
項1に記載の残留塩素測定装置。 - 【請求項4】 上記脱塩フィルタ(6) に常時供給される
水道水(W0)を排出するスローリーク弁(7) を、計量槽
(2) 側の給水経路(P1)に配設した請求項3に記載の残留
塩素測定装置。 - 【請求項5】 上記脱塩フィルタ(6) の計量槽(2) 側よ
り水道水(W0)を逆流させる逆流洗浄機構(8) を備える請
求項3に記載の残留塩素測定装置。 - 【請求項6】 上記原液槽(1) の大気開放端(1a)に酸性
気体吸収物質を収容した酸化防止フィルタ(9) を接続し
た請求項1に記載の残留塩素測定装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3359584A JP2634723B2 (ja) | 1991-12-28 | 1991-12-28 | 残留塩素測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3359584A JP2634723B2 (ja) | 1991-12-28 | 1991-12-28 | 残留塩素測定装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05180799A true JPH05180799A (ja) | 1993-07-23 |
JP2634723B2 JP2634723B2 (ja) | 1997-07-30 |
Family
ID=18465244
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3359584A Expired - Lifetime JP2634723B2 (ja) | 1991-12-28 | 1991-12-28 | 残留塩素測定装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2634723B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6845298B2 (en) * | 2001-08-31 | 2005-01-18 | Force Flow | Diluting system and method |
JP2016191605A (ja) * | 2015-03-31 | 2016-11-10 | 東亜ディーケーケー株式会社 | 残留塩素測定装置 |
JP2017181348A (ja) * | 2016-03-31 | 2017-10-05 | 日本写真印刷株式会社 | 自動水道水検査装置 |
WO2023112474A1 (ja) * | 2021-12-13 | 2023-06-22 | 栗田工業株式会社 | 水質測定装置 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55149038A (en) * | 1979-05-08 | 1980-11-20 | Fuji Electric Co Ltd | Standard liquid for calibration and checking of residual chlorine meter |
-
1991
- 1991-12-28 JP JP3359584A patent/JP2634723B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55149038A (en) * | 1979-05-08 | 1980-11-20 | Fuji Electric Co Ltd | Standard liquid for calibration and checking of residual chlorine meter |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6845298B2 (en) * | 2001-08-31 | 2005-01-18 | Force Flow | Diluting system and method |
US7110861B2 (en) | 2001-08-31 | 2006-09-19 | Force Flow | Diluting system and method |
JP2016191605A (ja) * | 2015-03-31 | 2016-11-10 | 東亜ディーケーケー株式会社 | 残留塩素測定装置 |
JP2017181348A (ja) * | 2016-03-31 | 2017-10-05 | 日本写真印刷株式会社 | 自動水道水検査装置 |
WO2023112474A1 (ja) * | 2021-12-13 | 2023-06-22 | 栗田工業株式会社 | 水質測定装置 |
JP2023087160A (ja) * | 2021-12-13 | 2023-06-23 | 栗田工業株式会社 | 水質測定装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2634723B2 (ja) | 1997-07-30 |
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