JPH0517495A - ビスグリコシド及びジオール - Google Patents
ビスグリコシド及びジオールInfo
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- JPH0517495A JPH0517495A JP3018820A JP1882091A JPH0517495A JP H0517495 A JPH0517495 A JP H0517495A JP 3018820 A JP3018820 A JP 3018820A JP 1882091 A JP1882091 A JP 1882091A JP H0517495 A JPH0517495 A JP H0517495A
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- gly
- alkyl
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- A61K8/30—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds
- A61K8/60—Sugars; Derivatives thereof
- A61K8/602—Glycosides, e.g. rutin
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- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61Q—SPECIFIC USE OF COSMETICS OR SIMILAR TOILETRY PREPARATIONS
- A61Q19/00—Preparations for care of the skin
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C215/00—Compounds containing amino and hydroxy groups bound to the same carbon skeleton
- C07C215/02—Compounds containing amino and hydroxy groups bound to the same carbon skeleton having hydroxy groups and amino groups bound to acyclic carbon atoms of the same carbon skeleton
- C07C215/04—Compounds containing amino and hydroxy groups bound to the same carbon skeleton having hydroxy groups and amino groups bound to acyclic carbon atoms of the same carbon skeleton the carbon skeleton being saturated
- C07C215/06—Compounds containing amino and hydroxy groups bound to the same carbon skeleton having hydroxy groups and amino groups bound to acyclic carbon atoms of the same carbon skeleton the carbon skeleton being saturated and acyclic
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C31/00—Saturated compounds having hydroxy or O-metal groups bound to acyclic carbon atoms
- C07C31/18—Polyhydroxylic acyclic alcohols
- C07C31/20—Dihydroxylic alcohols
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- C07H15/02—Acyclic radicals, not substituted by cyclic structures
- C07H15/04—Acyclic radicals, not substituted by cyclic structures attached to an oxygen atom of the saccharide radical
-
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- C07H—SUGARS; DERIVATIVES THEREOF; NUCLEOSIDES; NUCLEOTIDES; NUCLEIC ACIDS
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-
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- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D1/00—Detergent compositions based essentially on surface-active compounds; Use of these compounds as a detergent
- C11D1/66—Non-ionic compounds
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【構成】 一般式I:
Gly−O−CHR2−(CH2)p−(XR1)n−(CH2)q−(CHR3)m−O−Gly I
のビスグリコシド及びその製造用中間体としての一般式
II: HO−CHR2−(CH2)p−(XR1)n−(CH2)q−(CHR3)m−OH II のジオール。[式中Xは、C−R4又はNを表わし、X
=C−R4の場合にR1はC1〜C30−アルキル又は
C2〜C30−アルケニル又はO−C1〜C30−アル
キル又はO−C2〜C30−アルケニルを表わし、X=
Nの場合にR1はCO−C1〜C30−アルキル又はC
O−C2〜C30−アルケニルを表わし、R2〜R
4は、水素又はC1〜C30−アルキル又はC2〜C
30−アルケニルを表わし、nは、1〜3を表わし、m
は0又は1を表わし、p,qは、0〜2を表わし、Gl
yはアルドペントース、アルドヘキソース及び/又はケ
トヘキソースから構成されたモノ−又はジサッカリドを
表わす] 【効果】 生物学的に分解可能であり、環境汚染を軽減
させることができる。
II: HO−CHR2−(CH2)p−(XR1)n−(CH2)q−(CHR3)m−OH II のジオール。[式中Xは、C−R4又はNを表わし、X
=C−R4の場合にR1はC1〜C30−アルキル又は
C2〜C30−アルケニル又はO−C1〜C30−アル
キル又はO−C2〜C30−アルケニルを表わし、X=
Nの場合にR1はCO−C1〜C30−アルキル又はC
O−C2〜C30−アルケニルを表わし、R2〜R
4は、水素又はC1〜C30−アルキル又はC2〜C
30−アルケニルを表わし、nは、1〜3を表わし、m
は0又は1を表わし、p,qは、0〜2を表わし、Gl
yはアルドペントース、アルドヘキソース及び/又はケ
トヘキソースから構成されたモノ−又はジサッカリドを
表わす] 【効果】 生物学的に分解可能であり、環境汚染を軽減
させることができる。
Description
【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、一般式I:
Gly−O−CHR2−(CH2)p−(XR1)n−(CH2)q−(CHR3)m−O−Gly I
[式中Xは、C−R4又はNを表わし、X=C−R4の場
合にR1はC1〜C30−アルキル又はC2〜C30−アルケ
ニル又はO−C1〜C30−アルキル又はO−C2〜C30−
アルケニルを表わし、X=Nの場合にR1はCO−C1〜
C30−アルキル又はCO−C2〜C30−アルケニルを表
わし、R2〜R4は、水素又はC1〜C30−アルキル又は
C2〜C30−アルケニルを表わし、nは、1〜3を表わ
し、mは0又は1を表わし、p、qは、0〜2を表わ
し、Glyはアルドペントース、アルドヘキソース及び
/又はケトヘキソースから構成されたモノ−又はジサッ
カリドを表わす]の新規ビスグリコシドに関する。
合にR1はC1〜C30−アルキル又はC2〜C30−アルケ
ニル又はO−C1〜C30−アルキル又はO−C2〜C30−
アルケニルを表わし、X=Nの場合にR1はCO−C1〜
C30−アルキル又はCO−C2〜C30−アルケニルを表
わし、R2〜R4は、水素又はC1〜C30−アルキル又は
C2〜C30−アルケニルを表わし、nは、1〜3を表わ
し、mは0又は1を表わし、p、qは、0〜2を表わ
し、Glyはアルドペントース、アルドヘキソース及び
/又はケトヘキソースから構成されたモノ−又はジサッ
カリドを表わす]の新規ビスグリコシドに関する。
【0002】更に本発明は、このビスグリコシドの製
法、この製造用の中間体としての相応するジオール、グ
リコシドIの、洗剤、浄化剤及び化粧品中での界面活性
物質もしくは乳化剤としての使用並びに化合物Iを含有
する洗剤、浄化剤及び化粧品に関する。
法、この製造用の中間体としての相応するジオール、グ
リコシドIの、洗剤、浄化剤及び化粧品中での界面活性
物質もしくは乳化剤としての使用並びに化合物Iを含有
する洗剤、浄化剤及び化粧品に関する。
【0003】
【従来の技術】近年、界面活性剤−分野で、再生原料を
基礎とする非イオン性界面活性物質がますます注目され
ている。この種の物質は、一般に良好な生物学的分解
性、僅かな毒性及び従って良好な環境認容性を有する。
基礎とする非イオン性界面活性物質がますます注目され
ている。この種の物質は、一般に良好な生物学的分解
性、僅かな毒性及び従って良好な環境認容性を有する。
【0004】このような非イオン性界面活性剤の重要な
群は、例えば文献TensideSurf.Det.2
6(1989)5、318〜324、(I)に記載の長
鎖の疎水性アルキル基がアセタール結合により、分子の
親水性炭水化物分に直接結びついているアルキルグリコ
シドである。
群は、例えば文献TensideSurf.Det.2
6(1989)5、318〜324、(I)に記載の長
鎖の疎水性アルキル基がアセタール結合により、分子の
親水性炭水化物分に直接結びついているアルキルグリコ
シドである。
【0005】このような生成物は、所定の要求を非常に
十分に満たすが、いくつかの特性、例えば可溶化性にお
いては更に改良の必要があることが分かる。更に、界面
活性化合物は、洗剤及び浄化剤中で更に錯化剤−及び/
又はビルダー(Gerueststoff)−機能を少
くとも部分的に担当することが望ましい。
十分に満たすが、いくつかの特性、例えば可溶化性にお
いては更に改良の必要があることが分かる。更に、界面
活性化合物は、洗剤及び浄化剤中で更に錯化剤−及び/
又はビルダー(Gerueststoff)−機能を少
くとも部分的に担当することが望ましい。
【0006】シュミット(R.R.Schmidt)
は、文献 Angew Chem.98(1986)、
213〜236、(2)中で、O−グリコシル−トリク
ロルアセトイミデートの使用可能性及びグリコシド−及
びオリゴサッカリド−合成における他の活性基としての
トリフルオルメタンスルホネート基の使用を記載してい
る。
は、文献 Angew Chem.98(1986)、
213〜236、(2)中で、O−グリコシル−トリク
ロルアセトイミデートの使用可能性及びグリコシド−及
びオリゴサッカリド−合成における他の活性基としての
トリフルオルメタンスルホネート基の使用を記載してい
る。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記欠点を
有さない再生原料を基礎とする非イオン性界面活性剤を
提供することを課題とした。
有さない再生原料を基礎とする非イオン性界面活性剤を
提供することを課題とした。
【0008】
【課題を解決するための手段】従って、冒頭で定義した
ビスグリコシドIが開発された。
ビスグリコシドIが開発された。
【0009】基R1〜R4を基礎とする直鎖状又は分枝鎖
状のアルキル−又アルケニル基は、C−原子1〜30個
もしくは2〜30個から成る。殊に良好な結果は、C−
原子6〜22個、殊にC−原子10〜18個を有する基
によりもたらされる。鎖の長さがC−原子14〜16個
の際に、特性が最適に達っする。それというのも、この
際明らかに最適な量関係が、疎水性及び親水性分子分の
間に存在するからである。
状のアルキル−又アルケニル基は、C−原子1〜30個
もしくは2〜30個から成る。殊に良好な結果は、C−
原子6〜22個、殊にC−原子10〜18個を有する基
によりもたらされる。鎖の長さがC−原子14〜16個
の際に、特性が最適に達っする。それというのも、この
際明らかに最適な量関係が、疎水性及び親水性分子分の
間に存在するからである。
【0010】例として、次のアルキル−もしくはアルケ
ニル基が挙げられる:メチル、エチル、n−プロピル、
n−ブチル、n−ヘキシル、n−オクチル、2−エチル
ヘキシル、n−ノニル、イソ−ノニル、n−デシル、n
−ウンデシル、n−ドデシル、n−トリデシル、イソ−
トリデシル、ミリスチル、セチル、ステアリル、エイコ
シル、ビニル、1−プロペニル、2−プロペニル、オレ
イル、リノリル及びリノレニル。
ニル基が挙げられる:メチル、エチル、n−プロピル、
n−ブチル、n−ヘキシル、n−オクチル、2−エチル
ヘキシル、n−ノニル、イソ−ノニル、n−デシル、n
−ウンデシル、n−ドデシル、n−トリデシル、イソ−
トリデシル、ミリスチル、セチル、ステアリル、エイコ
シル、ビニル、1−プロペニル、2−プロペニル、オレ
イル、リノリル及びリノレニル。
【0011】R1がC−原子に結合している場合、R
1は、アルキル−もしくはアルケニル基又はアルコキシ
−もしくはアルケニルオキシ基を表わす。それに対し、
基R1がN−原子に結合している場合は、R1は、アルキ
ルカルボニル−もしくはアルケニルカルボニル基を表わ
す。
1は、アルキル−もしくはアルケニル基又はアルコキシ
−もしくはアルケニルオキシ基を表わす。それに対し、
基R1がN−原子に結合している場合は、R1は、アルキ
ルカルボニル−もしくはアルケニルカルボニル基を表わ
す。
【0012】基R2〜R4は、有利には水素を表わすが、
更にアルキル−もしくはアルケニル基も表わす。
更にアルキル−もしくはアルケニル基も表わす。
【0013】変数nは、特に1の値を表わすが、2又は
3も表わす。変数mは、0又は1を表わす。変数p及び
qは、それぞれ別々に0、1又は2を表わすか、殊に共
に0を表わす。
3も表わす。変数mは、0又は1を表わす。変数p及び
qは、それぞれ別々に0、1又は2を表わすか、殊に共
に0を表わす。
【0014】グリコシド基Glyは、通常のペントース
及び/又はケトースから生じるモノ−又はジサッカリド
を表わす。この種の構成要素としては、アルドペントー
ス、例えばリボース、アラビノース、キシロース及びリ
キソース、アルドヘキソース、例えばアロース、アルト
ロース、グルコース、マンノース、グロース、イドー
ス、ガラクトース及びタロース並びにケトヘキソース、
例えばフルクトースがこれに該当する。
及び/又はケトースから生じるモノ−又はジサッカリド
を表わす。この種の構成要素としては、アルドペントー
ス、例えばリボース、アラビノース、キシロース及びリ
キソース、アルドヘキソース、例えばアロース、アルト
ロース、グルコース、マンノース、グロース、イドー
ス、ガラクトース及びタロース並びにケトヘキソース、
例えばフルクトースがこれに該当する。
【0015】ジサッカリドとしては、特にサッカロー
ス、ラクトース、マルトース及びセロビオースを使用す
ることができる。
ス、ラクトース、マルトース及びセロビオースを使用す
ることができる。
【0016】ビスグリコシドIの製造条件に応じて、更
に僅少量の、8までのグリコシド化度を有するオリゴサ
ッカリド及び8より高いグリコシド化度を有するポリサ
ッカリドを、化合物I中の成分として含有していてよ
い。
に僅少量の、8までのグリコシド化度を有するオリゴサ
ッカリド及び8より高いグリコシド化度を有するポリサ
ッカリドを、化合物I中の成分として含有していてよ
い。
【0017】通常、天然で生じるD−系の炭水化物が使
用されるが、L−系のものも使用される。
用されるが、L−系のものも使用される。
【0018】Iの炭水化物−成分と残りの分子部分との
結合は、一般にアノマーC−原子の所でのアセタール結
合によって起き、この際α−もβ−アノマーも存在しう
る。 一般式Ia: Gly−O−CHR2−CHR1−(CHR3)m−O−Gly Ia [式中R1は、X=C−R4の場合に示したものを表わ
す]のビスグリコシドが有利である。
結合は、一般にアノマーC−原子の所でのアセタール結
合によって起き、この際α−もβ−アノマーも存在しう
る。 一般式Ia: Gly−O−CHR2−CHR1−(CHR3)m−O−Gly Ia [式中R1は、X=C−R4の場合に示したものを表わ
す]のビスグリコシドが有利である。
【0019】更に、一般式Ib:
Gly−O−CHR2−(CH2)p−NR1−(CH2)q−CHR3−O−Gly Ib
[式中R1は、X=Nの場合に示したものを表わす]の
ビスグリコシドが有利である。
ビスグリコシドが有利である。
【0020】ビスグリコシドIは、有利には、
a) 一般式II:
HO−CHR2−(CH2)p−(XR1)n−(CH2)q−(CHR3)m−OH II
のジオールと一般式III:
【0021】
【化1】
【0022】[式中Halは、フッ素、塩素又は臭素を
表わしかつ]Gly′は、アルドペントース、アルドヘ
キソース及び/又はケトヘキソースから生じかつここで
その残りのヒドロキシル基が慣例の保護基を有する、モ
ノ−又はジサッカリドのグリコシル基を表わす]の保護
されたグリコシル−トリハロゲンアセトイミダートとの
反応又は b) ジオールIIから得られる一般式IV: CF3SO2O−CHR2−(CH2)p−(XR1)n−(CH2)q−(CHR3)m−OSO2CF3 IV のジストリフルオルメタンスルホネートと一般式V: Gly′−OH の保護されたモノ−又はジサッカリドとの反応及び引き
続くグリコシル基の保護基の除去により、常法によって
有利に製造される。
表わしかつ]Gly′は、アルドペントース、アルドヘ
キソース及び/又はケトヘキソースから生じかつここで
その残りのヒドロキシル基が慣例の保護基を有する、モ
ノ−又はジサッカリドのグリコシル基を表わす]の保護
されたグリコシル−トリハロゲンアセトイミダートとの
反応又は b) ジオールIIから得られる一般式IV: CF3SO2O−CHR2−(CH2)p−(XR1)n−(CH2)q−(CHR3)m−OSO2CF3 IV のジストリフルオルメタンスルホネートと一般式V: Gly′−OH の保護されたモノ−又はジサッカリドとの反応及び引き
続くグリコシル基の保護基の除去により、常法によって
有利に製造される。
【0023】両実施態様(a)及び(b)の基礎とな
る、この物質類に慣用の合成法は、(2)中に示されて
いる。
る、この物質類に慣用の合成法は、(2)中に示されて
いる。
【0024】炭水化物−化合物III及びVにおいて、
Iの残りの分子部分との結合に役立ちかつ一般にアノマ
ーのC−原子、すなわち1−C−原子の所に存在するも
の以外の全ての残りのヒドロキシル基は、不所望な副反
応を回避するための保護基を有する。
Iの残りの分子部分との結合に役立ちかつ一般にアノマ
ーのC−原子、すなわち1−C−原子の所に存在するも
の以外の全ての残りのヒドロキシル基は、不所望な副反
応を回避するための保護基を有する。
【0025】ここで慣例の保護基は、例えばアセチル
基、ベンジル基又はイソプロピリデン基であり、これら
は反応終了後に、常法により、例えば触媒量のナトリウ
ムアルコレート又はプロトン酸、例えば酢酸を用いて、
再び簡単に除去することができる。
基、ベンジル基又はイソプロピリデン基であり、これら
は反応終了後に、常法により、例えば触媒量のナトリウ
ムアルコレート又はプロトン酸、例えば酢酸を用いて、
再び簡単に除去することができる。
【0026】トリハロゲンアセトイミデート−法(a)
においては、ジオールIIとアセトイミデートIIと
を、通例、触媒量のプロトン酸又はルイス−酸の存在下
で反応させる。このために、ルイス−酸は、例えば四塩
化スズ、四塩化チタン及び特に三フッ化ホウ素−付加生
成物、例えば三フッ化ホウ素−エテレートを使用するの
が有利である。アセトイミデートIIIは、トリクロロ
アセトイミデートが最も有利に使用される。
においては、ジオールIIとアセトイミデートIIと
を、通例、触媒量のプロトン酸又はルイス−酸の存在下
で反応させる。このために、ルイス−酸は、例えば四塩
化スズ、四塩化チタン及び特に三フッ化ホウ素−付加生
成物、例えば三フッ化ホウ素−エテレートを使用するの
が有利である。アセトイミデートIIIは、トリクロロ
アセトイミデートが最も有利に使用される。
【0027】方法(a)においては、一般に水不含不活
性溶剤、例えばn−ペンタン、n−ヘキサン、シクロヘ
キサン、トルオール、クロロホルム、ジクロルメタン、
テトラヒドロフラン又はジエチルエーテル又はこれらの
溶剤の混合物中で、室温又は僅かに高めた温度〜約50
℃まで、かつ標準圧で操作される。反応は大抵1〜5時
間後に終了する。場合による生成物の精製には、クロマ
トグラフィー法が最適である。
性溶剤、例えばn−ペンタン、n−ヘキサン、シクロヘ
キサン、トルオール、クロロホルム、ジクロルメタン、
テトラヒドロフラン又はジエチルエーテル又はこれらの
溶剤の混合物中で、室温又は僅かに高めた温度〜約50
℃まで、かつ標準圧で操作される。反応は大抵1〜5時
間後に終了する。場合による生成物の精製には、クロマ
トグラフィー法が最適である。
【0028】トリフルオルメタンスルホネート−法
(b)においては、ジオールIIから、例えばトリフル
オルメタンスルホン酸無水物との反応によって得られる
ビストリフルオルメタンスルホネートIVと、炭水化物
Vとを、一般に強塩基、例えばアルカリ金属アルコレー
ト又はアルカリ金属ヒドリドの存在下で反応させる。こ
こで通常(a)のような無水の不活性溶剤中で、室温又
は約80℃まで高めた温度でかつ標準圧で操作される。
保護ガス、例えば窒素又はアルゴンの使用が望ましい。
場合による生成物の精製には、クロマトグラフィー法が
最適である。
(b)においては、ジオールIIから、例えばトリフル
オルメタンスルホン酸無水物との反応によって得られる
ビストリフルオルメタンスルホネートIVと、炭水化物
Vとを、一般に強塩基、例えばアルカリ金属アルコレー
ト又はアルカリ金属ヒドリドの存在下で反応させる。こ
こで通常(a)のような無水の不活性溶剤中で、室温又
は約80℃まで高めた温度でかつ標準圧で操作される。
保護ガス、例えば窒素又はアルゴンの使用が望ましい。
場合による生成物の精製には、クロマトグラフィー法が
最適である。
【0029】更に、本発明の目的は、ビスグリコシドI
製造用中間体としての一般式II: HO−CHR2−(CH2)p−(XR1)n−(CH2)q−(CHR3)m−OH II のジオールである。
製造用中間体としての一般式II: HO−CHR2−(CH2)p−(XR1)n−(CH2)q−(CHR3)m−OH II のジオールである。
【0030】ビスグリコシドIは、洗剤及び浄化剤中の
界面活性物質、主に非イオン性界面活性剤又は乳化剤と
して、例えば工業及び家事における浄化法、例えば繊維
の洗濯、又は食料品分野における浄化法で、例えば飲料
ビンの洗浄のために使用される。更にこれは、化粧品、
例えば美肌クリーム、ローション、ジェル、スキンオイ
ル又はヘアシャンプー中で乳化剤として使用される。
界面活性物質、主に非イオン性界面活性剤又は乳化剤と
して、例えば工業及び家事における浄化法、例えば繊維
の洗濯、又は食料品分野における浄化法で、例えば飲料
ビンの洗浄のために使用される。更にこれは、化粧品、
例えば美肌クリーム、ローション、ジェル、スキンオイ
ル又はヘアシャンプー中で乳化剤として使用される。
【0031】更に、洗剤及び浄化剤中で、ビスグリコシ
ドIは、錯化剤及びビルダー(Builder)として
の作用をし、これは、2種の炭水化物−単位のキレート
化作用に帰因する。ヒドロキシル基と炭水化物−基との
相互作用によって、金属イオン、例えばカルシウム−、
マグネシウム−及び鉄イオンが錯化され、これにより浄
化作用の強化がもたらされる。
ドIは、錯化剤及びビルダー(Builder)として
の作用をし、これは、2種の炭水化物−単位のキレート
化作用に帰因する。ヒドロキシル基と炭水化物−基との
相互作用によって、金属イオン、例えばカルシウム−、
マグネシウム−及び鉄イオンが錯化され、これにより浄
化作用の強化がもたらされる。
【0032】本発明の目的は、同時に、ビスグリコシド
I又はこのようなビスグリコシドの混合物1〜50重量
%、特に5〜30重量%を含有する洗剤、浄化剤及び化
粧品である。洗剤及び浄化剤並びに化粧品の通常成分及
び組成は、専門家に公知でありかつ従ってここで更に記
載する必要はない。
I又はこのようなビスグリコシドの混合物1〜50重量
%、特に5〜30重量%を含有する洗剤、浄化剤及び化
粧品である。洗剤及び浄化剤並びに化粧品の通常成分及
び組成は、専門家に公知でありかつ従ってここで更に記
載する必要はない。
【0033】本発明のビスグリコシドIは、約30〜約
50mN/mの範囲の低い表面張力及び特に約1〜約
0.001mモル/リットルの範囲の非常に低い臨界ミ
セル濃度(CMC)をもたらす。低いCMC−値は、化
合物Iの著しい可溶化性を示す。従って洗剤、浄化剤及
び化粧品調合物中で本発明の化合物Iは、慣例のアルキ
ルグリコシドの場合より著しく僅かな濃度を必要とす
る。
50mN/mの範囲の低い表面張力及び特に約1〜約
0.001mモル/リットルの範囲の非常に低い臨界ミ
セル濃度(CMC)をもたらす。低いCMC−値は、化
合物Iの著しい可溶化性を示す。従って洗剤、浄化剤及
び化粧品調合物中で本発明の化合物Iは、慣例のアルキ
ルグリコシドの場合より著しく僅かな濃度を必要とす
る。
【0034】更に生物学的に簡単に分解可能なビスグリ
コシドIは、洗剤及び浄化剤中で付加的に錯化剤及びビ
ルダーとして作用しかつ従って慣例の、生物学的に分解
困難な錯化剤及びビルダーと少くとも部分的に代わるこ
とができ、それによって環境汚染を軽減させることがで
きるという利点を有する。
コシドIは、洗剤及び浄化剤中で付加的に錯化剤及びビ
ルダーとして作用しかつ従って慣例の、生物学的に分解
困難な錯化剤及びビルダーと少くとも部分的に代わるこ
とができ、それによって環境汚染を軽減させることがで
きるという利点を有する。
【0035】
製造例
例 1
2−(β−D−グリコピラノシルオキシメチル)−ドデ
シル−1−β−D−グルコピラノシド 2,3,4,6−テトラ−O−アセチル−α−D−グル
コピラノシル−トリクロルアセトイミデート2.05g
(4.18mモル)及び2−ヒドロキシメチル−1−ド
デカノール0.43g(2.0mモル)を等容量部の水
不含n−ヘキサン及び水不含ジクロルメタンからの混合
物20ml中に溶かした。湿潤除去下で、ゆっくりとジ
エチルエーテル(BF3・Et2O 0.2mモルに相
応)中の三フッ化ホウ素−エ−テレ−トの約1.5重量
%溶液2.0gを滴加した。
シル−1−β−D−グルコピラノシド 2,3,4,6−テトラ−O−アセチル−α−D−グル
コピラノシル−トリクロルアセトイミデート2.05g
(4.18mモル)及び2−ヒドロキシメチル−1−ド
デカノール0.43g(2.0mモル)を等容量部の水
不含n−ヘキサン及び水不含ジクロルメタンからの混合
物20ml中に溶かした。湿潤除去下で、ゆっくりとジ
エチルエーテル(BF3・Et2O 0.2mモルに相
応)中の三フッ化ホウ素−エ−テレ−トの約1.5重量
%溶液2.0gを滴加した。
【0036】室温で2.5時間撹拌後に、炭酸水素ナト
リウム0.3g及びジクロルメタン20mlを加えた。
溶剤の濾過、留去及び得られる粗生成物のフラッシュク
ロマトグラフィー(トルオール/酢酸エチルエステル
7:3)による精製の後に、生成物を水不含メタノール
60ml中に溶かしかつメタノール中の0.1モルナト
リウムメタノレート溶液0.5mlと共に室温で5時間
撹拌することによりアセチル−保護基を除去した。
リウム0.3g及びジクロルメタン20mlを加えた。
溶剤の濾過、留去及び得られる粗生成物のフラッシュク
ロマトグラフィー(トルオール/酢酸エチルエステル
7:3)による精製の後に、生成物を水不含メタノール
60ml中に溶かしかつメタノール中の0.1モルナト
リウムメタノレート溶液0.5mlと共に室温で5時間
撹拌することによりアセチル−保護基を除去した。
【0037】酸性イオン交換物質を用いる処理後に、溶
液を水流ポンプ真空下に濃縮させかつ最終生成物をフラ
ッシュクロマトグラフィー(ジクロルメタン/メタノー
ル5:3)によって精製した。表題化合物が収率52%
で得られかつ融点146〜146.5℃及び比旋光度
[α]20 D=−24.7°を有した。
液を水流ポンプ真空下に濃縮させかつ最終生成物をフラ
ッシュクロマトグラフィー(ジクロルメタン/メタノー
ル5:3)によって精製した。表題化合物が収率52%
で得られかつ融点146〜146.5℃及び比旋光度
[α]20 D=−24.7°を有した。
【0038】例 2
2−(β−D−グルコピラノシルオキシメチル)−テト
ラデシル−1−β−D−グルコピラノシド 2−ヒドロキシメチル−1−テトラデカノールから出発
して例1と同様にして表題化合物が収率53%で製造さ
れた。これは、融点181.1〜181.6℃及び比旋
光度[α]20 D=−8.5°を有した。
ラデシル−1−β−D−グルコピラノシド 2−ヒドロキシメチル−1−テトラデカノールから出発
して例1と同様にして表題化合物が収率53%で製造さ
れた。これは、融点181.1〜181.6℃及び比旋
光度[α]20 D=−8.5°を有した。
【0039】例 3
2−(β−D−グルコピラノシルオキシメチル)−ヘキ
サデシル−1−β−D−グルコピラノシド 2−ヒドロキシメチル−1−ヘキサデカノールから出発
して例1と同様にして表題化合物が収率69%で製造さ
れた。これは、融点154.1〜154.6℃及び比旋
光度[α]20 D=−18.2°を有した。
サデシル−1−β−D−グルコピラノシド 2−ヒドロキシメチル−1−ヘキサデカノールから出発
して例1と同様にして表題化合物が収率69%で製造さ
れた。これは、融点154.1〜154.6℃及び比旋
光度[α]20 D=−18.2°を有した。
【0040】例 4
2−(β−D−グルコピラノシルオキシメチル)−オク
タデシル−1−β−D−グルコピラノシド 2−ヒドロキシメチル−1−オクタデカノールから出発
して例1と同様にして表題化合物が収率43%で製造さ
れた。これは、融点214.1〜214.7℃及び比旋
光度[α]20 D=−9.7°を有した。
タデシル−1−β−D−グルコピラノシド 2−ヒドロキシメチル−1−オクタデカノールから出発
して例1と同様にして表題化合物が収率43%で製造さ
れた。これは、融点214.1〜214.7℃及び比旋
光度[α]20 D=−9.7°を有した。
【0041】
例 52−デシルオキシ−3−(β−グルコピラノシル
オキシ)−プロピル−1−β−D−グルコピラノシド 2−デシルオキシ−1,3−プロパンジオールから出発
して、例1と同様にして表題化合物が収率164.5〜
164.8℃及び比旋光度[α]20 D=−12.9°を
有した。
オキシ)−プロピル−1−β−D−グルコピラノシド 2−デシルオキシ−1,3−プロパンジオールから出発
して、例1と同様にして表題化合物が収率164.5〜
164.8℃及び比旋光度[α]20 D=−12.9°を
有した。
【0042】例 6
2−デシルオキシ−1,3−ジ−(β−D−マンノフラ
ノシルオキシ)−プロパン 2,3:5,6−ジ−O−イソプロピリデン−マンノフ
ラノース3.90g(15.0mモル)を保護ガスとし
て窒素下で、水不含トルオール100ml中に溶かしか
つ水素化ナトリウム400mgを加えた。水素発生終了
後に、50℃まで加熱した。2−デシルオキシ−1,3
−ジ−(トリフルオルメタンスルホニルオキシ)−プロ
パン3.72g(7.5mモル)をゆっくりと滴加し
た。
ノシルオキシ)−プロパン 2,3:5,6−ジ−O−イソプロピリデン−マンノフ
ラノース3.90g(15.0mモル)を保護ガスとし
て窒素下で、水不含トルオール100ml中に溶かしか
つ水素化ナトリウム400mgを加えた。水素発生終了
後に、50℃まで加熱した。2−デシルオキシ−1,3
−ジ−(トリフルオルメタンスルホニルオキシ)−プロ
パン3.72g(7.5mモル)をゆっくりと滴加し
た。
【0043】反応終了後に、過剰の水素化ナトリウムを
冷却下にメタノールを用いて分解し、反応混合物に酢酸
エチルエステルを加えかつ飽和NaCl−溶液及び水を
用いて洗浄した。MgSO4上での乾燥及び水流ポンプ
真空中での溶液の濃縮後に、粗生成物をフラッシュクロ
マトグラフィー(ペトロールエーテル/酢酸エチルエス
テル5:3)により精製した。
冷却下にメタノールを用いて分解し、反応混合物に酢酸
エチルエステルを加えかつ飽和NaCl−溶液及び水を
用いて洗浄した。MgSO4上での乾燥及び水流ポンプ
真空中での溶液の濃縮後に、粗生成物をフラッシュクロ
マトグラフィー(ペトロールエーテル/酢酸エチルエス
テル5:3)により精製した。
【0044】90%酢酸120mリットル中の得られた
生成物を室温で5日間撹拌することによりイソプロピリ
デン−保護基を除去した。水流ポンプ真空中での酢酸及
び水の留去後に、最終生成物をフラッシュクロマトグラ
フィー(ジクロルメタン/メタノール/水14:6:
1)により精製した。表題化合物が収率55%で得られ
た。
生成物を室温で5日間撹拌することによりイソプロピリ
デン−保護基を除去した。水流ポンプ真空中での酢酸及
び水の留去後に、最終生成物をフラッシュクロマトグラ
フィー(ジクロルメタン/メタノール/水14:6:
1)により精製した。表題化合物が収率55%で得られ
た。
【0045】例 7
2−ドデシルオキシ−1,3−ジ−(β−D−マンノフ
ラノシルオキシ)−プロパン 2−ドデシルオキシ−1,3−ジ−(トリフルオルメタ
ンスルホニルオキシ)−プロパンから出発して例6と同
様にして表題化合物が収率58%で製造された。
ラノシルオキシ)−プロパン 2−ドデシルオキシ−1,3−ジ−(トリフルオルメタ
ンスルホニルオキシ)−プロパンから出発して例6と同
様にして表題化合物が収率58%で製造された。
【0046】例 8
2−ヘキサデシルオキシ−1,3−ジ−(β−D−マン
ノフラノシルオキシ)−プロパン 2−ヘキサデシルオキシ−1,3−ジ−(トリフルオル
メタンスルホニルオキシ)−プロパンから出発して例6
と同様にして表題化合物が収率59%で製造された。
ノフラノシルオキシ)−プロパン 2−ヘキサデシルオキシ−1,3−ジ−(トリフルオル
メタンスルホニルオキシ)−プロパンから出発して例6
と同様にして表題化合物が収率59%で製造された。
【0047】使用技術的特性
例1〜5(X=CH、R2=R3=H、n=m=1、p=
q=0、Gly=グリコシル)からのビスグリコシドを
臨界ミセル濃度(CMC)及び表面張力に関して試験し
た。比較例としてデシル−及びドテシル−β−D−グル
コシドの相応する値を文献(1)の表2から引用した。
q=0、Gly=グリコシル)からのビスグリコシドを
臨界ミセル濃度(CMC)及び表面張力に関して試験し
た。比較例としてデシル−及びドテシル−β−D−グル
コシドの相応する値を文献(1)の表2から引用した。
【0048】CMC−値を20℃で常法により測定し
た。
た。
【0049】表面張力は、ドイツ工業規格(DIN)5
3914により測定した。その際、水平に掛けられた環
又は輪を液体表面から引き出すのに必要な力をmN/m
で測定する。
3914により測定した。その際、水平に掛けられた環
又は輪を液体表面から引き出すのに必要な力をmN/m
で測定する。
【0050】次の表に測定の結果を示す:
ビスグリコシド R1 CMC 表面張力
[mモル/リットル] [mN/m]
例 1 n−デシル 0.594 42.3
例 2 n−ドデシル 0.065 38.9
例 3 n−テトラデシル 0.0026 38.5
例 4 n−ヘキサデシル 0.0619 44.1
例 5 n−デシルオキシ 0.472 46.8
比較:
デシル−β−D−グルコシド 1.9 30.5
ドデシル−β−D−グルコシド 0.08 36
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 リヒヤルト エル シユミツト
ドイツ連邦共和国 コンスタンツ 16 グ
ロースヘルツオーク−フリードリツヒ−シ
ユトラーセ 11
(72)発明者 カーリン ヤンコフスキ
ドイツ連邦共和国 コンスタンツ シユツ
ツエンシユトラーセ 34
(72)発明者 アンドレアス テルユンク
ドイツ連邦共和国 ラドルフツエル シユ
ヴアーネンヴエーク 2
Claims (2)
- 【請求項1】 一般式I: Gly−O−CHR2−(CH2)p−(XR1)n−(CH2)q−(CHR3)m−O−Gly I [式中Xは、C−R4又はNを表わし、X=C−R4の場
合にR1はC1〜C30−アルキル又はC2〜C30−アルケ
ニル又はO−C1〜C30−アルキル又はO−C2〜C30−
アルケニルを表わし、X=Nの場合にR1はCO−C1〜
C30−アルキル又はCO−C2〜C30−アルケニルを表
わし、R2〜R4は、水素又はC1〜C30−アルキル又は
C2〜C30−アルケニルを表わし、nは、1〜3を表わ
し、mは0又は1を表わし、p、qは、0〜2を表わ
し、Glyはアルドペントース、アルドヘキソース及び
/又はケトヘキソースから構成されたモノ−又はジサッ
カリドを表わす]のビスグリコシド。 - 【請求項2】 ビスグリコシドIの製造用中間体として
の、一般式II: HO−CHR2−(CH2)p−(XR1)n−(CH2)q−(CHR3)m−OH II のジオール。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4004884.5 | 1990-02-16 | ||
DE4004884A DE4004884A1 (de) | 1990-02-16 | 1990-02-16 | Bisglykoside |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0517495A true JPH0517495A (ja) | 1993-01-26 |
Family
ID=6400326
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3018820A Withdrawn JPH0517495A (ja) | 1990-02-16 | 1991-02-12 | ビスグリコシド及びジオール |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5126441A (ja) |
EP (1) | EP0442371A3 (ja) |
JP (1) | JPH0517495A (ja) |
CA (1) | CA2036069A1 (ja) |
DE (1) | DE4004884A1 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005514340A (ja) * | 2001-10-25 | 2005-05-19 | ソシエテ・デクスプロワタシオン・デ・プロデュイ・プール・レ・アンデュストリー・シミック・セピック | 無機フィラーまたは顔料を含む水中油型エマルジョンの調製のための乳化剤としてのアルキルポリグリコシドの使用、およびそのようなアルキルポリグリコシドを含む水中油型エマルジョン |
US9404512B2 (en) | 2011-09-05 | 2016-08-02 | Boge Kompressoren Otto Boge Gmbh & Co. Kg | System for storing energy by means of compressed air |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19645189A1 (de) * | 1996-11-02 | 1998-05-07 | Henkel Kgaa | Geminitenside |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4043951A (en) * | 1975-10-30 | 1977-08-23 | Union Carbide Corporation | Acrylonitrile-capped polyether-siloxane |
US4103006A (en) * | 1976-05-20 | 1978-07-25 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Glycosides of 2,6-bis(hydroxy-phenyl)-3,7-dioxabicyclo [3,3,0] octane |
DE3220427A1 (de) * | 1982-05-29 | 1983-12-01 | Behringwerke Ag, 3550 Marburg | Ss-d-galactosederivate, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung |
BR8402706A (pt) * | 1983-06-08 | 1985-05-14 | Du Pont | Processo para preparar uma mistura de 1,4-butanodiol e 2-alquil-1,4-butanodiol;processo para preparar 2-alquil-1,4-butanodiol;processo para preparar uma mistura de tetraidrofurano e 3-alquiltetraidro-furano;processo para preparar um copolimero de tetraidrofurano e 3-alquiltetraidrofurano |
GB8421884D0 (en) * | 1984-08-30 | 1984-10-03 | Manchester Inst Science Tech | Liquid carbohydrate derivatives |
US4963399A (en) * | 1987-03-31 | 1990-10-16 | Union Carbide Chemicals And Plastics Company, Inc. | Polyurethane foam with low vinyl-staining tendencies |
DE3729843A1 (de) * | 1987-09-05 | 1989-03-23 | Huels Chemische Werke Ag | Verfahren zur herstellung von alkyloligoglycosiden |
GB2213155B (en) * | 1987-12-04 | 1991-12-11 | Sanyo Chemical Ind Ltd | Polymer/polyol composition, processes for making the same and polyurethane therefrom |
-
1990
- 1990-02-16 DE DE4004884A patent/DE4004884A1/de not_active Withdrawn
-
1991
- 1991-02-07 EP EP19910101651 patent/EP0442371A3/de not_active Withdrawn
- 1991-02-11 CA CA002036069A patent/CA2036069A1/en not_active Abandoned
- 1991-02-12 JP JP3018820A patent/JPH0517495A/ja not_active Withdrawn
- 1991-02-15 US US07/655,776 patent/US5126441A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005514340A (ja) * | 2001-10-25 | 2005-05-19 | ソシエテ・デクスプロワタシオン・デ・プロデュイ・プール・レ・アンデュストリー・シミック・セピック | 無機フィラーまたは顔料を含む水中油型エマルジョンの調製のための乳化剤としてのアルキルポリグリコシドの使用、およびそのようなアルキルポリグリコシドを含む水中油型エマルジョン |
US9404512B2 (en) | 2011-09-05 | 2016-08-02 | Boge Kompressoren Otto Boge Gmbh & Co. Kg | System for storing energy by means of compressed air |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0442371A3 (en) | 1992-02-26 |
EP0442371A2 (de) | 1991-08-21 |
US5126441A (en) | 1992-06-30 |
CA2036069A1 (en) | 1991-08-17 |
DE4004884A1 (de) | 1991-08-22 |
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---|---|---|---|
A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19980514 |