JPH05174762A - フィラメント - Google Patents
フィラメントInfo
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- JPH05174762A JPH05174762A JP34340491A JP34340491A JPH05174762A JP H05174762 A JPH05174762 A JP H05174762A JP 34340491 A JP34340491 A JP 34340491A JP 34340491 A JP34340491 A JP 34340491A JP H05174762 A JPH05174762 A JP H05174762A
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- wire
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Abstract
く長尺のカソードを均一に加熱する。 【構成】 フィラメント22は上下2本の平行なワイヤ
22a,22bで形成され、給電部5により下側のワイ
ヤ22a,22bの中央を機械的に支持するとともに給
電をする。ワイヤ22a,22bは両端でスライド板3
に固定され、スライドピン4がスライド板3を貫通す
る。ワイヤ22a,22bが熱膨張・熱収縮するとスラ
イド板3がスライドピン4に沿いスライドする。フィラ
メント22に電流を流すと抵抗加熱され、フィラメント
22を加熱する。
Description
し、真空中で金属蒸気等を発生させるリニア電子銃に利
用して有用である。
は図4のA−A断面を示す。長尺で棒状のカソード1
は、その後方に設けられたフィラメント2からの熱電子
14をボンバード電源7により電子衝撃加熱するか、フ
ィラメント2の熱輻射又はアルミナ等を介した熱伝導に
より、均一に加熱される。アノード10に正の加速電圧
が印加されると、カソード1から熱電子eが引き出され
これが電子ビーム13となる。ここでグリッド9は、グ
リッド電源12により負のバイアスを印加し、電子ビー
ム13となる熱電子eの軌道や量を制御する。
ラメント固定ブロック8で固定されているが、カソード
1に比較して断面係数が小さいため、クリープ変形防止
上スパンを短かくする必要があり、短尺のフィラメント
を直列に設置したり、中間支持機構20を設けたりして
いる。
え、このターゲットに電子ビーム13を照射するとター
ゲットが溶融蒸発し金属蒸気が得られる。この金属蒸気
により蒸着等が行える。
の長手方向に均一に蒸気密度を得るためには、電子ビー
ムの出力密度が均一である必要がある。しかし、1本の
カソード加熱用のフィラメント2によりカソード1を加
熱すると、フィラメント電流Iの作る磁界B(f)によ
り熱電子14や電子ビーム13が偏向され出力密度分布
を悪化させる。また、短尺のフィラメントを直列に設け
たり、途中に中間支持機構20を設けると、接合部や中
間支持部の温度低下がカソード1の温度低下に影響し、
均一な出力密度分布を得ることが困難であった。
を均一に加熱し、しかも電子ビームに磁界の影響の与え
ることのない長尺のフィラメントを提供することを目的
とする。
明の構成は、棒状のカソードから電子ビームを放出させ
るためカソードを加熱する長尺のフィラメントであっ
て、上下2本の平行なワイヤを有するとともに、下側の
ワイヤの中央部を機械的に支持し且つこの中央部から給
電をして上下のワイヤに逆向きの電流を通す給電部を備
え、ワイヤの長手方向の伸縮を許容しつつワイヤの両端
をスライド自在に支持するスライド支持部を備えたこと
を特徴とする。
ワイヤによる磁界が相殺され電子ビームに悪影響を及ぼ
すことがなく、また、上側のワイヤに浮力が作用しワイ
ヤ支持が簡単にできる。また下側のワイヤを給電部で支
持しているので、この支持部でも温度が他と同じ温度と
なり、温度が均一になる。
説明する。なお、従来技術と同一機能をはたす部分には
同一符号を付し、重複する説明は省略する。
ア電子銃の要部を示し、図2はこのリニア電子銃を用い
た蒸気発生装置を示す。両図に示すように、本発明に係
るフィラメント22は、上下2本の平行なワイヤ22
a,22bで構成されており、両ワイヤ22a,22b
は両端部で連結されるとともに直角に折り曲げられてい
る。下側のワイヤ22bは、固定ブロック8に固定され
た給電部5に連結されており、給電部5及び固定ブロッ
ク8が、フィラメント22を機械的に支持する中間支持
機構となっている。
に固定されており、スライド板3にはスライドピン4が
貫通している。このため、フィラメント22が熱膨張や
熱収縮により長手方向に伸縮した際には、この伸縮に応
じてスライド板3がスライドピン4に沿いスライドす
る。このようにフィラメント22の両端はスライドを許
容しつつスライド板3及びスライドピン4で支持されて
いる。
への給電は、給電部5及び下側のワイヤ22bの中央部
を介して行なう。フィラメント22に電流が通ると抵抗
加熱によりフィラメント22の温度が上昇する。給電部
5は下側のワイヤ22bに対する中間支持機構としても
作用しているが、給電部5に電流が流れるため、中間支
持部における温度低下は生じない。
れる電流の向きが逆になっているので、各ワイヤ22
a,22bに流れる電流による磁界で、軌道が曲げられ
ることはない。また、上下のワイヤ22a,22bに流
れる電流の向きが逆になっているので、ワイヤ22a,
22b間に反発力が生じる。下側のワイヤ22bは給電
部5により支持されているので、上側のワイヤ22aに
浮力が生じることになる。このようにワイヤ22aに浮
力が生じるため、ワイヤ22a,22b間に中間支持部
材を設ける必要はなく構成が簡単になる。
22に電流を通すとフィラメント22は抵抗加熱され
る。カソード1としてタングステン等の純金属を採用す
る場合は、カソード1とフィラメント2の間に設けたボ
ンバード電源7により電圧を印加し、電子衝撃加熱によ
りフィラメント22の熱電子を放出させカソード1を加
熱する。
度で作動できるLaB8 (ホウ化ランタン)やバリウム
含浸タングステン等を用いる場合は、フィラメント22
の熱輻射又はアルミナ焼結体を介してフィラメント22
から熱伝導することによっても、カソード1を所定の温
度に加熱することが可能である。
は、アノード電源11からアノード10に印加された加
速電圧により引き出され、一様磁場B中で270°偏向
され、るつぼ15中のターゲット16に照射される。そ
してターゲット16が溶融して金属蒸気17を得る。
たグリッド9は、電子ビーム14の軌道や放出量の制御
をする。
子銃を示す。この装置では長尺(1m以上)のカソード
1をカソード支持機構18で支持しており、またフィラ
メント22を多数直列に設置してフィラメント22をス
ライドピン支持ブロック19で支持している。そしてフ
ィラメント22により長尺のカソード1を均一に加熱
し、ビーム長が1m以上の電子ビーム13が発生する。
ク8がフィラメント22の下側のワイヤ22bの中央部
に設けられるため、本フィラメント22を最小の間隙で
直列に配置することが可能であり、カソード長1m以上
の超長尺電子銃も製作が可能となる。
うに本発明によれば、上下2本の平行なワイヤによりフ
ィラメントを構成し、上下のワイヤに流す電流の向きを
逆にしたため、各ワイヤに流れるフィラメント電流によ
る磁界が相殺され、電子ビームの軌跡に悪影響を及ぼす
ことがなくなる。また上側のワイヤに浮力が生じるた
め、上下ワイヤ間に中間支持機構は不要となり、構成は
簡単でよい。
給電と支持をしているため、支持部分で温度低下するこ
となく、均一な加熱ができる。
り長尺なカソードを均一に加熱することができ、ビーム
出力密度の均一な長尺なリニア電子銃を得る。このリニ
ア電子銃を用いることにより長手方向に均一な蒸気密度
が得られ、蒸着等を均一にさらに高速に行なうことが可
能となる。
要部を示す斜視図である。
示す断面図である。
子銃を示す構成図である。
Claims (1)
- 【請求項1】 棒状のカソードから電子ビームを放出さ
せるためカソードを加熱する長尺のフィラメントであっ
て、 上下2本の平行なワイヤを有するとともに、下側のワイ
ヤの中央部を機械的に支持し且つこの中央部から給電を
して上下のワイヤに逆向きの電流を通す給電部を備え、
ワイヤの長手方向の伸縮を許容しつつワイヤの両端をス
ライド自在に支持するスライド支持部を備えたことを特
徴とするフィラメント。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP03343404A JP3117261B2 (ja) | 1991-12-25 | 1991-12-25 | フィラメント |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP03343404A JP3117261B2 (ja) | 1991-12-25 | 1991-12-25 | フィラメント |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05174762A true JPH05174762A (ja) | 1993-07-13 |
JP3117261B2 JP3117261B2 (ja) | 2000-12-11 |
Family
ID=18361253
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP03343404A Expired - Fee Related JP3117261B2 (ja) | 1991-12-25 | 1991-12-25 | フィラメント |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3117261B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112703574A (zh) * | 2018-09-19 | 2021-04-23 | 瓦里安半导体设备公司 | 固态掺杂物材料的可插入式靶容纳器 |
US11664192B2 (en) | 2019-10-09 | 2023-05-30 | Applied Materials, Inc. | Temperature control for insertable target holder for solid dopant materials |
US11854760B2 (en) | 2021-06-21 | 2023-12-26 | Applied Materials, Inc. | Crucible design for liquid metal in an ion source |
-
1991
- 1991-12-25 JP JP03343404A patent/JP3117261B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112703574A (zh) * | 2018-09-19 | 2021-04-23 | 瓦里安半导体设备公司 | 固态掺杂物材料的可插入式靶容纳器 |
KR20210049174A (ko) * | 2018-09-19 | 2021-05-04 | 베리안 세미콘덕터 이큅먼트 어소시에이츠, 인크. | 간접 가열식 캐소드 이온 소스 및 상이한 도펀트들을 이온화하는 방법 |
JP2022500830A (ja) * | 2018-09-19 | 2022-01-04 | バリアン・セミコンダクター・エクイップメント・アソシエイツ・インコーポレイテッド | 固体ドーパント材料のための挿入可能なターゲットホルダ |
US11404254B2 (en) | 2018-09-19 | 2022-08-02 | Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. | Insertable target holder for solid dopant materials |
CN112703574B (zh) * | 2018-09-19 | 2023-06-30 | 瓦里安半导体设备公司 | 间接加热式阴极离子源及将不同的掺杂物离子化的方法 |
US11664192B2 (en) | 2019-10-09 | 2023-05-30 | Applied Materials, Inc. | Temperature control for insertable target holder for solid dopant materials |
US11854760B2 (en) | 2021-06-21 | 2023-12-26 | Applied Materials, Inc. | Crucible design for liquid metal in an ion source |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3117261B2 (ja) | 2000-12-11 |
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