JPH0516745B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は特許請求の範囲第１番目の発明の上位
概念に記載の装置に関する。

従来の技術 近年、例えば試験帯材又はフラツトでほぼ正方
形の小板の形の試験用担体が体液、特に尿及び血
液の分析に次第に多く使われるようになつてい
る。この試験用担体によつて、特に医学における
分析測定が特に簡単に実施し得るようになつた。
初めに試験用担体を試料と接触させ、つまり尿検
査では一般に帯状試験用担体を浸漬することによ
り行ない、血液検査では一般に血液を試験用担体
の試験区分に滴下しかつ試験区分により完全に吸
収された後でふき取るか又は洗浄する。いずれの
場合も、試験用担体の分析測定に重要な部分であ
る試験区分は、施される体液の内容物質と反応す
る試薬を含有する。

反応の評価に当つては、試験用担体を相応する
評価装置中に挿入する。この装置で、通常は試料
を施してから一定の時間後に物性値を測定する。
これが体液の特定成分の濃度の尺度である。体液
を分析する際に、たいていは、実施すべき分析に
特徴的な変色を生ぜしめる反応を適用する。この
際に、試験区分の拡散反射率を一定の波長で物理
的測定値として測定する。本発明は、特にそのよ
うな測光法により評価すべき試験用担体に関す
る。他の公知の試験用担体型では電気化学的反応
を利用する。この場合は、電圧又は電流の強さを
分析に特徴的な物理的測定値として測定する。一
般に、試験用担体は一定の分析に特異的に好適で
あり、即ち体液の一定の成分、所謂パラメータの
濃度を確定するために製造業者により一定の試験
用担体が市販されている。試験用担体を評価する
に当つては、この種の試験用担体型に特異的であ
る装置（単一パラメータ装置）並びにいくつかの
異なる試験用担体を評価することのできる装置
（多種パラメータ装置）が使われる。

一緒になつて１つの装置を構成する試験用担体
とそれに属する評価装置に対しては、非常に高い
精度が要求される。一般に、多数の試験用担体が
同一の条件下に一緒に製造される。例えば、測光
法で評価し得る試験では、１つの製造バツチに対
しては、試験区分のための一定の担持用マトリツ
クスと唯一の試験バツチとを使用する。それ故、
そのような製造バツチの試験用担体はその特性に
おいてほぼ完全に一致する。他方、製造バツチが
異なつている試験用担体は、その評価曲線におい
て、即ち装置により測定される物理的測定値、特
に試験区分の拡散反射率と測定すべき所定のパラ
メータの濃度との間の関係において相互にずれ
る。このずれは、別個の製造バツチの間の差異を
無視する場合、医学で定量測定に関して求められ
ている高い要求度を満たすことができないぐらい
大きい。

原理的に、所望の精度はそれぞれ試験用担体を
使用する前に標準溶液で検定することにより達成
することができる。しかしこのことは分析システ
ムの取扱いを困難にする。

それ故、その都度の試験用担体バツチに関する
バツチ特異性評価曲線についての情報を評価装置
に好適な方法で伝送することが既に提案された。
ヨーロツパ特許第73056号に、各試験用担体に、
バツチ特異性評価曲線に関する情報を包含するバ
ーコードを設けることが記載されている。そのた
めの評価装置は情報を取り出すバーコード読取り
部を備えている。ヨーロツパ特許第132790号に
は、同様に情報を記憶させるのに好適である磁気
層を有する帯状試験片が記載されている。情報は
試験用担体の製造業者によつて磁気層中にインプ
ツトされかつ評価装置中で相応する磁気読取りヘ
ツドにより読出される。

両方のこの公知の方法により特にスムーズな操
作が可能である。それというものも評価装置がそ
の都度必要な情報を自動的に受け取り、しかもそ
の際にユーザーが何らかの操作工程を行なう必要
がないからである。しかしこの利点には著しい経
済的なロスが伴なう。試験用担体の製造の際に、
個々の試験用担体に情報を伝達しかつその都度の
評価装置型に適合させた特別な試験用担体を製造
しなければならない。評価装置中にその都度相応
する読取り装置を設けなければならず、それは装
置のコストを著しく高める。

それ故、特に糖尿病患者用の血中グルコース値
を測定するためのより簡単な装置では、試験用担
体のバツチ特異性の変動を無視するのが殆んど一
般的である。しかしこれは医学的に許容されない
不正確さをもたらす。他の公知の血中グルコース
測定装置では、試験用帯材パツケージに対してそ
の都度試験用担体とは別個のフイルム上にバツチ
特異性評価曲線がバーコードの形で施される。そ
れによつて試験用担体を製造する際のロスは減少
するが、装置がコード読取り機を備えていなけれ
ばならず、著しく高価となる。

発明が解決しようとする問題点 本発明の課題は、冒頭に記載した種類の装置
を、バツチ特異性評価曲線を考慮して、医学的な
要件に対して全く十分な精度が達成されかつ同時
に試験用担体並びに評価装置の製造コストが可能
な限り有利であるように改良することである。

問題点を解決するための手段 この課題は特許請求の範囲に記載された発明に
より解決される。

本発明により、評価装置を非常に簡単にその都
度の試験片バツチの評価に適合させることができ
る。例えば、付属の試験用担体のパツケージ上に
符号列を印刷し、その際に計算支持点の全体を、
集合として表わされる数個の、殊に同じ大きさの
部分量に分割しかつ符号の数は計算支持点の集合
の数に相応する。この数は好適な調節装置により
評価装置に調節する。例えば、計算支持点の集合
の数に相応する、それぞれ例えば10個の別個の数
値に適応することのできる桁数を有する10進スイ
ツチが該当する。他の可能性は、後で詳説するよ
うに、コード入力に使用することのできる相応す
るキーを設けることである。いずれの場合も、ユ
ーザは試験用担体を包む新しいパツケージを破る
際に１回だけバツチコードを照合しかつ場合によ
り相応して調節装置の調節を変える必要があるだ
けである。これらの僅かな調節値をベースとし
て、マイクロプロセツサが物理的測定値から濃度
を計算する新しい方式により評価装置は濃度を正
確に計算し、これは従来このように簡単な装置で
は可能ではなかつた。

本発明による評価装置がコード読取り装置を必
要としないという事実は、経費の節約ばかりか、
特に小型の構造も可能にする。このことは医学的
にも重要である。それというのも糖尿病患者の場
合血糖濃度を可能な限り普通の生活条件下で測定
すべきであり、それ故測定装置を自宅以外でも使
うからである。従つて、その装置が持ち運びする
ことができる程小型でかつ軽量であればある程、
血糖値測定システムの受容性は良好である。

一般に、本発明により、試験用担体について正
確でバツチ特異性の評価をするために処理しなけ
ればならない情報量が著しく減少する。それ故、
評価曲線の評価装置への伝送が簡便になるばかり
でなく、評価装置中での情報処理も簡単になる。
その結果、しばしば４ビツトマイクロプロセツサ
を著しく経費のかかる８ビツトマイクロプロセツ
サの代りに使用することができる。それ故、これ
によつてもコスト及び構造規模を著しく節約する
ことができる。

装置中に、評価装置によつて評価されるべき試
験用担体の評価曲線と同様の経過を有する標準評
価曲線を記憶させる場合に、特に良好な結果が達
成され、この場合には標準曲線上の標準支持点が
曲線の変曲点並びに曲線の終端の周辺で定義され
かつ計算支持点の集合が標準支持点の周辺に存在
するはずである。その際、特に一方ではその都度
の測定値に直近の計算支持点の間隔と直近の標準
支持点の間隔との関係が計算に考慮される。

実施例 次に、本発明を添付図面に図示した実施例によ
り詳説する。

第１図では試験区分１４は照射装置１６の光で
照射される。試験区分１４の表面からの拡散反射
光は測定装置１８によりとらえられる。一般に、
測定装置は感光素子、例えばフオトダイオード、
増幅器及びアナログ−デイジタル変換器を包含す
る。好適な測定装置は公知である。

装置の中心素子はメモリ（図示せず）を備えた
プロセツサ２０である。プロセツサ２０は、種々
の装置機能を制御しかつ測定装置１８から伝送さ
れた物理的測定値を目的の濃度値に換算するのに
役立つ。このように計算した数値は表示制御装置
２２により表示装置２４に表示される。一般に、
表示装置２４としてはデイジタルデイスプレーが
使われる。

物理的な測定値から相応する濃度値を計算し得
るように、プロセツサ２０はバツチ特異性評価曲
線に関する情報を必要とする。この評価曲線は図
示した本発明の実施例では３つのキー２６，２
８，３０を介してプロセツサ２０に入力される。
キーにより選択される数値はデイスプレー２４に
表示される。例えば、デイスプレーの表示が試験
用担体パツケージ上に記載したコードを正しく再
表示するものである場合、プロセツサ２０に、デ
イスプレー上に表示されたコードを受容して、記
憶させる命令が与えられる。

例えば、デイスプレーは常用の７セグメントデ
イスプレーとして構成されていてよく、このデイ
スプレーにより10進法の数字10個と共に一連の符
号も表示できる。優れた実施形では、デイスプレ
ーのそれぞれの桁が16個の異なる符号を表示する
ことができ、それ故キー２６〜２８により、コー
ドのそれぞれの桁に関して16個の異なる別々の数
値が表示されかつプロセツサ２０に伝送される。
16という数字は、16までの異なる数値をプロセツ
サ内で４ビツトワードにより簡単にコード化しか
つ処理することができるので特に優れている。し
かし必要に応じて、他の数の不連続調節値を適用
することもできる。

第１図にはマイクロプロセツサを制御するタイ
マー３２及びシステムのエネルギー供給用の電力
供給ユニツト３４が設けられている。他の素子、
例えば作業電圧等を制御するための素子は記載し
たように見易くするための図示しなかつた。

まず第１に、本発明は、プロセツサ２０中で、
例えばキー２６，２８，３０及びデイスプレー２
４を介して入力した、その都度僅かな不連続値を
有する数少ない桁から成るコードにより、物理的
測定値から濃度を計算する方法に関する。次にこ
の方法を第２図及び第３図により詳説する。第２
図には３つの曲線Ｓ，Ｉ及びＪが図示されてい
る。例えば、曲線Ｉは血中グルコースを測定する
ための光学試験用の標準曲線の経過を示す。縦座
標には、拡散反射率Ｒが装置の光学系により決定
された一定の測定波長でプロツトされている。横
軸には測定すべきパラメータ、この場合はグルコ
ースの相応する濃度がプロツトされている。曲線
Ｉでは、分析試験用担体の試験区分の特性に基づ
いて、拡散反射率Ｒが低い濃度値で高いことが明
らかである。平均濃度範囲では、右上から見て凸
形に湾曲しながら拡散反射率は低下する。曲線の
経過は変曲点を通つて凹形湾曲に移行している。
この範囲では拡散反射率Ｒは濃度増加と共に若干
強く低下し、ついには高い濃度では僅かに変化す
るだけである。

一般に、試験用担体の評価曲線は、選択した試
薬及び試験用担体の他の性質に左右されるので、
試験毎に異なつている。しかし図示されている種
類の曲線の経過は多くの例にとつて代表的なもの
である。平均的範囲において拡散反射率が濃度に
対して高い相互関係があるという利点を有する。
これは高度な測定精度にとつて有利である。

前記のように、異なる製造バツチの試験用担体
の評価曲線は同じではない。例えば、第２図に、
Ｊで表わす他の評価曲線が一点鎖線で図示されて
いる。この曲線が評価曲線Ｉと著しく異なつてい
ることが認められる。しかし若干の基本的性質に
おいて一致している。特に、初めは凹形で、変曲
点の後で凸形湾曲に移行している。他の評価曲線
は見易くするための図示しなかつた。しかし、バ
ツチはそれぞれ他の評価曲線を有するので無限に
多数の評価曲線が可能であり、これらは本発明の
範囲で著しく近似していると考えることができ
る。

本発明にとつては、経過が評価曲線のそれに次
に記載の意味において類似している標準評価曲線
を確定しかつ評価装置のメモリ中に記憶させるこ
とが重要である。このような標準評価曲線は第２
図にＳとして図示されている。

まず、標準評価曲線は複数の評価曲線の数値範
囲内に存在すべきである。これは、少なくとも標
準評価曲線が試験用担体について実際に得られる
評価曲線の物理的測定値の極値以内の所望の濃度
範囲に存在することを表わす。第２図に図示され
ているように、一般に、これらの極値は同じ評価
曲線によつて表わされるものではない。例えば、
図示された実施形では曲線Ｉは低い濃度と高い濃
度の範囲で高いＲ値を有しかつ曲線Ｊは特に低い
Ｒ値を有する。平均濃度範囲では全く反対であ
る。標準評価曲線Ｓは評価曲線の範囲に存在すべ
きである。多くの場合に、標準評価曲線がほぼ評
価曲線の平均的数値範囲に、つまり異なる試験用
担体バツチに関する多数の予備実験により確定し
た評価曲線のほぼ中央部に存在すると特に有利で
ある。

更に、標準評価曲線は、評価曲線と同様に、凸
形ないしは凹形湾曲部を拡散反射率に関して同じ
区間を有すべきである。数量的には、標準曲線の
凹形湾曲区域と凸形湾曲区域との間の変曲点が、
試験用担体バツチの可能な評価曲線の変曲点に相
応する拡散反射率の数値が標準曲線のその数値と
最高20％、殊に最高10％異なつているような拡散
反射率の数値に対応して存在すべきである。

第２図から明らかなように、曲線ＩとＪが同じ
曲率を有する濃度範囲は一致しない。特に、変曲
点は同じ濃度値にはない。それ故、評価曲線と同
様に、標準評価曲線が濃度に関して全く等しい区
間において同じ曲率を有することはあり得ない
し、又必要でもない。これらが、後記の反復法で
測定結果の十分に正確な数値が得られるように、
“ほぼ”一致すれば十分である。

標準曲線は、例えば多項式の形で表わすことが
でき、その係数を記憶させる。標準曲線を多角形
として表わすと優れており、即ち曲線上に存在す
る点を記憶させかつそれらの点の間で補間する。
勿論、標準曲線を変換形で（例えば一次変換し
て）記憶させることもできる。この場合、次に計
算ではこの変換を考慮しなければならない。

更に、本発明にとつて、標準曲線上で凹形湾曲
区間と凸形湾曲区間との間の各変曲点“の近く
で”標準支持点と称する１つの点を規定しかつ記
憶させることが重要である。第２図では、それは
R_sb，C_sbで表わされている。“の近くで”という
用語は前記の“ほぼ”という用語と同じであると
理解すべきであり、即ち標準支持点の濃度は変曲
点の濃度と著しく異なつていないはずであるの
で、測定値からの濃度の計算法は全体的に満足す
べき結果をもたらす。このずれが個々の例でどの
程度大きくてよいかは個々に本発明思想に基いて
簡単に決定することができる。数量的には、標準
支持点の濃度値は変曲点の濃度値から20％よりも
多く、殊に10％よりも多くずれていてはならな
い。

他の標準支持点は測定すべき濃度範囲の終端近
くに存在する。この場合には、実際に使われる濃
度の数値範囲が重要であり、場合によつてはその
範囲を越える、工業的には可能だが、プラクチス
において一定の分析系では使われない数値範囲は
重要ではない。前記の“近くに”という用語は前
段に記載した内容と同じである。

更に本発明の基本的な特徴は、バツチ特異性評
価曲線が、例えば２進化した数学的関数（これは
拡散反射率の数値に濃度値を対応させる）の形で
装置に伝送されるのではなく、制限された数の不
連続的な数値の組合せR_ia，C_ia；R_ib，C_ib；R_ic，
C_ic；…だけが固定的にプログラミングされた計
算支持点の有限の記憶から伝送されることであ
る。従つて、計算支持点は本来、評価曲線とは関
係なく確定されかつ評価装置のメモリに記憶され
る。計算支持点のそれぞれの集合はその都度標準
支持点の周辺に存在する。一般に、各標準支持点
の周辺に同数の計算支持点が規定され、即ち各集
合は同数の点を有する。それ故、唯１つの変曲点
の近くに１つの標準支持点及び測定すべき濃度範
囲の終り近くに他の２つの標準支持点、従つて合
計３個の標準支持点を有する第２図に図示された
種類の曲線経過では同じ大きさの計算支持点の集
合が規定される。有利には、これらの集合のそれ
ぞれは16個の異なる計算支持点（即ちこれらの計
算支持点を規定する数の組合せR_ia，C_ia；R_ib，
C_ib；R_ic，R_ic、その際ｉはそれぞれ１…16であ
る）を包含する。装置中にプログラミングされた
これらの数の組合せは第１図に図式された方式で
は例えばキー２６，２８，３０を用いてその都度
の試験片バツチに適合させて選択される。キー２
６，２８，３０により選択可能な16個の符号はそ
れぞれ数の組合せに相当する。例えば、第１の符
号は16個の計算支持点の１つR_ia，C_iaの呼出し、
第２の符号は16個の計算支持点の１つR_ib，C_ibの
呼出し、第３の符号は16個の計算支持点の１つ
R_ic，C_icの呼出しに使われる。それぞれの試験用
担体バツチに関して評価装置のユーザは例えばパ
ツケージ上に印刷の形で、ユーザがどの符号列を
計算支持点の呼出しのために選択すべきかという
指示を得る。この符号列のキーインにより計算支
持点の各集合に関して数の組合せが呼出される。

本発明方法は、数の組合せの選択のために調節
すべきかつ伝送すべき情報の数が小さいと特に有
利である。それ故、標準曲線上の標準支持点に対
応する計算支持点集合の数は最高10に、殊に最高
５に制限されている。それ故、各試験用担体バツ
チに関して計算支持点の僅かな数の組合せがプロ
セツサに伝送される。１つの集合に対する計算支
持点の数は最高256であると優れている。

記載したように、計算支持点の集合は標準支持
点の周辺に存在する。正確な位置は、後記の反復
法から明らかでありかつ当業者によつて本発明思
想をベースとして簡単に確定される。

その都度、計算支持点が標準曲線を鈍角で切断
する線分上に存在すると優れている。第２図には
このような線分ａ，ｂ及びｃの３本が図示されて
いる。それらは標準支持点R_sa，C_sa；，R_sb，
C_sb；R_sc，C_scに対応する。図示された、優れた
実施形では線分ａ，ｂ及びｃは標準曲線をこれら
の点で切断する。線分が図示されているようにほ
ぼ直線であると優れている。

第３図は標準曲線Ｓ及び評価曲線Ｉのそれぞれ
一部、即ち２つの標準支持点R_sa，C_sa；R_sb，C_sb
ないしは２つの計算支持点R_ia，C_ia；R_ib，C_ibの
間の部分だけを示している。ここに図示されてい
る特に簡単な本発明の実施形では、その都度計算
支持点は座標系の座標に平行に延びている直線上
に位置する。図面には標準支持点R_sa，C_sa及び
R_sb，C_sbに対するそれぞれ10個の計算支持点が図
示されている。標準支持点R_sa，C_saに対応する計
算支持点R_ia，C_ia；……；R_10a，C_10aは座標系の
縦座標に平行に延びている直線ａ上に存在する。
それ故、すべてのこれらの計算支持点は相応する
標準支持点と同じ濃度値（C_1a＝C_2a＝…＝C_10a＝
C_sa）を有する。これは装置中での記憶を簡略に
する。それというのもそれぞれの計算支持点及び
標準支持点に関してそれぞれＲ−値だけを別個に
記憶させる必要があるが、すべての計算支持点及
び標準支持点に関して同じであるＣ−値は１回だ
け記憶させるだけだからである。横座標に平行な
直線ｂ上に位置する計算支持点R_ib，C_ib；……
R_10b，C_10bに関しても同様であるが、Ｒ−値はす
べての計算支持点に関して等しくかつ対応する標
準支持点R_sbと一致する。

次に、拡散反射の測定値R_ixから濃度値C_ixを計
算する方法を同様に第３図に基いて詳説する。

例えば、拡散反射率の数値R_ixを測定する。使
用した試験用担体の真の評価曲線は第３図で符号
Ｉの破線で表わされている。測定値R_ixにより規
定される水平線は曲線Ｉと点Ｐで交差し、この点
Ｐに対応する濃度値が測定すべき真の濃度値であ
る。しかし、濃度値を正確に測定することは、各
バツチに関する曲線Ｉが評価装置中に完全に記憶
されている場合にだけ可能である。分析試験用担
体の評価曲線は高次の複雑な関数でも正確に表わ
すことはできないので、記憶させることは基本的
に不可能である。それ故近似法で処理され、この
方法を適用することにより評価曲線が近似的に表
わされ、即ちそれぞれの測定値R_ixに対して、真
の評価曲線に可能な限り良好に近似する濃度値が
対応する。これは、それぞれの試験用担体バツチ
の評価曲線を既に記載したように、高次の関数の
形で表わしかつこの関数のパラメータを評価装置
に伝送することにより基本的に可能である。しか
しながらこれには、記載したように、特に評価装
置に関して莫大な経費が必要である。

それ故、一般により簡単な評価装置に関して
は、すべての試験用担体バツチについて唯一の平
均評価曲線を適用する。第３図に図示されている
標準曲線Ｓがそのような平均的な評価曲線とする
ならば、測定値R_ixに相応する水平線はこの曲線
と点Ｑで交差する。この点Ｑに相応する濃度値が
真の濃度値から著しくずれていることが認められ
る。それ故、このような粗い近似では全く不十分
である。

本発明により、著しく僅かな経費で真の評価曲
線にはるかに良好に近似することができる。つま
り初めに測定値R_ixから標準曲線上の標準測定値
R_sxを計算し、次にこの標準測定値R_sxに相応する
濃度値C_sxから目的の濃度値C_ixを計算する。初め
の計算段階では、測定値R_ixに最も接近している
計算支持点の両方のＲ−値の差（例えばR_ia−
R_ib）と、これらの計算支持点に対応する標準支
持点の両方のＲ−値の差（例えばR_sa−R_sb）を使
う。その際に、基本的に本発明は、計算支持点及
び標準支持点を相応して選択しかつ標準曲線が評
価曲線に対して近似の曲線経過を有する場合に
は、隣接する計算支持点の数値に対する拡散反射
値の相対的変化が標準曲線上の標準支持点に対す
る相応する変化と驚くほど近似しているという認
識に基づいている。

これを第３図につき詳説する。その際に特に優
れた一次近似式が記載されているが、これに限定
されるものではない。その際に記載の計算例の符
号は、図示された曲線区分において正の拡散反射
値及び濃度値が得られるように選択されている。
別の曲線区分に関しては記号を相応して変更する
ことができる。

標準曲線上の標準測定値R_sxを計算するに当つ
ては、測定値R_ixの隣接する計算支持点R_iaからの
差と、計算支持点R_iaとR_ibの差との比αを計算す
る。この比を標準支持点R_saとR_sbとの差で乗じ、
このようにして得られた標準支持点R_saに対する
相対的な拡散反射値の低下をこのR_saから引く。
その結果標準測定値R_sxが得られ、本発明によれ
ばこの値が測定した拡散反射率R_ixに相応する標
準曲線上の値である。

R_sx＝R_sa−α（R_sa−R_sb）；α＝R_ia−R_ix／R_ia−R_ib この値R_sxが標準曲線Ｓ上の濃度値C_sxに対応す
る。この数値を、相応する近似法において、一方
では隣接する計算支持点の濃度値C_iaとC_ibとの差
並びに他方では隣接する標準支持点の濃度値C_sa
とC_sbとの差を考慮して換算する。数値C_sxと隣接
する標準濃度値C_saとの差と、標準濃度値C_saと
C_sbとの差の関係は一次的近似関係を有する。こ
の比βを、計算支持点の両方の濃度値C_ibとC_iaと
の差で乗じかつ隣接する計算支持点の濃度値C_ia
に加える。

C_ix＝β（C_ib−C_ia）＋C_ia；β＝C_sx−C_sa／C_sb−C_sa このようにして濃度値C_ixが得られる。これは
正確ではないが、測定すべき濃度値に極めて近似
している。このことは、第３図において点C_ix，
R_ixが評価曲線上の点Ｐから僅かにずれているこ
とにより明らかである。

記載したように、詳細に記載したこの一次近似
関係の代りに他の近似法を選択することもでき、
その方法では一方では計算支持点の間の差と他方
では標準支持点の間の差の関係が考慮される。例
えば、特別な場合には対数近似法又は二次近似法
が推奨される。しかし前記の一次近似法が簡単で
ありかつ十分に満足すべき実際上の結果が得られ
る。

本発明方法による近似式の性能は、詳説しかつ
特許請求した範囲内の標準曲線、標準支持点及び
計算支持点の選択に著しく左右される。最適化す
るには、次のように行なう反復法が推奨される： 初めに多数の試験用担体バツチを製造しかつそ
れに対応する評価曲線を正確に測定する。その
後、最初の標準曲線を、それが評価曲線のほぼ中
央で延びるように作成する。初めに、標準支持点
は標準曲線の変曲点及び測定範囲の終端にプロツ
トする。これらの標準支持点を通つて、その都度
の標準支持点において標準曲線の経過に対して鈍
角で延びている直線か又は若干湾曲している曲線
を作成する。有利には、簡便さのために、座標系
の軸に対して平行に延びる直線を求める。この直
線上に、等間隔を相互に有する計算支持点を規定
する。直線上で標準支持点の両側に存在する計算
支持点の間隔及び分布は、最も外側の計算支持点
が目的の試験用担体バツチの最も外側の評価曲線
の更に外側に位置するように選択する。

各試験用担体バツチに関して、初めに計算支持
点のそれぞれの集合から、曲線の経過で可能な限
り近い位置の計算支持点を選択する。この計算支
持点及び本発明方法を用いることによつて、接近
した評価曲線の経過が計算され、グラフで表わさ
れかつその都度の実際の評価曲線に対照される。
すべての予め測定した評価曲線が所望の近似特性
をもつて表わされる場合には、この方法は終結し
ている。しかし一般には少なくともいくつかの評
価曲線は少なくとも部分範囲では、必要な性能を
もつては再現されない。このような場合には、標
準曲線の経過及び／又は標準支持点及び計算支持
点の選択を変えて、新しい試験を行なつて、必要
な精度が達成されるかどうかを試験する。この方
法は手数がかかるように見えるが、現代のデータ
処理装置により比較的迅速に定期的に実施するこ
とができる。本発明により、具体化するのが非常
に複雑な評価曲線も評価装置の点で極く僅かな経
費でかつ非常に正確に計算することができ、即ち
最終的には試験用担体に関するバツチ特異性の相
互のずれを比較的簡単な構造でかつコスト的に有
利な評価装置において考慮することができ、その
際に同時に評価装置と試験用担体とから成る本発
明による装置は特に簡単に取扱うことができる。

本発明は、数種の異なるパラメータの測定を可
能にする数個の異なる型の試験用担体を測定する
ことのできる評価装置にも有利に適用することが
できる。この場合には、各型の試験用担体に関し
て別々に標準曲線、標準支持点及び計算支持点を
記憶させることができる。しかしながら曲線の経
過に応じて、数個の型の試験用担体に関して同じ
計算支持点又は標準支持点及び場合によつては標
準曲線の経過の一部を共同で使用することも可能
である。それ故、記憶容量が節約される。勿論、
一定の型の試験用担体のそれぞれのバツチに関し
ては、その都度対応する計算支持点の組合せを
別々に呼出さなければならない。例えば、それぞ
れの試験用担体型に関して計算支持点の３つの集
合がある場合には、呼出しは有利に４つの符号列
によつて行なうことができる。第１の符号が試験
用担体の型を表示する。他の３つの符号は、その
都度の試験用担体の型に関して記憶されている有
限の計算支持点からのその選択を表示する。

第４図は、例えば計算支持点を選択するための
可視符号がどのように試験用担体１０上に設けら
れているかを示すものである。この場合には、英
数字符号の“9F4”であり、この符号に基づいて
その都度の16個の計算支持点の集合から３個の計
算支持点が選択される。符号は試験用担体１０の
基材１２上に施されている。１つの製造バツチの
すべての試験用担体は同じ可視符号を有する。

第５図は、可視符号が試験用担体パツケージ４
０及び／又は相応するパツケージ添付紙４２上に
設けられている例を表わす。この方法では、各試
験用担体に可視符号を印刷する必要がないので製
造は簡単である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明による試験用担体評価装置のブ
ロツク線図、第２図は拡散反射率（Ｒ）と濃度(C)
の相関関係を示す２つのバツチ特異性評価曲線と
標準曲線、第３図は第２図の場合とは異なつた位
置の計算支持点の数の組合せを有する１つのバツ
チ特異性評価曲線及び標準評価曲線の一部を示す
線図、第４図は試験用担体パツケージ上に可視符
号を付すための実施例を示す図、第５図は同様に
パツケージ添付紙に付すための実施例を示す図で
ある。 １０…試験用担体、１４…試験区分、２０…プ
ロセツサ、２６，２８，３０…キー。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ (1) 体液成分を含有する試料液体を施すと反
   応する試薬を含有する試験区分１４を備えてい
   て、その際にその試験区分の１４の測定可能な
   物理量が体液成分の濃度(C)に相応して変動する
   試験用担体１０、及び (2) 物理量を測定するための測定装置１８及び、
   その物理量の測定値（Ｒ）を読み取りかつ測定
   値（Ｒ）から、装置により伝達された情報に基
   づいて評価曲線、つまり試験用担体の製造バツ
   チに相応して異なつている、物理量の測定値
   （Ｒ）と濃度(C)との間の関係を示す評価曲線を
   介して濃度(C)を計算するメモリ及びプロセツサ
   ２０を包含する評価電子素子を備えた評価装置
   より成つている、体液成分の濃度(C)を測定する
   装置において、 ａ 前記の評価装置には、有限値の不連続の計
   算支持点が記憶されており、その際にそれぞ
   れの計算支持点はそれぞれ１個のＲ−値とＣ
   −値とからの数値の組合せ（R_ia，C_ia；R_ib，
   C_ib；……）に相当し、 ｂ 試験用担体は、そのパツケージ又はパツケ
   ージ付録に、試験用担体のその都度の製造バ
   ツチに対応する複数の可視符号が付されてお
   り、 ｃ 評価装置が可視符号を手操作入力するため
   の装置２６，２８，３０を有し、 ｄ 評価装置中では入力に基づいて一定の計算
   支持点が有限値から選択され、この計算支持
   点はその都度の製造バツチの測定値（Ｒ）と
   濃度(C)との間の実際の関係を代表するもので
   あり、かつ ｅ プロセツサ２０がその都度の測定値（Ｒ）
   に相応する濃度を、選択された計算支持点を
   用いて近似法で計算することを特徴とする、
   体液成分濃度測定装置。 ２ ａ メモリ中に標準評価曲線が記憶されてお
   り、その曲線経過が評価装置により評価すべき
   試験用担体の評価曲線Ｉ，Ｊの経過に aa 標準評価曲線が、評価曲線Ｉ，Ｊの数値
   範囲に存在し、かつ ab 標準評価曲線が、濃度に関して評価曲線
   Ｉ，Ｊと同じ区間に凸形ないし凹形の湾曲を
   有するという点で近似しており； ｂ 標準曲線上に、凹形湾曲区間と凸形湾曲区間
   との間の変曲点の近くにかつ測定すべき濃度範
   囲の終端の近くにそれぞれ１個のＲ−値とＣ−
   値より成る標準支持点（R_sa，C_sa；R_sb，C_sb；
   ……）が規定されており； ｃ それぞれ標準支持点（R_sa，C_sa；……）に
   は、その標準支持点の周辺に存在する計算支持
   点の一定の集合（ｉ＝１…10のR_ia，C_ia；…
   …）が対応し； ｄ 近似法は２段階で行い、その際に da 初めに、その都度読み取つた測定値（R_ix）
   を、一方では選択した直近の計算支持点の両
   側のＲ−値（R_ia，R_ib）の差と他方ではこれ
   らの計算支持点に対応する両側の標準支持点
   のＲ−値（R_sa，R_sb）の差の相対的な大きさ
   を考慮して標準定値（R_sx）に換算し、かつ db その後、標準測定値（R_sx）に相応する標
   準曲線（Ｓ）上の濃度値（C_sx）を、一方で
   は直近の計算支持点の両側のＣ−値（C_ia，
   C_ib）の差と他方ではこれらの計算支持点に
   対応する直近の標準支持点の両側にＣ−値
   （C_sa，C_sb）の差の相対的な大きさを考慮し
   て目的の濃度値（C_ix）に換算する、特許請
   求の範囲第１項記載の装置。 ３ 標準測定値（R_sx）（特許請求の範囲第１項記
   載の特徴ｃ））を一次近似式： R_sx＝R_sa−α（R_sa−R_sb）；α＝R_ia−R_ix／R_ia−R_ib で計算し、かつ目的の濃度値も同様に一次近似
   式： C_ix＝β（C_ib−C_ia）＋C_ia；β＝C_sx−C_sa／C_sb−C_sa で計算する、特許請求の範囲第２項記載の装置。 ４ 標準支持点（R_sa，C_sa；……）の周辺の、１
   つの集合に属する計算支持点（ｉ＝１……10の
   R_ia，C_ia；……）が標準曲線と鈍角で交差するほ
   ぼ直線状の線分（ａ，ｂ，ｃ）上に存在する特許
   請求の範囲第２項又は第３項記載の装置。 ５ それぞれ、１つの集合に属する計算支持点
   （ｉ＝１……10のR_ia，C_ib；……）が、座標系Ｒ
   −Ｃの座標に平行である直線上に存在する特許請
   求の範囲第２項又は第３項記載の装置。 ６ 最低２つのおよび最高５つの計算支持点の集
   合を備えている特許請求の範囲第１項から第５項
   までのいずれか１項記載の装置。 ７ 可視符号に基づいて選択した、計算支持点の
   集合内の計算支持点が、その都度の製造バツチに
   関する評価曲線の実際の経過に最も近似している
   かあるいはその次に近似しているものである特許
   請求の範囲第２項記載の装置。 ８ 可視符号が英数字符号である特許請求の範囲
   第１項記載の装置。 ９ 最高５個の英数字符号を備えている特許請求
   の範囲第１項記載の装置。