JPH05166980A - Semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device

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JPH05166980A
JPH05166980A JP3327742A JP32774291A JPH05166980A JP H05166980 A JPH05166980 A JP H05166980A JP 3327742 A JP3327742 A JP 3327742A JP 32774291 A JP32774291 A JP 32774291A JP H05166980 A JPH05166980 A JP H05166980A
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JP
Japan
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heat
semiconductor chip
bumps
semiconductor device
heat dissipating
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP3327742A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tetsuo Kono
哲雄 河野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP3327742A priority Critical patent/JPH05166980A/en
Publication of JPH05166980A publication Critical patent/JPH05166980A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/12Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/14Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of a plurality of bump connectors

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  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

PURPOSE:To enable a semiconductor device provided with bumps to be enhanced in heat dissipating properties making it high in mounting density. CONSTITUTION:A semiconductor chip 11, a heat dissipating plate 15 disposed confronting the surface of the semiconductor chip 11, and a heat dissipating bump 14 which brings the semiconductor chip into physical contact with the heat dissipating plate 15 are provided. The heat released from the semiconductor chip 11 is transmitted to the heat dissipating plate 15 and dissipated from the plate 15. The heat is primarily released from the surface of the semiconductor chip 11 and transmitted to the heat dissipating plate 15 through the inter mediary of the bump 14 provided on the surface of the surface of the semiconductor chip 11, so that the heat released from the semiconductor chip 11 can be efficiently dissipated. As heat is dissipated from both the sides of the heat dissipating plate 15, the plate 15 is high in heat dissipating efficiency, and heat is dissipated from the heat dissipating plate 15 nearly equal to the semiconductor chip 11 in area, so that a semiconductor device can be miniaturized.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は半導体装置に係り、特に
バンプを用いた半導体装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device, and more particularly to a semiconductor device using bumps.

【0002】近年の半導体装置は、益々大規模化が進
み、これに伴い消費電力及び発熱量が増大してきてい
る。
In recent years, semiconductor devices have become larger and larger, and accordingly, power consumption and heat generation amount have increased.

【0003】よって、半導体チップが発生する熱を有効
に放熱する方法が望まれている。
Therefore, a method for effectively radiating the heat generated by the semiconductor chip is desired.

【0004】[0004]

【従来の技術】図7及び図8は従来における半導体装置
1を示している。半導体装置1は、大略するとパッケー
ジ2と放熱フィン3とにより構成されており、パッケー
ジ2は樹脂により、また放熱フィン3はアルミニウム等
の金属により構成されていた。
2. Description of the Related Art FIGS. 7 and 8 show a conventional semiconductor device 1. The semiconductor device 1 is roughly composed of a package 2 and a radiation fin 3, the package 2 is made of resin, and the radiation fin 3 is made of metal such as aluminum.

【0005】パッケージ2は、樹脂モールドにより半導
体チップ5を封止したものであり、半導体チップ5はこ
のパッケージ2により保護されている。この半導体チッ
プ5の背面は放熱フィン3と接触するよう構成されてお
り、よって半導体チップ5で発生する熱は放熱フィン3
により放熱される。また、パッケージ2には複数のリー
ドピン4が配設されており、このリードピン4は半導体
チップにバンプ6により電気的に接続されている。
The package 2 is obtained by sealing the semiconductor chip 5 with a resin mold, and the semiconductor chip 5 is protected by the package 2. The back surface of the semiconductor chip 5 is configured to come into contact with the heat radiation fins 3, so that the heat generated in the semiconductor chip 5 is generated by the heat radiation fins 3.
Heat is dissipated by. Further, the package 2 is provided with a plurality of lead pins 4, and the lead pins 4 are electrically connected to the semiconductor chip by bumps 6.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかるに、上記従来の
半導体装置1では、パッケージ2に形状の大なる放熱フ
ィン3を設けた構成とされていたため、半導体装置1の
形状も大きくなり、半導体装置1の高密度実装を行うこ
とができないという問題点があった。
However, in the above-described conventional semiconductor device 1, since the package 2 is provided with the radiation fins 3 having a large shape, the shape of the semiconductor device 1 also becomes large, and the semiconductor device 1 However, there is a problem that high-density mounting cannot be performed.

【0007】近年半導体技術が向上し、半導体装置をよ
り高速でかつ高集積で使用するようになってきており、
これに伴い消費電力及び発熱量も著しく増大してきてい
る。従って、高密度実装を実現しつつ効率良く放熱を行
う必要があるが、上記の従来構成の半導体装置1では、
両者を両立することができなかった。
In recent years, semiconductor technology has improved, and semiconductor devices have come to be used at higher speed and higher integration.
Along with this, the power consumption and the amount of heat generation have also increased remarkably. Therefore, it is necessary to efficiently dissipate heat while realizing high-density mounting. However, in the semiconductor device 1 having the conventional configuration described above,
I couldn't make both.

【0008】本発明は上記の点に鑑みてなされたもので
あり、高密度実装を実現しつつ効率良い放熱を行い得る
半導体装置を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above points, and an object of the present invention is to provide a semiconductor device capable of efficiently radiating heat while realizing high-density mounting.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記課題は、半導体チッ
プと、この半導体チップの表面と対向して配設される放
熱板と、上記半導体チップと放熱板とを物理的に接触さ
せる放熱用バンプとを設けたことを特徴とする半導体装
置により解決することができる。
Means for Solving the Problems The above-described problems are solved by a semiconductor chip, a heat radiating plate arranged to face the surface of the semiconductor chip, and a heat radiating bump for physically contacting the semiconductor chip and the heat radiating plate. This can be solved by a semiconductor device characterized by being provided with.

【0010】また、半導体チップに上記放熱用バンプに
加えて電気接続用バンプを形成し、放熱用バンプをこの
電気接続用バンプを囲繞するよう配設することにより、
また、放熱用バンプを半導体チップ上に格子状に配設す
ることにより、更には、放熱用バンプを、半導体チップ
上の発熱位置に集約的に配設することにより一層効果的
に実現することができる。
Further, in addition to the above-mentioned heat radiation bumps, electric connection bumps are formed on the semiconductor chip, and the heat radiation bumps are arranged so as to surround the electric connection bumps.
Further, by arranging the heat radiation bumps in a grid pattern on the semiconductor chip, and further by collectively arranging the heat radiation bumps at the heat generation positions on the semiconductor chip, it is possible to realize even more effectively. it can.

【0011】[0011]

【作用】上記構成とされた半導体装置では、半導体チッ
プで発生した熱はバンプを介して半導体チップと対向し
た放熱板に熱伝達され、この放熱板にて放熱される。半
導体チップにおいて発熱するのは、主にその表面であ
り、半導体チップの表面に配設されたバンプを介して熱
は放熱板に熱伝達されるため、半導体チップの熱は効率
良く放熱板に熱伝達される。
In the semiconductor device having the above structure, the heat generated in the semiconductor chip is transferred to the heat radiating plate facing the semiconductor chip via the bumps and radiated by the heat radiating plate. It is the surface of the semiconductor chip that generates heat, and the heat is transferred to the heat sink through the bumps provided on the surface of the semiconductor chip. Therefore, the heat of the semiconductor chip is efficiently transferred to the heat sink. Transmitted.

【0012】また、放熱板はその表裏全面において放熱
を行うため放熱効率は良好であり、熱導体チップと略等
しい表面積を有する放熱板で確実に放熱を行うことがで
きるため、半導体装置の小型化を図ることができる。
Further, since the heat sink radiates heat over the entire front and back surfaces, the heat radiation efficiency is good, and the heat radiating plate having a surface area substantially equal to that of the heat conductor chip can surely radiate heat, so that the semiconductor device is miniaturized. Can be planned.

【0013】[0013]

【実施例】次に本発明の実施例について図面と共に説明
する。図1(A)は本発明の第1実施例である半導体装
置10の平面図であり、同図(B)は図1(A)におけ
るA−A線に沿う断面を示しており、また同図(C)は
B−B線に沿う断面を示している。また、各図はバンプ
工程後の半導体装置10を示している。
Embodiments of the present invention will now be described with reference to the drawings. FIG. 1A is a plan view of a semiconductor device 10 which is a first embodiment of the present invention, and FIG. 1B shows a cross section taken along the line AA in FIG. FIG. 6C shows a cross section taken along the line BB. Each drawing shows the semiconductor device 10 after the bump process.

【0014】図中、11は半導体チップであり、その上
部には例えばアルミニウム膜よりなるパッド12が形成
されており、更にその上部には半田(Pb−Sn)或い
は金(Au)よりなる電気接続用バンプ13が形成され
ている。更に、半導体チップの中央位置には、本発明の
要部となる放熱用バンプ14(梨地で示す)が形成され
ている。
In the figure, 11 is a semiconductor chip, a pad 12 made of, for example, an aluminum film is formed on the semiconductor chip, and an electrical connection made of solder (Pb-Sn) or gold (Au) is further formed on the pad 12. Bumps 13 are formed. Further, at the central position of the semiconductor chip, a heat dissipation bump 14 (shown in a satin finish), which is an essential part of the present invention, is formed.

【0015】また図中、15は半導体チップ11の表面
積と略等しい表面積を有する放熱板であり、放熱効率が
良好な絶縁性金属板(セラミック板等でもよい)により
形成されている。この放熱板15には半導体チップ11
を外部回路に電気的に接続するための複数のリードピン
16が配設されており、その配設位置はパッド12の配
設位置に対応するよう構成されている。また、放熱板1
5の中央で、上記した半導体チップ11の中央に形成さ
れた放熱用バンプ14の配設位置と対応する位置には下
方に突出した接触部17が形成されている。
Further, in the figure, reference numeral 15 denotes a heat radiating plate having a surface area substantially equal to the surface area of the semiconductor chip 11, which is formed of an insulating metal plate (which may be a ceramic plate or the like) having good heat radiating efficiency. The semiconductor chip 11 is attached to the heat sink 15.
Is provided with a plurality of lead pins 16 for electrically connecting to the external circuit, and the arrangement position of the lead pins 16 corresponds to the arrangement position of the pad 12. Also, the heat sink 1
5, a contact portion 17 protruding downward is formed at a position corresponding to the disposition position of the heat dissipation bump 14 formed at the center of the semiconductor chip 11 described above.

【0016】上記構成を有する半導体チップ11と放熱
板15は、半導体製造工程におけるバンプ工程におい
て、電気接続用バンプ13を各リードピン16に、また
放熱用バンプ14を接触部17に接合することにより一
体化される。これにより、半導体チップ12はパッド1
2及び電気接続用バンプ13を介してリードピン16に
電気的に接続され、また半導体チップ11と放熱板15
は放熱用バンプ14を介して物理的に接触した構成とな
る。
The semiconductor chip 11 and the heat dissipation plate 15 having the above structure are integrated by bonding the electrical connection bumps 13 to the lead pins 16 and the heat dissipation bumps 14 to the contact portions 17 in the bump process in the semiconductor manufacturing process. Be converted. As a result, the semiconductor chip 12 becomes the pad 1
2 and the bumps 13 for electrical connection, electrically connected to the lead pin 16, and the semiconductor chip 11 and the heat sink 15
Are in physical contact with each other via the heat dissipation bumps 14.

【0017】従って、半導体チップ11が作動すること
により熱を発生しても、この熱は放熱用バンプ14を介
して放熱板15に熱伝導してゆき、放熱板15にて放熱
される。これにより、半導体チップ11の熱上昇は抑え
られ安定した動作を実現できるため、半導体装置10の
信頼性を向上させることができる。また放熱用バンプ1
4は、半導体チップ11で熱の発生し易いチップ表面に
配設されているため、半導体チップ11で発生した熱を
効率的に放熱板15に逃がすことができる。更に、放熱
板15は各バンプ13,14により半導体チップ11に
対して対向離間した状態で保持されているため、外気と
接触する面積(即ち放熱面積)を大きく取ることが出来
る。よって、これによっても放熱効率は向上し、半導体
チップ11の熱上昇を効果的に抑えることができる。
Therefore, even if heat is generated by the operation of the semiconductor chip 11, this heat is conducted to the heat radiating plate 15 via the heat radiating bumps 14 and is radiated by the heat radiating plate 15. As a result, heat rise of the semiconductor chip 11 is suppressed and stable operation can be realized, so that the reliability of the semiconductor device 10 can be improved. Also, the heat dissipation bump 1
Since 4 is disposed on the surface of the semiconductor chip 11 where heat is easily generated, the heat generated in the semiconductor chip 11 can be efficiently released to the heat dissipation plate 15. Furthermore, since the heat dissipation plate 15 is held by the bumps 13 and 14 so as to be opposed to and separated from the semiconductor chip 11, a large area (that is, a heat dissipation area) in contact with the outside air can be secured. Therefore, also by this, the heat dissipation efficiency is improved, and the heat rise of the semiconductor chip 11 can be effectively suppressed.

【0018】図2(A)は本発明の第2実施例である半
導体装置20の平面図であり、同図(B)は図2(A)
におけるC−C線に沿う断面を示しており、また同図
(C)はD−D線に沿う断面を示している。また、各図
もバンプ工程後の半導体装置20を示している。尚、各
図において、図1に示した半導体装置10と同一構成部
分につていは同一符号を付してその説明を省略する。
FIG. 2A is a plan view of a semiconductor device 20 which is a second embodiment of the present invention, and FIG. 2B is FIG. 2A.
2C shows a cross section taken along the line C-C, and FIG. 6C shows a cross section taken along the line D-D. Each figure also shows the semiconductor device 20 after the bump process. In each figure, the same components as those of the semiconductor device 10 shown in FIG. 1 are designated by the same reference numerals and the description thereof will be omitted.

【0019】前記した第1実施例に係る半導体装置10
では、放熱用バンプ14を半導体チップ11の中央位置
のみに配設した構成を示した。しかるに、半導体装置の
大規模化が進み発熱量が増大してくると、中央位置に放
熱用バンプ14を形成したのみでは十分な放熱ができな
くなるおそれがある。
The semiconductor device 10 according to the first embodiment described above.
In the above, the structure is shown in which the heat dissipation bumps 14 are provided only at the central position of the semiconductor chip 11. However, as the semiconductor device becomes larger and the amount of heat generation increases, there is a possibility that sufficient heat dissipation cannot be achieved only by forming the heat dissipation bump 14 at the central position.

【0020】そこで本実施例では、バンプによる半導体
チップ11と放熱板21との接触面積を広くするため
に、放熱用バンプ22(梨地で示す)を格子状に形成し
たことを特徴とするものである。
In view of this, the present embodiment is characterized in that the heat dissipation bumps 22 (shown in satin) are formed in a grid pattern in order to widen the contact area between the semiconductor chip 11 and the heat dissipation plate 21 by the bumps. is there.

【0021】放熱用バンプ22を配設する位置は、リー
ドピン16と接続する電気接続用バンプ13の配設位置
と干渉しないよう選定されいる。上記構成とすることに
より、半導体チップ11と放熱板21との接触面積は広
くなり、より効率的に半導体チップ11の放熱を行うこ
とができるため、大規模化で発熱量が大きな半導体チッ
プ11に対しても対応することができる。
The position where the heat radiation bumps 22 are arranged is selected so as not to interfere with the position where the electric connection bumps 13 connected to the lead pins 16 are arranged. With the above-described configuration, the contact area between the semiconductor chip 11 and the heat dissipation plate 21 is increased, and the heat dissipation of the semiconductor chip 11 can be performed more efficiently. You can also deal with it.

【0022】図3及び図4は、第2実施例である半導体
装置20の変形例を示す図である。
3 and 4 are views showing a modification of the semiconductor device 20 of the second embodiment.

【0023】図3に示す半導体装置30は、第2実施例
に係る半導体装置20に比べて更に放熱効率を向上させ
るため、電気接続用バンプ13の配設位置近傍の所定範
囲を除き、これを囲繞するよう半導体チップ11の全面
に放熱用バンプ31を配設したものである。また、図4
に示す半導体装置40は、電気接続用バンプ13と放熱
用バンプ41を千鳥状に交互に配設することにより放熱
効率を向上させたものである。このように、放熱用バン
プ31,41の配設面積を適宜選定することにより、半
導体チップ11の発熱量に適応した放熱を行うことが可
能となる。
The semiconductor device 30 shown in FIG. 3 has the same structure as the semiconductor device 20 according to the second embodiment. However, in order to further improve the heat dissipation efficiency, the semiconductor device 30 is removed except for a predetermined range in the vicinity of the mounting position of the electrical connection bumps 13. A heat radiation bump 31 is provided on the entire surface of the semiconductor chip 11 so as to surround it. Also, FIG.
In the semiconductor device 40 shown in (1), the heat dissipation efficiency is improved by alternately arranging the electrical connection bumps 13 and the heat dissipation bumps 41 in a staggered pattern. As described above, by appropriately selecting the disposition areas of the heat dissipation bumps 31 and 41, it becomes possible to perform heat dissipation adapted to the heat generation amount of the semiconductor chip 11.

【0024】尚、上記してきた実施例では、放熱用バン
プを電気接続用バンプの形成位置とは異なる位置に配設
した構成を示したが、規格化されたPGA(Pin Grid A
rrayPackage)では、図5に示す半導体装置50のよう
に、一般に半導体チップ11と外部回路を接続するのに
用いないリードピン16aが存在することがある。従来
では、このようなリードピン16aに対してはバンプを
行わなかったが、このリードピン16aと半導体チップ
11との間にもバンプ14を配設することにより、放熱
板15と半導体チップ11との接触面積を広げ、半導体
チップ11の放熱効率を向上させることもできる。
In the above-mentioned embodiments, the heat dissipation bumps are arranged at positions different from the positions where the electric connection bumps are formed, but the standardized PGA (Pin Grid A) is used.
In the rrayPackage), there may be lead pins 16a that are not generally used for connecting the semiconductor chip 11 and an external circuit, like the semiconductor device 50 shown in FIG. Conventionally, bumps are not formed on such lead pins 16a, but by disposing the bumps 14 also between the lead pins 16a and the semiconductor chip 11, the heat dissipation plate 15 and the semiconductor chip 11 are brought into contact with each other. The area can be increased and the heat dissipation efficiency of the semiconductor chip 11 can be improved.

【0025】また、半導体チップが局所的に発熱するよ
うな構成の場合には、図6に示す半導体装置60のよう
に、発熱箇所に集約的に放熱用バンプ61を配設する構
成としてもよい。この構成とすることにより、発熱位置
を局所的に冷却できるため、他の部位への熱の影響を低
減することができる。
Further, in the case of a structure in which the semiconductor chip locally generates heat, the heat dissipation bumps 61 may be collectively arranged at the heat generating portions as in the semiconductor device 60 shown in FIG. .. With this configuration, the heat generation position can be locally cooled, so that the influence of heat on other parts can be reduced.

【0026】また、上記した各実施例では、電気接続用
バンプと放熱用バンプの材質を同一とした構成を示した
が、電気接続用バンプと放熱用バンプの材質は必ずしも
一致させる必要はなく(一致させた方が製造工程は容易
となる)、電気接続用バンプとして導電性の良好な材質
を用い、放熱用バンプとしては熱伝導性の良好な材質を
用いた構成としてもよい。
In each of the above-described embodiments, the same material is used for the electrical connection bumps and the heat dissipation bumps, but the electrical connection bumps and the heat dissipation bumps need not necessarily be made of the same material ( If they are matched, the manufacturing process becomes easier), and a material having good conductivity may be used as the bump for electrical connection, and a material having good thermal conductivity may be used as the bump for heat dissipation.

【0027】[0027]

【発明の効果】上述の如く本発明によれば、半導体チッ
プで発生した熱はバンプを介して半導体チップと対向し
て配設された放熱板に熱伝達され、放熱板にて放熱され
る。半導体チップにおいて発熱するのは主にその表面で
あり、半導体チップの表面に配設されたバンプを介して
熱は放熱板に熱伝達されるため、半導体チップの熱は効
率良く放熱板に熱伝達されて放熱され、半導体チップの
熱上昇を効果的に抑えることができ、半導体装置の信頼
性を向上することができる。
As described above, according to the present invention, the heat generated in the semiconductor chip is transferred to the heat radiating plate arranged so as to face the semiconductor chip via the bumps and radiated by the heat radiating plate. The surface of the semiconductor chip mainly generates heat, and the heat is transferred to the heat sink through the bumps provided on the surface of the semiconductor chip. Therefore, the heat of the semiconductor chip is efficiently transferred to the heat sink. Thus, the heat dissipation of the semiconductor chip can be effectively suppressed, and the heat rise of the semiconductor chip can be effectively suppressed, and the reliability of the semiconductor device can be improved.

【0028】また、放熱板はその表裏全面において放熱
を行うため放熱効率は良好であり、熱導体チップと略等
しい表面積を有する放熱板で放熱を行うことができるた
め、半導体装置の小型化を図ることができる。
Further, since the heat radiating plate radiates heat over the entire front and back surfaces, the heat radiating efficiency is good, and the heat radiating plate having a surface area substantially equal to that of the heat conductor chip can radiate heat, so that the semiconductor device can be miniaturized. be able to.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1実施例である半導体装置を説明す
るための図である。
FIG. 1 is a diagram for explaining a semiconductor device that is a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第2実施例である半導体装置を説明す
るための図である。
FIG. 2 is a diagram for explaining a semiconductor device which is a second embodiment of the present invention.

【図3】第2実施例の変形例である半導体装置を説明す
るための図である。
FIG. 3 is a diagram for explaining a semiconductor device which is a modified example of the second embodiment.

【図4】第2実施例の変形例である半導体装置を説明す
るための図である。
FIG. 4 is a diagram for explaining a semiconductor device which is a modified example of the second embodiment.

【図5】使用しないリードピンを利用して放熱を行う半
導体装置を説明するための図である。
FIG. 5 is a diagram for explaining a semiconductor device that radiates heat using unused lead pins.

【図6】局所的に発熱する半導体チップを搭載した半導
体装置に本発明を適用した例を示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing an example in which the present invention is applied to a semiconductor device having a semiconductor chip that locally generates heat.

【図7】従来における半導体装置の一例を説明するため
の図である。
FIG. 7 is a diagram illustrating an example of a conventional semiconductor device.

【図8】従来における半導体装置の一例を説明するため
の図である。
FIG. 8 is a diagram for explaining an example of a conventional semiconductor device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10,20,30,40,50,60 半導体装置 11 半導体チップ 12 パッド 13 電気接続用バンプ 14,22,31,41,61 放熱用バンプ 15,21 放熱板 16,16a リードピン 17 接触部 10, 20, 30, 40, 50, 60 Semiconductor device 11 Semiconductor chip 12 Pad 13 Electrical connection bump 14, 22, 31, 41, 61 Heat dissipation bump 15,21 Heat dissipation plate 16, 16a Lead pin 17 Contact part

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体チップ(11)と、該半導体チッ
プ(11)の表面と対向して配設される放熱板(15,
21)と、該半導体チップ(11)と該放熱板(15,
21)とを物理的に接触させる放熱用バンプ(14,2
2,31,41,61)とを設けたことを特徴とする半
導体装置。
1. A semiconductor chip (11) and a heat radiating plate (15, 15) arranged to face the surface of the semiconductor chip (11).
21), the semiconductor chip (11) and the heat sink (15,
21) for heat radiation to physically contact the bumps (14, 2)
2, 31, 41, 61) are provided.
【請求項2】 該半導体チップ(11)は、該放熱用バ
ンプ(31)に加えて電気接続用バンプ(13)を有し
ており、該放熱用バンプ(31)を該電気接続用バンプ
(13)を囲繞するよう配設したことを特徴とする請求
項1の半導体装置。
2. The semiconductor chip (11) has bumps (13) for electrical connection in addition to the bumps (31) for heat dissipation, and the bumps (31) for heat dissipation are connected to the bumps (31) for electrical connection. 13. The semiconductor device according to claim 1, wherein the semiconductor device is arranged so as to surround 13).
【請求項3】 該放熱用バンプ(22)を、該半導体チ
ップ(11)上に格子状に配設したことを特徴とする請
求項1の半導体装置。
3. The semiconductor device according to claim 1, wherein the heat radiation bumps (22) are arranged in a grid pattern on the semiconductor chip (11).
【請求項4】 該放熱用バンプ(61)を、該半導体チ
ップ(11)上の発熱位置に集約的に配設したことを特
徴とする請求項1の半導体装置。
4. The semiconductor device according to claim 1, wherein the heat-dissipating bumps (61) are collectively arranged at a heat generation position on the semiconductor chip (11).
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