JPH05165217A - 感光性耐熱重合体組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】高感度で機械特性及び接着性に優れた最終硬化
膜を生成する感光性耐熱重合体組成物を提供すること。 【構成】本発明は、感光基として用いられる炭素−炭素
２重結合を有するイソシアネート化合物をポリアミド酸
に反応させる際に、水酸基を有するアミン化合物を用い
て高分子量のポリアミド酸に効率良く感光基を導入する
ことが出来、またポリアミド酸の分子端にシロキサン構
造を導入し、基板との接着性が向上して、上記目的を達
成できるものである。 【効果】本発明によれば高感度で機械特性、接着性の優
れた最終ポリイミド膜を生成する感光性耐熱重合体組成
物を提供することが出来るので、ＬＳＩのプロテクショ
ン膜、α線遮蔽膜、層間絶縁膜やコンピュータ等に用い
る薄膜多層基板の層間絶縁膜などの電子部品の幅広い分
野で利用することが可能になった。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、半導体素子、多層配線
基板、マイクロエレクトロニクス素子等に用いられる感
光性耐熱重合体組成物に係るもので、露光部分が硬化す
るネガ型感光材料に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、耐熱性高分子と成る感光性耐熱材
料としては（イ）特開昭６０−２２８５３７号公報に芳
香族テトラカルボン酸二無水物をオレフィン不飽和アル
コールと反応させてオレフィン芳香族テトラカルボン酸
ジェステルを生じしめ、この化合物とジアミンとをカル
ボジイミドを用いた脱水縮合反応により重合させたも
の、（ロ）特開昭６０−１００１４３号公報に芳香族テ
トラカルボン酸二無水物と、芳香族ジアミンおよびシロ
キサン骨格を有する脂肪族ジアミンを共重合させて得ら
れるポリアミド酸をイソシアネートオルガノ（メタ）ア
クリレートにより変性し、光重合開始剤を加えたものが
知られている。

【０００３】これらはいずれも適当な有機溶剤に溶解し
たワニス状態で基板に塗布し、乾燥して被膜とした後
に、必要な場合には適当なフォトマスクを介して紫外線
照射した後に現像し、リンス処理して所望のレリーフ・
パターンを得ている。

【０００４】しかしながら、上記（イ）の材料は最終硬
化膜としたときの膜の可とう性や強度が低いため、膜に
クラックが生じやすかった。特に、応力の発生が大きい
多層配線の層間絶縁膜として用いる場合、クラック発生
を押さえることが困難であり、さらに接着性が低く剥が
れやすかった。また、上記（ロ）の材料は高分子量のポ
リアミド酸に感光基を導入しているため最終硬化膜の機
械特性は比較的良好なものの感度が低い、ワニスの安定
性が低い、イソシアネート化合物による変性の際に全芳
香族ポリアミド酸を用いるとワニスがゲル化しやすく、
用いうる構造がポリマーバックボーンにシロキサン骨格
を有するものに限られる等の問題点があった。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】上記（イ）の材料の最
終硬化膜にクラックが生じやすいのは、オレフィン芳香
族テトラカルボン酸ジェステルがカルボキシル基に隣接
した立体的にかさ高いエステル基を有しているため、ジ
アミンとの脱水重縮合に際して重合が十分に進まず、得
られるポリマーの分子量が低いためと考えられる。さら
に、接着性が劣るのはポリマーと支持基板との相互作用
が乏しいためと考えられる。上記（ロ）の材料のワニス
がゲル化しやすく感度が低いのは、イソシアネート化合
物がポリアミド酸のカルボキシル基と反応するのみなら
ず脱水剤としても作用するためポリマー内にイミド環が
形成して溶剤不溶化したり、カルボキシル基がイミド化
反応のために消費されて感光基導入率が低下するためと
考えられ、又ワニスの安定性が低いのはイソシアネート
化合物とポリアミド酸との反応性が低いために、合成後
も未反応のイソシアネート化合物が残り、これが長期的
に徐々に反応するためと考えられる。

【０００６】本発明の目的は、上記した欠点を無くし、
高感度で機械特性及び接着性に優れた最終硬化膜を生成
する感光性耐熱重合体組成物を提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は、感光基として
用いられる炭素−炭素２重結合を有するイソシアネート
化合物をポリアミド酸に反応させる際に、水酸基を有す
るアミン化合物を用いれば高分子量のポリアミド酸に効
率良く感光基を導入することが出来、またポリアミド酸
の分子端にシロキサン構造を導入すれば基板との接着性
も向上して、上記目的を達成できるとの着想に基いてな
されたものである。すなわち、本発明では分子端にシロ
キサン骨格を持つ高分子量のポリアミド酸を用いるため
に、最終硬化膜の機械的特性と接着性が優れている。
又、水酸基を有するアミン化合物のアミノ基はカルボキ
シル基とイソシアネート基との反応を促進すると同時
に、イソシアネート基は酸存在下で水酸基とも効率良く
反応するので反応系からイソシアネート化合物を除去す
ることが出来、高感度化及びワニスを安定化することが
できる。また、イソシアネート化合物と水酸基を有する
アミノ化合物との反応生成物は炭素−炭素２重結合を有
するアミン化合物である踏めポリアミド酸のカルボキシ
ル基とイオン結合することによってポリアミド酸に導入
され、感光基の導入効率が向上し、高感度化が図れる。

【０００８】そこで、本発明者らが上記着想に基づいて
鋭意検討した結果、一般式（化１）

【０００９】

【化１】

【００１０】（但し、式中Ｒ¹は少なくとも４個以上の
炭素を含む４価の有機基、Ｒ²，Ｒ³は２価の有機基、Ｒ
⁴，Ｒ⁵は低級アルキル基または含芳香族基、ｎは０，
１，２または３であり、［］は繰り返し単位を表わす）
で示される構造を主成分とするポリマー、または一般式
（化１）で示されるポリマーと異なったＲ¹および／ま
たはＲ²で構成される一般式（化１）で示されるポリマ
ーとのコポリマー１００重量部に対し、水酸基を有する
アミン化合物１〜４００重量部と炭素−炭素２重結合を
有するイソシアネート化合物１〜４００重量部を反応さ
せ、さらに増感剤または光重合開始剤または光架橋剤を
加えてなる感光性耐熱重合体組成物が高感度で、ワニス
安定性が良く、最終硬化膜の機械特性及び接着性に優れ
た感光性耐熱材料に供しうることを見出した。さらに、
上記感光性耐熱重合体組成物に対し増感助剤、光重合助
剤を加えて成る感光性耐熱重合体組成物、これらの感光
性耐熱重合体組成物に対し、更に共重合モノマーを加え
て成る感光性耐熱重合体組成物、更に重合禁止剤、安定
剤を加えて成る感光性耐熱重合体組成物が高感度で、ワ
ニス安定性が良く、最終硬化膜の機械特性と接着性に優
れた感光性耐熱材料に成ることを見出した。

【００１１】以下、本発明について詳細に説明する。

【００１２】一般式(化１)の繰り返し単位で表されるポ
リマーのＲ¹として好ましいものの例としては、（化
５）、（化６）、（化７）、（化８）、（化９）、（化
１０）

【００１３】

【化５】

【００１４】

【化６】

【００１５】

【化７】

【００１６】

【化８】

【００１７】

【化９】

【００１８】

【化１０】

【００１９】等があげられるが、これらに限定されな
い。

【００２０】Ｒ²の好ましいものの例としては、（化１
１）、（化１２）、（化１３）、（化１４）、（化１
５）、（化１６）、（化１７）、（化１８）

【００２１】

【化１１】

【００２２】

【化１２】

【００２３】

【化１３】

【００２４】

【化１４】

【００２５】

【化１５】

【００２６】

【化１６】

【００２７】

【化１７】

【００２８】

【化１８】

【００２９】等があげられるが、これに限定されない。

【００３０】一般式（化１）で表されるポリマーの分子
末端に導入される含ケイ素骨格は、ポリアミド酸のモノ
マ成分のうちの酸二無水物と、含ケイ素アミン化合物と
の（化１９）で示される反応によって得られる

【００３１】

【化１９】

【００３２】（但し、式中Ｒ¹は少なくとも４個以上の
炭素を含む４価の有機基、Ｒ³は２価の有機基、Ｒ⁴，Ｒ
⁵は低級アルキル基または含芳香族基、ｎは０，１，２
または３）ここで用いられる含ケイ素アミン化合物の好
適な具体例としては、３−アミノプロピルトリメチルシ
ラン、３−アミノプロピルジメチルメトキシシラン、３
−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノ
プロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルジメ
チルエトキシシラン、３−アミノプロピルメチルジエト
キシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、
３−アミノプロピルジメチルプロポキシシラン、３−ア
ミノプロピルメチルジプロポキシシラン、３−アミノプ
ロピルトリプロポキシシラン、３−アミノプロピルジメ
チルブトキシシラン、３−アミノプロピルメチルジブト
キシシラン、３−アミノプロピルトリブトキシシラン等
の３−アミノプロピルジアルキルアルコキシシラン、３
−アミノプロピルアルキルジアルコキシシラン、３−ア
ミノプロピルトリアルコキシシラン、３−（４−アミノ
フェノキシ）プロピルジアルキルアルコキシシラン、３
−（４−アミノフェノキシ）プロピルアルキルジアルコ
キシシラン、３−（４−アミノフェノキシ）プロピルト
リアルコキシシラン、３−（３−アミノフェノキシ）プ
ロピルジアルキルアルコキシシラン、３−（３−アミノ
フェノキシ）プロピルアルキルジアルコキシシラン、３
−（３−アミノフェノキシ）プロピルトリアルコキシシ
ラン、４−アミノブチルジメチルエトキシシラン、４−
アミノブチルメチルジエトキシシラン、４−アミノブチ
ルトリエトキシシラン等の４−アミノブチルジアルキル
アルコキシシラン、４−アミノブチルアルキルジアルコ
キシシラン、４−アミノブチルトリアルコキシシラン、
３−アミノプロピルトリス（トリメチルシロキシ）シラ
ン、メターアミノフェニルジメチルメトキシシラン、メ
ターアミノフェニルメチルジメトキシシラン、メターア
ミノフェニルトリメトキシシラン、メターアミノフェニ
ルジメチルエトキシシラン、メターアミノフェニルメチ
ルジエトキシシラン、メターアミノフェニルトリエトキ
シシラン、メターアミノフェニルジメチルプロポキシシ
ラン、メターアミノフェニルメチルジプロポキシシラ
ン、メターアミノフェニルトリプロポキシシラン、メタ
ーアミノフェニルジメチルブトキシシラン、メターアミ
ノフェニルメチルジブトキシシラン、メターアミノフェ
ニルトリブトキシシラン等のメターアミノフェニルジア
ルキルアルコキシシラン、メターアミノフェニルアルキ
ルジアルコキシシラン、メターアミノフェニルトリアル
コキシシラン、パラーアミノフェニルジメチルメトキシ
シラン、パラーアミノフェニルメチルジメトキシシラ
ン、パラーアミノフェニルトリメトキシシラン、パラー
アミノフェニルジメチルエトキシシラン、パラーアミノ
フェニルメチルジエトキシシラン、パラーアミノフェニ
ルトリエトキシシラン、パラーアミノフェニルジメチル
プロポキシシラン、パラーアミノフェニルメチルジプロ
ポキシシラン、パラーアミノフェニルトリプロポキシシ
ラン、パラーアミノフェニルジメチルブトキシシラン、
パラーアミノフェニルメチルジブトキシシラン、パラー
アミノフェニルトリブトキシシラン等のパラーアミノフ
ェニルジアルキルアルコキシシラン、パラーアミノフェ
ニルアルキルジアルコキシシラン、パラーアミノフェニ
ルトリアルコキシシラン、メターアミノベンジルメチル
エトキシシラン、メターアミノベンジルメチルジエトキ
シシラン、メターアミノベンジルトリエトキシシラン、
メターアミノベンジルメチルプロポキシシラン、メター
アミノベンジルメチルジプロポキシシラン、メターアミ
ノベンジルトリプロポキシシラン、メターアミノベンジ
ルジメチルプロポキシシラン、メターアミノベンジルメ
チルジプロポキシシラン、メターアミノベンジルトリプ
ロポキシシラン、メターアミノベンジルジメチルブトキ
シシラン、メターアミノベンジルメチルジブトキシシラ
ン、メターアミノベンジルトリブトキシシラン等のメタ
ーアミノベンジルジアルキルアルコキシシラン、メター
アミノベンジルアルキルジアルコキシシラン、メターア
ミノベンジルトリアルコキシシラン、パラーアミノベン
ジルジメチルプロポキシシラン、パラーアミノベンジル
メチルジプロポキシシラン、パラーアミノベンジルトリ
プロポキシシラン等のパラーアミノベンジルジアルキル
アルコキシシラン、パラーアミノベンジルアルキルジア
ルコキシシラン、パラーアミノベンジルトリアルコキシ
シラン、パラーアミノフェネチルジメチルメトキシシラ
ン、パラーアミノフェネチルメチルジメトキシシラン、
パラーアミノフェネチルトリメトキシシラン等のパラー
アミノフェネチルジアルキルアルコキシシラン、パラー
アミノフェネチルアルキルジアルコキシシラン、パラー
アミノフェネチルトリアルコキシシラン、又は上記のメ
ター、パラ一体のベンジル、フェネチル系化合物の水添
したものなどが挙げられる。

【００３３】一般式化１の繰り返し単位で表されるポリ
マーの分子末端に導入される含ケイ素アミン化合物の割
合は、一般式化１の繰り返し単位で表されるポリマー
中、全ジアミン成分を１００とした場合、ジアミン成分
全体量の０.０１パーセントから２０パーセントが好ま
しく、更に好ましくは０.５パーセントから１０パーセ
ントの範囲である。この範囲を逸脱すると最終硬化膜の
機械特性と耐熱性に好ましくない影響をおよぼす。

【００３４】水酸基を有するアミン化合物の好適なもの
の例としては一般式（化２）

【００３５】

【化２】

【００３６】（但し、Ｒ⁶，Ｒ⁷は水素、アルキル基、フ
ェニル基、ベンジル基、−Ｒ⁸ＯＨから選択された基、
Ｒ⁹は２価の有機基である）または一般式（化３）

【００３７】

【化３】

【００３８】（但し、Ｒ⁹は水素、アルキル基、フェニ
ル基、ベンジル基、−Ｒ⁸ＯＨから選択された基、Ｒ¹⁰
は環状アミノ基を形成する２価の有機基でありＲ⁹とＲ
¹⁰のいずれにもまたはいずれかに水酸基を有する）で表
される化合物が挙げられる。

【００３９】好適な具体例としては、２−ジメチルアミ
ノメタノール、３−ジメチルアミノ−１−プロパノー
ル、４−ジメチルアミノ−１−ブタノール、５−ジメチ
ルアミノ−１−ペンタノール、６−ジメチルアミノ−１
−ヘキサノール、２−ジメチルアミノ−２−メチル−１
−プロパノール、３−ジメチルアミノ−２，２−ジメチ
ル−１−プロパノール、２−ジエチルアミノエタノー
ル、３−ジエチルアミノ−１−プロパノール、２−ジイ
ソプロピルアミノエタノール、２−ジ−ｎ−ブチルアミ
ノエタノール、Ｎ，Ｎ−ジベンジル−２−アミノエタノ
ール、２−（２−ジメチルアミノエトキシ）エタノー
ル、２−（２−ジエチルアミノエトキシ）エタノール、
１−ジメチルアミノ−２−プロパノール、１−ジエチル
アミノ−２−プロパノール、１−メチル−３−ピペリジ
ノール、１−メチル−４−ピペリジノール、Ｎ−エチル
−３−ヒドロキシピペリジン、１−メチル−４−ピペリ
ジンメタノール、１−メチル−３−ピペリジンメタノー
ル、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）ピペリジン、Ｎ−
（２−ヒドロキシエチル）モルホリン、Ｎ−（２−ヒド
ロキシプロピル）モルホリン、Ｎ−（２−ヒドロキシエ
チル）エチレンイミン、Ｎ−メチルジエタノールアミ
ン、Ｎ−エチルジエタノールアミン、Ｎ−ｎ−ブチルジ
エタノールアミン、Ｎ−ｔ−ブチルジエタノールアミ
ン、Ｎ−ラウリルジエタノールアミン、３−ジエチルア
ミノ−１，２−プロパンジオール、Ｎ−（２−ヒドロキ
シエチル）−４−（３−ヒドロキシプロピル）ピペリジ
ン、トリエタノールアミン、トリイソプロパノールアミ
ン、Ｎ−メチルエタノールアミン、Ｎ−エチルエタノー
ルアミン、Ｎ−ｎ−ブチルエタノールアミン、Ｎ−ｔ−
ブチルエタノールアミン、Ｎ−シクロヘキシルエタノー
ルアミン、３−ヒドロキシピペリジン、４−ヒドロキシ
ピペリジン、４−（２−ヒドロキシエチル）ピペリジ
ン、２−ピペリジンメタノール、ジエタノールアミン、
ジイソプロパノールアミン、２−アミノエタノール、３
−アミノ−１−プロパノール、４−アミノ−１−ブタノ
ール、６−アミノ−１−ヘキサノール、１−アミノ−２
−プロパノール、２−アミノ−２，２−ジメチル−１−
プロパノール、１−アミノブタノール、２−アミノ−１
−ブタノール、Ｎ−（２−アミノエチル）エタノールア
ミン、２−アミノ−２−メチル−１，３−プロパンジオ
ール、２−アミノ−２−エチル−１，３−プロパンジオ
ール、３−アミノ−１，２−プロパンジオール、２−ア
ミノ−２−ヒドロキシメチル−１，３−プロパンジオー
ル等が挙げられがこれらに限定されない。

【００４０】これらのなかで、更に好ましいものの例と
しては２−ジメチルアミノメタノール、３−ジメチルア
ミノ−１−プロパノール、４−ジメチルアミノ−１−ブ
タノール、５−ジメチルアミノ−１−ペンタノール、６
−ジメチルアミノ−１−ヘキサノール、２−ジメチルア
ミノ−２−メチル−１−プロパノール、３−ジメチルア
ミノ−２，２−ジメチル−１−プロパノール、２−ジエ
チルアミノエタノール、３−ジエチルアミノ−１−プロ
パノール、２−ジイソプロピルアミノエタノール、２−
（２−ジメチルアミノエトキシ）エタノール、２−（２
−ジエチルアミノエトキシ）エタノール、１−ジメチル
アミノ−２−プロパノール、１−ジエチルアミノ−２−
プロパノール、１−メチル−３−ピペリジノール、１−
メチル−４−ピペリジノール、Ｎ−エチル−３−ヒドロ
キシピペリジン、１−メチル−４−ピペリジンメタノー
ル、１−メチル−３−ピペリジンメタノール、Ｎ−（２
−ヒドロキシエチル）ピペリジン、Ｎ−メチルジエタノ
ールアミン、Ｎ−エチルジエタノールアミン、３−ジエ
チルアミノ−１，２−プロパンジオール、Ｎ−（２−ヒ
ドロキシエチル）−４−（３−ヒドロキシプロピル）ピ
ペリジン、トリエタノールアミン、トリイソプロパノー
ルアミン等が挙げられる。

【００４１】水酸基を有するアミン化合物の配合割合
は、一般式（化１）で表されるポリマー１００重量部に
対し１〜４００重量部が好ましく、更に好ましくは５０
〜２００重量部の範囲である。この範囲を逸脱すると現
像性に好ましくない影響をおよぼす。

【００４２】炭素−炭素２重結合を有するイソシアネー
ト化合物の好適なものの例としては、一般式（化４）

【００４３】

【化４】

【００４４】（但し、Ｒ¹¹，Ｒ¹²，Ｒ¹³は水素、アルキ
ル基、フェニル基、ビニル基、プロペニル基から選択さ
れた基、Ｒ¹⁴は２価の有機基である）で表される化合物
が挙げられる。

【００４５】好適な具体例としては、２−イソシアネー
トエチルメタクリレート、３−イソシアネートプロピル
メタクリレート、２−イソシアネートエチルアクリレー
ト、３−イソシアネートプロピルアクリレート、イソシ
アネートエチル−２，４−ペンタジエノエート等が挙げ
られるがこれらに限定されない。

【００４６】これらのなかで、更に好ましいものの例と
しては２−イソシアネートエチルメタクリレート、２−
イソシアネートエチルアクリレート、が挙げられる。

【００４７】炭素−炭素２重結合を有するイソシアネー
ト化合物の配合割合は、一般式（化１）で表されるポリ
マー１００重量部に対し１〜４００重量部が好ましく、
更に好ましくは２０〜２００重量部の範囲である。この
範囲を逸脱すると現像性に好ましくない影響をおよぼ
す。

【００４８】本発明による感光性重合体は一般式（化
１）で表されるポリマーと炭素−炭素２重結合を有する
イソシアネート化合物からなる溶液に対し、水酸基を有
するアミン化合物またはその溶液を加えても良いし、逆
に一般式（化１）で表されるポリマーと水酸基を有する
アミン化合物からなる溶液に対し、炭素−炭素２重結合
を有するイソシアネート化合物またはその溶液を加えて
も良い。

【００４９】本発明による感光性耐熱重合体には実用に
供しえる感光感度を達成するため、増感剤または光重合
開始剤または光架橋剤の添加が必須である。これらの好
ましいものの例としては、ミヒラケトン、ビス−４，
４’−ジエチルアミノベンゾフェノン、ベンゾフェノ
ン、３，５−ビス（ジエチルアミノベンジリデン）−１
−メチル−４−アザシクロヘキサノン、３，５−ビス
（ジメチルアミノベンジリデン）−１−メチル−４−ア
ザシクロヘキサノン、３，５−ビス（ジエチルアミノベ
ンジリデン）−１−メチル−４−アザシクロヘキサノ
ン、３，３’−カルボニルビス（７−ジエチルアミノ）
クマリン、リボフラビンテトラブチレート、２−メチル
−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォ
リノプロパン−１−オン、２，４−ジメチルチオキサン
トン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン、３，５
−ジメチルチオキサントン、３，５−ジイソプロピルチ
オキサントン、１−フェニル−２−（エトキシカルボニ
ル）オキシイミノプロパン−１−オン、ベンゾインエー
テル、ベンゾインイソピルエーテル、１，９−ベンズア
ントロン、５−ニトロアセナフテン、２−ニトロフロオ
レン、アントアントロン、１，２−ベンズアントラキノ
ン、２，６−ジ（４’−アジドベンザル）シクロヘキサ
ノン、２，６−ジ（４’−アジドベンザル）−４−メチ
ルシクロヘキサノン、２，６−ジ（４’−アジドベンザ
ル）−４−カルボキシシクロヘキサノン、２，６−ジ
（４’−アジドベンザル）−４−ヒドロキシシクロヘキ
サノン、２，６−ジ（４’−アジドシンナミリデン）−
４−カルボキシシクロヘキサノン、２，６−ジ（４’−
シンナミリデン）−４−ヒドロキシシクロヘキサノン、
１−フェニル−５−メルカプト−１Ｈ−テトラゾール、
チオキサンテン−９−オン、１０−チオキサンテノン、
３−アセチルインドール、２，６−ジ（４’−ジメチル
アミノベンザル）−４−カルボキシシクロヘキサノン、
２，６−ジ（４’−ジメチルアミノベンザル）−４−ヒ
ドロキシシクロヘキサノン、２，６−ジ（４’−ジエチ
ルアミノベンザル）−４−カルボキシシクロヘキサノ
ン、２，６−ジ（４’−ジエチルアミノベンザル）−４
−ヒドロキシシクロヘキサノン等が挙げられるがこれら
に限定されない。

【００５０】これらの中で更に好ましいものの例として
は、ミヒラケトン、ビス−４，４’−ジエチルアミノベ
ンゾフェノン、３，５−ビス（ジエチルアミノベンジリ
デン）−１−メチル−４−アザシクロヘキサノン、３，
５−ビス（ジエチルアミノベンジリデン）−１−メチル
−４−アザシクロヘキサノン、３，５−ビス（ジエチル
アミノベンジリデン）−１−メチル−４−アザシクロヘ
キサノン、３，３’−カルボニルビス（７−ジエチルア
ミノ）クマリン、リボフラビンテトラブチレート、２−
メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モ
ルフォリノプロパン−１−オン、２，４−ジメチルチオ
キサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン、
３，５−ジメチルチオキサントン、３，５−ジイソプロ
ピルチオキサントン、１−フェニル−２−（エトキシカ
ルボニル）オキシイミノプロパン−１−オン、５−ニト
ロアセナフテン、２，６−ジ（４’−アジドベンザル）
−４−カルボキシシクロヘキサノン、２，６−ジ（４’
−アジドベンザル）−４−ヒドロキシシクロヘキサノ
ン、２，６−ジ（４’−ジメチルアミノベンザル）−４
−カルボキシシクロヘキサノン、２，６−ジ（４’−ジ
メチルアミノベンザル）−４−ヒドロキシシクロヘキサ
ノン、２，６−ジ（４’−ジエチルアミノベンザル）−
４−カルボキシシクロヘキサノン、２，６−ジ（４’−
ジエチルアミノベンザル）−４−ヒドロキシシクロヘキ
サノン等が挙げられる。これは単独又は数種混合して用
いられる。

【００５１】本発明に用いられる増感剤または光重合開
始剤または光架橋剤の好適な配合割合は、一般式（化
１）で表されるポリマー１００重量部に対し０.１〜３
０重量部が好ましく、更に好ましくは０.３〜２０重量
部の範囲である。この範囲を逸脱すると現像性に好まし
くない影響をおよぼす。

【００５２】本発明に用いる増感助剤、光重合助剤は重
合促進剤として用いられるものである。好適なものの例
としては、４−ジエチルアミノエチルベンゾエート、４
−ジメチルアミノエチルベンゾエート、４−ジエチルア
ミノプロピルベンゾエート、４−ジメチルアミノプロピ
ルベンゾエート、４−ジメチルアミノイソアミルベンゾ
エート、Ｎ−フェニルグリシン、Ｎ−メチル−Ｎ−フェ
ニルグリシン、Ｎ−（４−シアノフェニル）グリシン、
４−ジメチルアミノベンゾニトリル、エチレングリコー
ルジチオグリコレート、エチレングリコールジ（３−メ
ルカプトプロピオネート）、トリメチロールプロパンチ
オグリコレート、トリメチロールプロパントリ（３−メ
ルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテト
ラチオグリコレート、ペンタエリスリトールテトラ（３
−メルカプトプロピオネート）、トリメチロールエタン
トリチオグリコレート、トリメチロールプロパントリチ
オグリコレート、トリメチロールエタントリ（３−メル
カプトプロピオネート）、ジペンタエリスリトールヘキ
サ（３−メルカプトプロピオネート）、チオグリコール
酸、α−メルカプトプロピオン酸等が挙げられるが、こ
れらに限定されない。

【００５３】これらの中で更に好ましいものの例として
は、４−ジエチルアミノエチルベンゾエート、４−ジメ
チルアミノエチルベンゾエート、４−ジメチルアミノイ
ソアミルベンゾエート、Ｎ−フェニルグリシン、Ｎ−メ
チル−Ｎ−フェニルグリシン、Ｎ−（４−シアノフェニ
ル）グリシン、４−ジメチルアミノベンゾニトリル、ペ
ンタエリスリトールテトラチオグリコレート、ペンタエ
リスリトールテトラ（３−メルカプトプロピオネー
ト）、トリメチロールエタントリチオグリコレート、ト
リメチロールプロパントリチオグリコレート、トリメチ
ロールエタントリ（３−メルカプトプロピオネート）、
チオグリコール酸等が挙げられる。これは単独又は数種
混合して用いられる。

【００５４】本発明において用いる増感助剤、光重合助
剤の好適な配合割合は、一般式（化１）で表されるポリ
マー１００重量部に対し０.１〜３０重量部が好まし
く、更に好ましくは０.３〜２０重量部の範囲である。
この範囲を逸脱すると目的とする増感効果が得られなか
ったり、現像性に好ましくない影響をおよぼす。

【００５５】本発明で用いる共重合モノマーは炭素−炭
素二重結合を有する化合物であり光重合反応を容易にす
るものである。共重合モノマーの好適な例としては１，
６−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグ
リコールジアクリレート、エチレングリコールジアクリ
レート、ペンタエリスリトールジアクリレート、トリメ
チロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリト
ールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ
アクリレート、テトラメチロールプロパンテトラアクリ
レート、テトラエチレングリコールジアクリレート、
１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、ネオペン
チルグリコールジメタクリレート、エチレングリコール
ジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレ
ート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペ
ンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリ
スリトールヘキサメタクリレート、テトラメチロールプ
ロパンテトラメタクリレート、テトラエチレングリコー
ルジメタクリレート等が挙げられるがこれらに限定され
ない。

【００５６】これらの中で更に好ましいものの例として
は、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペ
ンチルグリコールジアクリレート、エチレングリコール
ジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレー
ト、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタ
エリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリト
ールヘキサアクリレート、テトラメチロールプロパンテ
トラアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリ
レート等が挙げられる。

【００５７】上記共重合モノマーの好適な配合割合は、
一般式（化１）で表されるポリマー１００重量部に対し
１〜１００重量部が好ましく、更に好ましくは３〜５０
重量部の範囲である。この範囲を逸脱すると目的とする
効果が得られなかったり、現像性に好ましくない影響を
およぼす。

【００５８】本発明で用いる重合禁止剤または安定化剤
はワニスとした時の保存安定性を図るために用いる。重
合禁止剤または安定化剤の好適なものの例としては、ヒ
ドロキノン、パラメトキシフェノール、Ｎ−ニトロソジ
フェニルアミン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルカテコール、Ｎ
−フェニルナフチルアミン、エチレンジアミン四酢酸、
１，２−シクロヘキサンジアミン四酢酸、グリコールエ
ーテルジアミン四酢酸、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル
−ｐ−メチルフェノール等が挙げられるがこれらに限定
されない。

【００５９】上記重合禁止剤または安定化剤の好適な配
合割合は、一般式（化１）で表されるポリマー１００重
量部に対し０.００１〜１０重量部が好ましく、更に好
ましくは０.０１〜５重量部の範囲である。この範囲を
逸脱すると目的とする効果が得られなかったり、現像性
に好ましくない影響をおよぼす。本発明による感光性耐
熱重合体又は感光性耐熱重合体組成物は上記構成成分を
適当な有機溶剤に溶解した溶液状態で用いられる。この
場合に用いる溶剤としては、溶解性の観点から非プロト
ン性極性溶剤が望ましく、具体的にはＮ−メチル−２−
ピロリドン、Ｎ−アセチル−２−ピロリドン、Ｎ−ベン
ジル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキ
シド、ヘキサメチルホスホルトリアミド、Ｎ−アセチル
−ε−カプロラクタム、ジメチルイミダゾリジノン、ジ
エチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレング
リコールジメチルエーテル、γ−ブチロラクトンなどが
好適な例としてあげられる。これらは単独で用いても良
いし、混合系として用いることも可能である。また、塗
布性を改善するために、トルエン、キシレン、メトキシ
ベンゼン等の芳香族系溶剤をポリマーの溶解に悪影響を
及ぼさない範囲で混合しても差し支えない。

【００６０】本発明による感光性耐熱重合体組成物の乾
燥塗膜または加熱硬化後のポリイミド被膜と支持基板の
接着性を向上させるため、適宜支持基板を接着助剤で処
理することもできる。

【００６１】本発明の感光性耐熱重合体組成物は、通常
のホトリソグラフィー技術でパターン加工が可能であ
る。支持基板への本組成物の塗布にはスピンナーを用い
た回転塗布、浸漬、噴霧印刷、スクリーン印刷などの手
段が可能であり、適宜選択することが出来る。塗布膜厚
は塗布条件、本組成物の固形分濃度等によって調節可能
である。

【００６２】乾燥工程をへて支持基板上で塗膜と成った
本発明による組成物に、ホトマスクを介して紫外線を照
射し、次いで未露光部を現像液で溶解除去することによ
り、所望のレリーフ・パターンを得る。

【００６３】現像液は本組成物の良溶媒であるＮ−メチ
ル−２−ピロリドン、Ｎ−アセチル−２−ピロリドン、
Ｎ−ベンジル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルス
ルホキシド、ヘキサメチルホスホルトリアミド、Ｎ−ア
セチル−ε−カプロラクタム、ジメチルイミダゾリジノ
ン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチ
レングリコールジメチルエーテル、γ−ブチロラクトン
などを、単独あるいはメタノール、エタノール、イソプ
ロピルアルコール、トルエン、キシレン、１，２−ジメ
トキシエタン、２−メトキシエタノール、１−アセトキ
シ−２−メトキシエタン、水等の組成物の非溶剤との混
合液として用いることが出来る。

【００６４】現像によって形成したレリーフ・パターン
は次いでリンス液により洗浄して、現像溶剤を除去す
る。リンス液には現像液との混和性の良いメタノール、
エタノール、イソプロピルアルコール、トルエン、キシ
レン、１，２−ジメトキシエタン、２−メトキシエタノ
ール、１−アセトキシ−２−メトキシエタン、水などが
好適な例としてあげられる。

【００６５】上記の処理によって得られたレリーフ・パ
ターンのポリマーはポリイミドの前駆体であり、１５０
℃から４５０℃までの範囲から選ばれた加熱温度で処理
することにより高耐熱性を有し、機械特性、接着性の優
れたポリイミドのパターンが得られる。

【００６６】

【作用】上記したように、本発明によれば、高分子量の
ポリアミド酸に多くの感光基を導入でき、さらにポリマ
ー末端に、接着性の増大に有効なシロキサン骨格をもっ
ているため、感光性組成物としたときの感光感度が高
く、最終硬化膜としたときの機械特性、接着性に優れた
ものにすることが出来た。また、系内に未反応のイソシ
アネート化合物が残らないため安定性に優れたものにす
ることが出来た。

【００６７】

【実施例】以下、本発明の実施例を説明する。

【００６８】（実施例１）窒素気流下に４，４’−ジア
ミノジフェニルエーテル９.５ｇ（０.０４７５モル）と
３−アミノプロピルメチルジブチルシラン０.９０ｇ
（０.００５モル）をＮ−メチル−２−ピロリドンと
Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドの１：１混合液１７９ｇ
に溶解し、アミン溶液を調合した。次に、この溶液を氷
冷によって約１５℃の温度に保ちながら、撹拌下にピロ
メリット酸二無水物１０.９ｇ（０.０５モル）を加え
た。加え終えてから更に１５℃で５時間反応させて、粘
度２０ポアズ（２５℃）のポリアミド酸溶液を得た。

【００６９】このポリアミド酸溶液２０ｇにイソシアネ
ートエチルメタクリレート１.４０ｇ（０.００９モル）
を加えて一時間反応させた後、２−ジメチルアミノエタ
ノール０.８０２ｇ（０.００９モル）を０.５ｇのＮ，
Ｎ−ジメチルアセトアミドに溶解した溶液を２０℃でゆ
っくり滴下し、滴下後更に三時間反応させた。次いで、
２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール２０ｍｇを加
えた。この溶液は室温で一週間後もゲル化すること無く
安定であった。

【００７０】この溶液にたいし、３，５−ビス（４−ジ
エチルアミノベンジリデン）−１−メチル−１−アザシ
クロヘキサノン１０ｍｇと４−ジエチルアミノエチルベ
ンゾエート１００ｍｇを加えて、５μｍ孔のフィルタを
用いて加圧濾過した。

【００７１】得られた溶液をスピンナでシリコンウエハ
上に回転塗布し、次いで９０℃で３０分間乾燥して４μ
ｍ厚の塗膜を得た。この塗膜を縞模様のパターンを有す
るホトマスクで未着被覆し、５００Ｗの高圧水銀灯で紫
外線照射した。露光後、Ｎ−メチル−２−ピロリドン４
容、水１容からなる現像液で現像し、ついでイソプロピ
ルアルコールでリンスしてレリーフパターンを得た。現
像後膜厚の露光量依存性を測定し、現像後膜厚が塗布膜
厚の半分になる露光量を感度として、感度１２０ｍＪ／
ｃｍ²を得た。感度の４倍の露光量でシャープな端面を
持つ５μｍ幅のレリーフパターンを得た。このパターン
を２００℃３０分間、３５０℃３０分間加熱して最終的
にポリイミドのパターンを得た。これとは別に、パター
ンを形成しないことのほかは上記と全く同一の処理をし
た厚さ８μｍのポリイミドフィルムを作成し、伸び特性
を測定したところ伸びは１０％と良好であり、接着性を
測定したところピール強度は５００Ｎ／ｍと良好であっ
た。また、ＪＩＳ−Ｋ５４００で示される方法によって
前記のフィルムに碁盤目の切れ目を付け、高温高湿雰囲
気下（１２１℃、２気圧）に放置した後、セロハンテー
プを用いた剥離試験によって接着性を評価したところ、
５００時間放置しても剥離は認められなかった。

【００７２】（実施例２）実施例１で合成したポリアミ
ド酸溶液２０ｇに２−ジメチルアミノエタノール０.８
０２ｇ（０.００９モル）を加えて一時間反応させた後
２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール２０ｍｇを加
え、イソシアネートエチルメタクリレート１.４０ｇ
（０.００９モル）を１.５ｇのＮ，Ｎ−ジメチルアセト
アミドに溶解した溶液２０℃でゆっくり滴下し、滴下後
更に三時間反応させた。この溶液は室温で一週間後もゲ
ル化すること無く安定であった。

【００７３】この溶液に対し、３，５−ビス（４−ジエ
チルアミノベンジリデン）−１−メチル−４−アザシク
ロヘキサノン２０ｍｇとペンタエリスリトールテトラ
（３−メルカプトプロピオネート）１００ｍｇを加え
て、５μｍ孔のフィルタを用いて加圧濾過した。

【００７４】得られた溶液をスピンナでシリコンウエハ
上に回転塗布し、次いで９０℃で３０分間乾燥して５μ
ｍ厚の塗膜を得た。この塗膜を縞模様のパターンを有す
るホトマスクで未着被覆し、５００Ｗの高圧水銀灯で紫
外線照射した。露光後、Ｎ−メチル−２−ピロリドン４
容、イソプロピルアルコール１容から成る現像液で現像
し、ついでイソプロピルアルコールでリンスしてレリー
フパターンを得た。現像後膜厚の露光量依存性を測定
し、現像後膜厚が塗布膜厚の半分になる露光量を感度と
して、感度８０ｍＪ／ｃｍ²を得た。感度の４倍の露光
量でシャープな端面を持つ７μｍ幅のレリーフ・パター
ンを得た。このパターンを２００℃で３０分間、３５０
℃で３０分間加熱して最終的にポリイミドのパターンを
得た。これとは別に、パターンを形成しないことのほか
は上記と全く同一の処理をした厚さ８μｍのポリイミド
フィルムを作成し、伸び特性を測定したところ伸びは１
０％と良好であり、接着性を測定したところピール強度
は５００Ｎ／ｍと良好であった。また、ＪＩＳ−Ｋ５４
００で示される方法によって前記のフィルムに碁盤目の
切れ目を付け、高温高湿雰囲気下（１２１℃、２気圧）
に放置した後、セロハンテープを用いた剥離試験によっ
て接着性を評価したところ、５００時間放置しても剥離
は認められなかった。

【００７５】（実施例３）窒素気流下に４，４’−ジア
ミノジフェニルエーテル９.５ｇ（０.０４７５モル）と
３−アミノプロピルメチルジブチルシラン０.８０ｇ
（０.００５モル）をＮ−メチル−２−ピロリドンと
Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドの１：１混合液１４０ｇ
に溶解し、アミン溶液を調合した。次に、この溶液を氷
冷によって約１５℃の温度に保ちながら、撹拌下に３，
３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物
１４.７ｇ（０.０５モル）を加えた。加え終えてから更
に１５℃で５時間反応させて、粘度６０ポアズ（２５
℃）のポリアミド酸溶液を得た。

【００７６】このポリアミド酸溶液２０ｇに２，６−ジ
−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール３０ｍｇ、イソシアネー
トエチルメタクリレート１.７１ｇ（０.０１１モル）を
加えて一時間反応させた後、２−ジメチルアミノエタノ
ール１.０７ｇ（０.０１２モル）を１.０ｇのＮ，Ｎ−
ジメチルアセトアミドに溶解した溶液を２０℃でゆっく
り滴下し、滴下後更に三時間反応させた。この溶液は室
温で一週間後もゲル化すること無く安定であった。

【００７７】この溶液にたいし、２，４−ジエチルチオ
キサントン４０ｍｇ都４−ジエチルアミノエチルベンゾ
エート１００ｍｇを加えて、５μｍ孔のフィルタを用い
て加圧濾過した。

【００７８】得られた溶液をスピンナでシリコンウエハ
上に回転塗布し、次いで９０℃で３０分間乾燥して３μ
ｍ厚の塗膜を得た。この塗膜を縞模様のパターンを有す
るホトマスクで未着被覆し、５００Ｗの高圧水銀灯で紫
外線照射した。露光後、Ｎ−メチル−２−ピロリドン４
容、水１容から成る現像液で現像し、ついでイソプロピ
ルアルコールでリンスしてレリーフパターンを得た。現
像後膜厚の露光量依存性を測定し、現像後膜厚が塗布膜
厚の半分になる露光量を感度として、感度１８０ｍＪ／
ｃｍ²を得た。感度の４倍の露光量でシャープな端面を
持つ５μｍ幅のレリーフパターンを得た。このパターン
を２００℃３０分間、３５０℃３０分間加熱して最終的
にポリイミドのパターンを得た。これとは別に、パター
ンを形成しないことのほかは上記と全く同一の処理をし
た厚さ８μｍのポリイミドフィルムを作成し、伸び特性
を測定したとろこ伸びは１５％と良好であり、接着性を
測定したところピール強度は５００Ｎ／ｍと良好であっ
た。また、ＪＩＳ−Ｋ５４００で示される方法によって
前記のフィルムに碁盤目の切れ目を付け、高温高湿雰囲
気下（１２１℃、２気圧）に放置した後、セロハンテー
プを用いて剥離試験によって接着性を評価したところ、
５００時間放置しても剥離は認められなかった。

【００７９】（実施例４）実施例３で合成したポリアミ
ド酸溶液２０ｇに２−ジメチルアミノエタノール２.１
４ｇ（０.０２４モル）を加えて一時間反応させた後更
に２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール３０ｍｇを
加え、イソシアネートエチルメタクリレート１.８６ｇ
（０.０２４モル）を２.０ｇのＮ，Ｎ−ジメチルアセト
アミドに溶解した溶液を２０℃でゆっくり滴下し、滴下
後更に三時間反応させた。この溶液は室温で一週間後も
ゲル化すること無く安定であった。

【００８０】この溶液に対し、ミヒラケトン６０ｍｇと
ペンタエリスリトールテトラ（３−メルカプトプロピオ
ネート）１５０ｍｇを加えて、５μｍ孔のフィルタを用
いて加圧濾過した。

【００８１】得られた溶液をスピンナでシリコンウエハ
上に回転塗布し、次いで９０℃で３０分間乾燥して４μ
ｍ厚の塗膜を得た。この塗膜を縞模様のパターンを有す
るホトマスクで未着被覆し、５００Ｗの高圧水銀灯で紫
外線照射した。露光後、Ｎ−メチル−２−ピロリドン４
容、イソプロピルアルコール１容から成る現像液で現像
し、ついでイソプロピルアルコールでリンスしてレリー
フパターンを得た。現像後膜厚の露光量依存性を測定
し、現像後膜厚が塗布膜厚の半分になる露光量を感度と
して、感度６０ｍＪ／ｃｍ²を得た。感度の４倍の露光
量でシャープな端面を持つ５μｍ幅のレリーフ・パター
ンを得た。このパターンを２００℃で３０分間、３５０
℃で３０分間加熱して最終的にポリイミドのパターンを
得た。これとは別に、パターンを形成しないことのほか
は上記と全く同一の処理をした厚さ８μｍのポリイミド
フィルムを作成し、伸び特性を測定したところ伸びは１
５％と良好であり、接着性を測定したところピールは強
度５００Ｎ／ｍと良好であった。また、ＪＩＳ−Ｋ５４
００で示される方法によって前記のフィルムに碁盤目の
切れ目を付け、高温高湿雰囲気下（１２１℃、２気圧）
に放置した後、セロハンテープを用いた剥離試験によっ
て接着性を評価したところ、５００時間放置しても剥離
は認められなかった。

【００８２】（実施例５〜２０）表１〜表８にポリアミ
ド酸、水酸基を有するアミン化合物、炭素−炭素二重結
合を有するイソシアネート化合物を反応させて成るポリ
マーの種類とワニスの安定性を示す。

【００８３】

【表１】

【００８４】

【表２】

【００８５】

【表３】

【００８６】

【表４】

【００８７】

【表５】

【００８８】

【表６】

【００８９】

【表７】

【００９０】

【表８】

【００９１】反応条件は実施例１〜４に示すものと同様
である。ポリアミド酸と炭素−炭素二重結合を有するイ
ソシアネート化合物を先に反応させる場合を（Ａ）、ポ
リアミド酸と水酸基を有するアミン化合物を先に反応さ
せる場合を（Ｂ）とする。ワニスの安定性は１重量部の
２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール存在下、室温
で１週間放置してもゲル化しないものを良好とした。な
お、ここで用いたポリアミド酸の濃度は１０〜１５％で
あり、溶液はＮ−メチル−２−ピロリドンとＮ，Ｎ−ジ
メチルアセトアミドの１：１混合液を用いた。

【００９２】（実施例２１〜４０）表９〜表１２に上記
ポリマーを用いた感光性耐熱重合体組成物とその特性を
示す。

【００９３】

【表９】

【００９４】

【表１０】

【００９５】

【表１１】

【００９６】

【表１２】

【００９７】成膜、評価条件は実施例１〜４で用いたの
と同様の条件を用い、膜厚は５〜２０μｍに設定した。
感度は、測定波長３６５ｎｍで３００ｍＪ／ｃｍ²以下
のものを良好とした。最終ポリイミドの伸びは５％以上
を良好とし、接着性はピール強度３００Ｎ／ｍ以上を良
好とした。

【００９８】（比較例１）実施例１で合成したポリアミ
ド酸溶液２０ｇに２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノ
ール２０ｍｇを加え、イソシアネートエチルメタクリレ
ート１.５５ｇ（０.０１モル）を加えて室温で放置した
ところ２日後に溶液はゲル化した。

【００９９】（比較例２）窒素気流下に、γ−ブチロラ
クトン５０容量部に溶けたベンゾフェノンテトラカルボ
ン酸二無水物３２.２重量部に対し、ヒドロキシエチル
メタクリレート２６重量部および１，４−ジアザビシク
ロ（２，２，２）オクタンを加えた。１６時間反応させ
た後、Ｎ−メチル−２−ピロリドン５０容量部に溶けた
４，４’−ジアミノジフェニルエーテル１６重量部の溶
液を加えた。その後、反応溶液に、γ−ブチロラクトン
１００容量部に溶けたジシクロヘキシルカルボジイミド
３６重量部の溶液を滴下した。反応溶液は室温で１夜放
置した後沈殿物を濾別して感光性ワニスを得た。シリコ
ンウエハ上にスピン塗布した後、２００で３０分間、３
５０℃で３０分間加熱して厚さ８μｍの最終ポリイミド
のフィルムを得た。この材料は極めて脆く、伸びは１％
以下であった。本材料は極めて脆いため、ピール法によ
る接着性評価は不可能であった。そこで、ＪＩＳ−Ｋ５
４００で示される方法によって前記のフィルムに碁盤目
の切れ目を付け、高温高湿雰囲気下（１２１℃、２気
圧）に放置した後、セロハンテープを用いた剥離試験に
よって接着性を評価したところ、放置時間１０時間以内
に作成した１００個の碁盤目（１ｍｍ角）はすべて剥離
した。

【０１００】

【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば高
感度で機械特性、接着性の優れた最終ポリイミド膜を生
成する感光性耐熱重合体組成物を提供することが出来る
ので、ＬＳＩのプロテクション膜、α線遮蔽膜、層間絶
縁膜やコンピューター等に用いる薄膜多層基板の層間絶
縁膜などの電子部品の幅広い分野で利用することが可能
になった。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁵ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０３Ｆ 7/027 ５０２ 7/031 7/085 Ｈ０１Ｌ 21/027 Ｈ０５Ｋ 3/28 Ｄ 7511−4Ｅ (72)発明者 庄子 房次 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地株式 会社日立製作所生産技術研究所内 (72)発明者 小原 功 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地株式 会社日立製作所生産技術研究所内

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】一般式（化１） 【化１】 （但し、式中Ｒ¹は少なくとも４個の炭素を含む４価の
   有機基、Ｒ²，Ｒ³は２価の有機基、Ｒ⁴，Ｒ⁵は低級アル
   キル基または含芳香族基、ｎは０，１，２または３であ
   り［］は繰り返し単位を表わす）で示される構造を主成
   分とするポリマー、または一般式（化１）で示されるポ
   リマーと異なったＲ¹および／またはＲ²で構成される一
   般式（化１）で示されるポリマーとのコポリマー１００
   重量部に対し、水酸基を有するアミン化合物１〜４００
   重量部と炭素−炭素２重結合を有するイソシアネート化
   合物１〜４００重量部を反応させ、さらに増感剤または
   光重合開始剤または光架橋剤を加えてなる感光性耐熱重
   合体組成物。
2. 【請求項２】水酸基を有するアミン化合物が一般式（化
   ２） 【化２】 （但しＲ⁶，Ｒ⁷は水素、アルキル基、フェニル基、ベン
   ジル基、−Ｒ⁸ＯＨから選択された基、Ｒ⁸は２価の有機
   基である）または一般式（化３） 【化３】 （但し、Ｒ⁹は水素、アルキル基、フェニル基、ベンジ
   ル基、−Ｒ⁸ＯＨから選択された基、Ｒ¹⁰は環状アミノ
   基を形成する２価の有機基でありＲ⁹とＲ¹⁰のいずれに
   もまたはいずれにか水酸基を有する）で表される化合物
   であることを特徴とする請求項１記載の感光性耐熱重合
   体組成物。
3. 【請求項３】炭素−炭素２重結合を有するイソシアネー
   ト化合物が一般式（化４） 【化４】 （但し、Ｒ¹¹，Ｒ¹²，Ｒ¹³は水素、アルキル基、フェニ
   ル基、ビニル基、プロペニル基から選択された基、Ｒ¹⁴
   は２価の有機基である）で表される化合物であることを
   特徴とする請求項１記載の感光性耐熱重合体組成物。
4. 【請求項４】請求項１記載の感光性耐熱重合体組成物に
   おいて、増感助剤、光重合助剤を加えて成る感光性耐熱
   重合体組成物。
5. 【請求項５】請求項１または請求項４記載の感光性耐熱
   重合体組成物において、共重合モノマーを加えて成る感
   光性耐熱重合体組成物。
6. 【請求項６】請求項１、請求項４、または請求項５記載
   の感光性耐熱重合体組成物において、重合禁止剤、安定
   剤を加えて成る感光性耐熱重合体組成物。