JPH0516152A - スタンパの洗浄方法 - Google Patents

スタンパの洗浄方法

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Publication number
JPH0516152A
JPH0516152A JP17553391A JP17553391A JPH0516152A JP H0516152 A JPH0516152 A JP H0516152A JP 17553391 A JP17553391 A JP 17553391A JP 17553391 A JP17553391 A JP 17553391A JP H0516152 A JPH0516152 A JP H0516152A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
stamper
water
cleaning
mold
ultrasonic waves
Prior art date
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Pending
Application number
JP17553391A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroyuki Sakurai
裕之 桜井
Masanori Yoshida
真紀 吉田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Kasei Corp
Original Assignee
Mitsubishi Kasei Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Kasei Corp filed Critical Mitsubishi Kasei Corp
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Publication of JPH0516152A publication Critical patent/JPH0516152A/ja
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  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
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Abstract

(57)【要約】 【目 的】射出成形金型中に固定され精密な凹凸形状を
転写するに用いるスタンパの効果的洗浄方法を提供す
る。 【構 成】スタンパの表面に水を接触させながら超音波
を作用させることにより洗浄を行う。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光ディスク用の基板等
を製造する際に用いる射出成形用のスタンパの洗浄方法
に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、光ディスク用等に用いる基板は、
射出成形金型中に、フォーマット情報等を凹凸情報にし
て形成したスタンパを固定し、これにポリカーボネート
樹脂等を射出成形して、情報を転写し基板として用いて
いる。基板形成用スタンパは、多量の基板を製造するの
に用いるため、経時的に樹脂中の成分が付着し、このた
め凹凸情報が不鮮明になってくる。従って、ある程度の
枚数の基板を製造後スタンパを交換する必要が生じてい
た。より多くの基板を一枚のスタンパで製造するべく、
スタンパを有機溶剤で洗浄し、付着物を取り除き、スタ
ンパを再使用することも試みられたが付着物を完全に除
去し、再使用可能な程度にまでスタンパを洗浄するには
多くの工程、時間を要し、工業的に有利な方法は見出さ
れていなかった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】スタンパの効率的な洗
浄方法を開発することができれば、スタンパの寿命を延
ばすことができ、歩溜りの向上、製品コストの低減が計
れる。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明の要旨は、金型中
に固定され、金型に充填された樹脂の表面に所定の形状
を転写するのに用いられるスタンパを洗浄するに当り、
スタンパ表面に水を接触させながら、超音波を作用させ
ることを特徴とするスタンパの洗浄方法に存する。上記
水洗浄に用いる洗浄水としてはカルシウム及びマグネシ
ウムの合計含有量が重量で１０ｐｐｍ以下の水を用いる
のが洗浄効果の上から望ましい。該合計含有量は好まし
くは５ｐｐｍ以下、より好ましくは３ｐｐｍ以下、さら
に好ましくは１ｐｐｍ以下である。このような水として
は例えば蒸留水、ボイラー水、脱イオン水（脱塩水）、
純水、超純水等が挙げられる。
【０００５】また、洗浄方法としては、超音波を作用さ
せながら１０〜８０°Ｃの水を蒸気又は液で接触させる
方法であればいずれの方法でもよく、例えば超音波を作
用させた噴霧洗浄、浸漬洗浄、シャワー洗浄等が挙げら
れる。超音波の周波数は２０〜１００ｋＨZ程度が良
く、洗浄時間は適用する方法にもよるが通常１０分〜１
時間程度で良い。
【０００６】また、洗浄を数回繰り返したり、純水で洗
浄後超純水ですすぐ等も考えられる。洗浄後、スタンパ
は自然乾燥、スピン乾燥、温風乾燥等公知の乾燥法によ
り乾燥すれば良い。
【０００７】
【実施例】本発明の光ディスク用スタンパ洗浄方法につ
いて以下、実施例に基づいて説明するが、本発明はその
要旨を越えない限り以下の実施例には限定されない。
【０００８】
【実施例１】射出成形によって離型剤等が表面に薄く付
着し、表面状態が悪くなり、不良ディスクが発生するよ
うになったスタンパを純水の入っている浴槽に３０分浸
漬し、８０ｋＨZの超音波を作用させ洗浄した。液温度
は室温とした。次にスタンパを純水浴より取り出し、ス
タンパの付着水が乾燥する前に室温の超純水の入ってい
る浴槽に３０秒浸漬した。
【０００９】次にスタンパを水切りし、自然乾燥した。
このようにして洗浄したスタンパの表面を走査型電子顕
微鏡で確認したところ、付着物がほぼ完全に除かれ、ほ
ぼ使用前のスタンパの表面状態と同様の状態となってい
た。このスタンパを用いて射出成形を行ったが、良好な
基板が成形できた。
【００１０】
【比較例１】実施例１において純水の変わりにアセトン
を用いて同様の超音波洗浄を行った。その結果得られた
スタンパの表面状態は、洗浄前後でほとんど変化はなく
洗浄効果は認められなかった。更に、他のエチルアルコ
ール等の有機溶媒を用いてもアセトンの場合と同様に洗
浄による改善効果はみられなかった。
【００１１】
【発明の効果】スタンパの洗浄は、付着物が有機物であ
ることが考えられるため、有機溶剤を用いることを考え
るが、驚くべきことには、水を用いた洗浄が極めて有効
であることを見出したものである。本発明の方法によれ
ば、簡便且つ安価な方法でスタンパが再生可能となり、
スタンパ洗浄を一定数の射出成形ごとに定期的に行うこ
とによってスタンパの歩留りの向上、生産性の向上、お
よびスタンパの耐用成形枚数の増加が図れる。
フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ２９Ｌ 17:00 4Ｆ

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 【請求項１】 金型中に固定され、金型に充填された
    樹脂の表面に所定の形状を転写するのに用いられるスタ
    ンパを洗浄するに当り、スタンパ表面に水を接触させな
    がら、超音波を作用させることを特徴とするスタンパの
    洗浄方法。
JP17553391A 1991-07-16 1991-07-16 スタンパの洗浄方法 Pending JPH0516152A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8211595B2 (en) * 2004-02-12 2012-07-03 Optaglio, Ltd. Metal identification platelet and method of producing thereof

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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US8211595B2 (en) * 2004-02-12 2012-07-03 Optaglio, Ltd. Metal identification platelet and method of producing thereof

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