JPH05157813A - Test signal generating circuit - Google Patents

Test signal generating circuit

Info

Publication number
JPH05157813A
JPH05157813A JP3318820A JP31882091A JPH05157813A JP H05157813 A JPH05157813 A JP H05157813A JP 3318820 A JP3318820 A JP 3318820A JP 31882091 A JP31882091 A JP 31882091A JP H05157813 A JPH05157813 A JP H05157813A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mos transistor
type mos
channel type
source
test signal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP3318820A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2757632B2 (en
Inventor
Masaki Furuchi
將樹 古地
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP3318820A priority Critical patent/JP2757632B2/en
Publication of JPH05157813A publication Critical patent/JPH05157813A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2757632B2 publication Critical patent/JP2757632B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Tests Of Electronic Circuits (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)

Abstract

PURPOSE:To reduce the source voltage dependency of the voltage level necessary for entering the test condition by constituting a test signal generating circuit of a depression P channel type MOS transistor and an enhancement N channel type MOS transistor, and connecting the source and the gate of the depression P channel type MOS transistor to the source voltage dependency. CONSTITUTION:An input terminal 1 is connected to an input buffer and a source of N channel type MOS transistor 4, and its gate is earthed. The source and the gate of a depression P channel type MOS transistor 3 are connected to the power source. Drains of the transistors 3, 4 are connected to each other, a contact 9 is connected to an inverter 10, and the output is used as a test signal. During the test operation, the voltage below the threshold value of the transistor 4 is applied to the terminal 1, realizing an energized condition. The voltage of the contact 9 is lowered in comparison with the mutual conductance of the transistors 3, 4, and the output of an inverter 10 reaches the 'high' level, leading to the active condition.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、テスト信号発生回路に
関し、特に、CMOS型半導体集積回路をテストする際
にテスト信号を発生するテスト信号発生回路に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a test signal generating circuit, and more particularly to a test signal generating circuit for generating a test signal when testing a CMOS type semiconductor integrated circuit.

【0002】[0002]

【従来の技術】図3はこの種のテスト信号発生回路の従
来例の回路図である。
2. Description of the Related Art FIG. 3 is a circuit diagram of a conventional example of this type of test signal generating circuit.

【0003】図3において、このテスト信号発生回路
は、ソースが電源電圧レベルに接続され、ゲートがグラ
ンドレベルに接続された相互コンダクタンスの小さいP
チャンネル型MOSトランジスタ7と、ソースが入力端
子1と入力バッファ2のゲートに接続され、ゲートがグ
ランドレベルに接続され、前記Pチャンネル型MOSト
ランジスタ7とドレイン同志が接続されたNチャンネル
型MOSトランジスタ8と、前記両トランジスタ7、8
のドレインを入力とし、出力信号をテスト信号11とし
て内部回路に供給するインバータ10とで構成されてい
る。
In FIG. 3, this test signal generating circuit has a source connected to a power supply voltage level and a gate connected to a ground level, and has a small mutual conductance P.
A channel type MOS transistor 7 and an N channel type MOS transistor 8 whose source is connected to the input terminal 1 and the gate of the input buffer 2 and whose gate is connected to the ground level and whose P channel type MOS transistor 7 and its drain are connected to each other. And both transistors 7 and 8
And an inverter 10 which supplies the output signal as a test signal 11 to the internal circuit.

【0004】通常動作時には、入力端子1にグランドレ
ベルと電源電圧レベル間の電圧が印加される。この場
合、Pチャンネル型MOSトランジスタ7は導通状態、
Nチャンネル型MOSトランジスタ8は非導通状態とな
り、接点9の電位は常に“ハイ”レベルであるために、
インバータ10の出力信号、即ちテスト信号11は能動
状態にはならない。
During normal operation, a voltage between the ground level and the power supply voltage level is applied to the input terminal 1. In this case, the P-channel MOS transistor 7 is in the conductive state,
Since the N-channel MOS transistor 8 becomes non-conductive and the potential of the contact 9 is always at "high" level,
The output signal of the inverter 10, that is, the test signal 11 is not in the active state.

【0005】テスト動作時には入力端子1にGND−V
TN(N型トランジスタ8のスレッショールド電圧)以下
の電圧を印加することにより、Nチャンネル型MOSト
ランジスタ8を導通状態にできる。Pチャンネル型MO
Sトランジスタ7の相互コンダクタンスはNチャンネル
型MOSトランジスタ8より十分小さく設定されている
ので、接点9の電位はインバータ10のスレッショール
ド電圧より低くなり、インバータ10の出力信号11は
能動状態となる。
At the time of test operation, the GND-V is applied to the input terminal 1.
By applying a voltage equal to or lower than TN (threshold voltage of the N-type transistor 8), the N-channel MOS transistor 8 can be rendered conductive. P channel type MO
Since the transconductance of the S transistor 7 is set sufficiently smaller than that of the N-channel MOS transistor 8, the potential of the contact 9 becomes lower than the threshold voltage of the inverter 10, and the output signal 11 of the inverter 10 becomes active.

【0006】出力信号11が能動状態となるときの入力
端子1の電圧と電源電圧の関係を図4に点線で示す。
The relationship between the voltage of the input terminal 1 and the power supply voltage when the output signal 11 is in the active state is shown by the dotted line in FIG.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】上述した従来のテスト
信号発生回路では、Pチャンネル型MOSトランジスタ
7はエンハンスメント型であり、ソースがVDDに接続さ
れ、ゲートがGNDに接続されている為に、テスト状態
に入るときに必要な電圧レベル(以下テストレベルとす
る)が電源電圧に大きく依存する。このために、電源電
圧が高いときにはテストレベルの絶対値は大きくなり、
より微細化された半導体集積回路のプロセスでは、テス
ト状態時に回路の破壊を惹き起こす。また、電源電圧が
低いときにはテストレベルの絶対値は小さいなり、テス
ト状態に入りやすくなるために、通常動作時の暴走を惹
き起こすという欠点があった。
In the conventional test signal generating circuit described above, the P-channel type MOS transistor 7 is an enhancement type, the source is connected to V DD , and the gate is connected to GND. The voltage level required to enter the test state (hereinafter referred to as the test level) largely depends on the power supply voltage. Therefore, when the power supply voltage is high, the absolute value of the test level becomes large,
In a more miniaturized semiconductor integrated circuit process, the circuit is broken during a test state. Further, when the power supply voltage is low, the absolute value of the test level is small, and it is easy to enter the test state, so that there is a drawback that runaway during normal operation is caused.

【0008】本発明は従来の上記実情に鑑みてなされた
ものであり、従って本発明の目的は、従来の技術に内在
する上記諸欠点を解消することを可能とした新規なテス
ト信号発生回路を提供することにある。
The present invention has been made in view of the above-mentioned conventional circumstances, and therefore, an object of the present invention is to provide a novel test signal generating circuit capable of solving the above-mentioned drawbacks inherent in the conventional technology. To provide.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成する為
に、本発明に係るテスト信号発生回路は、ソースとゲー
トが電源電圧レベルに接続されたディプレッションPチ
ャンネル型MOSトランジスタと、ソースが入力回路の
入力端子と接続され、ゲートがグランドレベルに接続さ
れ前記ディプレッションPチャンネル型MOSトランジ
スタとドレイン同志が接続されたNチャンネル型トラン
ジスタと、前記両トランジスタのドレインを入力とし出
力信号をテスト信号として内部回路に供給するインバー
タとを備えて構成されるか、もしくはソースとゲートが
グランドレベルに接続されたディプレッションNチャン
ネル型MOSトランジスタと、ソースが入力回路の入力
端子と接続されゲートが電源電圧レベルに接続され前記
ディプレッションNチャンネル型MOSトランジスタと
ドレイン同志が接続されたPチャンネル型MOSトラン
ジスタと、前記両トランジスタのドレインを入力とし出
力信号をテスト信号として内部回路に供給するバッファ
とを備えて構成される。
To achieve the above object, a test signal generating circuit according to the present invention is a depletion P-channel type MOS transistor having a source and a gate connected to a power supply voltage level, and a source having an input circuit. Of the depletion P-channel type MOS transistor connected to the ground level and the depletion P-channel type MOS transistor and the drains thereof are connected to each other, and the drains of the both transistors are input and the output signal is used as a test signal for an internal circuit. Or a depletion N-channel type MOS transistor having a source and a gate connected to the ground level, a source connected to the input terminal of the input circuit and a gate connected to the power supply voltage level. The depletion N And P-channel type MOS transistor Yan'neru type MOS transistor and a drain each other are connected, the configured a buffer supplied to the internal circuit output signal as input drains of the transistors as the test signal.

【0010】[0010]

【実施例】次に、本発明をその好ましい各実施例につい
て図面を参照して具体的に説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will now be described in detail with reference to the drawings for each of its preferred embodiments.

【0011】図1は本発明に係るテスト信号発生回路の
第1の実施例を示す回路構成図である。
FIG. 1 is a circuit configuration diagram showing a first embodiment of a test signal generating circuit according to the present invention.

【0012】図1を参照するに、入力端子1からの入力
信号は入力バッファ2に接続されるとともにNチャンネ
ル型MOSトランジスタ4のソースに接続されている。
Nチャンネル型MOSトランジスタ4のゲートはGND
レベルに接続されている。ディプレッションPチャンネ
ル型MOSトランジスタ3のソースとゲートにはVDD
ベルが接続されている。ディプレッションPチャンネル
型MOSトランジスタ3とNチャンネル型MOSトラン
ジスタのドレイン同志は接続され、接点9のその出力は
インバータ10に接続されている。
Referring to FIG. 1, the input signal from the input terminal 1 is connected to the input buffer 2 and the source of the N-channel type MOS transistor 4.
The gate of the N-channel MOS transistor 4 is GND
Connected to the level. The V DD level is connected to the source and gate of the depletion P-channel type MOS transistor 3. The drains of the depletion P-channel MOS transistor 3 and the N-channel MOS transistor are connected to each other, and the output of the contact 9 is connected to the inverter 10.

【0013】インバータ10の出力信号11はテスト信
号として、また入力バッファ2の出力信号は通常動作の
入力信号として半導体集積回路の内部ゲートに供給され
る。
The output signal 11 of the inverter 10 is supplied as a test signal, and the output signal of the input buffer 2 is supplied as an input signal for normal operation to the internal gate of the semiconductor integrated circuit.

【0014】次に、本第1の実施例の動作を説明する。Next, the operation of the first embodiment will be described.

【0015】(1).通常動作時 通常動作時には、入力端子1にGNDレベルとVDDレベ
ル間の電圧が印加される。この場合、ディプレッション
Pチャンネル型MOSトランジスタ3は導通状態、Nチ
ャンネル型MOSトランジスタ4は非導通状態となり、
接点9の電位は常に“ハイ”レベルであるために、イン
バータ10の出力信号、即ちテスト信号11は能動状態
にならない。従って、通常動作時にはテスト状態にひき
こまれることなく、また入力バッファ2の出力信号は通
常の入力信号として内部回路にとりこまれるために、通
常動作を行うことができる。
(1). During normal operation During normal operation, a voltage between the GND level and the V DD level is applied to the input terminal 1. In this case, the depletion P-channel MOS transistor 3 is conductive and the N-channel MOS transistor 4 is non-conductive.
Since the potential of the contact 9 is always at "high" level, the output signal of the inverter 10, that is, the test signal 11 does not become active. Therefore, during a normal operation, the output signal of the input buffer 2 is taken into the internal circuit as a normal input signal without being pulled into the test state, so that the normal operation can be performed.

【0016】(2).テスト動作時 入力端子1にGND−VTN(N型トランジスタ4のスレ
ッショールド電圧)以下の電圧を印加することにより、
Nチャンネル型MOSトランジスタ4を導通状態にでき
る。ディプレッションPチャンネル型MOSトランジス
タ3のゲートにVDDレベルが印加されているとき、この
トランジスタの相互コンダクタンスより、Nチャンネル
型MOSトランジスタ4の相互コンダクタンスは十分大
きく設定されているので、接点9の電位はインバータ1
0のスレッショールド電圧より低くなり、インバータ1
0の出力信号11は“ハイ”レベル(能動状態)にな
る。
(2). At the time of test operation By applying a voltage of GND-V TN (threshold voltage of N-type transistor 4) or less to the input terminal 1,
The N-channel type MOS transistor 4 can be made conductive. When the V DD level is applied to the gate of the depletion P-channel type MOS transistor 3, the mutual conductance of the N-channel type MOS transistor 4 is set sufficiently larger than the mutual conductance of this transistor, so that the potential of the contact 9 is Inverter 1
It becomes lower than the threshold voltage of 0, and the inverter 1
The output signal 11 of 0 becomes "high" level (active state).

【0017】出力信号11が能動状態となるときの入力
端子1の電圧と電源電圧の関係を図4に実線で示す。
The relationship between the voltage at the input terminal 1 and the power supply voltage when the output signal 11 is in the active state is shown by the solid line in FIG.

【0018】図2は本発明に係るテスト信号発生回路の
第2の実施例を示す回路構成図である。
FIG. 2 is a circuit configuration diagram showing a second embodiment of the test signal generating circuit according to the present invention.

【0019】入力端子1からの入力信号は入力バッファ
2に接続されるとともにPチャンネル型MOSトランジ
スタ6のソースに接続されている。Pチャンネル型MO
Sトランジスタ6のゲートはVDDレベルに接続されてい
る。ディプレッションNチャンネル型MOSトランジス
タ5とPチャンネル型MOSトランジスタのドレイン同
志は接続され、接点9のその出力はバッファ12に接続
されている。
The input signal from the input terminal 1 is connected to the input buffer 2 and the source of the P-channel type MOS transistor 6. P channel type MO
The gate of the S transistor 6 is connected to the V DD level. The drains of the depletion N-channel type MOS transistor 5 and the P-channel type MOS transistor are connected to each other, and the output of the contact 9 is connected to the buffer 12.

【0020】バッファ12の出力信号11はテスト信号
として、また入力バッファ2の出力信号は通常動作の入
力信号として半導体集積回路の内部ゲートに供給され
る。
The output signal 11 of the buffer 12 is supplied as a test signal, and the output signal of the input buffer 2 is supplied as an input signal for normal operation to the internal gate of the semiconductor integrated circuit.

【0021】次に、本第2の実施例の動作を説明する。Next, the operation of the second embodiment will be described.

【0022】(1).通常動作時 通常動作時には、入力端子1にGNDレベルとVDDレベ
ル間の電圧が印加される。この場合、ディプレッション
Nチャンネル型MOSトランジスタ5は導通状態、Pチ
ャンネル型MOSトランジスタ6は非導通状態となり、
接点9の電位は常に“ロウ”レベルであるために、バッ
ファ12の出力信号、即ちテスト信号11は能動状態に
ならない。従って、通常動作時にはテスト状態にひきこ
まれることなく、また入力バッファ2の出力信号は通常
の入力信号として内部回路にとりこまれるために、通常
動作を行うことができる。
(1). During normal operation During normal operation, a voltage between the GND level and the V DD level is applied to the input terminal 1. In this case, the depletion N-channel MOS transistor 5 is conductive and the P-channel MOS transistor 6 is non-conductive.
Since the potential of the contact 9 is always at "low" level, the output signal of the buffer 12, that is, the test signal 11 does not become active. Therefore, during a normal operation, the output signal of the input buffer 2 is taken into the internal circuit as a normal input signal without being pulled into the test state, so that the normal operation can be performed.

【0023】(2).テスト動作時 入力端子1にVDD+|VTP|(Pチャンネル型トランジ
スタ6のスレッショールド電圧)以上の電圧を印加する
ことにより、Pチャンネル型MOSトランジスタ6を導
通状態にできる。ディプレッションNチャンネル型MO
Sトランジスタ5のゲートにGNDレベルが印加されて
いるとき、このトランジスタの相互コンダクタンスよ
り、Pチャンネル型MOSトランジスタ6の相互コンダ
クタンスは十分大きく設定されているので、接点9の電
位はバッファ12のスレッショールド電圧より高くな
り、バッファ12の出力信号11は“ハイ”レベル(能
動状態)になる。
(2). During the test operation, the P-channel MOS transistor 6 can be rendered conductive by applying a voltage equal to or higher than V DD + | V TP | (threshold voltage of the P-channel transistor 6) to the input terminal 1. Depletion N-channel MO
When the GND level is applied to the gate of the S-transistor 5, the transconductance of the P-channel MOS transistor 6 is set to be sufficiently larger than the transconductance of this transistor, so that the potential of the contact 9 is the threshold of the buffer 12. The output voltage 11 of the buffer 12 becomes "high" level (active state).

【0024】[0024]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
テスト信号発生回路をエンハンスメント型MOSトラン
ジスタとディプレッション型MOSトランジスタで構成
し、ディプレッション型MOSトランジスタのソースと
ゲートを同電位にすることにより、図4の実線で表わさ
れる通り、テストレベルの電源電圧依存性が減少する。
したがって、電源電圧が高いときでもテストレベルの絶
対値は大くならないために、回路を破壊せずに、テスト
状態に引きこむことができ、また、電源電圧が低いとき
でもテストレベルの絶対値は小さくならないために、通
常動作時にテスト状態に入りにくくなるという効果が得
られる。
As described above, according to the present invention,
By configuring the test signal generation circuit with enhancement type MOS transistors and depletion type MOS transistors and setting the source and gate of the depletion type MOS transistors to the same potential, as shown by the solid line in FIG. Is reduced.
Therefore, the absolute value of the test level does not become large even when the power supply voltage is high, so the circuit can be pulled into the test state without destroying the circuit. Since the size does not become small, it is difficult to enter the test state during normal operation.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係るテスト信号発生回路の第1の実施
例を示す回路構成図である。
FIG. 1 is a circuit configuration diagram showing a first embodiment of a test signal generating circuit according to the present invention.

【図2】本発明に係るテスト信号発生回路の第2の実施
例を示す回路構成図である。
FIG. 2 is a circuit configuration diagram showing a second embodiment of the test signal generating circuit according to the present invention.

【図3】従来例の回路である。FIG. 3 is a circuit of a conventional example.

【図4】図1と図3に示す回路の特性図である。FIG. 4 is a characteristic diagram of the circuits shown in FIGS. 1 and 3.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…入力端子 2…入力バッファ 3…ディプレッションPチャンネル型MOSトランジス
タ 4…エンハンスメントNチャンネル型MOSトランジス
タ 5…ディプレッションNチャンネル型MOSトランジス
タ 6…エンハンスメントPチャンネル型MOSトランジス
タ 7…相互コンダクタンスの小さいエンハンスメントPチ
ャンネル型MOSトランジスタ 8…エンハンスメントNチャンネル型MOSトランジス
タ 9…接点 10…インバータ 11…テスト信号 12…バッファ 13…図1に示す本発明の特性 14…図3に示す従来例の特性
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Input terminal 2 ... Input buffer 3 ... Depletion P-channel type MOS transistor 4 ... Enhancement N-channel type MOS transistor 5 ... Depletion N-channel type MOS transistor 6 ... Enhancement P-channel type MOS transistor 7 ... Enhancement P-channel type with small mutual conductance MOS transistor 8 ... Enhancement N-channel MOS transistor 9 ... Contact 10 ... Inverter 11 ... Test signal 12 ... Buffer 13 ... Characteristics of the present invention shown in FIG. 1 ... Characteristics of conventional example shown in FIG.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 27/092 7342−4M H01L 27/08 321 L ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 5 Identification code Office reference number FI Technical display location H01L 27/092 7342-4M H01L 27/08 321 L

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 CMOS型半導体集積回路において、 ソースとゲートが電源電圧レベルに接続されたディプレ
ッションPチャンネル型MOSトランジスタと、 ソースが入力回路の入力端子と接続され、ゲートがグラ
ンドレベルに接続され、前記ディプレッションPチャン
ネル型MOSトランジスタとドレイン同志が接続された
Nチャンネル型MOSトランジスタと、前記両トランジ
スタのドレインを入力とし、出力信号をテスト信号とし
て内部回路に供給するインバータと、 を有することを特徴としたテスト信号発生回路。
1. In a CMOS type semiconductor integrated circuit, a depletion P-channel type MOS transistor having a source and a gate connected to a power supply voltage level, a source connected to an input terminal of an input circuit, and a gate connected to a ground level. The depletion P-channel type MOS transistor and an N-channel type MOS transistor having drains connected to each other; and an inverter which inputs the drains of the both transistors and supplies an output signal as a test signal to an internal circuit. Test signal generator circuit.
【請求項2】 CMOS型半導体集積回路において、 ソースとゲートがグランドレベルに接続されたディプレ
ッションNチャンネル型MOSトランジスタと、 ソースが入力回路の入力端子と接続され、ゲートが電源
電圧レベルに接続され、前記ディプレッションNチャン
ネル型MOSトランジスタとドレイン同志が接続された
Pチャンネル型MOSトランジスタと、 前記両トランジスタのドレインを入力とし、出力信号を
テスト信号として内部回路に供給するバッファとを有す
ることを特徴したテスト信号発生回路。
2. A CMOS type semiconductor integrated circuit comprising: a depletion N-channel type MOS transistor having a source and a gate connected to a ground level; a source connected to an input terminal of an input circuit; and a gate connected to a power supply voltage level. A test comprising: a depletion N-channel MOS transistor and a P-channel MOS transistor having drains connected to each other; and a buffer having the drains of both transistors as inputs and supplying an output signal as a test signal to an internal circuit. Signal generation circuit.
JP3318820A 1991-12-03 1991-12-03 Test signal generation circuit Expired - Lifetime JP2757632B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3318820A JP2757632B2 (en) 1991-12-03 1991-12-03 Test signal generation circuit

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3318820A JP2757632B2 (en) 1991-12-03 1991-12-03 Test signal generation circuit

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH05157813A true JPH05157813A (en) 1993-06-25
JP2757632B2 JP2757632B2 (en) 1998-05-25

Family

ID=18103318

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3318820A Expired - Lifetime JP2757632B2 (en) 1991-12-03 1991-12-03 Test signal generation circuit

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2757632B2 (en)

Also Published As

Publication number Publication date
JP2757632B2 (en) 1998-05-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH06325569A (en) Middle voltage generating circuit for semiconductor integrated circuit
JPH06196989A (en) Power on reset circuit
JPH01288109A (en) Bimos logic circuit
JP2978346B2 (en) Input circuit of semiconductor integrated circuit device
JPH05157813A (en) Test signal generating circuit
US6404236B1 (en) Domino logic circuit having multiplicity of gate dielectric thicknesses
JP3386661B2 (en) Output buffer
US20020000864A1 (en) Semiconductor integrated circuit device using substrate bising and device control method thereof
JPH11353066A (en) Output buffer
JP2904962B2 (en) Booster
JPS5842659B2 (en) transistor warmer
JPH07235608A (en) Semiconductor integrated circuit device
JPH05288782A (en) High-potential detection circuit
JPH06232728A (en) Input output circuit
JPH0219979B2 (en)
JP2821294B2 (en) Latch-up prevention circuit
JP2917693B2 (en) Semiconductor integrated circuit
JPH05218312A (en) Open drain type output circuit
JPS6339123B2 (en)
JPH09321149A (en) Semiconductor device having input/output protection circuit
JPH07131309A (en) Time constant circuit using mos transistor
JPH09266419A (en) Source follower circuit
JPS6336161A (en) Test signal generating circuit
JPH06314964A (en) Semiconductor signal output circuit
JPH01245615A (en) Output circuit for semiconductor device