JP2757632B2 - Test signal generation circuit - Google Patents

Test signal generation circuit

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JP2757632B2
JP2757632B2 JP3318820A JP31882091A JP2757632B2 JP 2757632 B2 JP2757632 B2 JP 2757632B2 JP 3318820 A JP3318820 A JP 3318820A JP 31882091 A JP31882091 A JP 31882091A JP 2757632 B2 JP2757632 B2 JP 2757632B2
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mos transistor
test signal
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將樹 古地
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、テスト信号発生回路に
関し、特に、CMOS型半導体集積回路をテストする際
にテスト信号を発生するテスト信号発生回路に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a test signal generating circuit, and more particularly to a test signal generating circuit for generating a test signal when testing a CMOS semiconductor integrated circuit.

【0002】[0002]

【従来の技術】図3はこの種のテスト信号発生回路の従
来例の回路図である。
2. Description of the Related Art FIG. 3 is a circuit diagram of a conventional example of such a test signal generating circuit.

【0003】図3において、このテスト信号発生回路
は、ソースが電源電圧レベルに接続され、ゲートがグラ
ンドレベルに接続された相互コンダクタンスの小さいP
チャンネル型MOSトランジスタ7と、ソースが入力端
子1と入力バッファ2のゲートに接続され、ゲートがグ
ランドレベルに接続され、前記Pチャンネル型MOSト
ランジスタ7とドレイン同志が接続されたNチャンネル
型MOSトランジスタ8と、前記両トランジスタ7、8
のドレインを入力とし、出力信号をテスト信号11とし
て内部回路に供給するインバータ10とで構成されてい
る。
In FIG. 3, a test signal generating circuit has a low transconductance having a source connected to a power supply voltage level and a gate connected to a ground level.
A channel-type MOS transistor 7, an N-channel MOS transistor 8 having a source connected to the input terminal 1 and the gate of the input buffer 2, a gate connected to the ground level, and the P-channel MOS transistor 7 connected to the drain And the two transistors 7, 8
, And an inverter 10 which supplies an output signal as a test signal 11 to an internal circuit.

【0004】通常動作時には、入力端子1にグランドレ
ベルと電源電圧レベル間の電圧が印加される。この場
合、Pチャンネル型MOSトランジスタ7は導通状態、
Nチャンネル型MOSトランジスタ8は非導通状態とな
り、接点9の電位は常に“ハイ”レベルであるために、
インバータ10の出力信号、即ちテスト信号11は能動
状態にはならない。
During normal operation, a voltage between the ground level and the power supply voltage level is applied to the input terminal 1. In this case, the P-channel type MOS transistor 7 is conductive,
Since the N-channel MOS transistor 8 is turned off and the potential of the contact 9 is always at the “high” level,
The output signal of the inverter 10, that is, the test signal 11, does not become active.

【0005】テスト動作時には入力端子1にGND−V
TN(N型トランジスタ8のスレッショールド電圧)以下
の電圧を印加することにより、Nチャンネル型MOSト
ランジスタ8を導通状態にできる。Pチャンネル型MO
Sトランジスタ7の相互コンダクタンスはNチャンネル
型MOSトランジスタ8より十分小さく設定されている
ので、接点9の電位はインバータ10のスレッショール
ド電圧より低くなり、インバータ10の出力信号11は
能動状態となる。
During a test operation, the input terminal 1 is connected to GND-V
By applying a voltage equal to or lower than TN (threshold voltage of the N-type transistor 8), the N-channel MOS transistor 8 can be made conductive. P-channel type MO
Since the transconductance of the S transistor 7 is set sufficiently smaller than that of the N-channel MOS transistor 8, the potential of the contact 9 becomes lower than the threshold voltage of the inverter 10, and the output signal 11 of the inverter 10 becomes active.

【0006】出力信号11が能動状態となるときの入力
端子1の電圧と電源電圧の関係を図4に点線で示す。
The relationship between the voltage at the input terminal 1 and the power supply voltage when the output signal 11 becomes active is shown by a dotted line in FIG.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】上述した従来のテスト
信号発生回路では、Pチャンネル型MOSトランジスタ
7はエンハンスメント型であり、ソースがVDDに接続さ
れ、ゲートがGNDに接続されている為に、テスト状態
に入るときに必要な電圧レベル(以下テストレベルとす
る)が電源電圧に大きく依存する。このために、電源電
圧が高いときにはテストレベルの絶対値は大きくなり、
より微細化された半導体集積回路のプロセスでは、テス
ト状態時に回路の破壊を惹き起こす。また、電源電圧が
低いときにはテストレベルの絶対値は小さいなり、テス
ト状態に入りやすくなるために、通常動作時の暴走を惹
き起こすという欠点があった。
In the above-described conventional test signal generation circuit, the P-channel MOS transistor 7 is of the enhancement type, and the source is connected to V DD and the gate is connected to GND. The voltage level required to enter the test state (hereinafter referred to as a test level) greatly depends on the power supply voltage. Therefore, when the power supply voltage is high, the absolute value of the test level becomes large,
In a process of a miniaturized semiconductor integrated circuit, the circuit is destroyed in a test state. In addition, when the power supply voltage is low, the absolute value of the test level becomes small, and the test state is easily entered, which causes a runaway during normal operation.

【0008】本発明は従来の上記実情に鑑みてなされた
ものであり、従って本発明の目的は、従来の技術に内在
する上記諸欠点を解消することを可能とした新規なテス
ト信号発生回路を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned conventional circumstances, and an object of the present invention is to provide a novel test signal generating circuit which can eliminate the above-mentioned disadvantages inherent in the prior art. To provide.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成する為
に、本発明に係るテスト信号発生回路は、ソースとゲー
トが電源電圧レベルに接続されたディプレッションPチ
ャンネル型MOSトランジスタと、ソースが入力回路の
入力端子と接続され、ゲートがグランドレベルに接続さ
れ前記ディプレッションPチャンネル型MOSトランジ
スタとドレイン同志が接続されたNチャンネル型トラン
ジスタと、前記両トランジスタのドレインを入力とし出
力信号をテスト信号として内部回路に供給するインバー
タとを備えて構成されるか、もしくはソースとゲートが
グランドレベルに接続されたディプレッションNチャン
ネル型MOSトランジスタと、ソースが入力回路の入力
端子と接続されゲートが電源電圧レベルに接続され前記
ディプレッションNチャンネル型MOSトランジスタと
ドレイン同志が接続されたPチャンネル型MOSトラン
ジスタと、前記両トランジスタのドレインを入力とし出
力信号をテスト信号として内部回路に供給するバッファ
とを備えて構成される。
In order to achieve the above object, a test signal generating circuit according to the present invention comprises a depletion P-channel MOS transistor having a source and a gate connected to a power supply voltage level, and a source having an input circuit. An N-channel transistor whose gate is connected to the ground level and whose depletion P-channel MOS transistor and drain are connected to each other; an internal circuit which uses the drains of both transistors as inputs and outputs signals as test signals. Or a depletion N-channel MOS transistor having a source and a gate connected to the ground level, a source connected to the input terminal of the input circuit, and a gate connected to the power supply voltage level. The depression N And P-channel type MOS transistor Yan'neru type MOS transistor and a drain each other are connected, the configured a buffer supplied to the internal circuit output signal as input drains of the transistors as the test signal.

【0010】[0010]

【実施例】次に、本発明をその好ましい各実施例につい
て図面を参照して具体的に説明する。
Next, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

【0011】図1は本発明に係るテスト信号発生回路の
第1の実施例を示す回路構成図である。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a first embodiment of a test signal generating circuit according to the present invention.

【0012】図1を参照するに、入力端子1からの入力
信号は入力バッファ2に接続されるとともにNチャンネ
ル型MOSトランジスタ4のソースに接続されている。
Nチャンネル型MOSトランジスタ4のゲートはGND
レベルに接続されている。ディプレッションPチャンネ
ル型MOSトランジスタ3のソースとゲートにはVDD
ベルが接続されている。ディプレッションPチャンネル
型MOSトランジスタ3とNチャンネル型MOSトラン
ジスタのドレイン同志は接続され、接点9のその出力は
インバータ10に接続されている。
Referring to FIG. 1, an input signal from an input terminal 1 is connected to an input buffer 2 and to a source of an N-channel MOS transistor 4.
The gate of the N-channel MOS transistor 4 is GND
Connected to the level. The V DD level is connected to the source and gate of the depletion P-channel MOS transistor 3. The drains of the depletion P-channel MOS transistor 3 and the N-channel MOS transistor are connected, and the output of the contact 9 is connected to the inverter 10.

【0013】インバータ10の出力信号11はテスト信
号として、また入力バッファ2の出力信号は通常動作の
入力信号として半導体集積回路の内部ゲートに供給され
る。
An output signal 11 of the inverter 10 is supplied as a test signal, and an output signal of the input buffer 2 is supplied to an internal gate of the semiconductor integrated circuit as an input signal for normal operation.

【0014】次に、本第1の実施例の動作を説明する。Next, the operation of the first embodiment will be described.

【0015】(1).通常動作時 通常動作時には、入力端子1にGNDレベルとVDDレベ
ル間の電圧が印加される。この場合、ディプレッション
Pチャンネル型MOSトランジスタ3は導通状態、Nチ
ャンネル型MOSトランジスタ4は非導通状態となり、
接点9の電位は常に“ハイ”レベルであるために、イン
バータ10の出力信号、即ちテスト信号11は能動状態
にならない。従って、通常動作時にはテスト状態にひき
こまれることなく、また入力バッファ2の出力信号は通
常の入力信号として内部回路にとりこまれるために、通
常動作を行うことができる。
(1). During Normal Operation During normal operation, a voltage between the GND level and the VDD level is applied to the input terminal 1. In this case, the depletion P-channel MOS transistor 3 becomes conductive, the N-channel MOS transistor 4 becomes non-conductive,
Since the potential of the contact 9 is always at the "high" level, the output signal of the inverter 10, that is, the test signal 11 is not activated. Therefore, during normal operation, normal operation can be performed without being taken into the test state, and since the output signal of the input buffer 2 is taken into the internal circuit as a normal input signal.

【0016】(2).テスト動作時 入力端子1にGND−VTN(N型トランジスタ4のスレ
ッショールド電圧)以下の電圧を印加することにより、
Nチャンネル型MOSトランジスタ4を導通状態にでき
る。ディプレッションPチャンネル型MOSトランジス
タ3のゲートにVDDレベルが印加されているとき、この
トランジスタの相互コンダクタンスより、Nチャンネル
型MOSトランジスタ4の相互コンダクタンスは十分大
きく設定されているので、接点9の電位はインバータ1
0のスレッショールド電圧より低くなり、インバータ1
0の出力信号11は“ハイ”レベル(能動状態)にな
る。
(2). During test operation By applying a voltage equal to or lower than GND-V TN (threshold voltage of N-type transistor 4) to input terminal 1,
The N-channel MOS transistor 4 can be made conductive. When the V DD level is applied to the gate of the depletion P-channel MOS transistor 3, the transconductance of the N-channel MOS transistor 4 is set to be sufficiently higher than the transconductance of this transistor. Inverter 1
0 is lower than the threshold voltage, and inverter 1
The output signal 11 of "0" becomes "high" level (active state).

【0017】出力信号11が能動状態となるときの入力
端子1の電圧と電源電圧の関係を図4に実線で示す。
The relationship between the voltage at the input terminal 1 and the power supply voltage when the output signal 11 is in the active state is shown by a solid line in FIG.

【0018】図2は本発明に係るテスト信号発生回路の
第2の実施例を示す回路構成図である。
FIG. 2 is a circuit diagram showing a second embodiment of the test signal generating circuit according to the present invention.

【0019】入力端子1からの入力信号は入力バッファ
2に接続されるとともにPチャンネル型MOSトランジ
スタ6のソースに接続されている。Pチャンネル型MO
Sトランジスタ6のゲートはVDDレベルに接続されてい
る。ディプレッションNチャンネル型MOSトランジス
タ5とPチャンネル型MOSトランジスタのドレイン同
志は接続され、接点9のその出力はバッファ12に接続
されている。
The input signal from the input terminal 1 is connected to the input buffer 2 and to the source of the P-channel MOS transistor 6. P-channel type MO
The gate of the S transistor 6 is connected to the V DD level. The drains of the depletion N-channel MOS transistor 5 and the P-channel MOS transistor are connected, and the output of the contact 9 is connected to the buffer 12.

【0020】バッファ12の出力信号11はテスト信号
として、また入力バッファ2の出力信号は通常動作の入
力信号として半導体集積回路の内部ゲートに供給され
る。
The output signal 11 of the buffer 12 is supplied as a test signal, and the output signal of the input buffer 2 is supplied to the internal gate of the semiconductor integrated circuit as an input signal for normal operation.

【0021】次に、本第2の実施例の動作を説明する。Next, the operation of the second embodiment will be described.

【0022】(1).通常動作時 通常動作時には、入力端子1にGNDレベルとVDDレベ
ル間の電圧が印加される。この場合、ディプレッション
Nチャンネル型MOSトランジスタ5は導通状態、Pチ
ャンネル型MOSトランジスタ6は非導通状態となり、
接点9の電位は常に“ロウ”レベルであるために、バッ
ファ12の出力信号、即ちテスト信号11は能動状態に
ならない。従って、通常動作時にはテスト状態にひきこ
まれることなく、また入力バッファ2の出力信号は通常
の入力信号として内部回路にとりこまれるために、通常
動作を行うことができる。
(1). During Normal Operation During normal operation, a voltage between the GND level and the VDD level is applied to the input terminal 1. In this case, the depletion N-channel MOS transistor 5 becomes conductive, the P-channel MOS transistor 6 becomes non-conductive,
Since the potential of the contact 9 is always at the "low" level, the output signal of the buffer 12, that is, the test signal 11 is not activated. Therefore, during normal operation, normal operation can be performed without being brought into the test state, and since the output signal of the input buffer 2 is taken into the internal circuit as a normal input signal.

【0023】(2).テスト動作時 入力端子1にVDD+|VTP|(Pチャンネル型トランジ
スタ6のスレッショールド電圧)以上の電圧を印加する
ことにより、Pチャンネル型MOSトランジスタ6を導
通状態にできる。ディプレッションNチャンネル型MO
Sトランジスタ5のゲートにGNDレベルが印加されて
いるとき、このトランジスタの相互コンダクタンスよ
り、Pチャンネル型MOSトランジスタ6の相互コンダ
クタンスは十分大きく設定されているので、接点9の電
位はバッファ12のスレッショールド電圧より高くな
り、バッファ12の出力信号11は“ハイ”レベル(能
動状態)になる。
(2). At the time of test operation By applying a voltage equal to or higher than V DD + | V TP | (threshold voltage of the P-channel transistor 6) to the input terminal 1, the P-channel MOS transistor 6 can be made conductive. Depletion N-channel type MO
When the GND level is applied to the gate of the S transistor 5, the transconductance of the P-channel MOS transistor 6 is set sufficiently higher than the transconductance of this transistor. And the output signal 11 of the buffer 12 becomes "high" level (active state).

【0024】[0024]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
テスト信号発生回路をエンハンスメント型MOSトラン
ジスタとディプレッション型MOSトランジスタで構成
し、ディプレッション型MOSトランジスタのソースと
ゲートを同電位にすることにより、図4の実線で表わさ
れる通り、テストレベルの電源電圧依存性が減少する。
したがって、電源電圧が高いときでもテストレベルの絶
対値は大くならないために、回路を破壊せずに、テスト
状態に引きこむことができ、また、電源電圧が低いとき
でもテストレベルの絶対値は小さくならないために、通
常動作時にテスト状態に入りにくくなるという効果が得
られる。
As described above, according to the present invention,
The test signal generating circuit is composed of an enhancement type MOS transistor and a depletion type MOS transistor, and the source and the gate of the depletion type MOS transistor are set to the same potential, so that the test level depends on the power supply voltage as shown by the solid line in FIG. Decrease.
Therefore, even when the power supply voltage is high, the absolute value of the test level does not increase, so that the test state can be drawn without breaking the circuit. Since the size does not decrease, an effect is obtained that it is difficult to enter the test state during normal operation.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係るテスト信号発生回路の第1の実施
例を示す回路構成図である。
FIG. 1 is a circuit configuration diagram showing a first embodiment of a test signal generation circuit according to the present invention.

【図2】本発明に係るテスト信号発生回路の第2の実施
例を示す回路構成図である。
FIG. 2 is a circuit configuration diagram showing a second embodiment of the test signal generation circuit according to the present invention.

【図3】従来例の回路である。FIG. 3 is a circuit of a conventional example.

【図4】図1と図3に示す回路の特性図である。FIG. 4 is a characteristic diagram of the circuits shown in FIGS. 1 and 3;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…入力端子 2…入力バッファ 3…ディプレッションPチャンネル型MOSトランジス
タ 4…エンハンスメントNチャンネル型MOSトランジス
タ 5…ディプレッションNチャンネル型MOSトランジス
タ 6…エンハンスメントPチャンネル型MOSトランジス
タ 7…相互コンダクタンスの小さいエンハンスメントPチ
ャンネル型MOSトランジスタ 8…エンハンスメントNチャンネル型MOSトランジス
タ 9…接点 10…インバータ 11…テスト信号 12…バッファ 13…図1に示す本発明の特性 14…図3に示す従来例の特性
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Input terminal 2 ... Input buffer 3 ... Depletion P-channel type MOS transistor 4 ... Enhancement N-channel type MOS transistor 5 ... Depletion N-channel type MOS transistor 6 ... Enhancement P-channel type MOS transistor 7 ... Enhancement P-channel type with small mutual conductance MOS transistor 8 ... Enhancement N-channel type MOS transistor 9 ... Contact 10 ... Inverter 11 ... Test signal 12 ... Buffer 13 ... Characteristics of the present invention shown in FIG. 1 14 ... Characteristics of the conventional example shown in FIG.

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 ソースとゲートが電源電圧レベルに接続
されたディプレッションPチャンネル型MOSトランジ
スタと、 ソースが入力回路の入力端子と接続され、ゲートがグラ
ンドレベルに接続され、前記ディプレッションPチャン
ネル型MOSトランジスタとドレイン同志が接続された
Nチャンネル型MOSトランジスタと、 前記両トランジスタのドレインを入力とし、出力信号を
テスト信号として内部回路に供給するインバータと、 を有することを特徴としたテスト信号発生回路。
A depletion p-channel MOS transistor having a source and a gate connected to a power supply voltage level; a source connected to an input terminal of an input circuit; a gate connected to a ground level; A test signal generation circuit comprising: an N-channel MOS transistor having a drain connected to each other; and an inverter having a drain as an input and an output signal supplied to an internal circuit as a test signal.
【請求項2】 ソースとゲートがグランドレベルに接続
されたディプレッションNチャネル型MOSトランジス
タと、 ソースが入力回路の入力端子と接続され、ゲートが電源
電圧レベルに接続され、前記ディプレッションNチャン
ネル型MOSトランジスタとドレイン同志が接続された
Pチャンネル型MOSトランジスタと、 前記両トランジスタのドレインを入力とし、出力信号を
テスト信号として内部回路に供給するバッファと、 を有することを特徴したテスト信号発生回路。
A depletion N-channel MOS transistor having a source and a gate connected to a ground level; a source connected to an input terminal of an input circuit; a gate connected to a power supply voltage level; and a P-channel type MOS transistor having a drain each other are connected, the inputs the drains of the transistors, the test signal generating circuit is characterized by having a buffer supplied to the internal circuit of the output signal as the test signal.
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