JPH05157304A - Clean room - Google Patents

Clean room

Info

Publication number
JPH05157304A
JPH05157304A JP3327741A JP32774191A JPH05157304A JP H05157304 A JPH05157304 A JP H05157304A JP 3327741 A JP3327741 A JP 3327741A JP 32774191 A JP32774191 A JP 32774191A JP H05157304 A JPH05157304 A JP H05157304A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
duct
floor
gas
clean room
free access
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP3327741A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP3313385B2 (en
Inventor
Nobuo Fujie
信夫 藤江
Mitsuo Igarashi
三男 五十嵐
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP32774191A priority Critical patent/JP3313385B2/en
Publication of JPH05157304A publication Critical patent/JPH05157304A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3313385B2 publication Critical patent/JP3313385B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Ventilation (AREA)

Abstract

PURPOSE:To restrict bad influence caused by leakage of gas by a method wherein a gas piping duct is arranged below a free access floor in a vertical layered flow type clean room having the free access floor and a gas piping to be connected to a semiconductor manufacturing device or the like is placed in it. CONSTITUTION:An apertured floor panel 9 is placed through the second supporting columns on an upper floor 7 supporting some slabs 6 on supporting columns 5 vertically arranged on a building floor 4 to construct a free access floor 10, and then a semiconductor manufacturing device 12 is mounted on the free access floor 10 within the clean room 40. Air within the clean room 40 is sucked into a floor space 11 under an operation of a blower 24, thereafter the air is passed through a vertical duct 25 and supplied to a ceiling space 17, purified by a filter 16 and then circulated. Gas piping ducts 41 for use in placing gas pipings 30 to 32 or the like connected to the semi-conductor manufacturing device 12 are installed below the free access floor 10. The ducts 41 are formed in the repairing and maintenance region and their ends are connected to an air discharging duct.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はクリーンルームに係り、
特に垂直層流形クリーンルームのガス配管の敷設構造に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a clean room,
In particular, it relates to a gas pipe laying structure for a vertical laminar flow type clean room.

【0002】半導体製造設備としてのクリーンルーム
は、高い清浄度が要求され、このため、垂直層流形式
が多く採用されており、また空気を繰り返し循環させ
る方式が採用されている。
A clean room as a semiconductor manufacturing facility is required to have a high degree of cleanliness. For this reason, a vertical laminar flow system is often adopted and a system in which air is repeatedly circulated is adopted.

【0003】クリーンルームは、上記の形式及び方式を
採用した構成であって、しかも、事故が生じた場合にも
クリーンルーム内が汚染されにくい構造であることが望
ましい。
It is desirable that the clean room has a structure adopting the above-mentioned type and method and that the inside of the clean room is not easily contaminated even if an accident occurs.

【0004】[0004]

【従来の技術】図6は従来例を示す。2. Description of the Related Art FIG. 6 shows a conventional example.

【0005】まず、説明の便宜上、垂直層流形式であり
且つ循環方式のクリーンルームの一般的構造について説
明する。
First, for convenience of explanation, a general structure of a vertical laminar flow type circulation type clean room will be described.

【0006】1はクリーンルーム、2はその床、3はそ
の天井である。
1 is a clean room, 2 is its floor, and 3 is its ceiling.

【0007】床2は、建築床4上に立設された支持柱5
上にスラブ6が支持されて敷設されてなる上部床7と、
この上部床7上に立設された支持柱8上に孔あき床パネ
ル9が支持されて敷設されてなるフリーアクセス床10
とよりなる二重構造である。フリーアクセス床10の下
側には、これと上記床7との間に、平面的な床空間11
が存在する。
The floor 2 is a support column 5 standing on the building floor 4.
An upper floor 7 on which a slab 6 is supported and laid,
A free access floor 10 in which a perforated floor panel 9 is supported and laid on a support column 8 which is erected on the upper floor 7.
It is a double structure consisting of. Below the free access floor 10, a flat floor space 11 is provided between it and the floor 7.
Exists.

【0008】半導体製造装置12は、フリーアクセス床
10上に設置されている。
The semiconductor manufacturing apparatus 12 is installed on the free access floor 10.

【0009】天井3は、建築天井15の下方に全面に亘
ってHEPAフィルタ16が並べて設けられた構造であ
る。
The ceiling 3 has a structure in which the HEPA filters 16 are arranged side by side over the entire surface below the building ceiling 15.

【0010】フィルタ16と建築天井15との間には平
面的な天井空間17が存在する。
A flat ceiling space 17 exists between the filter 16 and the building ceiling 15.

【0011】空気は、矢印20で示すように、フィルタ
16を通って下方に吹き出し、矢印21で示すように、
クリーンルーム1内を床2に向かって垂直に流れ、矢印
22で示すように床あきパネル9の孔を通り、フリーア
クセス床10を通過して、床空間11内に吸い込まれ
る。
Air is blown downwards through the filter 16 as indicated by arrow 20, and as indicated by arrow 21,
It flows vertically through the clean room 1 toward the floor 2, passes through the holes in the flooring panel 9 as shown by the arrow 22, passes through the free access floor 10, and is sucked into the floor space 11.

【0012】床空間11内に吸い込まれた空気は、送風
機24によって、矢印23で示すように、垂直ダクト2
5内に吸い寄せられ、更には矢印26に示すように送風
されて天井空間17内に供給され、フィルタ16を通し
て矢印20で示すように下方に吹き出される。
The air sucked into the floor space 11 is blown by the blower 24, as shown by the arrow 23.
5, is blown as shown by arrow 26, is supplied into ceiling space 17, and is blown downward through filter 16 as shown by arrow 20.

【0013】上記のように、空気は、繰り返し循環し、
クリーンルーム1内を垂直下方に流れる。
As mentioned above, the air circulates repeatedly,
Flow vertically downward in the clean room 1.

【0014】次に、従来例について説明する。Next, a conventional example will be described.

【0015】図6中、30A,31A,32Aは夫々装
置12に接続されたガス配管であり、上部床7上に単に
載置された状態で、床空間11内に敷設してある。
In FIG. 6, reference numerals 30A, 31A and 32A denote gas pipes connected to the device 12, respectively, and are laid in the floor space 11 in a state where they are simply placed on the upper floor 7.

【0016】[0016]

【発明が解決しようとする課題】ガス配管30A〜32
Aは床空間11に全く露出して敷設してあるため、矢印
33で示すように、ガス配管30A〜32Aから漏洩す
ると、漏洩したガスは空気と共に送風機24側に吸い込
まれる。最終的にはクリーンルーム1内に侵入し、クリ
ーンルーム1が汚染されてしまう。
Gas pipes 30A to 32
Since A is laid out so as to be completely exposed in the floor space 11, if the gas leaks from the gas pipes 30A to 32A as indicated by an arrow 33, the leaked gas is sucked into the blower 24 side together with the air. Eventually, the clean room 1 invades and the clean room 1 is contaminated.

【0017】また、ガス漏洩があっても、漏洩したガス
は広い床空間11内に拡張してしまい、ガス漏れを発見
しにくい。
Further, even if there is a gas leak, the leaked gas expands into the large floor space 11 and it is difficult to find the gas leak.

【0018】また、ガス配管30A〜32Aは、床空間
11内に設置してある設備(図示せず)からの輻射熱の
影響を直接受け、局部的に加熱され、給送されるガスが
液化ガスの場合には再液化してしまう虞れもある。本発
明は、上記課題を解決したクリーンルームを提供するこ
とを目的とする。
The gas pipes 30A to 32A are directly affected by radiant heat from equipment (not shown) installed in the floor space 11 and locally heated, and the gas fed is liquefied gas. In the case of, there is a possibility of reliquefaction. An object of the present invention is to provide a clean room that solves the above problems.

【0019】[0019]

【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、複数
の床パネルが立設配置された支持柱に支持されて敷設さ
れてなるフリーアクセス床を有し、該アクセスフロア上
に装置が設置された垂直層流形クリーンルームにおい
て、上記フリーアクセス床の下側に、上記装置と接続さ
れるガス配管を敷設するためのガス配管用ダクトを設
け、上記ガス配管を上記ダクト内に敷設した構成とした
ものである。
According to the invention of claim 1, there is provided a free access floor in which a plurality of floor panels are supported and laid by a support pillar vertically arranged, and an apparatus is provided on the access floor. In a vertical laminar flow type clean room installed, a gas pipe duct for laying a gas pipe to be connected to the device is provided below the free access floor, and the gas pipe is laid inside the duct. It is what

【0020】請求項2の発明は、請求項1のダクトは、
夫々が一の床パネルと同じ大きさを有し、上記支持柱に
支持されて整列して配された複数の略U字状のダクト形
成部品が、底板と両側の側板とを形成し、上記ダクト形
成部品を覆って敷設された吸込孔を有しない孔無し床パ
ネルが、天板を形成してなる構成としたものである。
According to the invention of claim 2, the duct of claim 1 is
Each of the plurality of substantially U-shaped duct forming parts, each of which has the same size as one floor panel and is supported by the supporting columns and arranged in line, forms a bottom plate and side plates on both sides, and The hole-less floor panel laid over the duct-forming component and having no suction hole forms a top plate.

【0021】請求項3の発明は、上記ダクト内の空気を
排気する手段を更に有する構成としたものである。
The invention of claim 3 further comprises means for exhausting the air in the duct.

【0022】請求項4の発明は、請求項1において、上
記ダクト内の空気を排気する手段を更に有すると共に、
上記ダクト内のうち上記排気手段の近傍にガスセンサを
設けた構成としたものである。
According to a fourth aspect of the present invention, in addition to the first aspect, there is further provided means for exhausting the air in the duct,
A gas sensor is provided in the duct in the vicinity of the exhaust means.

【0023】[0023]

【作用】請求項1の発明において、ガス配管をフリーア
クセス床の下側に設けたダクト内に敷設した構成は、ガ
ス配管が外部に対して熱的に遮断されるように作用する
と共に、ガス配管よりガスが万一漏れたとしても、ガス
が、繰り返し循環される空気と混じらないように作用す
る。
In the invention of claim 1, the gas pipe is laid inside the duct provided under the free access floor, so that the gas pipe is thermally insulated from the outside and Even if the gas leaks from the pipe, the gas does not mix with the air that is repeatedly circulated.

【0024】請求項2の発明において、床パネルがダク
トの天板を形成する構成は、必要に応じて床パネルを取
り外すことにより、ガス配管へのアクセスフロアを容易
とするように作用する。
According to the second aspect of the present invention, the structure in which the floor panel forms the ceiling plate of the duct acts by facilitating the access floor to the gas pipe by removing the floor panel as necessary.

【0025】請求項3の発明において、排気手段を設け
た構成は、ガス配管よりガスが万一漏れたとしても、ガ
スがダクト外に漏れ出さないように作用する。
In the invention of claim 3, the structure provided with the exhaust means acts so that even if the gas leaks from the gas pipe, the gas does not leak out of the duct.

【0026】請求項4の発明において、ガス配管をダク
ト内に敷設し、ガスセンサを同じくダクト内に設けた構
成と、ガス配管からのガスの漏れを常時監視することを
可能とするように作用する。
In the invention of claim 4, the gas pipe is laid in the duct, and the gas sensor is also provided in the duct, and the gas leak from the gas pipe can be constantly monitored. ..

【0027】[0027]

【実施例】図1乃至図3は、本発明の一実施例のクリー
ンルーム40を示す。
1 to 3 show a clean room 40 according to an embodiment of the present invention.

【0028】各図中、図6に示す構成分と実質上対応す
る部分には同一符号を付す。
In each of the drawings, the parts substantially corresponding to those shown in FIG. 6 are designated by the same reference numerals.

【0029】41はガス配管用ダクトであり、ガス配管
30〜32等を敷設するためのものであり、フリーアク
セス床10の下側に形成してある。
Reference numeral 41 denotes a gas pipe duct for laying the gas pipes 30 to 32 and the like, which is formed below the free access floor 10.

【0030】フリーアクセス床10の大部分は、孔あき
床パネル9が敷設されて形成してある。
Most of the free access floor 10 is formed by laying perforated floor panels 9.

【0031】装置12は、図3中、符号12-1,1
-2,12-3,12-4で示すように、所定距離D離して
二列に整列して設置されている。両方の列の間の細長部
分が、保守領域45である。
The device 12 is designated by reference numeral 12 -1 , 1 in FIG.
As indicated by 2 -2 , 12 -3 , and 12 -4 , they are arranged in two rows with a predetermined distance D therebetween. The elongated portion between both rows is the maintenance area 45.

【0032】ダクト41は、上記の保守領域45に形成
してあり、保守領域45の中央を図3中縦に延在する主
ダクト41aと主ダクト41aより分岐して設置されて
いる各装置12a〜12dの下側にまで延在する分岐ダ
クト41bとよりなる。
The duct 41 is formed in the above maintenance area 45, and the main duct 41a extending vertically in FIG. 3 at the center of the maintenance area 45 and each device 12a installed branching from the main duct 41a. It is composed of a branch duct 41b extending to the lower side of ~ 12d.

【0033】主ガス配管30a,31a,32aは、主
ダクト41a内にこれに沿って敷設されている。
The main gas pipes 30a, 31a, 32a are laid along the main duct 41a.

【0034】分岐ガス配管30b,31b,32bは、
主ダクト41aと分岐ダクト41bとが交差する部分
で、主ガス配管30a,31a,32aと接続され、分
岐ダクト41b内にこれに沿って敷設されており、各装
置12-1〜12-4の底部と接続されている。
The branch gas pipes 30b, 31b and 32b are
In a portion where the main duct 41a and branch duct 41b intersect, the main gas pipe 30a, 31a, is connected to 32a, it is laid along which in the branch duct 41b, the respective devices 12 -1 to 12 -4 Connected to the bottom.

【0035】各分岐ガス配管30b,31b,32bに
は、弁35,36,37が設けてある。
Valves 35, 36 and 37 are provided on the respective branch gas pipes 30b, 31b and 32b.

【0036】主ダクト41aの端部50には、排気ダク
ト51が接続してある。
An exhaust duct 51 is connected to the end 50 of the main duct 41a.

【0037】排気ダクト51内には、ガスセンサ52が
設けてある。ガスセンサ52は、外部の分析装置53と
接続してある。
A gas sensor 52 is provided in the exhaust duct 51. The gas sensor 52 is connected to an external analyzer 53.

【0038】上記クリーンルーム40の空気の流れは、
フリーアクセス床10のうちダクト41の部分には空気
が吸い込まれない以外は、図6の場合と同じである。
The air flow in the clean room 40 is
It is the same as the case of FIG. 6 except that the air is not sucked into the duct 41 portion of the free access floor 10.

【0039】また、ダクト41内の空気は、排気ダクト
51を通して外部に排気される。
The air in the duct 41 is exhausted to the outside through the exhaust duct 51.

【0040】次に、上記構造のクリーンルームの特にダ
クト41に関する特長について説明する。
Next, the features of the clean room having the above structure, particularly the duct 41, will be described.

【0041】 床空間1内に設置されているモータ5
5等からの輻射熱56は、ダクト41により遮断され、
ガス配管30a〜32a、30b〜32bには及ばな
い。
Motor 5 installed in floor space 1
Radiant heat 56 from 5 and the like is blocked by the duct 41,
It does not reach the gas pipes 30a to 32a and 30b to 32b.

【0042】このため、ガス配管30a等内を液化ガス
が流れる場合であっても、ガスが再液化してしまうこと
が無い。
Therefore, even when the liquefied gas flows in the gas pipe 30a or the like, the gas is not reliquefied.

【0043】 符号33で示すようにガス配管30a
〜32a、30b〜32bより万一ガスが漏れた場合で
あっても、漏れたガス33は、ダクト41が存在するた
め、ダクト41内にとどまり床空間11内にまでは出な
い。このため、グリーンルーム40内は汚染されない。
As indicated by reference numeral 33, the gas pipe 30 a
Even if the gas leaks from .about.32a, 30b to 32b, the leaked gas 33 stays in the duct 41 and does not reach the floor space 11 because the duct 41 exists. Therefore, the inside of the green room 40 is not contaminated.

【0044】 ダクト41内に空気は排気ダクト51
より外部に排気されている。これによって、上記の漏れ
たガス33は、ダクト41より床空間11に出にくくな
っており、クリーンルーム40内の汚染は確実に防止さ
れる。
The air in the duct 41 is the exhaust duct 51.
More exhausted to the outside. As a result, the leaked gas 33 is less likely to come out of the floor space 11 through the duct 41, and the contamination in the clean room 40 is reliably prevented.

【0045】 ダクト41内の空気は排気ダクト51
より外部に排気されており、また排気ダクト51内にガ
スセンサ52が設けてあるため、上記のガス漏れが生ず
ると、その場所がどこであっても、漏れたガスはガスセ
ンサ52の部分に導かれ、ガスセンサ52が直ちに動作
する。即ちガス漏れについては常時監視可能であり、ガ
ス漏れを早期に発見出来、対策も早期にとることが出
来、これによって大事故の発生を未然に防止することが
出来る。
The air in the duct 41 is exhausted from the exhaust duct 51.
Since the gas sensor 52 is further exhausted to the outside and the gas sensor 52 is provided in the exhaust duct 51, when the above gas leak occurs, the leaked gas is guided to the gas sensor 52 portion regardless of where the gas leak occurs. The gas sensor 52 operates immediately. That is, the gas leakage can be constantly monitored, the gas leakage can be detected early, and the countermeasures can be taken early, whereby the occurrence of a major accident can be prevented.

【0046】次に、上記のダクト41の構造について、
図4,図5を併せ参照して説明する。
Next, regarding the structure of the duct 41,
Description will be made with reference to FIGS.

【0047】ダクト41は、図4に併せて示す、ダクト
形成部品42と孔無し床パネル43との組合せと、図5
に併せて示す、ダクト形成部品44と孔無し床パネル4
3との組合せとが、図1及び図3に示すように適宜組合
わされて整列した構成である。
The duct 41 includes a combination of the duct forming component 42 and the non-perforated floor panel 43 shown in FIG.
The duct forming part 44 and the holeless floor panel 4 are also shown in FIG.
The combination with 3 is a configuration in which they are properly combined and aligned as shown in FIGS. 1 and 3.

【0048】孔無し床パネル43は、孔あき床パネル9
と同じ大きさを有する。
The non-perforated floor panel 43 is a perforated floor panel 9
Has the same size as.

【0049】また、上記のダクト形成部品42は、図4
に示すように、平面図上は床パネル43(9)と同じ大
きさを有し、正面図上は略U字状をなし、底板部42a
と、この左右側より立上がった側板部42b,42c
と、各側板部42b,42cとの頂部から外側に張り出
した鍔部42d,42eとを有し、後述するダクトの途
中の一部を形成する。
In addition, the duct forming component 42 is shown in FIG.
As shown in FIG. 7, the plan view has the same size as the floor panel 43 (9), the front view has a substantially U shape, and the bottom plate portion 42a
And the side plate portions 42b and 42c that are raised from the left and right sides.
And side portions 42b and 42c, and flange portions 42d and 42e projecting outward from the tops of the side plate portions 42b and 42c, which form a part of a later-described duct.

【0050】また、別のダクト形成部品44は、図5に
示すように、平面図上は床パネル43(9)と同じ大き
さを有し、矩形状の箱の一の側板を除去した形状を有
し、底板部44aと、この三辺より立上がった側板部4
4b,44c,44dと、各側板部44b〜44dの頂
部から外側に張り出した鍔部44eとを有し、後述する
ように、ダクトの終端部を形成する。
As shown in FIG. 5, another duct forming part 44 has the same size as the floor panel 43 (9) in plan view, and has a shape obtained by removing one side plate of the rectangular box. Has a bottom plate portion 44a and side plate portions 4 that stand upright from these three sides.
4b, 44c and 44d, and a flange portion 44e protruding outward from the tops of the side plate portions 44b to 44d, and form the end portion of the duct as described later.

【0051】このダクト41(41a,41b)は、フ
リーアクセス床10を構築すべく孔あき床パネル9を敷
設する場合と同じ影響で構築させる。
The duct 41 (41a, 41b) is constructed with the same influence as when the perforated floor panel 9 is laid to construct the free access floor 10.

【0052】即ち、ダクト41を形成すべき部分につい
ては、まず、ダクト形成部品42を、床パネル9と同じ
要領で並べて配置し、ダクト41の終端部分にはダクト
形成部品44を配置する。
That is, regarding the portion where the duct 41 is to be formed, first, the duct forming parts 42 are arranged side by side in the same manner as the floor panel 9, and the duct forming part 44 is arranged at the end part of the duct 41.

【0053】ダクト形成部品42,44は、夫々鍔部4
2d,42e,44eを支持柱8の頂部に支持されて並
んだ溝を形成する。
The duct forming parts 42 and 44 are respectively formed on the collar part 4.
2d, 42e, and 44e are supported on the top of the support column 8 to form a lined groove.

【0054】この後、孔無し床パネル43を、各ダクト
形成部品42,44に対向させて、鍔部42d,42
e,44eに支持させて敷設し、上記の溝を覆う。
Thereafter, the floor panel 43 without holes is made to face the duct forming parts 42 and 44, and the collar parts 42d and 42 are formed.
e, 44e are laid and supported to cover the above groove.

【0055】これにより、ダクト形成部品42,44が
底板41aと両側の側板41b,41cを形成し、孔無
し床パネル43が天板41dを形成する上記ダクト41
が形成される。
Thus, the duct forming parts 42 and 44 form the bottom plate 41a and the side plates 41b and 41c on both sides, and the non-perforated floor panel 43 forms the top plate 41d.
Is formed.

【0056】ダクト41が上記の構造である故、更に以
下の特長を有する。
Since the duct 41 has the above structure, it further has the following features.

【0057】 ダクト41を構築する作業を、床パネ
ル9を敷設する作業と併せて行うことが出来、作業が簡
単である。
The work of constructing the duct 41 can be performed together with the work of laying the floor panel 9, and the work is simple.

【0058】 床パネル43を取り外すだけでガス配
管30a〜32a、30b〜32b及び弁35〜37が
露出し、ガス配管についての保守作業及び弁開閉作業を
容易に行うことができる。
By simply removing the floor panel 43, the gas pipes 30a to 32a, 30b to 32b and the valves 35 to 37 are exposed, and maintenance work and valve opening / closing work on the gas pipes can be easily performed.

【0059】[0059]

【発明の効果】以上説明した様に、請求項1の発明によ
れば、以下の効果を有する。
As described above, according to the invention of claim 1, the following effects can be obtained.

【0060】 万一ガス配管よりガスが漏れた場合で
あっても、汚染がダクト31外にまでは拡散せず、然し
てクリーンルーム内が汚染されることを防止できる。
Even if the gas leaks from the gas pipe, the pollution does not spread to the outside of the duct 31, and the inside of the clean room can be prevented from being polluted.

【0061】 ガス配管に、アクセスフロアの下側に
設置してある諸設備からの輻射熱の影響が及ぶことを防
止し得、これによりガス配管の温度は一定に保たれ、例
えば液化ガスが再液化してしまうことを確実に防止出来
る。
It is possible to prevent the gas pipe from being affected by radiant heat from various equipments installed under the access floor, whereby the temperature of the gas pipe is kept constant, for example, liquefied gas is reliquefied. It can be surely prevented.

【0062】請求項2の発明によれば、ダクトを簡単に
組立てることが出来、しかも、ガス配管へのアクセスが
容易となり、ガス配管の保守点検を簡単に行うことが出
来る。
According to the second aspect of the present invention, the duct can be easily assembled, the gas pipe can be easily accessed, and the maintenance and inspection of the gas pipe can be easily performed.

【0063】請求項3の発明によれば、ダクト内の空気
は常時排気されているため、万一ガス配管よりガスが漏
れたとしても、漏れたガスは外部に排気され、クリーン
ルームが汚染されることを更に確実に防止できる。
According to the third aspect of the invention, since the air in the duct is constantly exhausted, even if the gas leaks from the gas pipe, the leaked gas is exhausted to the outside and pollutes the clean room. This can be prevented more reliably.

【0064】請求項4の発明によれば、ガス配管からガ
スが漏れたことを早期に発見することが出来る。
According to the invention of claim 4, it is possible to detect early that gas has leaked from the gas pipe.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例のクリーンルームを、ガス配
管用ダクトの部分を一部分解して示す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing a clean room according to an embodiment of the present invention with a gas pipe duct partly disassembled.

【図2】図1のクリーンルームの立面図である。FIG. 2 is an elevational view of the clean room of FIG.

【図3】図1のクリーンルームの平面図である。FIG. 3 is a plan view of the clean room of FIG.

【図4】図1中のダクトの一部を分解して示す図であ
る。
FIG. 4 is a diagram showing a part of the duct in FIG. 1 in an exploded manner.

【図5】図1中のダクトの一部を分解して示す図であ
る。
FIG. 5 is an exploded view of a part of the duct in FIG.

【図6】従来例を示す図である。FIG. 6 is a diagram showing a conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2 床 3 天井 4 建築床 5 支持柱 6 スラブ 7 上部床 8 支持柱 9 孔あき床パネル 10 フリーアクセス床 11 床空間 12-1〜12-4 半導体製造装置 15 建築天井 16 HEPAフィルタ 17 天井空間 24 送風機 25 垂直ダクト 30a,31a,32a 主ガス配管 30b,31b,32b 分岐ガス配管 35〜37 弁 40 クリーンルーム 41 ガス配管用ダクト 41a 主ダクト 41b 分岐ダクト 42,44 ダクト形成部品 42a,44a 底板部 42b,42c,44b,44c,44d 側板部 42d,42e,44e 鍔部 43 孔無し床パネル 50 端部 51 排気ダクト 52 ガスセンサ 53 分析装置 55,56 モータ2 floors 3 ceilings 4 building floors 5 supporting columns 6 slabs 7 upper floors 8 supporting columns 9 perforated floor panels 10 free access floors 11 floor spaces 12 -1 to 12 -4 semiconductor manufacturing equipment 15 building ceilings 16 HEPA filters 17 ceiling spaces 24 Blower 25 Vertical duct 30a, 31a, 32a Main gas piping 30b, 31b, 32b Branch gas piping 35-37 Valve 40 Clean room 41 Gas piping duct 41a Main duct 41b Branch duct 42,44 Duct forming part 42a, 44a Bottom plate part 42b, 42c, 44b, 44c, 44d Side plate part 42d, 42e, 44e Collar part 43 Holeless floor panel 50 End part 51 Exhaust duct 52 Gas sensor 53 Analyzing device 55, 56 Motor

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数の床パネルが立設配置された支持柱
に支持されて敷設されてなるフリーアクセス床を有し、
該アクセスフロア上に装置が設置された垂直層流形クリ
ーンルームにおいて、 上記フリーアクセス床の下側に、上記装置と接続される
ガス配管を敷設するためのガス配管用ダクト(41)を
設け、 上記ガス配管(30a〜32a,30b〜32b)を上
記ダクト内(41)に敷設した構成としたことを特徴と
するクリーンルーム。
1. A free access floor comprising a plurality of floor panels laid by being supported by a support pillar vertically arranged,
In a vertical laminar flow type clean room in which a device is installed on the access floor, a gas pipe duct (41) for laying a gas pipe connected to the device is provided below the free access floor, A clean room characterized in that gas pipes (30a to 32a, 30b to 32b) are laid inside the duct (41).
【請求項2】 請求項1のダクトは、夫々が一の床パネ
ルと同じ大きさを有し、上記支持柱に支持されて整列し
て配された複数の略U字状のダクト形成部品(42,4
4)が、底板と両側の側板とを形成し、 上記ダクト形成部品を覆って敷設された吸込孔を有しな
い孔無し床パネルが(43)、天板を形成してなる構成
としたことを特徴とするクリーンルーム。
2. The duct forming component according to claim 1, wherein each of the ducts has the same size as that of one floor panel, and a plurality of substantially U-shaped duct forming parts which are supported by the support pillars and are arranged in alignment ( 42,4
4) has a structure in which a bottom plate and side plates on both sides are formed, and a holeless floor panel which is laid so as to cover the duct forming component and has no suction hole (43) forms a top plate. A characteristic clean room.
【請求項3】 上記ダクト内の空気を排気する手段(5
1)を更に有する構成としたことを特徴とする請求項1
記載のクリーンルーム。
3. A means (5) for exhausting air in the duct.
2. The structure according to claim 1, further comprising 1).
Clean room described.
【請求項4】 上記ダクト内の空気を排気する手段(5
1)を更に有すると共に、 上記ダクト内のうち上記排気手段の近傍にガスセンサ
(52)を設けた構成としたことを特徴とする請求項1
記載のクリーンルーム。
4. A means (5) for exhausting air in the duct.
The gas sensor (52) is further provided in the duct in the vicinity of the exhaust means in the duct, and the gas sensor (52) is further provided.
Clean room described.
JP32774191A 1991-12-11 1991-12-11 Clean room Expired - Fee Related JP3313385B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP32774191A JP3313385B2 (en) 1991-12-11 1991-12-11 Clean room

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP32774191A JP3313385B2 (en) 1991-12-11 1991-12-11 Clean room

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH05157304A true JPH05157304A (en) 1993-06-22
JP3313385B2 JP3313385B2 (en) 2002-08-12

Family

ID=18202462

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP32774191A Expired - Fee Related JP3313385B2 (en) 1991-12-11 1991-12-11 Clean room

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3313385B2 (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004503110A (en) * 2000-07-10 2004-01-29 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド Integrated plate for semiconductor substrate processing tools and production equipment
JP2005519467A (en) * 2002-03-01 2005-06-30 トリコン テクノロジーズ リミテッド Mounting base for mounting semiconductor manufacturing equipment
CN110439326A (en) * 2019-08-13 2019-11-12 世源科技工程有限公司 A kind of toilet
KR20240002082A (en) * 2022-06-28 2024-01-04 한현목 Access floor panel integrated with air duct and construction method thereof

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004503110A (en) * 2000-07-10 2004-01-29 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド Integrated plate for semiconductor substrate processing tools and production equipment
JP2005519467A (en) * 2002-03-01 2005-06-30 トリコン テクノロジーズ リミテッド Mounting base for mounting semiconductor manufacturing equipment
CN110439326A (en) * 2019-08-13 2019-11-12 世源科技工程有限公司 A kind of toilet
KR20240002082A (en) * 2022-06-28 2024-01-04 한현목 Access floor panel integrated with air duct and construction method thereof

Also Published As

Publication number Publication date
JP3313385B2 (en) 2002-08-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW293923B (en)
TW552381B (en) Clean room for semiconductor device
US5350336A (en) Building and method for manufacture of integrated semiconductor circuit devices
US5058491A (en) Building and method for manufacture of integrated circuits
JPH05157304A (en) Clean room
JPS5944538A (en) Clean unit and clean room system for cleaning room
JPS63201441A (en) Clean room
JP5777254B2 (en) Air conditioning system and clean room
JP3949243B2 (en) Free access floor
JP4700509B2 (en) Clean room structure
JP3731462B2 (en) Clean room floor structure and plate members
JP3503770B2 (en) Clean unit and clean room
JP3799538B2 (en) Local cleanliness maintenance system in clean room
JPH11311036A (en) Clean room building
JPH0616857B2 (en) draft
JP2515580Y2 (en) Floor blowout air conditioner
JP4908034B2 (en) Structure of a building with a clean room
CN113614456B (en) Drying chamber and control method thereof
JP3728632B2 (en) Frame structure
JP3431724B2 (en) Safety equipment for clean room facilities
JP4207784B2 (en) Cleaning method under the floor of a clean room using a grating unit
JP2000146240A (en) Air supply and exhaust system for clean room
JP3671230B2 (en) Ventilation facilities and apartment houses
JPH0748859Y2 (en) Free access floor
KR20200034512A (en) Heat treatment apparatus

Legal Events

Date Code Title Description
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20020514

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080531

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090531

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090531

Year of fee payment: 7

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090531

Year of fee payment: 7

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees