JPH05151543A - ダブルアジマス磁気ヘツドのトラツク高さ調整方法並びに該調整方法に用いる装置 - Google Patents

ダブルアジマス磁気ヘツドのトラツク高さ調整方法並びに該調整方法に用いる装置

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Publication number
JPH05151543A
JPH05151543A JP3316853A JP31685391A JPH05151543A JP H05151543 A JPH05151543 A JP H05151543A JP 3316853 A JP3316853 A JP 3316853A JP 31685391 A JP31685391 A JP 31685391A JP H05151543 A JPH05151543 A JP H05151543A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
chip
base
adjusting
stage
magnetic head
Prior art date
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Pending
Application number
JP3316853A
Other languages
English (en)
Inventor
Kenji Kato
賢二 加藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsumi Electric Co Ltd
Original Assignee
Mitsumi Electric Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsumi Electric Co Ltd filed Critical Mitsumi Electric Co Ltd
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Publication of JPH05151543A publication Critical patent/JPH05151543A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】 【目的】 1枚目のチップに対して2枚目のチップのH
DFを許容公差内に調整してダブルアジマス磁気ヘッド
を得る。 【構成】 2枚目のチップ1Aをチップ受台5上に載置
する。1枚目のチップ1を貼付したベース2をベースク
ランプ部13に位置決め固定する。この1枚目のチップ
を顕微鏡15にて観察して焦点を合せ、干渉縞を出して
おく。次に、前記2枚目のチップ1Aを1枚目のチップ
1に対してXY軸ステージ12及び回転ステージ11に
て位置合せを施して該2枚目のチップ1Aを上昇させ、
そしてベースに押し当てる。このとき、該2枚目のチッ
プ1AのHDFが公差外であれば、該2枚目のチップ1
Aを下降させ、浮き・アジマス調整ステージ10にて前
記HDFを調整して再度上昇させ、HDFが公差内であ
ることを確認してベース2に貼着する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ダブルアジマス磁気ヘ
ッドのトラック高さ調整方法並びに該調整方法に用いる
装置に関するものであり、特に、1枚目のチップに対し
て、2枚目のチップのトラック高さを公差内に調整して
ベースに貼着できるようにしたダブルアジマス磁気ヘッ
ドのトラック高さ調整方法並びに該調整方法に用いる装
置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来のダブルアジマス磁気ヘッドを形成
するには、予めチップ状態で各チップのトラック高さ寸
法を測定して細分類し、そして、細分類されたチップ相
互をペア組みしておき、之をベースに貼着している。又
は、1枚目のチップをベースに貼着した後、該1枚目の
チップのトラック高さ寸法を測定し、この値に適応して
公差内にあるチップを選択し、そして、選択されたチッ
プを2枚目のチップとして用い、之を前記1枚目のチッ
プに対峙してベースに貼着している。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ベースに貼着せらるべ
き1枚目のチップと2枚目のチップとの間のトラック高
さの相互差(HDF)の許容公差は極めて厳格である。
従って、ベースに貼着された1枚目のチップに対して2
枚目のチップを前記許容公差内にて貼着する従来の方法
は極めて面倒であり、作業性が悪く、且つ、不良品も出
て製品のコスト高の要因となっている。
【0004】そこで、1枚目のチップに対して2枚目の
チップのHDFを許容公差内に調整してダブルアジマス
磁気ヘッドを容易に製造するために解決せらるべき技術
的課題が生じてくるのであり、本発明は該課題を解決す
ることを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】この発明は上記目的を達
成するために提案されたものであり、2枚目のチップを
チップ受台に載置し、1枚目のチップを貼付したベース
をベースクランプ部に位置決めして固定し、該1枚目の
チップに対して顕微鏡の焦点を合せて干渉縞を出し、次
に、前記チップ受台上の2枚目のチップを1枚目のチッ
プに対して、XY軸ステージ及び回転ステージにて位置
合せを施して後、該2枚目のチップを上昇させて前記ベ
ースに押し当て、1枚目のチップと2枚目のチップとの
トラック高さ相互差が公差内であれば該2枚目のチップ
をベースに貼着せしめ、公差外であれば、該2枚目のチ
ップを下降させて浮き・アジマス調整ステージにて調整
して再度上昇させ、前記トラック高さ相互差が公差内に
調整されていることを確認して接着剤にて貼着せしめる
ことを特徴とするダブルアジマス磁気ヘッドのトラック
高さ調整方法、及びベースを位置決めして固定するベー
スクランプ部とチップ受台とを有し、該チップ受台の下
部に昇降ガイドを取付けて昇降自在に構成すると共に、
チップの浮きアジマス調整用の浮き・アジマス調整ステ
ージ及びチップの姿勢を調整するための回転ステージ、
2枚目のチップのベースに対するXY方向の位置調整用
のXY軸ステージを夫々連設し、更に、チップの姿勢観
察用の干渉対物レンズ付の顕微鏡を備えたことを特徴と
するダブルアジマス磁気ヘッドのトラック高さ調整方法
に用いる装置を提供するものである。
【0006】
【作用】2枚目のチップはチップ受台上に載置される。
又、1枚目のチップを貼着したベースをベースクランプ
部に位置決めして固定する。そこで、該1枚目のチップ
に対して顕微鏡の焦点を合せて干渉縞を出しておく。次
に、前記2枚目のチップを前記チップ受台上に載置した
状態でXY軸ステージ並びに回転ステージによって調整
し乍ら位置合せを為す。斯くして、位置合せが終了次第
チップ受台を昇降ガイドの動作によって上昇せしめ、該
チップ受台上の2枚目のチップを前記1枚目のチップに
対峙してベースに押し付ける。このとき、2枚目のチッ
プが1枚目のチップに対してそのトラック高さの相互差
(HDF)が許容公差内であれば瞬間接着剤にて該2枚
目のチップをベースに貼着してダブルアジマス磁気ヘッ
ドを形成する。
【0007】このとき、2枚目のチップが1枚目のチッ
プに対するHDFが許容公差外であれば、上昇させたチ
ップ受台を昇降ガイドの作動によって下降せしめ、この
下降したチップ受台上の2枚目のチップを浮き・アジマ
ス調整ステージを用いて前記HDFを許容公差内に調整
し、そして、再び該チップ受台を上昇せしめて該調整さ
れた2枚目のチップをベースに押し当て、許容公差内の
HDFを確認して接着剤を用いて該2枚目のチップを1
枚目のチップに対峙せしめて貼着してダブルアジマス磁
気ヘッドを形成する。
【0008】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図1乃至図7に従
って詳述する。尚、説明の都合上、請求項1記載の発明
と請求項2記載の発明とを同時に説明し、更に、1枚目
のチップ1及び2枚目のチップ1Aのトラック高さH及
びベース2に対する浮きhに付いて図1及び図2によっ
て説明する。図に於て、該チップ1,1Aはトラック1
aを有し、該トラック1aにはギャップ1bが設けられ
ている。2は該チップ1を貼着するベースである。そこ
で、チップ1,1Aは図2に示す如く、ベース2に貼着
されるのであるが、図1に示す如き浮きhが常に生じ
る。更に、ベース2に対して前記ギャップ1bの端部ま
での距離をトラック高さHと称する。
【0009】図3はベース2の端部に対峙してチップ
1,1Aが貼着されて形成されたダブルアジマス磁気ヘ
ッド3の平面図であり、図4は図3のA−A線断面図、
図5はチップの貼着状態を示す正面図であるが、先ず、
1枚目のチップ1が該ベース2の端部に貼着される。そ
して、之に対峙して2枚目のチップ1Aが該ベース2の
他端部に貼着される。このとき、1枚目のチップ1の前
記トラック高さHと2枚目のチップ1Aのトラック高さ
Hとの相互差(HDF)が生じたとき、この相互差(H
DF)の許容される公差が極めて厳格であるので、1枚
目のチップ1をベース2に貼着したとき、2枚目のチッ
プ1Aを前記許容公差内のHDFに調整しようとするの
が本発明である。
【0010】図6及び図7は本発明に用いる調整装置4
を示し、図6はその側面図、図7はベース2と該ベース
2に貼着せらるべきチップとの相互の位置関係を示す斜
面図である。図に於て、調整装置4はHDFを調整して
前記ダブルアジマス磁気ヘッド3を製造する装置であ
る。該調整装置4はチップ受台5が設けられており、該
チップ受台5上面にはベース2に貼着せらるべき2枚目
のチップ1Aが載置される。而も、該チップ受台5はモ
ータ6の駆動にて回転するカム7にて上下動できるよう
に構成されている。又、該チップ受台5には真空吸着用
チューブ8が取付けられており、チップ受台5上に載置
された2枚目のチップ1Aを下面より吸着して該チップ
1の揺動を防止する。
【0011】又、該チップ受台5の下部には該チップ受
台5を上下動させるための昇降ガイド9が取付けられて
おり、該昇降ガイド9はカム駆動によって上部のチップ
受台5を上下動させるのである。更に、該昇降ガイド9
の下部には浮き・アジマス調整ステージ10が連結され
ており、2枚目のチップ1Aのトラック高さHと1枚目
のチップ1のトラック高さHとのHDFを許容公差内に
調整するものである。更に又、該浮き・アジマス調整ス
テージ10の下部に回転ステージ11を連設し、前記チ
ップ受台5上に載置された2枚目のチップ1Aの姿勢を
調整し、更に、該回転ステージ11の下部にXY軸ステ
ージ12を連設して、前記チップ受台5上に載置された
2枚目のチップ1Aの1枚目のチップ1に対するXY方
向の位置を調整する。
【0012】又、13はベースクランプ部を示す。該ベ
ースクランプ部13の上端部に1枚目のチップ1を貼着
したベース2をベース位置決め用肩押し板14によって
位置決めして固定する。図6及び図7に於てはベースク
ランプ部13上に載置した前記ベース2の上面からベー
ス押え13aにて該ベース2が押圧され固定されてい
る。
【0013】尚、該ベースクランプ部13は枠体13b
上に固定されている。又、15は顕微鏡である。該顕微
鏡15は視野合成顕微鏡が用いられ、チップ1Aの姿勢
観察用の干渉対物レンズ16を先端部に備えている。更
に、該顕微鏡15は同一視野内の1枚目及び2枚目のチ
ップ1,1Aの各ギャップ1b,1bを観察し、そし
て、各トラック高さH,HのHDFを抜き出して観察で
きるように構成されており、且つ、顕微鏡用XY軸ステ
ージ17及びZ軸ステージ18によってXY方向並びに
上下方向の位置が調整できるようになっている。尚、図
中符号19はモニタースコープであってチップ1,1A
を上方向から観察するものであり、20は該モニタース
コープ19のXY方向の位置の調整を為すためのモニタ
ースコープ用XY軸ステージであり、21,21はCC
Dカメラ、22,22…は調整摘子、23はカムフォロ
アープレート、24はクロスローラーガイドを夫々示
す。
【0014】上記本発明の調整装置4を用いてダブルア
ジマス磁気ヘッド3を製造するには、先ず、2枚目のチ
ップ1Aをチップ受台5上に載置する。次に、ベースク
ランプ部13上にベース2を位置決めして固定する。該
ベース2には1枚目のチップ1が貼着されている。そこ
で、顕微鏡15にて該1枚目のチップ1のギャップ1b
に焦点を合せ、干渉縞を出しておく。次に、前記チップ
受台5上に載置されている2枚目のチップ1Aを前記回
転ステージ11及びXY軸ステージ12の各調整摘子2
2,22…を回動させ乍ら前記1枚目のチップ1に対す
る位置合せを施す。該位置合せが終了すれば、チップ受
台5を昇降ガイド9の作動にて上昇せしめ、該チップ受
台5上の2枚目のチップ1Aをベース2に押し当てて、
前記1枚目のチップ1に対峙せしめる。このとき、2枚
目のチップ1Aが1枚目のチップ1に対するHDFが許
容される公差内であれば瞬間接着剤にて貼着し、もし、
該HDFが許容される公差外であれば、チップ受台5を
下降せしめ、前記浮き・アジマス調整ステージ10によ
ってHDFを調整し、そして、再び該チップ受台5を上
昇せしめ、該チップ受台5上の前記調整された2枚目の
チップ1Aが1枚目のチップ1に対するHDFが許容さ
れる公差内であることを確認して該2枚目のチップ1A
をベース2に瞬間接着剤にて貼着し、ダブルアジマス磁
気ヘッド3を完成する。
【0015】尚、この発明は、この発明の精神を逸脱し
ない限り種々の改変を為すことができ、そして、この発
明が該改変されたものに及ぶことは当然である。
【0016】
【発明の効果】本発明は上記一実施例にて詳述せる如
く、ヘッドのチップ状態でのトラック高さの測定誤差、
或はベース、チップの形状による寸法不良、更に、1枚
目のチップの貼着状態等に影響をうけず、該1枚目のチ
ップの貼着精度に2枚目のチップを効率良く合せて貼着
することができるので、チップの歩留りが向上し、高精
度のダブルアジマス磁気ヘッドを効率良く製造すること
ができ、コストダウンにも寄与することが可能となる
等、正に諸種の著大なる価値ある発明である。
【図面の簡単な説明】
【図1】チップのベースに対する浮き及びトラック高さ
を示す解説図。
【図2】チップのベースに対する正常なる貼着状態を示
す解説図。
【図3】本発明によって製造したダブルアジマス磁気ヘ
ッドの平面図。
【図4】図3のX−X線断面図。
【図5】図3のヘッド部を正面より見た解説図。
【図6】本発明の調整装置の側面図。
【図7】ベースとチップとの相互の位置関係を示す斜面
図。
【符号の説明】
1,1A チップ 2 ベース 3 ダブルアジマス磁気ヘッド 4 調整装置 5 チップ受台 9 昇降ガイド 10 浮き・アジマス調整ステージ 11 回転ステージ 12 XY軸ステージ 13 ベースクランプ部 15 顕微鏡

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 2枚目のチップをチップ受台に載置し、
    1枚目のチップを貼付したベースをベースクランプ部に
    位置決めして固定し、該1枚目のチップに対して顕微鏡
    の焦点を合せて干渉縞を出し、次に、前記チップ受台上
    の2枚目のチップを1枚目のチップに対して、XY軸ス
    テージ及び回転ステージにて位置合せを施して後、該2
    枚目のチップを上昇させて前記ベースに押し当て、1枚
    目のチップと2枚目のチップとのトラック高さ相互差が
    公差内であれば該2枚目のチップをベースに貼着せし
    め、公差外であれば、該2枚目のチップを下降させて浮
    き・アジマス調整ステージにて調整して再度上昇させ、
    前記トラック高さ相互差が公差内に調整されていること
    を確認して接着剤にて貼着せしめることを特徴とするダ
    ブルアジマス磁気ヘッドのトラック高さ調整方法。
  2. 【請求項2】 ベースを位置決めして固定するベースク
    ランプ部とチップ受台とを有し、該チップ受台の下部に
    昇降ガイドを取付けて昇降自在に構成すると共に、チッ
    プの浮きアジマス調整用の浮き・アジマス調整ステージ
    及びチップの姿勢を調整するための回転ステージ、2枚
    目のチップのベースに対するXY方向の位置調整用のX
    Y軸ステージを夫々連設し、更に、チップの姿勢観察用
    の干渉対物レンズ付の顕微鏡を備えたことを特徴とする
    請求項1記載のダブルアジマス磁気ヘッドのトラック高
    さ調整方法に用いる装置。
JP3316853A 1991-11-29 1991-11-29 ダブルアジマス磁気ヘツドのトラツク高さ調整方法並びに該調整方法に用いる装置 Pending JPH05151543A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR19980045402A (ko) * 1996-12-10 1998-09-15 조희재 자기헤드의 트랙높이 맞춤장치 및 그 맞춤방법

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