JPH0514513Y2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0514513Y2
JPH0514513Y2 JP734987U JP734987U JPH0514513Y2 JP H0514513 Y2 JPH0514513 Y2 JP H0514513Y2 JP 734987 U JP734987 U JP 734987U JP 734987 U JP734987 U JP 734987U JP H0514513 Y2 JPH0514513 Y2 JP H0514513Y2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pad
cutting
remaining
pitch
bonding
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP734987U
Other languages
English (en)
Other versions
JPS63115222U (ja
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP734987U priority Critical patent/JPH0514513Y2/ja
Publication of JPS63115222U publication Critical patent/JPS63115222U/ja
Application granted granted Critical
Publication of JPH0514513Y2 publication Critical patent/JPH0514513Y2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本考案は、集積回路が形成された半導体ウエハ
等の基板の切断予定線上に設けられる測定用パツ
ドに関するものである。
(従来の技術) 従来、このような分野の技術としては、例えば
第2図及び第3図1,2のようなものがあつた。
以下、その構成を説明する。
第2図は従来の測定用パツドを有する半導体ウ
エハの平面図、第3図1はその測定用パツドの拡
大平面図、及び第3図2は同図1の切断後の平面
図である。
第2図に示すように、半導体ウエハ1の切断予
定線(以下、スクライブラインという)2で囲ま
れる多数のブロツク内には、集積回路及び複数個
のボンデイングパツドがそれぞれ形成され、さら
にそのスクライブライン2上に複数個の測定用パ
ツド3が被着されている。各ブロツクの集積回路
表面は、通常、ボンデイングパツドを除き、窒化
膜等のパツシベーシヨン膜で被覆されている。
測定用パツド3は第3図1に示すように、各ブ
ロツク内に形成された複数個のボンデイングパツ
ドと同一あるいは比例縮小した大きさと形状を有
し、例えばアルミニウム片等で形成されている。
以上のような半導体ウエハ1は、その上の測定
用パツド3に測定用針を当てがつてブロツク内に
おける集積回路の良否を測定する。その後、切断
工程(スクライブ工程)において、第3図1に示
すように切断幅Aを有するブレードで矢印B方
向、すなわち第2図のスクライブライン2に沿つ
て半導体ウエハ1を切断し、個々のチツプ1aに
分割する。この分割後の測定用パツド3のパツド
残部3aが第3図2に示されている。
このようにして分割した複数個のチツプ1aは
不良品を除き、良品のみを、例えばコレツトでバ
キユームしてリードフレームのアイランド上にダ
イボンデイング(固定)する。さらに、チツプ1
aのボンデイングパツドとリードフレームとを、
超音波振動等でワイヤボンデイング(ワイヤ接
続)した後、モールデイング(樹脂封止)等の処
理を施して半導体装置が作られる。
(考案が解決しようとする問題点) しかしながら、上記の測定用パツド3では、そ
こに正確に測定用針を当てがわなければならない
ため、ブレードの切断幅Aよりも小さくすること
ができず、その幅Aよりも大きく形成する必要が
ある。
そのため、スクライブ工程において、パツド残
部3aが飛びはねてチツプ1a上のボンデイング
パツド間にまたがると、シヨート状態となる。ま
た、このスクライブ工程において、大きなパツド
残部3aがチツプ1a上に残ると、ダイボンデイ
ング工程時に、該パツド残部3aがチツプ1a上
から剥れたり、移動したりして、ボンデイングパ
ツド間をシヨート状態にしたり、リードフレーム
のインナリード間をシヨート状態にする。さら
に、ワイヤボンデイング時の超音波振動等によ
り、パツド残部3aがワイヤシヨートやボンデイ
ングパツドシートをもたらす。そして、これらの
シヨート状態の発生により、信頼性が低下すると
いう問題点があつた。
本考案は前記従来技術が持つていた問題点とし
て、測定用パツド残部のシヨートによる信頼性低
下の点について解決した測定用パツドを提供する
ものである。
(問題点を解決するための手段) 本考案は前記問題点を解決するために、集積回
路及び複数個のボンデイングパツドが形成された
基板上の切断予定線上に配設され、切断幅よりも
大きな幅をもつ導電性の測定用パツドにおいて、
前記パツドの切断幅よりも外側に位置する箇所
で、かつ分割後のパツド残部の長さがボンデイン
グパツド間ピツチ、インナリード間最小ピツチ及
びワイヤ間ピツチのいずれか一つより短くなるよ
うな位置に、パツド残部分割用のスリツトを形成
したものである。
(作用) 本考案によれば、以上のように測定用パツドを
構成したので、そこに形成されたスリツトは該パ
ツドの切断後の残部を、ボンデイングパツド間ピ
ツチ、インナリード間最小ピツチ、及びワイヤ間
ピツチのいずれか一つより短くなるように分割し
て細分化する。これにより、スクライブ工程、ダ
イボンデイング工程あるいはワイヤボンデイング
工程等におけるシヨートの防止が図れる。従つ
て、前記問題点を除去できるのである。
(実施例) 第1図1,2は本考案の実施例を示すもので、
同図1は切断前の測定用パツドの平面図、同図2
は切断後の測定用パツド残部の平面図である。
第1図1に示すように、この測定用パツド10
は、従来の第2図と同様に、半導体ウエハ等の基
板上のスクライブライン上に設けられるもので、
アルミニウム等の導電膜で例えば方形状に形成さ
れている。このパツド10はダイヤモンドブレー
ド等による切断幅Cよりも大きな幅を有し、さら
にその両側部には矢印Dで示す切断方向とほぼ直
交する方向に1対のスリツト10aが形成されて
いる。このスリツト10aは、分割後のパツド残
部10bの長さが、ボンデイングパツド間ピツ
チ、インナリード間最小ピツチ、及びワイヤ間ピ
ツチのいずれか一つより短くなるような位置に、
形成されている。
以上のように構成される測定用パツド10は、
そこに測定用針を当てがつて基板に形成された集
積回路の良否測定に使用される。測定後、スクラ
イブ工程において、基板がスクライブラインに沿
つて第1図1の矢印D方向にダイヤモンドブレー
ド等で切断されると、測定用パツド10は切断幅
Cで切断され、その両側部のパツド残部10b,
10bが第1図2のように基板上に残る。この
際、一対のパツド残部10b,10bはスリツト
10aにより、それぞれ2分割される。
切断後の基板に対しては、従来と同様、リード
フレームのアイランド上へのダイボンデイング、
基板上のボンデイングパツドとリードフレームの
インナリードとのワイヤボンデイング、さらにモ
ールデイング等の処理が順に施される。
本実施例では、測定用パツド10にスリツト1
0aを形成しているが、そのパツド外縁で囲まれ
る面積は従来のパツドと変わらないため、そこに
測定用針を正確に当てがうことができる。
しかも、測定後に該測定用パツド10を切断し
た場合、そのパツド残部10bはスリツト10a
で分割され、ボンデイングパツド間ピツチ、イン
ナリード間最小ピツチ、あるいはワイヤ間ピツチ
よりも小さく細分化される。そのため、スクライ
ブ工程でのパツド残部10bの飛びはねによるボ
ンデイングパツド間のシヨートを防止できる。さ
らに、基板上に残存すパツド残部10bによるダ
イボンデイング時のボンデイングパツド間シヨー
トやインナリード間シヨート、あるいはワイヤボ
ンデイング時のワイヤシヨートやボンデイングパ
ツドシヨート等を的確に防止することができる。
第4図1,2は本考案の他の実施例を示すもの
で、同図1は切断前の測定用パツドの平面図、同
図2は切断後の測定用パツド残部の平面図であ
る。
この測定用パツド20が第1図のパツド10と
異なる点は、切断幅Cの外側箇所において矢印D
の切断方向とほぼ直交する方向に複数本のスリツ
ト20aを両側部に形成したことである。このよ
うにスリツト20aの本数を多くすると、切断後
の測定用パツド20の残部20bがより小さく細
分化されるため、スクライブ工程、ダイボンデイ
ング工程及びワイヤボンデイング工程等における
シヨート防止効果がより向上する。
なお、本考案は図示の実施例に限定されず、ス
リツト10a,20aの数を他の数にしたり、あ
るいはそのスリツト10a,20aの形成方向を
矢印Dの切断方向に対して例えば45°や60°のよう
に他の方向に傾斜させてもよい。さらに測定用パ
ツド10,20の全体形状を方形以外に、円形等
の他の形状にすることも可能である。
(考案の効果) 以上詳細に説明したように、本考案によれば、
切断幅よりも外側に位置する箇所にスリツトを形
成したので、切断前においては測定用針の接触面
積が十分に確保される。さらに、切断により、ス
リツトによつてパツド残部が分割されて細分化さ
れるため、スクライブ工程において、パツド残部
の飛びはねによるボンデイングパツド間のシヨー
ト、ダイボンデイング時において、基板上に残存
するパツド残部の剥離や移動等によるボンデイン
グパツド間のシヨートやインナリード間のシヨー
ト、あるいはワイヤボンデイング時のワイヤシヨ
ートやボンデイングパツドシヨート等を的確に防
止できる。
従つて、本考案は切断前において大きな面積を
必要とし、切断後には最低限の大きさにおさえた
い種々の導体に適用可能である。
【図面の簡単な説明】
第1図1,2は本考案の実施例を示す測定用パ
ツドの平面図、第2図は従来の測定用パツドを有
する半導体ウエハの平面図、第3図1,2は第2
図中の測定用パツドの拡大平面図、第4図1,2
は本考案の他の実施例を示す測定用パツドの平面
図である。 1……半導体ウエハ、2……切断予定線(スク
ライブライン)、3,10,20……測定用パツ
ド、10a,20a……スリツト、10b,20
b……パツド残部、C……切断幅。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 集積回路及び複数個のボンデイングパツドが形
    成された基板上の切断予定線上に配設され、切断
    幅よりも大きな幅をもつ導電性の測定用パツドに
    おいて、 前記パツドの切断幅よりも外側に位置する箇所
    で、かつ分割後のパツド残部の長さがボンデイン
    グパツド間ピツチ、インナリード間最小ピツチ及
    びワイヤ間ピツチのいずれか一つより短くなるよ
    うな位置に、パツド残部分割用のスリツトを形成
    したことを特徴とする測定用パツド。
JP734987U 1987-01-21 1987-01-21 Expired - Lifetime JPH0514513Y2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP734987U JPH0514513Y2 (ja) 1987-01-21 1987-01-21

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP734987U JPH0514513Y2 (ja) 1987-01-21 1987-01-21

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS63115222U JPS63115222U (ja) 1988-07-25
JPH0514513Y2 true JPH0514513Y2 (ja) 1993-04-19

Family

ID=30790717

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP734987U Expired - Lifetime JPH0514513Y2 (ja) 1987-01-21 1987-01-21

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0514513Y2 (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2867138B2 (ja) * 1988-01-14 1999-03-08 セイコーエプソン株式会社 半導体装置及び製造方法
KR100960890B1 (ko) 2007-12-27 2010-06-04 주식회사 동부하이텍 금속 배선의 검사를 위한 pcm 테스트 패턴

Also Published As

Publication number Publication date
JPS63115222U (ja) 1988-07-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6872599B1 (en) Enhanced solder joint strength and ease of inspection of leadless leadframe package (LLP)
US4109096A (en) Conditioning supports of micro-plates of integrated circuits
JP2921953B2 (ja) 半導体装置の製造方法
US5654582A (en) Circuit wafer and TEG test pad electrode
US5003374A (en) Semiconductor wafer
JPH0621188A (ja) 半導体ウェハ
US6159826A (en) Semiconductor wafer and fabrication method of a semiconductor chip
US5675179A (en) Universal test die and method for fine pad pitch designs
KR100564461B1 (ko) 반도체 웨이퍼, 반도체 칩 및 반도체 웨이퍼의 다이싱 방법
JP2002043356A (ja) 半導体ウェーハ、半導体装置及びその製造方法
US6512288B1 (en) Circuit board semiconductor package
US4362902A (en) Ceramic chip carrier
JPH0514513Y2 (ja)
JP2001060567A (ja) 半導体装置の製造方法
JPH097975A (ja) 半導体装置およびその製造方法
JP4701563B2 (ja) 半導体チップ搭載基板及びそれを用いた半導体装置
JPS62106638A (ja) 半導体ウエハ−
JP2842430B2 (ja) Tabテープ
JPH10173015A (ja) 半導体装置およびその製造方法
JPH03139862A (ja) 半導体装置
JP3066609B2 (ja) 半導体ウエハ
JP2002093753A (ja) ダイシングブレード及び半導体装置の製造方法
JPS61187354A (ja) 半導体集積回路装置
KR100190928B1 (ko) 스크라이브 라인폭이 감소된 탭(tab)제품의 반도체 칩
KR100420433B1 (ko) 반도체패키지용 필름 접착제